JPH075562B2 - ピペラジニルキノロン誘導体の製造方法 - Google Patents
ピペラジニルキノロン誘導体の製造方法Info
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- JPH075562B2 JPH075562B2 JP2252044A JP25204490A JPH075562B2 JP H075562 B2 JPH075562 B2 JP H075562B2 JP 2252044 A JP2252044 A JP 2252044A JP 25204490 A JP25204490 A JP 25204490A JP H075562 B2 JPH075562 B2 JP H075562B2
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
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- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、一般式（Ｉ）で表わされるピペラジニルキノ
ロン誘導体の製造方法に関する。
ロン誘導体の製造方法に関する。
一般式（Ｉ）の誘導体は、バクテリアに強い殺菌効果を
示すので、殺菌剤として広く使用されている。
示すので、殺菌剤として広く使用されている。
一般式（Ｉ）において、R1はメチル、エチルのような低
級アルキル基又はシクロプロピルのようなシクロアルキ
ル基を表わすか、或いはR1は８位の炭素原子との間で架
橋して式 を表わす。
級アルキル基又はシクロプロピルのようなシクロアルキ
ル基を表わすか、或いはR1は８位の炭素原子との間で架
橋して式 を表わす。
R2は水素原子又はメチル、エチルのような低級アルキル
基を表わす。
基を表わす。
（従来の技術） 一般式（Ｉ）で表わされるピペラジニルキノロン誘導体
は、殺菌剤として利用分野が非常に多様であるので、現
在迄これに関する研究も活発である。
は、殺菌剤として利用分野が非常に多様であるので、現
在迄これに関する研究も活発である。
例えば、韓国特許第87−895号公報には、後記一般式（I
I）のジハロキノロンと無水ピペラジンとを、ジメチル
スルホキサイド溶媒中で135〜140℃の高温で加熱還流さ
せるピペラジニルキノロン誘導体の製造方法が記載され
ている。
I）のジハロキノロンと無水ピペラジンとを、ジメチル
スルホキサイド溶媒中で135〜140℃の高温で加熱還流さ
せるピペラジニルキノロン誘導体の製造方法が記載され
ている。
また、韓国特許第87−1944号公報には、一般式（II）の
ジハロキノロンと無水ピペラジンとを、ピリジン溶媒中
で115℃で５時間撹拌反応させるピペラジニルキノロン
誘導体の製造方法が記載されている。
ジハロキノロンと無水ピペラジンとを、ピリジン溶媒中
で115℃で５時間撹拌反応させるピペラジニルキノロン
誘導体の製造方法が記載されている。
これら公知の方法てば、高温で反応させるか、又は長時
間反応させるため、エネルギーの消費が大きいことは勿
論、製造工程において沸点の高い溶媒を使用するため、
反応後の溶媒の回収が容易でなく、また高温−長時間の
反応により副産物が生成して目的生成物の収率が低下す
るという欠点があった。
間反応させるため、エネルギーの消費が大きいことは勿
論、製造工程において沸点の高い溶媒を使用するため、
反応後の溶媒の回収が容易でなく、また高温−長時間の
反応により副産物が生成して目的生成物の収率が低下す
るという欠点があった。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は、鋭意研究した結果、上記公知方法における欠
点の改善された一般式（Ｉ）のピペラジニルキノロン誘
導体の製造方法を提供するものである。
点の改善された一般式（Ｉ）のピペラジニルキノロン誘
導体の製造方法を提供するものである。
（課題を解決するための手段） 本発明の製造方法は、一般式（II）のジハロキノロンと
一般式（III）のピペラジン誘導体とを、一般式（IV）
のテトラアルキルアンモニウムハライドの存在下に反応
させ、一般式（Ｉ）のピペラジニルキノロン誘導体を製
造する方法である。
一般式（III）のピペラジン誘導体とを、一般式（IV）
のテトラアルキルアンモニウムハライドの存在下に反応
させ、一般式（Ｉ）のピペラジニルキノロン誘導体を製
造する方法である。
一般式（II）において、R1は一般式（Ｉ）のR1と同一で
あり、Ｘはハロゲン原子を表わす。
