JPH0754363B2 - カラーフィルタの剥離方法 - Google Patents
カラーフィルタの剥離方法Info
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- JPH0754363B2 JPH0754363B2 JP17869789A JP17869789A JPH0754363B2 JP H0754363 B2 JPH0754363 B2 JP H0754363B2 JP 17869789 A JP17869789 A JP 17869789A JP 17869789 A JP17869789 A JP 17869789A JP H0754363 B2 JPH0754363 B2 JP H0754363B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、カラーフィルタの剥離方法に関し、さらに詳
しくは、基板及びその付属部品に悪影響を及ぼすことの
ないカラーフィルタの剥離方法に関するものである。
しくは、基板及びその付属部品に悪影響を及ぼすことの
ないカラーフィルタの剥離方法に関するものである。
＜従来技術＞ 従来、固体撮像素子もしくはガラス板などの基板に、カ
ラーフィルタを形成する方法としては、“染色法”が一
般に知られている。
ラーフィルタを形成する方法としては、“染色法”が一
般に知られている。
この染色法によるカラーフィルタの製造方法を第２図
（ａ）を用いて説明すると、上記基板が固体撮像素子14
である場合は、固体撮像素子14の表面の凹凸に対し、必
要に応じて平坦層16を透明性、平坦性、密着性の優れた
樹脂をコートして形成する。次いで被染色性のレジスト
をコートし、露光、現像して染色所望域をパターン化
し、該パターン域を所定の分光特性を有する染料で染色
し着色樹脂層11とする。次に防染性を有する樹脂をコー
トし、露光、現像し、中間層13を形成する。
（ａ）を用いて説明すると、上記基板が固体撮像素子14
である場合は、固体撮像素子14の表面の凹凸に対し、必
要に応じて平坦層16を透明性、平坦性、密着性の優れた
樹脂をコートして形成する。次いで被染色性のレジスト
をコートし、露光、現像して染色所望域をパターン化
し、該パターン域を所定の分光特性を有する染料で染色
し着色樹脂層11とする。次に防染性を有する樹脂をコー
トし、露光、現像し、中間層13を形成する。
その後、被染色性のレジストのコート以降の工程をくり
返し、すべての着色樹脂層11,11′,11″と中層13,13′
を形成後、着色樹脂層11,11′,11″保護のため、透明樹
脂をコートしてオーバーコート層12を設け、カラーフィ
ルタ17が製造される。ここでカラーフィルタ17とは、着
色樹脂層11,11′,11″，中間層13,13′，オーバーコー
ト層12を言う。
返し、すべての着色樹脂層11,11′,11″と中層13,13′
を形成後、着色樹脂層11,11′,11″保護のため、透明樹
脂をコートしてオーバーコート層12を設け、カラーフィ
ルタ17が製造される。ここでカラーフィルタ17とは、着
色樹脂層11,11′,11″，中間層13,13′，オーバーコー
ト層12を言う。
しかし、近年カラーフィルタには、高い信頼性と精度が
要求されているため、レジストの塗布ムラ、現像ムラ、
染色ムラやゴミの付着等による傷のために、カラーフィ
ルタ製造工程の歩留りは極めて低いのが現状である。
要求されているため、レジストの塗布ムラ、現像ムラ、
染色ムラやゴミの付着等による傷のために、カラーフィ
ルタ製造工程の歩留りは極めて低いのが現状である。
従って上記のムラ、傷等の不都合が生じた場合には、一
旦固体撮像素子（例えばチャージカップルドデバイス：
以下単にCCDという）等の基板からカラーフィルタを剥
離し、再使用することが望まれる。
旦固体撮像素子（例えばチャージカップルドデバイス：
以下単にCCDという）等の基板からカラーフィルタを剥
離し、再使用することが望まれる。
その剥離方法としては、従来濃硫酸などを用いた酸処理
法、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性水
溶液に全体を浸漬する方法が知られている。これらの処
理方法は、カラーフィルタを容易に剥離することができ
るが、CCD表面を浸食したり、アルミニウム配線を溶解
させるために、全数を再使用することは困難である。
法、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性水
溶液に全体を浸漬する方法が知られている。これらの処
理方法は、カラーフィルタを容易に剥離することができ
