JPH0754852B2 - 光電変換装置の製造方法 - Google Patents

光電変換装置の製造方法

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JPH0754852B2
JPH0754852B2 JP60281677A JP28167785A JPH0754852B2 JP H0754852 B2 JPH0754852 B2 JP H0754852B2 JP 60281677 A JP60281677 A JP 60281677A JP 28167785 A JP28167785 A JP 28167785A JP H0754852 B2 JPH0754852 B2 JP H0754852B2
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耕司 戸田
康夫 丹羽
幸治 高橋
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜によって構
成される光電変換装置の製造方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 光電変換装置としてはP−n又はP−n−Pの導電型の
半導体の接合、又は半導体と金属との接合を使用した光
電変換装置が広く使用されていることは周知である。こ
れらの光電変換装置は光をあてると自ら起電力を発生す
るので外部起電力の必要はない。
また、本出願人は上述のような接合を使用することな
く、酸化物誘電体材料の研究を行っていた過程で誘電体
材料の光電変換現象を発見し、鉛とクロムとを含む酸化
物に導電層を形成して成る光電変換装置を先に特願昭53
-91297号(特開昭55-17971号)として出願した。この光
電変換装置によると酸化物に入射した光は酸化物内で電
流に変換され、導電層を経て光電変換装置の外部へ取出
される。この酸化物が薄膜の場合は入射光に対応して起
電力を生じ光感応性を示し、また酸化物の厚さが大きい
場合は蓄電気効果を示した。
ところでこの出願で示されている光電変換装置の製造方
法は、酸化鉛と酸化クロムとを混合した後これらを焼結
して焼結体となし、この焼結体に導電層を形成するよう
にしている。
しかしながらこのような焼結法によって誘電体材料の薄
膜体を形成する場合はその厚さに限度があり、また気孔
の少ない均一な薄膜体を形成するのが困難であるという
問題がある。またこの薄膜体は光透過性を有してないた
め、各種光電変換装置に適用する場合変換効率を高くす
ることができない。
[発明の目的] 本発明は、光透過性を有する薄膜体を形成できるように
した光電変換装置の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
[発明の概要] 上記目的を達成するための本発明は、鉛をPbOに換算し
て30〜99.5mol%及びクロムをCr2O3に換算して0.5〜70m
ol%の組成に対して、金属元素VをV2O5に換算して20mo
l%含む酸化物をターゲットとして用い真空中において
上記鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜を形成し、次にこ
の薄膜を少なくとも鉛を含む雰囲気内において熱処理す
ることを特徴とするものである。
[発明の実施例] 以下本発明の実施例を説明する。
実施例1 出発原料として酸化鉛PbO,酸化クロムCr2O3及び酸化バ
ナジウムV2O5を用いてPb2CrO5の組成となした成分に、V
2O5を20mol%添加した組成となる如く秤量した。この原
料をポリエチレン製ポットで10〜15時間湿式混合し、乾
燥後400〜500℃にて2時間にわたって仮焼成を行った。
仮焼成後ボールミルにて10〜15時間粉砕を行い粒径約1
μ程度とした。この仮焼成粉末にバインダーを加え、1t
on/cm2で加圧成形した。更に成形体を650〜900℃にて2
時間焼成し焼結体を得た。
次にこのPb2CrO5から成る成分に、金属元素Vの酸化物
であるV2O5が20mol%添加された焼結体をターゲット
(蒸発源)として用い、次のように電子ビーム蒸着法に
よってガラス基板上にPb2CrO5の薄膜を形成した。すな
わち、電子ビーム蒸着装置の真空容器内に上記V2O5を含
むPb2CrO5焼結体を直径15.6mm、厚さ3.0mmの円板状とな
したターゲットとガラス基板とを配置し、ガラス基板を
350℃、電子銃の加速電圧を4kvに保った状態で、容器内
の真空度が1×10-7Torrに達したとき蒸着を開始した。
蒸着時間を約1〜2時間に設定することにより、ガラス
基板上に0.5〜1.5μmのPb2CrO5の薄膜が形成された。
尚、蒸着中の真空度は4×10-5Torrに保たれた。
