JPH0755341Y2 - 真空ポンプ用排水ダクト - Google Patents
真空ポンプ用排水ダクトInfo
- Publication number
- JPH0755341Y2 JPH0755341Y2 JP1987072840U JP7284087U JPH0755341Y2 JP H0755341 Y2 JPH0755341 Y2 JP H0755341Y2 JP 1987072840 U JP1987072840 U JP 1987072840U JP 7284087 U JP7284087 U JP 7284087U JP H0755341 Y2 JPH0755341 Y2 JP H0755341Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- duct
- water
- buffer tank
- vacuum pump
- drainage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は水封式真空ポンプあるいは湿式ルーツブロアの
背圧側のダクトの構造に関する。
背圧側のダクトの構造に関する。
亜鉛の連続真空蒸着めつきライン等の真空排気およびガ
ス精製の概略を第3図に示す。
ス精製の概略を第3図に示す。
真空装置5内は、シール装置2を設置して真空ポンプ3
によつて大気圧から蒸着に必要な真空圧力まで排気ダク
ト6を介してガス排気されている。薄板1は、通常還元
処理されているため空気中にさらすことは不適当であ
る。
によつて大気圧から蒸着に必要な真空圧力まで排気ダク
ト6を介してガス排気されている。薄板1は、通常還元
処理されているため空気中にさらすことは不適当であ
る。
そのため、真空ポンプ3で排気されたガスは背圧側の背
圧ガスダクト8にガス精製装置4とガス循環用のフアン
7を設けて高圧側に再供給して使用している。通常ガス
精製装置4では脱水と脱酸処理を行う。
圧ガスダクト8にガス精製装置4とガス循環用のフアン
7を設けて高圧側に再供給して使用している。通常ガス
精製装置4では脱水と脱酸処理を行う。
真空ポンプ3としては、高圧側に水をシールとして利用
した水封式真空ポンプあるいは湿式ルーツブロアが使用
されることが多い。これらのポンプ3の背圧側のガスで
はシール用の水の同伴があり、ガス精製装置4に入る前
に気液分離を行うバツフアタンクを設け、バツフアタン
クにはガスに同伴された水が溜まるため排水ダクトが設
けられている。
した水封式真空ポンプあるいは湿式ルーツブロアが使用
されることが多い。これらのポンプ3の背圧側のガスで
はシール用の水の同伴があり、ガス精製装置4に入る前
に気液分離を行うバツフアタンクを設け、バツフアタン
クにはガスに同伴された水が溜まるため排水ダクトが設
けられている。
従来のバツフアタンクとそれに設備された排水ダクトを
第4図に示し、その機能を第5図によつて説明する。第
4図、第5図において、3は真空ポンプ、8は背圧ガス
ダクト、9はバツフアタンク、10は排気ダクト、11は排
水ダクト、12は排水ダクト吸水口、13は外気である。
第4図に示し、その機能を第5図によつて説明する。第
4図、第5図において、3は真空ポンプ、8は背圧ガス
ダクト、9はバツフアタンク、10は排気ダクト、11は排
水ダクト、12は排水ダクト吸水口、13は外気である。
すなわち、第5図(a)に示すようにバツフアタンク9
内に水が溜まり、第5図(b)に示すように排水ダクト
11の設置レベルに達すると、サイフオン作用により、第
5図(c)に示した状態まで排水が行われる。従つて、
外気が排水ダクト11を通つてバツフアタンク9内へ侵入
するのを防ぐことができる。
内に水が溜まり、第5図(b)に示すように排水ダクト
11の設置レベルに達すると、サイフオン作用により、第
5図(c)に示した状態まで排水が行われる。従つて、
外気が排水ダクト11を通つてバツフアタンク9内へ侵入
するのを防ぐことができる。
従来の気液分離用の第4図に示したバツフアタンク9の
排水ダクト11では、水が溜まりサイフオン作用により排
水が行われると第5図(c)に示したような状態とな
る。すなわち、排水ダクト吸水口12と水の自由表面とが
接するようになり、振動などで水表面が振動すると、排
水ダクト吸水口12と水面との間が切れ、外気13がバツフ
アタンク9内に流入する可能性がある。外気13中の酸素
のためガス中の酸素濃度が上がり、第3図に示したガス
精製装置4の負荷が増えることが懸念される。負荷をオ
ーバーすると供給ガス中に酸素が規定以上に入ることに
なり薄板の酸化につながり望ましくない。
