JPH0760101A - 触媒充填方法および装置 - Google Patents
触媒充填方法および装置Info
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- JPH0760101A JPH0760101A JP5212796A JP21279693A JPH0760101A JP H0760101 A JPH0760101 A JP H0760101A JP 5212796 A JP5212796 A JP 5212796A JP 21279693 A JP21279693 A JP 21279693A JP H0760101 A JPH0760101 A JP H0760101A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
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- Auxiliary Methods And Devices For Loading And Unloading (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 吊り下げ式の触媒放出器の振れによる触媒充
填状態の偏りを確実に防止できる触媒充填方法および触
媒充填装置を提供すること。 【構成】 触媒放出器30の外周から径方向に延びる複数
の保持アーム35を周方向に配置し、その先端を反応塔10
の内面に当接させ、触媒放出器30の振れを防止して中心
位置に確実に保持することで、触媒の散布中心を反応塔
10に合わせる。
填状態の偏りを確実に防止できる触媒充填方法および触
媒充填装置を提供すること。 【構成】 触媒放出器30の外周から径方向に延びる複数
の保持アーム35を周方向に配置し、その先端を反応塔10
の内面に当接させ、触媒放出器30の振れを防止して中心
位置に確実に保持することで、触媒の散布中心を反応塔
10に合わせる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒充填方法および触
媒充填装置に関し、石油化学プラント等で使用される反
応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する際に利用される。
媒充填装置に関し、石油化学プラント等で使用される反
応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する際に利用される。
【0002】
【背景技術】石油化学プラント等で使用される反応塔に
は、反応液の反応促進のために必要に応じて適宜な触媒
が充填使用される。触媒は、反応液との接触性を高める
ために通常は顆粒状とされ、反応塔内に所定の密度で均
一に充填される。触媒の充填にあたっては、従来、外部
のホッパから触媒を供給されるホースを反応塔の上部開
口を通して導入し、塔内の作業員が適宜ホースを操作し
て触媒を散布し、表面を均す等の作業を行っていた。し
かし、このような従来方法では、作業員が反応塔内に入
って人手による作業を行うため、作業効率が低いうえ、
作業員に踏み固められて触媒の充填密度が不均一になる
等の不都合があった。
は、反応液の反応促進のために必要に応じて適宜な触媒
が充填使用される。触媒は、反応液との接触性を高める
ために通常は顆粒状とされ、反応塔内に所定の密度で均
一に充填される。触媒の充填にあたっては、従来、外部
のホッパから触媒を供給されるホースを反応塔の上部開
口を通して導入し、塔内の作業員が適宜ホースを操作し
て触媒を散布し、表面を均す等の作業を行っていた。し
かし、このような従来方法では、作業員が反応塔内に入
って人手による作業を行うため、作業効率が低いうえ、
作業員に踏み固められて触媒の充填密度が不均一になる
等の不都合があった。
【0003】このような不都合を解消するために、本願
出願人により、回転散布式の触媒放出器を用いる充填方
法が開発されている(特公平1−22807 号公報参照)。
この充填方法では、下部の回転式放出板から触媒を回転
散布する触媒放出器を反応塔の上部開口から吊り下ろ
し、この触媒放出器の吊り下げ高さや放出板の回転速度