あり、Ｘはハロゲン原子を表わす。
一般式（III）において、R2は一般式（Ｉ）のR2と同一
であり、R3、R4及びR5は各々メチル、エチル、ｔ−ブチ
ルのような低級アルキル基を表わし、互いに同じでも異
なってもよい。
であり、R3、R4及びR5は各々メチル、エチル、ｔ−ブチ
ルのような低級アルキル基を表わし、互いに同じでも異
なってもよい。
一般式（IV）において、R6はメチル、エチル、ｔ−ブチ
ルのような低級アルキル基を表わし、Ｙはハロゲン原子
を表わす。
ルのような低級アルキル基を表わし、Ｙはハロゲン原子
を表わす。
本発明の製造方法をより詳細に説明すれば、一般式（I
I）のジハロキノロンと一般式（III）のピペラジン誘導
体及び一般式（IV）のテトラアルキルアンモニウムハラ
イドを、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（DM
F）、ピリジン、スルホラン、ジメチルスルホキサイド
（DMSO）等の極性溶媒中で60〜80℃で２〜３時間加熱撹
拌して反応させれば、収率が85％以上で一般式（Ｉ）の
ピペラジニルキノロン誘導体を容易に製造することがで
きる。
I）のジハロキノロンと一般式（III）のピペラジン誘導
体及び一般式（IV）のテトラアルキルアンモニウムハラ
イドを、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（DM
F）、ピリジン、スルホラン、ジメチルスルホキサイド
（DMSO）等の極性溶媒中で60〜80℃で２〜３時間加熱撹
拌して反応させれば、収率が85％以上で一般式（Ｉ）の
ピペラジニルキノロン誘導体を容易に製造することがで
きる。
一般式（II）のジハロキノロンと一般式（III）のピペ
ラジン誘導体の当量比は２〜３が望ましい。一方、一般
式（III）のピペラジン誘導体と一般式（IV）のテトラ
アルキルアンモニウムハライドの当量比は１〜1.2が望
ましい。
ラジン誘導体の当量比は２〜３が望ましい。一方、一般
式（III）のピペラジン誘導体と一般式（IV）のテトラ
アルキルアンモニウムハライドの当量比は１〜1.2が望
ましい。
本発明において、出発物質として使用される一般式（I
I）のジハロキノロンは、容易に入手することができ、
J.Med.Chem.,23,1358（1980）：同誌31,983,1694（198
8）に紹介された方法で容易に製造することができる。
I）のジハロキノロンは、容易に入手することができ、
J.Med.Chem.,23,1358（1980）：同誌31,983,1694（198
8）に紹介された方法で容易に製造することができる。
一般式（III）のピペラジン誘導体は、新規な化合物
で、ピペラジン又は１−アルキルピペラジンとアルキル
シリルハライドをメチレンクロライド溶媒中で常温で12
〜18時間撹拌して反応させて製造することができる。こ
れらの具体的製造方法は後記の実施例６〜８で詳細に説
明する。
で、ピペラジン又は１−アルキルピペラジンとアルキル
シリルハライドをメチレンクロライド溶媒中で常温で12
〜18時間撹拌して反応させて製造することができる。こ
れらの具体的製造方法は後記の実施例６〜８で詳細に説
明する。
（実施例） 以下の実施例は、本発明をより詳細に説明するためのも
ので、本発明の範囲がこれにより限定されるものではな
い。実施例中、パーセント及び比率は重量に依るもので
ある。
ので、本発明の範囲がこれにより限定されるものではな
い。実施例中、パーセント及び比率は重量に依るもので
ある。
実施例１ １−エチル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−４−オキ
ソ−７−（１−ピペラジニル）−キノリン−カルボン酸
（I,R1＝エチル、R2＝水素） １−エチル−６−フルオロ−７−クロロ−４−オキソ−
1,4−ジヒドロ−キノリン−３−カルボン酸（II、R1＝
エチル、Ｘ＝クロロ）0.5g（1.85ミリモル）と、１−
（ｔ−ブチルジメチルシリル）ピペラジン（III、R2＝
水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）1.1g（5.5ミ
リモル）を、5mlのピリジンに加え60℃で加熱した。テ
トラブチルアンモニウムフルオライドトリハイドレート
1.73g（5.5ミリモル）の5mlピリジン溶液を徐々に反応
混合物に滴下した。滴下後２時間80℃で加熱反応させた
後、減圧蒸留（10mmHg、60℃）し、その残渣に水を注
ぎ、撹拌すると結晶が生成した。過し、乾燥させ、0.