るが、CCD表面を浸食したり、アルミニウム配線を溶解
させるために、全数を再使用することは困難である。
また、特開昭61−148402号公報では、紫外線を照射した
のち、100〜150℃に加熱したジメチルスルホキシド、シ
クロヘキサノン等の有機溶剤中に５〜20分浸漬する剥離
方法が、更に、特開昭62−124174号公報では基板を250
〜300℃に加熱したのち、エチレンジアミン、1,2−プロ
パンジアミン等のポリアミン類に50〜120℃にて10〜120
分浸漬する剥離方法が知られている。これらは、CCDの
基板表面からカラーフィルタを十分に再現性良く剥離す
ることができないといった問題点があった。
のち、100〜150℃に加熱したジメチルスルホキシド、シ
クロヘキサノン等の有機溶剤中に５〜20分浸漬する剥離
方法が、更に、特開昭62−124174号公報では基板を250
〜300℃に加熱したのち、エチレンジアミン、1,2−プロ
パンジアミン等のポリアミン類に50〜120℃にて10〜120
分浸漬する剥離方法が知られている。これらは、CCDの
基板表面からカラーフィルタを十分に再現性良く剥離す
ることができないといった問題点があった。
＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明の目的は、上記の問題点を解消し、基板及びその
付属品に悪影響を及ぼすことのないカラーフィルタの剥
離方法を提供するものである。
付属品に悪影響を及ぼすことのないカラーフィルタの剥
離方法を提供するものである。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明は、固体撮像素子上のカラーフィルタを、酸素プ
ラズマ等を利用してアッシングするとともに、純水中に
て超音波洗浄を行なうカラーフィルタの剥離方法であ
る。
ラズマ等を利用してアッシングするとともに、純水中に
て超音波洗浄を行なうカラーフィルタの剥離方法であ
る。
さらに、カラーフィルタの下部に透明樹脂からなる平坦
化層が形成されている場合、カラーフィルタの酸素プラ
ズマ等を利用したアッシング，超音波洗浄後、再びアッ
シングを行なって、平坦化層を除去するカラーフィルタ
の剥離方法である。
化層が形成されている場合、カラーフィルタの酸素プラ
ズマ等を利用したアッシング，超音波洗浄後、再びアッ
シングを行なって、平坦化層を除去するカラーフィルタ
の剥離方法である。
また、酸素プラズマの代わりに、酸素とCF4の混合ガス
のプラズマ、もしくは、基板を100℃乃至300℃に加熱し
た状態にてオゾンガスを吹き付けて、アッシングする剥
離方法である。
のプラズマ、もしくは、基板を100℃乃至300℃に加熱し
た状態にてオゾンガスを吹き付けて、アッシングする剥
離方法である。
＜作用＞ 上記のように、酸素プラズマを用いてカラーフィルタを
アッシングするとともに、アッシング処理によって発生
した残渣を、純水中にて超音波洗浄を行なうことで容易
に除去でき、短時間で、シリコン基板上の固体撮像素子
にダメージを与えることなく、カラーフィルタを剥離す
ることができる。
アッシングするとともに、アッシング処理によって発生
した残渣を、純水中にて超音波洗浄を行なうことで容易
に除去でき、短時間で、シリコン基板上の固体撮像素子
にダメージを与えることなく、カラーフィルタを剥離す
ることができる。
さらにアッシングのガスに酸素とCF4の混合ガスを用い
れば、アッシング速度が増大するとともに、アッシング
残渣を軽減することができる。また、基板を100℃乃至3
00℃に加熱し、オゾンガスを吹き付けてアッシングを行
なえば、プラズマにより電気的ダメージを皆無にできる
ため、プラズマ処理のできない素子にも本発明の剥離方
法が適用可能である。
れば、アッシング速度が増大するとともに、アッシング
残渣を軽減することができる。また、基板を100℃乃至3
00℃に加熱し、オゾンガスを吹き付けてアッシングを行
なえば、プラズマにより電気的ダメージを皆無にできる
ため、プラズマ処理のできない素子にも本発明の剥離方
法が適用可能である。
固体撮像素子上に、透明な樹脂を用いて表面に平坦化層
を設け、その上にカラーフィルタを形成した場合には、
始めに、カラーフィルタをアッシングして処理し、純水
中で超音波洗浄を行なって残渣を除去したのち、再びア
ッシング処理を行なって固体撮像素子上の平坦化層を除
去することで、カラーフィルタから生じたアッシング残
渣によって、平坦化層のアッシングが阻害されることな
く、カラーフィルタの剥離が行なえる。
を設け、その上にカラーフィルタを形成した場合には、
始めに、カラーフィルタをアッシングして処理し、純水