などを適宜制御することで、触媒が反応塔内の中心部か
ら周辺部まで多重同心円状に散布され、これにより適切
かつ均一な散布密度および表面の平坦さを容易に確保す
ることができる。
出願人により、回転散布式の触媒放出器を用いる充填方
法が開発されている(特公平1−22807 号公報参照)。
この充填方法では、下部の回転式放出板から触媒を回転
散布する触媒放出器を反応塔の上部開口から吊り下ろ
し、この触媒放出器の吊り下げ高さや放出板の回転速度
などを適宜制御することで、触媒が反応塔内の中心部か
ら周辺部まで多重同心円状に散布され、これにより適切
かつ均一な散布密度および表面の平坦さを容易に確保す
ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した回
転散布による触媒充填においては、触媒放出器を中心と
した同心円状の触媒散布となるため、触媒放出器が反応
塔の中心位置にあれば所望の通りの適切な散布が行われ
る。しかし、触媒放出器が反応塔の一側に偏った状態で
あると、偏った側には多量の触媒が散布され、反対側は
散布量が少なくなり、充填密度または表面の平坦さに偏
りが生じるという問題がある。
転散布による触媒充填においては、触媒放出器を中心と
した同心円状の触媒散布となるため、触媒放出器が反応
塔の中心位置にあれば所望の通りの適切な散布が行われ
る。しかし、触媒放出器が反応塔の一側に偏った状態で
あると、偏った側には多量の触媒が散布され、反対側は
散布量が少なくなり、充填密度または表面の平坦さに偏
りが生じるという問題がある。
【0005】このために、前述した触媒放出器において
は、吊り下げ機構の位置を調整し、反応塔の中心に吊り
下げる等の対応が行われる。しかし、吊り下げ位置の調
整では、触媒放出器自体の直接的な位置規制ではないた
め、触媒放出器が反応塔の下部にある場合など吊り下げ
距離が長くなると触媒放出器が振子状に変動することが
あり、このような振れによって前述した偏りが生じると
いう問題がある。本発明の目的は、吊り下げ式の触媒放
出器の振れによる触媒充填状態の偏りを確実に防止でき
る触媒充填方法および触媒充填装置を提供することにあ
る。
は、吊り下げ機構の位置を調整し、反応塔の中心に吊り
下げる等の対応が行われる。しかし、吊り下げ位置の調
整では、触媒放出器自体の直接的な位置規制ではないた
め、触媒放出器が反応塔の下部にある場合など吊り下げ
距離が長くなると触媒放出器が振子状に変動することが
あり、このような振れによって前述した偏りが生じると
いう問題がある。本発明の目的は、吊り下げ式の触媒放
出器の振れによる触媒充填状態の偏りを確実に防止でき
る触媒充填方法および触媒充填装置を提供することにあ
る。
【0006】本発明は、反応塔内に吊り下げられた触媒
放出器を保持手段により直接的に保持することで、前述
した触媒の偏りを回避しようとするものである。すなわ
ち、本発明の方法は、反応塔の内部に触媒放出器を吊り
下げ、前記反応塔内面の周方向複数部位に当接する保持
手段により前記触媒放出器を前記反応塔の中心に保持
し、この状態で前記触媒放出器から触媒を前記反応塔内
に散布することを特徴とする。
放出器を保持手段により直接的に保持することで、前述
した触媒の偏りを回避しようとするものである。すなわ
ち、本発明の方法は、反応塔の内部に触媒放出器を吊り
下げ、前記反応塔内面の周方向複数部位に当接する保持
手段により前記触媒放出器を前記反応塔の中心に保持
し、この状態で前記触媒放出器から触媒を前記反応塔内
に散布することを特徴とする。
【0007】また、本発明の装置は、反応塔の内部に吊
り下げられて当該反応塔内に触媒を散布する触媒放出器
を備えた触媒充填装置であって、前記触媒放出器は前記
反応塔内面の周方向複数部位に当接する当接部材を有す
る保持手段を備え、この保持手段は前記当接部材が前記
触媒充填装置の中心から互いに等しい距離となるように
構成されていることを特徴とする。そして、前記保持手
段は前記触媒放出器内に格納可能であり、かつ先端の当
接部材と前記反応塔内面との接触を検知する当接センサ
を有することを特徴とする。さらに、前記当接部材は前
記反応塔内面を上下方向に転動可能なローラであること
を特徴とする。
り下げられて当該反応塔内に触媒を散布する触媒放出器