50g（90％収率）の標記固体化合物を得た。
ソ−７−（１−ピペラジニル）−キノリン−カルボン酸
（I,R1＝エチル、R2＝水素） １−エチル−６−フルオロ−７−クロロ−４−オキソ−
1,4−ジヒドロ−キノリン−３−カルボン酸（II、R1＝
エチル、Ｘ＝クロロ）0.5g（1.85ミリモル）と、１−
（ｔ−ブチルジメチルシリル）ピペラジン（III、R2＝
水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）1.1g（5.5ミ
リモル）を、5mlのピリジンに加え60℃で加熱した。テ
トラブチルアンモニウムフルオライドトリハイドレート
1.73g（5.5ミリモル）の5mlピリジン溶液を徐々に反応
混合物に滴下した。滴下後２時間80℃で加熱反応させた
後、減圧蒸留（10mmHg、60℃）し、その残渣に水を注
ぎ、撹拌すると結晶が生成した。過し、乾燥させ、0.
50g（90％収率）の標記固体化合物を得た。
融点:215〜217℃ NMR（CF3COOD）ppm:9.38（1H,s）,8.35（1H,d,J＝5H）,
7.61（1H,d,J＝8H）,4.96（2H,q）,4.1〜4.7（8H,m）,
1.85（3H,t） 実施例２ １−エチル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−４−オシ
ソ−７−（４−メチル−ピペラジニル）−キノリン−３
−カルボン酸（Ｉ、R1＝エチル、R2＝メチル） １−エチル−６−フルオロ−７−クロロ−４−オキソ−
1,4−ジヒドロ−キノリン−３−カルボン酸（II、R1＝
エチル、Ｘ＝クロロ）0.5g（1.85ミリモル）と、４−
（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１−メチルピペラジン
（III、R2、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）1.07g
（0.50ミリモル）を、100mlのアセトニトリルに加え加
熱撹拌した。テトラブチルアンモニウムフルオライドト
リハイドレート1.60g（0.50ミリモル）の5mlアセトニト
リル溶液を徐々に反応混合物に滴下した。反応混合物を
３時間加熱撹拌した後、溶媒を蒸発させ、水を加えたら
固体が生成した。過し、乾燥させ、0.52g（85％収
率）の標記固体化合物を得た。
7.61（1H,d,J＝8H）,4.96（2H,q）,4.1〜4.7（8H,m）,
1.85（3H,t） 実施例２ １−エチル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−４−オシ
ソ−７−（４−メチル−ピペラジニル）−キノリン−３
−カルボン酸（Ｉ、R1＝エチル、R2＝メチル） １−エチル−６−フルオロ−７−クロロ−４−オキソ−
1,4−ジヒドロ−キノリン−３−カルボン酸（II、R1＝
エチル、Ｘ＝クロロ）0.5g（1.85ミリモル）と、４−
（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１−メチルピペラジン
（III、R2、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）1.07g
（0.50ミリモル）を、100mlのアセトニトリルに加え加
熱撹拌した。テトラブチルアンモニウムフルオライドト
リハイドレート1.60g（0.50ミリモル）の5mlアセトニト
リル溶液を徐々に反応混合物に滴下した。反応混合物を
３時間加熱撹拌した後、溶媒を蒸発させ、水を加えたら
固体が生成した。過し、乾燥させ、0.52g（85％収
率）の標記固体化合物を得た。
融点:270℃ NMR（CF3COOD）ppm:9.35（1H,s）,8.35（1H,d,J＝5H）,
7.53（1H,d,J＝8H）,4.87（2H,q）,3.55−4.31（8H,
m）,3.25（3H,s）,1.8（3H,t） 実施例３ １−シクロプロピル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−
４−オキソ−７−（１−ピペラジニル）−キノリン−３
−カルボン酸（Ｉ、R1＝シクロプロピル、R2＝水素） 実施例１と同じ方法で、１−シクロプロピル−6,7−ジ
フルオロ−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−キノリン−３
−カルボン酸（II、R1＝シクロプロピル、Ｘ＝フルオ
ロ）と、１−ブチルジメチルシリルピペラジン（III、R
2＝水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）を反応さ
せ、収率95％で標記固体化合物を得た。
7.53（1H,d,J＝8H）,4.87（2H,q）,3.55−4.31（8H,
m）,3.25（3H,s）,1.8（3H,t） 実施例３ １−シクロプロピル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−
４−オキソ−７−（１−ピペラジニル）−キノリン−３
−カルボン酸（Ｉ、R1＝シクロプロピル、R2＝水素） 実施例１と同じ方法で、１−シクロプロピル−6,7−ジ
フルオロ−４−オキソ−1,4−ジヒドロ−キノリン−３
−カルボン酸（II、R1＝シクロプロピル、Ｘ＝フルオ
ロ）と、１−ブチルジメチルシリルピペラジン（III、R
2＝水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）を反応さ
せ、収率95％で標記固体化合物を得た。
融点:270℃ NMR（CF3COOD）ppm:9.35（1H,s）,8.29〜8.35（1H,d）,
7.94〜7.98（1H,d）,4.13（1H,m）,3.83〜4.02（8H,
m）,1.48〜1.73（4H,m） 実施例４ １−シクロプロピル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−