中で超音波洗浄を行なって残渣を除去したのち、再びア
ッシング処理を行なって固体撮像素子上の平坦化層を除
去することで、カラーフィルタから生じたアッシング残
渣によって、平坦化層のアッシングが阻害されることな
く、カラーフィルタの剥離が行なえる。
＜実施例１＞ 本実施例に使用するカラーフィルタ付き固体撮像素子の
製造方法及び剥離方法の一実施例を第１図（ａ），
（ｂ）を用いて説明する。
製造方法及び剥離方法の一実施例を第１図（ａ），
（ｂ）を用いて説明する。
固体撮像素子４を形成したシリコン基板上に、10重量％
の重クロム酸アンモニウムを含むゼラチン水溶液からな
る染色性フォトレジストを1.5μｍの膜厚となるように
スピンコートし、ｉ線縮小投影露光装置（ニコン（株）
製）を用いて露光、現像し所定のパターンを形成した。
その後、染色液中に浸漬し、水洗、乾燥し、着色樹脂層
２を形成した。染料としては、 １）赤色染料としては、例えばスミノール・シーリング
・スカーレット・Ｇ（住友化学（株）製商品名） ２）緑色染料としては、例えばスミノール・シーリング
・ブリリアント・グリーン・5G（住友化学（株）製商品
名） ３）青色染料としては、例えば、カヤノール・シーリン
グ・ブルー・GW（日本化薬（株）製商品名）等が知られ
ている。
の重クロム酸アンモニウムを含むゼラチン水溶液からな
る染色性フォトレジストを1.5μｍの膜厚となるように
スピンコートし、ｉ線縮小投影露光装置（ニコン（株）
製）を用いて露光、現像し所定のパターンを形成した。
その後、染色液中に浸漬し、水洗、乾燥し、着色樹脂層
２を形成した。染料としては、 １）赤色染料としては、例えばスミノール・シーリング
・スカーレット・Ｇ（住友化学（株）製商品名） ２）緑色染料としては、例えばスミノール・シーリング
・ブリリアント・グリーン・5G（住友化学（株）製商品
名） ３）青色染料としては、例えば、カヤノール・シーリン
グ・ブルー・GW（日本化薬（株）製商品名）等が知られ
ている。
また、着色樹脂層１を他の染料による染色から保護する
為、ネガ型透明フォトレジストFVR（富士薬品工業
（株）製）を塗布し、露光、現像して中間層３を形成し
た。赤色染料、緑色染料、青色染料により、全ての着色
樹脂層1,1′,1″と中間層3,3′を形成後、着色樹脂層1,
1′,1″を保護する為、ネガ型透明フォトレジストFVR
（富士薬品工業（株）製）を塗布し、露光、現像してオ
ーバーコート層２を形成し〔第１図（ａ）〕、カラーフ
ィルタ７を作成した。
為、ネガ型透明フォトレジストFVR（富士薬品工業
（株）製）を塗布し、露光、現像して中間層３を形成し
た。赤色染料、緑色染料、青色染料により、全ての着色
樹脂層1,1′,1″と中間層3,3′を形成後、着色樹脂層1,
1′,1″を保護する為、ネガ型透明フォトレジストFVR
（富士薬品工業（株）製）を塗布し、露光、現像してオ
ーバーコート層２を形成し〔第１図（ａ）〕、カラーフ
ィルタ７を作成した。
このカラーフィルタ７付き固体撮像素子４を、平行平板
型プラズマアッシング装置にセットし、酸素プラズマに
てカラーフィルタ７をアッシングした。処理条件は、O2
100 SCCM,1.0Torr,Rf電力300W、処理時間は30分間で
ある。その後、純水中に浸漬し、10分間超音波洗浄を行
なった〔第１図（ｂ）〕。
型プラズマアッシング装置にセットし、酸素プラズマに
てカラーフィルタ７をアッシングした。処理条件は、O2
100 SCCM,1.0Torr,Rf電力300W、処理時間は30分間で
ある。その後、純水中に浸漬し、10分間超音波洗浄を行
なった〔第１図（ｂ）〕。
その結果、固体撮像素子４の表面、および配線等を損傷
することなく、カラーフィルタ７の剥離を行なうことが
できた。固体撮像素子４の電気的ダメージも問題のない
レベルであった。
することなく、カラーフィルタ７の剥離を行なうことが
できた。固体撮像素子４の電気的ダメージも問題のない
レベルであった。
＜実施例２＞ 実施例１と同様に作製したカラーフィルタ付き固体撮像
素子を、同一のアッシング装置にセットし、酵素とCF4
の混合ガスにてカラーフィルタをアッシングした。処理
条件は、O2 100 SCCM,CF4 20SCCM,0.5Toor,Rf電力30
0Wであり、処理時間は10分間である。次いで、実施例１
と同様に洗浄を行なった。
素子を、同一のアッシング装置にセットし、酵素とCF4
の混合ガスにてカラーフィルタをアッシングした。処理
条件は、O2 100 SCCM,CF4 20SCCM,0.5Toor,Rf電力30
0Wであり、処理時間は10分間である。次いで、実施例１
と同様に洗浄を行なった。