を備えた触媒充填装置であって、前記触媒放出器は前記
反応塔内面の周方向複数部位に当接する当接部材を有す
る保持手段を備え、この保持手段は前記当接部材が前記
触媒充填装置の中心から互いに等しい距離となるように
構成されていることを特徴とする。そして、前記保持手
段は前記触媒放出器内に格納可能であり、かつ先端の当
接部材と前記反応塔内面との接触を検知する当接センサ
を有することを特徴とする。さらに、前記当接部材は前
記反応塔内面を上下方向に転動可能なローラであること
を特徴とする。
【0008】
【作 用】このような本発明においては、触媒放出器の
中心から等距離に配置される保持手段の当接部材を反応
塔内面に接触させることで、反応塔内の触媒放出器が保
持手段により直接的に位置規制され、反応塔の中心位置
に確実に保持されることになる。このため、触媒放出器
から多重同心円状に散布される触媒は、偏ることなく均
一かつ平坦な状態で反応塔内に充填されるようになる。
中心から等距離に配置される保持手段の当接部材を反応
塔内面に接触させることで、反応塔内の触媒放出器が保
持手段により直接的に位置規制され、反応塔の中心位置
に確実に保持されることになる。このため、触媒放出器
から多重同心円状に散布される触媒は、偏ることなく均
一かつ平坦な状態で反応塔内に充填されるようになる。
【0009】そして、保持手段を触媒放出器に格納可能
とすれば、触媒放出器の反応塔内への吊り込みを容易に
行え、かつ当接センサで当接部材と反応塔内面との当接
を検出するまで拡開動作を行うことで保持手段による前
記保持を確実に行える。さらに、当接部材を上下に転動
するローラとすることで、触媒放出器を昇降させながら
散布する際にも保持手段による中心位置保持を継続する
ことが可能である。
とすれば、触媒放出器の反応塔内への吊り込みを容易に
行え、かつ当接センサで当接部材と反応塔内面との当接
を検出するまで拡開動作を行うことで保持手段による前
記保持を確実に行える。さらに、当接部材を上下に転動
するローラとすることで、触媒放出器を昇降させながら
散布する際にも保持手段による中心位置保持を継続する
ことが可能である。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1において、反応塔10は、内部に触媒11が充
填される有底円筒状の大型反応塔であり、その上面中央
部には開口12が設けられ、底部は基礎13に固定支持され
ている。反応塔10の上部には架台14が組まれ、この架台
14内には本発明に基づく触媒充填装置20が構成されてい
る。
明する。図1において、反応塔10は、内部に触媒11が充
填される有底円筒状の大型反応塔であり、その上面中央
部には開口12が設けられ、底部は基礎13に固定支持され
ている。反応塔10の上部には架台14が組まれ、この架台
14内には本発明に基づく触媒充填装置20が構成されてい
る。
【0011】触媒充填装置20は、反応塔10内に吊り下げ
導入されて触媒の回転散布を行う触媒放出器30と、この
触媒放出器30を吊り下げるチェン41を巻き上げて触媒放
出器30を昇降させるチェン巻き上げ機構40と、散布すべ
き触媒を供給するホッパ機構50と、このホッパ機構50か
らの触媒を触媒放出器30に供給するホース61を巻き上げ
るホース巻き上げ機構60とを備えている。また、触媒充
填装置20は、反応塔10内に充填された触媒11の表面高さ
を検出するワイヤ状のレベル計71を含む各種センサから
の出力および各種設定に基づいて全体の動作制御を行う
制御手段70を備えている。
導入されて触媒の回転散布を行う触媒放出器30と、この
触媒放出器30を吊り下げるチェン41を巻き上げて触媒放
出器30を昇降させるチェン巻き上げ機構40と、散布すべ
き触媒を供給するホッパ機構50と、このホッパ機構50か
らの触媒を触媒放出器30に供給するホース61を巻き上げ
るホース巻き上げ機構60とを備えている。また、触媒充
填装置20は、反応塔10内に充填された触媒11の表面高さ
を検出するワイヤ状のレベル計71を含む各種センサから
の出力および各種設定に基づいて全体の動作制御を行う
制御手段70を備えている。
【0012】触媒放出器30は、図2および図3に示すよ