４−オキソ−７−（１−ピペラジニル）−キノリン−３
−カルボン酸（Ｉ、R1＝シクロプロピル、R2＝水素） 実施例１と同じ方法で、１−シクロプロピル−６−ジフ
ルオロ−７−クロロ−1,4−ジヒドロ−４−オキソ−キ
ノリン−３−カルボン酸（II、R1＝シクロプロピル、Ｘ
＝クロロ）と、１−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ピペ
ラジン（III、R2＝水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブ
チル）を反応させ、収率88％で標記固体化合物を得た。
7.94〜7.98（1H,d）,4.13（1H,m）,3.83〜4.02（8H,
m）,1.48〜1.73（4H,m） 実施例４ １−シクロプロピル−６−フルオロ−1,4−ジヒドロ−
４−オキソ−７−（１−ピペラジニル）−キノリン−３
−カルボン酸（Ｉ、R1＝シクロプロピル、R2＝水素） 実施例１と同じ方法で、１−シクロプロピル−６−ジフ
ルオロ−７−クロロ−1,4−ジヒドロ−４−オキソ−キ
ノリン−３−カルボン酸（II、R1＝シクロプロピル、Ｘ
＝クロロ）と、１−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ピペ
ラジン（III、R2＝水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブ
チル）を反応させ、収率88％で標記固体化合物を得た。
実施例５ ９−フルオロ−３−メシル−10−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［1,2,3−de］−1,4−ベンズオキサジン−６−カルボ
ン酸 実施例４と同じ方法で、9,10−ジフルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［1,2,3−d
e］−1,4−ベンズオキサジン−６−カルボン酸（II、Ｘ
＝フルオロ、R1＝前記と同じ）と、４−（ｔ−ブチルジ
メチルシリル）−１−メチルピペラジン（III、R2、
R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）を反応させ、収率94
％で標記固体化合物を得た。
ペラジニル）−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド［1,2,3−de］−1,4−ベンズオキサジン−６−カルボ
ン酸 実施例４と同じ方法で、9,10−ジフルオロ−３−メチル
−７−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド［1,2,3−d
e］−1,4−ベンズオキサジン−６−カルボン酸（II、Ｘ
＝フルオロ、R1＝前記と同じ）と、４−（ｔ−ブチルジ
メチルシリル）−１−メチルピペラジン（III、R2、
R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル）を反応させ、収率94
％で標記固体化合物を得た。
融点:249〜250℃ 実施例６ ４−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１−メチルピペラ
ジン（III,R2、R3、R4）＝メチル、R5＝ｔ−ブチル） １−メチルピペラジン10g（0.1モル）とトリエチルアミ
ン11.1g（0.11モル）をメチレンクロライド50mlに溶か
した後、０℃に冷却した。この混合物にｔ−ブチルジメ
チルシリルクロライド16.6g（0.11モル）を20mlのメチ
レンクロライドに溶かして徐々に添加した。反応混合物
を常温で18時間撹拌した後、反応物をシリカゲルカラム
を通過させ、減圧下で溶媒を除去した。その残渣を減圧
蒸留（115〜120℃/0.5mmHg）して18.4g（86％収率）の
無色の標記液体化合物を得た。
ジン（III,R2、R3、R4）＝メチル、R5＝ｔ−ブチル） １−メチルピペラジン10g（0.1モル）とトリエチルアミ
ン11.1g（0.11モル）をメチレンクロライド50mlに溶か
した後、０℃に冷却した。この混合物にｔ−ブチルジメ
チルシリルクロライド16.6g（0.11モル）を20mlのメチ
レンクロライドに溶かして徐々に添加した。反応混合物
を常温で18時間撹拌した後、反応物をシリカゲルカラム
を通過させ、減圧下で溶媒を除去した。その残渣を減圧
蒸留（115〜120℃/0.5mmHg）して18.4g（86％収率）の
無色の標記液体化合物を得た。
NMR（CDCl3）ppm:2.7〜2.9（4H,t,J,5H）,2.0〜2.2（4
H,t）,2.2（3H,s）,0.8（9H,s）,0.8（9H,s）,0.0（6H,
s） 実施例７ １−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ピペラジン（III、R
2＝水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル） 実施例６と同じ方法で、ピペラジンとｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロライドを反応させ、減圧蒸留（115〜121℃
/0.5mmHg）して無色の標記固体化合物（70％収率）を得
た。
H,t）,2.2（3H,s）,0.8（9H,s）,0.8（9H,s）,0.0（6H,
s） 実施例７ １−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ピペラジン（III、R
2＝水素、R3、R4＝メチル、R5＝ｔ−ブチル） 実施例６と同じ方法で、ピペラジンとｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロライドを反応させ、減圧蒸留（115〜121℃
/0.5mmHg）して無色の標記固体化合物（70％収率）を得
た。