次にこのようにして得られたガラス基板を、Pb2CrO5焼
結粉末をアルミナるつぼに保持した雰囲気内で、450℃
で1.5時間熱処理を行なった。この熱処理によって電子
ビーム蒸着された非晶質状態のPb2CrO5薄膜は結晶化さ
れる。Pb2CrO5粉末はPb2CrO5薄膜からPbの成分分離を防
止するために用いられる。得られたPb2CrO5薄膜はオレ
ンジ色を呈し、第1図のような透過特性A及び反射特性
Bを示す。横軸は反射された光の波長(Å)、縦軸は透
過率及び反射率(%)を示している。
ここで透過特性Aは本発明によって得られる独自のもの
であり、従来のような焼結体の場合はこのような透過特
性は得られない。
続いて、Pb2CrO5薄膜上に電極となる第2図に示すよう
なパターン及び寸法の一対の導電層1.2を、金を真空蒸
着することによって形成した。これによって、ガラス基
板、Pb2CrO5薄膜及び金層から構成された光電変換装置
が得られる。この光電変換装置を第3図に示すような測
定装置を利用して光起電力を測定することにより、第4
図及び第5図のような特性が得られた。第3図におい
て、3は光源、4はチョッパー、5はモノクロメータ、
6は試料、7はペンレコーダ、8は測定回路である。第
4図及び第5図において、横軸は時間(分)及び光強度
(mW/cm2)、縦軸は共に光起電力(V)を示している。
第4図は光電変換装置に対して照射する光をオン,オフ
操作した場合の光起電力特性を示し、オンしたときは光
起電力は0から増加し、オフしたときは光起電力は0方
向に減少する。すなわち、光をオン,オフ操作すること
によって、光起電力を発生させ、又は消失させることが
できる。
第5図は光電変換装置に対して照射する光の強度を変化
させた場合の光起電力特性を示し、光の強度に比例して
光起電力は増加する。
第1図,第4図及び第5図のような本発明の特性を光起
電力素子、光センサ素子などに適用すれば、その光透過
性を利用することにより素子動作の変換効率を高くする
ことができる。これは受光部が透過型及び反射型のいず
れかにおいても同様である。これらの作用,効果は本発
明によれば、光透過性を有するPb2CrO5薄膜体を形成す
ることができるという事実に基いている。しかも気孔が
ほとんどない均一な薄膜を形成することができる。
実施例2 実施例1と同一組成比、同一条件でガラス基板上にPb2C
rO5薄膜を形成した。次にこのようにして得られたガラ
ス基板を温度条件を変えて熱処理を行ない、同一条件で
一対の導電層を形成して光電変換装置を形成した。
得られた光電変換装置の光感応性を測定したところ、上
記熱処理温度が150°以下では光感応性が得られないこ
とを確かめた。
実施例3 実施例1と同様な出発原料を用いてPb5CrO8及びPbCrO4
の組成となした2種類の成分を用意し、各々にV2O5を20
mol%添加して2種類の焼結体を形成した。次にこれら
をターゲットとして用いてそれぞれPb5CrO8薄膜及びPbC
rO4薄膜を形成した後、熱処理及び導電層を形成して2
種類の光電変換装置を形成した。いずれの光電変換装置
においても光感応性が得られることを確かめた。
実施例4 実施例1と同様にPbO,Cr2O3及びV2O5を出発原料として
用い、これらの比率を順次変化させて配合して種々の組
成比のクロム酸鉛の焼結体を形成した。これをターゲッ
トとして種々のクロム酸鉛薄膜を形成し、熱処理後導電
層を形成して複数種類の光電変換装置を形成した。これ
らの光電変換装置の光起電力特性を測定したところ次の
結果が得られた。すなわち、PbOが99.5mol%以上の薄膜
の場合及びCr2O3が70mol%以上の薄膜の場合は光起電力
はほとんど発生しなかった。同様に、V2O5が55mol%以
上の薄膜の場合も起電力はほとんど発生しなかった。
尚、PbOとCr2O3との組成比において、PbCrO4よりCr2O3
が過剰な場合はPbCrO4とCr2O3との混晶が形成されて存
在することが確かめられた。同様にして、Pb5CrO8よりP
bOが過剰な場合にはPb5CrO8とPbOとの混晶が、また中間
領域ではPbO,Cr2O3,Pb2CrO5,Pb5CrO8,PbCrO4Pb2V2O6
及びV2O5の何らかの組合せの混晶がそれぞれ存在するこ
とが確かめられた。
さらに、光起電力特性に優れているのはPb2CrO5,Pb5Cr
O8及びPbCrO4の単一の酸化物に近い薄膜の場合であるこ
とを確かめた。
以上の各実施例において、金属元素Vの酸化物が添加さ
れたPb2CrO5のような鉛とクロムとを含む酸化物の形成
手段は一例として電子ビーム蒸着法の場合について述べ
たが、これに限らず他にもスパッタリング法,イオンビ
ーム蒸着法などのその他の真空中における薄膜形成手段