本実施例においても、固体撮像素子にダメージを与える
ことなく、カラーフィルタの剥離が行なえ、実施例１よ
りもより短時間で処理できた。
ことなく、カラーフィルタの剥離が行なえ、実施例１よ
りもより短時間で処理できた。
＜実施例３＞ 本実施例を第２図（ａ）〜（ｃ）を用いて詳細に説明す
る。
る。
固体撮像素子14を形成したシリコン基板上に、ネガ型透
明レジストFVR（富士薬品工業（株）製）を塗布し、固
体撮像素子14の表面に平坦化層16を形成した。次いで、
実施例１と同様の操作を行なって、固体撮像素子14上
に、カラーフィルタ17を作製した〔第２図（ａ）参
照〕。
明レジストFVR（富士薬品工業（株）製）を塗布し、固
体撮像素子14の表面に平坦化層16を形成した。次いで、
実施例１と同様の操作を行なって、固体撮像素子14上
に、カラーフィルタ17を作製した〔第２図（ａ）参
照〕。
この、カラーフィルタ17付の固体撮像素子14を、オゾン
アッシング装置OA−2400（クロリンエンジニアズ（株）
製）を用い、カラーフィルタ17をアッシングした。処理
条件は、O2 41/min（オゾン濃度8000ppm）、温度200
℃、処理時間30分間である。その後、実施例１と同様に
洗浄した〔第２図（ｂ）参照〕。さらに、オゾンアッシ
ング装置にて、15分間処理し、平坦化層16を除去した
〔第２図（ｃ）参照〕。
アッシング装置OA−2400（クロリンエンジニアズ（株）
製）を用い、カラーフィルタ17をアッシングした。処理
条件は、O2 41/min（オゾン濃度8000ppm）、温度200
℃、処理時間30分間である。その後、実施例１と同様に
洗浄した〔第２図（ｂ）参照〕。さらに、オゾンアッシ
ング装置にて、15分間処理し、平坦化層16を除去した
〔第２図（ｃ）参照〕。
その結果、固体撮像素子14に損傷を与えることなく、カ
ラーフィルタ17及び下地の平坦化層16を剥離することが
できた。
ラーフィルタ17及び下地の平坦化層16を剥離することが
できた。
＜発明の効果＞ 本発明によれば、従来回収の難しかった、カラーフィル
タを形成した固体撮像素子基板から、素子に損傷を与え
ることなく、カラーフィルタを剥離することが可能とな
った。その結果、カラーフィルタが不良の基板から、カ
ラーフィルタを剥離し、再びカラーフィルタを形成する
ことで、カラーフィルタ不良固体撮像素子の再使用が可
能となり、カラーフィルタ付き固体撮像素子のコストを
低減させることができる。
タを形成した固体撮像素子基板から、素子に損傷を与え
ることなく、カラーフィルタを剥離することが可能とな
った。その結果、カラーフィルタが不良の基板から、カ
ラーフィルタを剥離し、再びカラーフィルタを形成する
ことで、カラーフィルタ不良固体撮像素子の再使用が可
能となり、カラーフィルタ付き固体撮像素子のコストを
低減させることができる。
第１図（ａ），（ｂ）は、本発明のカラーフィルタ剥離
方法の一実施例であり、第２図（ａ）〜（ｃ）は、本発
明のカラーフィルタ剥離方法の他の実施例である。 11′,1″……着色樹脂層 ２……オーバーコート層 33′……中間層 ４……固体撮像素子 ５……受光部 ７……カラーフィルタ 1111′,11″……着色樹脂層 12……オーバーコート層 1313′……中間層 14……固体撮像素子 15……受光部 16……平坦化層 17……カラーフィルタ
方法の一実施例であり、第２図（ａ）〜（ｃ）は、本発
明のカラーフィルタ剥離方法の他の実施例である。 11′,1″……着色樹脂層 ２……オーバーコート層 33′……中間層 ４……固体撮像素子 ５……受光部 ７……カラーフィルタ 1111′,11″……着色樹脂層 12……オーバーコート層 1313′……中間層 14……固体撮像素子 15……受光部 16……平坦化層 17……カラーフィルタ
Claims (4)
- 【請求項１】固体撮像素子上のカラーフィルタの剥離方
法において、前記カラーフィルタを酸素プラズマによっ
てアッシングしたのち、純水中で超音波洗浄を行なうカ
ラーフィルタの剥離方法。 - 【請求項２】固体撮像素子上の平坦化層とカラーフィル
タの剥離方法において、前記カラーフィルタを酸素プラ
ズマによってアッシングしたのち、純水中で超音波洗浄
を行ない、再び酸素プラズマ中にて平坦化層をアッシン
グして、除去するカラーフィルタの剥離方法。 - 【請求項３】酸素プラズマに代えて、酸素ガスとCF4ガ
スとの混合ガスからなるプラズマによって、アッシング
することを特徴とする請求項（１）又は（２）に記載の
カラーフィルタの剥離方法。 - 【請求項４】酸素プラズマに代えて、100〜300℃に加熱
したカラーフィルタ付き固体撮像素子上に、オゾンガス