排水ダクト11では、水が溜まりサイフオン作用により排
水が行われると第5図(c)に示したような状態とな
る。すなわち、排水ダクト吸水口12と水の自由表面とが
接するようになり、振動などで水表面が振動すると、排
水ダクト吸水口12と水面との間が切れ、外気13がバツフ
アタンク9内に流入する可能性がある。外気13中の酸素
のためガス中の酸素濃度が上がり、第3図に示したガス
精製装置4の負荷が増えることが懸念される。負荷をオ
ーバーすると供給ガス中に酸素が規定以上に入ることに
なり薄板の酸化につながり望ましくない。
本考案は気液分離用のバツフアタンクにおいて、排水ダ
クト形状の工夫を行い、上述した外気の侵入の懸念を解
消しうる真空ポンプ用排水ダクトを提供しようとするも
のである。
クト形状の工夫を行い、上述した外気の侵入の懸念を解
消しうる真空ポンプ用排水ダクトを提供しようとするも
のである。
本考案は水をシールに利用した真空ポンプの背圧側のダ
クトの途中に、排水ダクトとガス排気ダクトを有するバ
ツフアタンクを設け、該排水タンクは該排水ダクトレベ
ルより低い位置にある曲げ部分を有するダクト形状とす
ると共に該排水ダクトと前記バツフアタンクとの間に均
圧管を設けてなることを特徴とする真空ポンプ用排水ダ
クトである。
クトの途中に、排水ダクトとガス排気ダクトを有するバ
ツフアタンクを設け、該排水タンクは該排水ダクトレベ
ルより低い位置にある曲げ部分を有するダクト形状とす
ると共に該排水ダクトと前記バツフアタンクとの間に均
圧管を設けてなることを特徴とする真空ポンプ用排水ダ
クトである。
すなわち、本考案はバツフアタンクの排水ダクトとして
排水ダクトの中間に外気の侵入を防ぐための曲り部を設
けた排水ダクトを配設し曲り部には常に水を溜めるよう
にして水シールができるようにした点、及びバツフアタ
ンクの水深が高くなりサイフオン作用で水が排水される
条件でも、前述の水シールが可能なように曲り部までの
途中の排水ダクトにバツフアタンクとの均圧管を設けた
点を新規とするものである。
排水ダクトの中間に外気の侵入を防ぐための曲り部を設
けた排水ダクトを配設し曲り部には常に水を溜めるよう
にして水シールができるようにした点、及びバツフアタ
ンクの水深が高くなりサイフオン作用で水が排水される
条件でも、前述の水シールが可能なように曲り部までの
途中の排水ダクトにバツフアタンクとの均圧管を設けた
点を新規とするものである。
以下、本考案の一実施例を第1図に示し、その作用を第
2図によつて説明する。第1図,第2図において、第4
図,第5図と同一符号は第4図,第5図に関して説明し
たものと同一部を示し、14は排水ダクト11に設けられた
排水ダクトのレベルより下方に曲げられた排水ダクト曲
げ部分、15は該排水ダクト曲げ部分14の前位置の排水ダ
クト11とバツフアタンク9とを連通させる均圧管であ
る。
2図によつて説明する。第1図,第2図において、第4
図,第5図と同一符号は第4図,第5図に関して説明し
たものと同一部を示し、14は排水ダクト11に設けられた
排水ダクトのレベルより下方に曲げられた排水ダクト曲
げ部分、15は該排水ダクト曲げ部分14の前位置の排水ダ
クト11とバツフアタンク9とを連通させる均圧管であ
る。
以上のような構成であるので、 ;常に排水ダクト11の曲り部14には第2図(a)に示
すように水が貯えられているので外気13とのシールがで
きる。
すように水が貯えられているので外気13とのシールがで
きる。
;ガス中の水分がバツフアタンク9内で分離され、第
2図(b)に示すように水深が高くなる。
2図(b)に示すように水深が高くなる。
;水が排水ダクト11設置レベルまで到達すると、第2
図(c)に示すようにサイフオン作用により系外へ排水
される。
図(c)に示すようにサイフオン作用により系外へ排水
される。
;均圧管15により、第2図(d)に示すように水深が
排水ダクト11設置レベル上部までになると排水が止ま
る。
排水ダクト11設置レベル上部までになると排水が止ま
る。
;上記の状態では排水ダクト11の曲り部14には水が
残つており、外気13とのシールは維持される。
残つており、外気13とのシールは維持される。
このような作用のため、バツフアタンク9内のガス圧変
動あるいは水面の変動によつてバツフアタンク9に外気
13が侵入する懸念は全く解消される。
動あるいは水面の変動によつてバツフアタンク9に外気
13が侵入する懸念は全く解消される。
(1)外気とのシールを排気ダクトに設けた曲り部の水
で行うため、バツフアタンク内圧力あるいは水面レベル
変動による外気の侵入の可能性が全くない。
で行うため、バツフアタンク内圧力あるいは水面レベル