うに、下部に回転しながら触媒を放出する放出板31を有
し、内部に放出板31を回転駆動するモータ32およびシャ
フト33を備えている。また、触媒放出器30は内部にホー
ス61から供給された触媒を放出板31まで送る触媒通路34
を有し、外周に触媒放出器30を反応塔10の中心に保持す
るための保持手段として径方向に伸びる三本の保持アー
ム35を備えている。
うに、下部に回転しながら触媒を放出する放出板31を有
し、内部に放出板31を回転駆動するモータ32およびシャ
フト33を備えている。また、触媒放出器30は内部にホー
ス61から供給された触媒を放出板31まで送る触媒通路34
を有し、外周に触媒放出器30を反応塔10の中心に保持す
るための保持手段として径方向に伸びる三本の保持アー
ム35を備えている。
【0013】放出板31は、モータ32およびシャフト33で
回転駆動され、触媒通路34から供給される触媒を異なる
多数の径方向位置で放出することで多重同心円状に散布
するものである。放出板31の具体的な構造としては、例
えば本願出願人が特願昭63−165577号に開示したよう
な、径方向長さが異なる多数の触媒通路を多層に重ねた
ものが好適である。触媒通路34は、モータ32およびシャ
フト33を避けるように中間部分を三つに分岐され、各々
は下部で再び合流されて放出板31の中央部に触媒を供給
するように構成されている。
回転駆動され、触媒通路34から供給される触媒を異なる
多数の径方向位置で放出することで多重同心円状に散布
するものである。放出板31の具体的な構造としては、例
えば本願出願人が特願昭63−165577号に開示したよう
な、径方向長さが異なる多数の触媒通路を多層に重ねた
ものが好適である。触媒通路34は、モータ32およびシャ
フト33を避けるように中間部分を三つに分岐され、各々
は下部で再び合流されて放出板31の中央部に触媒を供給
するように構成されている。
【0014】保持アーム35は、各々複数の平行リンクを
連続させたパンタグラフ式の伸縮機構であり、触媒放出
器30の外周の三箇所に等間隔で配置されている。そし
て、収縮時には触媒通路34の三本の中間部の間に形成さ
れた格納部36に格納され、かつ互いに同量づつ伸長され
て先端部が反応塔10の内面に当接することで、触媒放出
器30を反応塔10の中心位置に保持するようになってい
る。
連続させたパンタグラフ式の伸縮機構であり、触媒放出
器30の外周の三箇所に等間隔で配置されている。そし
て、収縮時には触媒通路34の三本の中間部の間に形成さ
れた格納部36に格納され、かつ互いに同量づつ伸長され
て先端部が反応塔10の内面に当接することで、触媒放出
器30を反応塔10の中心位置に保持するようになってい
る。
【0015】詳述すると、保持アーム35は、相互の中央
部を回動連結された一対の軸材80を複数並べ、各対の端
部どうし順次回動連結することで構成され、各部が順次
平行リンク状に伸縮することで全体として伸縮するよう
になっている。各保持アーム35には、それぞれ基端側の
下側端部80A から先端側の他の軸材80まで延びるエアシ
リンダ83が接続され、このエアシリンダ83は制御手段70
に接続されており、制御手段70からの指令により各々の
エアシリンダ83が伸縮することで、各保持アーム35がそ
れぞれ伸縮するようになっている。
部を回動連結された一対の軸材80を複数並べ、各対の端
部どうし順次回動連結することで構成され、各部が順次
平行リンク状に伸縮することで全体として伸縮するよう
になっている。各保持アーム35には、それぞれ基端側の
下側端部80A から先端側の他の軸材80まで延びるエアシ
リンダ83が接続され、このエアシリンダ83は制御手段70
に接続されており、制御手段70からの指令により各々の
エアシリンダ83が伸縮することで、各保持アーム35がそ
れぞれ伸縮するようになっている。
【0016】保持アーム35基端側の一方の端部80A は触
媒放出器30の下部に回動連結されている。一方、触媒放
出器30の中心には内部にシャフト33が挿通される筒状の
スライドシャフト81が設けられ、その周囲には当該スラ
イドシャフト81に沿って触媒放出器30の上部から中間部
まで移動自在なスライド部材82が設けられ、他方の端部