を用いることができ、これによっても同様な作用、効果
を得ることができる。また、導電層の材料としては一例
として金の場合について述べたが、他にもアルミニウ
ム、銅などの材料を用いることができる。
薄膜を形成すべき基板としてもガラスに限ることなく他
の材料を選ぶことができる。このように基板上に薄膜を
形成するようにすれば、基板を含めた薄膜体の厚さに制
約を受けることなく気孔の少ない均一な薄膜を有する光
電変換装置を得ることができる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、真空中において金
属元素Vの酸化物が添加された鉛とクロムとを含む酸化
物の薄膜を形成し、次にこの薄膜を熱処理するようにし
たので、次のような効果が得られる。
(1)光透過性を有する薄膜が得られるので、光電変換
装置の動作の変換効率を高めることができる。
(2)気孔のほとんどない均一な薄膜を形成することが
できるので、高品質及び高信頼度の光電変換装置を得る
ことができる。
(3)真空技術の利用によって大量生産が可能なので、
ローコストで光電変換装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例によって得られる光電変換装置の
透過率及び反射率を示す特性図、第2図は本発明実施例
によって得られる光電変換装置の電極を示すパターン
図、第3図は本発明実施例によって得られる光電変換装
置に対する測定装置を示す構成図、第4図及び第5図は
共に本発明実施例によって得られる光電変換装置の光起
電力を示す特性図である。 1,2…導電層、3…光源、4…チョッパー、5…モノク
ロメータ、6…試料、7…ペンコーダ、8…測定回路。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−17971(JP,A) Journal of Applied physics,57〔12〕(1985−6− 15)米 p.5325−5329

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】鉛をPbOに換算して30〜99.5mol%及びクロ
    ムをCr2O3に換算して0.5〜70mol%の組成に対して、金
    属元素VをV2O5に換算して20mol%含む酸化物をターゲ
    ットとして用い真空中において上記鉛とクロムとを含む
    酸化物の薄膜を形成し、次にこの薄膜を少なくとも鉛を
    含む雰囲気内において熱処理することを特徴とする光電
    変換装置の製造方法。
  2. 【請求項2】前記鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜をガ
    ラス基板上に形成することを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の光電変換装置の製造方法。
  3. 【請求項3】前記鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜上に
    一対の導電層を形成することを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の光電変換装置の製造方法。
  4. 【請求項4】前記酸化物として板状に形成された焼結体
    磁器を用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の光電変換装置の製造方法。
JP60281677A 1985-12-14 1985-12-14 光電変換装置の製造方法 Expired - Lifetime JPH0754852B2 (ja)

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US06/873,881 US4724157A (en) 1985-12-14 1986-06-13 Method of manufacturing a photoelectric conversion device
US07/108,180 US4781767A (en) 1985-12-14 1987-10-14 Photoelectric conversion device
US07/108,330 US4835007A (en) 1985-12-14 1987-10-14 Method of manufacturing a photoelectric conversion device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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