変動による外気の侵入の可能性が全くない。
(2)バツフアタンクに溜つた水は、排水ダクト設置位
置まで達するとサイフオン作用によりバツフアタンクか
ら外へ排出される。
置まで達するとサイフオン作用によりバツフアタンクか
ら外へ排出される。
(3)均圧管を設けてあるので、サイフオン作用により
バツフアタンク内水面が下がり過ぎないようになつてい
る。
バツフアタンク内水面が下がり過ぎないようになつてい
る。
第1図は本考案の一実施例を示す図であり、第2図はそ
の作用を説明するための図である。第3図は水をシール
に利用した真空ポンプの適用例を説明するための図、第
4図は従来のバツフアタンクと排水ダクトの関係を説明
するための図であり、第5図はその作用を説明するため
の図である。 第1図〜第5図において、1;薄板、2;真空シール装置、
3;真空ポンプ、4;ガス精製装置、5;真空蒸着室、6;排気
ダクト、7;ガス循環用フアン、8;真空ポンプ背圧側ダク
ト、9;バツフアタンク、10;ガス排気ダクト、11;排水用
ダクト、12;排水ダクト吸水口、13;外気、14;ダクト曲
げ部分、15;均圧管である。
の作用を説明するための図である。第3図は水をシール
に利用した真空ポンプの適用例を説明するための図、第
4図は従来のバツフアタンクと排水ダクトの関係を説明
するための図であり、第5図はその作用を説明するため
の図である。 第1図〜第5図において、1;薄板、2;真空シール装置、
3;真空ポンプ、4;ガス精製装置、5;真空蒸着室、6;排気
ダクト、7;ガス循環用フアン、8;真空ポンプ背圧側ダク
ト、9;バツフアタンク、10;ガス排気ダクト、11;排水用
ダクト、12;排水ダクト吸水口、13;外気、14;ダクト曲
げ部分、15;均圧管である。
Claims (1)
- 【請求項1】水をシールに利用した真空ポンプの背圧側
のダクトの途中に、排水ダクトとガス排気ダクトを有す
るバツフアタンクを設け、該排水タンクは該排水ダクト
レベルより低い位置にある曲げ部分を有するダクト形状
とすると共に該排水ダクトと前記バツフアタンクとの間
に均圧管を設けてなることを特徴とする真空ポンプ用排
水ダクト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987072840U JPH0755341Y2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 真空ポンプ用排水ダクト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987072840U JPH0755341Y2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 真空ポンプ用排水ダクト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63182290U JPS63182290U (ja) | 1988-11-24 |
| JPH0755341Y2 true JPH0755341Y2 (ja) | 1995-12-20 |
Family
ID=30916645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987072840U Expired - Lifetime JPH0755341Y2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 真空ポンプ用排水ダクト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0755341Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61101689A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Toshiba Corp | 放射性排ガス処理装置用真空ポンプ設備 |
| JPS61113287U (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-17 |
-
1987
- 1987-05-18 JP JP1987072840U patent/JPH0755341Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63182290U (ja) | 1988-11-24 |
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