を吹きつけ、アッシングすることを特徴とする請求項
（１）又は（２）に記載のカラーフィルタの剥離方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17869789A JPH0754363B2 (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | カラーフィルタの剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17869789A JPH0754363B2 (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | カラーフィルタの剥離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0343701A JPH0343701A (ja) | 1991-02-25 |
| JPH0754363B2 true JPH0754363B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=16052975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17869789A Expired - Lifetime JPH0754363B2 (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | カラーフィルタの剥離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754363B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3966614B2 (ja) | 1997-05-29 | 2007-08-29 | 三星電子株式会社 | 広視野角液晶表示装置 |
| EP1411385A3 (en) | 1997-06-12 | 2004-08-04 | Fujitsu Display Technologies Corporation | Vertically-aligned (VA) liquid crystal display device |
| KR100309918B1 (ko) | 1998-05-16 | 2001-12-17 | 윤종용 | 광시야각액정표시장치및그제조방법 |
| KR100354906B1 (ko) | 1999-10-01 | 2002-09-30 | 삼성전자 주식회사 | 광시야각 액정 표시 장치 |
| JP4677085B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2011-04-27 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP4612773B2 (ja) * | 2001-01-10 | 2011-01-12 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP2002282807A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Toray Ind Inc | 基板の洗浄方法および洗浄装置 |
| JP3783637B2 (ja) | 2002-03-08 | 2006-06-07 | セイコーエプソン株式会社 | 材料の除去方法、基材の再生方法、表示装置の製造方法、及び該製造方法によって製造された表示装置を備えた電子機器 |
| KR100913249B1 (ko) * | 2007-04-30 | 2009-08-24 | 우진선행기술 주식회사 | 컬러필터 기판 재생 장치 및 재생 방법 |
| JP6191417B2 (ja) * | 2013-11-28 | 2017-09-06 | 凸版印刷株式会社 | 半導体素子アレイ基板の再生方法 |
| CN115672862A (zh) * | 2022-11-03 | 2023-02-03 | 安徽光智科技有限公司 | 滤光片表面瑕疵的处理方法 |
-
1989
- 1989-07-11 JP JP17869789A patent/JPH0754363B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0343701A (ja) | 1991-02-25 |
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