融点:95〜98℃ NMR（CDCl3）ppm:3.1（1H,s）, 1.8〜2.2（8H,m）,0.1
（9H,s）, 0.0（6H,s） 実施例８ ４−（トリメチルシリル）−１−メチルピペラジン（II
I、R2、R3、R4、R5＝メチル） 実施例６と同じ方法で、１−メチルピペラジンとトリメ
チルシリルクロライドを反応させた後、減圧蒸留（75〜
80℃/0.5mmHg）して無色の標記液体化合物（87％収率）
を得た。
（9H,s）, 0.0（6H,s） 実施例８ ４−（トリメチルシリル）−１−メチルピペラジン（II
I、R2、R3、R4、R5＝メチル） 実施例６と同じ方法で、１−メチルピペラジンとトリメ
チルシリルクロライドを反応させた後、減圧蒸留（75〜
80℃/0.5mmHg）して無色の標記液体化合物（87％収率）
を得た。
NMR（CDCl3）ppm:2.9〜3.2（4H,t）,2.2〜2.4（4H,t）,
2.3（3H,s）,0.1（9H,s）
2.3（3H,s）,0.1（9H,s）
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（II）のジハロキノロンと一般式
（III）のピペラジン誘導体とを、一般式（IV）のテト
ラアルキルアンモニウムハライドの存在下に反応させる
ことを特徴とする一般式（Ｉ）のピペラジニルキノロン
誘導体の製造方法。 上記式中、R1は低級アルキル基又はシクロアルキル基を
表わすか、或いはR1は８位の炭素原子との間で架橋して
式 を表わす。 R2は水素原子又は低級アルキル基を表わす。 Ｘはハロゲン原子を表わす。 R3、R4及びR5は各々低級アルキル基を表わし、互いに同
じでも異なってもよい。 R6は低級アルキル基を表わす。 Ｙはハロゲン原子を表わす。 - 【請求項２】反応をアセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ピリジン、スルホラン及びジメチルスルホキサイ
ドより選択される極性溶媒中で行う請求項１記載の製造
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900004115A KR920003605B1 (ko) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 피페라지닐 퀴놀론 유도체의 제조방법 |
| KR4115/1990 | 1990-03-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03279361A JPH03279361A (ja) | 1991-12-10 |
| JPH075562B2 true JPH075562B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPH075562B2 (ja) |
| KR (1) | KR920003605B1 (ja) |
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| KR100897837B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2009-05-15 | 테바 파마슈티컬 인더스트리즈 리미티드 | 분말 또는 과립 물질의 압착된 환상체 내에 싸인 활성성분의 코어 정제를 갖는 제형과, 이의 제조 방법 및 툴링 |
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| WO2004069825A1 (en) * | 2002-08-14 | 2004-08-19 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Synthesis of gatifloxacin |
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| DE3420116A1 (de) * | 1984-05-30 | 1985-12-05 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Immunstimulierende mittel |
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- 1990-08-02 US US07/561,811 patent/US5051505A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-25 JP JP2252044A patent/JPH075562B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-14 DE DE4100855A patent/DE4100855A1/de not_active Ceased
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|---|
| ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔｓ，Ｖｏｌ．６７，１９６７，５３２８１（Ｐ．４９８６） |
| ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔｓ，Ｖｏｌ．７３，１９７０，１４９０７（Ｐ．３７３） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4100855A1 (de) | 1991-10-02 |
| US5051505A (en) | 1991-09-24 |
| JPH03279361A (ja) | 1991-12-10 |
| KR920003605B1 (ko) | 1992-05-04 |
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