80B はこのスライド部材82に回動連結されている。
媒放出器30の下部に回動連結されている。一方、触媒放
出器30の中心には内部にシャフト33が挿通される筒状の
スライドシャフト81が設けられ、その周囲には当該スラ
イドシャフト81に沿って触媒放出器30の上部から中間部
まで移動自在なスライド部材82が設けられ、他方の端部
80B はこのスライド部材82に回動連結されている。
【0017】従って、各保持アーム35は、それぞれのエ
アシリンダ83によって伸縮されるが、互いの基端側上下
端部80A,80B の近接離隔が共通のスライド部材82の昇降
により規制されているため、各保持アーム35の伸縮は互
いに同期され、各保持アーム35の先端側は触媒放出器30
の中心から等距離の位置に配置される。また、保持アー
ム35は基端側の下側端部80A が触媒放出器30に回動連結
され、その真上で上側端部80B が昇降されるため、保持
アーム35は伸縮方向が水平となり、かつ伸縮時には上側
位置が変動するが下側は一定の高さに維持される。
アシリンダ83によって伸縮されるが、互いの基端側上下
端部80A,80B の近接離隔が共通のスライド部材82の昇降
により規制されているため、各保持アーム35の伸縮は互
いに同期され、各保持アーム35の先端側は触媒放出器30
の中心から等距離の位置に配置される。また、保持アー
ム35は基端側の下側端部80A が触媒放出器30に回動連結
され、その真上で上側端部80B が昇降されるため、保持
アーム35は伸縮方向が水平となり、かつ伸縮時には上側
位置が変動するが下側は一定の高さに維持される。
【0018】保持アーム35の先端側には、水平に延びる
保持アーム35に対して上下方向に伸びる棒状の先端部材
84が装着されている。先端部材84の下端には保持アーム
35先端側の下側の端部80C が回動連結され、上側の端部
80D は先端部材84の上部から下方へ変位自在かつ回動自
在に係合されており、保持アーム35が伸縮した際には先
端部材84は一定の水平高さを維持しながら触媒放出器30
から径方向に移動される。先端部材84は保持アーム35の
収縮時には、保持アーム35とともに格納部36内に収容さ
れる。
保持アーム35に対して上下方向に伸びる棒状の先端部材
84が装着されている。先端部材84の下端には保持アーム
35先端側の下側の端部80C が回動連結され、上側の端部
80D は先端部材84の上部から下方へ変位自在かつ回動自
在に係合されており、保持アーム35が伸縮した際には先
端部材84は一定の水平高さを維持しながら触媒放出器30
から径方向に移動される。先端部材84は保持アーム35の
収縮時には、保持アーム35とともに格納部36内に収容さ
れる。
【0019】先端部材84の上下端部には、それぞれ保持
アーム35の伸長時に反応塔10の内面に当接される当接部
材であるローラ85が支持されている。各ローラ85は、そ
れぞれ揺動アーム86で支持されている。ローラ85は、反
応塔10の内面と平行かつ水平な軸まわりに回転自在に支
持されており、反応塔10の内面に対して上下方向に転動
可能である。従って、先端のローラ85を介して保持アー
ム35が反応塔10の内面に当接した状態でも触媒放出器30
を昇降させることが可能である。
アーム35の伸長時に反応塔10の内面に当接される当接部
材であるローラ85が支持されている。各ローラ85は、そ
れぞれ揺動アーム86で支持されている。ローラ85は、反
応塔10の内面と平行かつ水平な軸まわりに回転自在に支
持されており、反応塔10の内面に対して上下方向に転動
可能である。従って、先端のローラ85を介して保持アー
ム35が反応塔10の内面に当接した状態でも触媒放出器30
を昇降させることが可能である。
【0020】先端部材84の上端にはリミットスイッチを
用いた当接センサ87が配置され、下端には光学式や超音
波式等の遠隔測定可能な距離センサ88が配置されてい
る。当接センサ87は、ローラ85が反応塔10の内面に当接
した際の揺動アーム86の揺動を検出するものであり、そ
の検出出力は制御手段70に接続されている。距離センサ
88は、下方に向けて光または超音波のビームを発射し、
反応塔10内に充填された触媒11の表面からの反射を検出
することで、当該表面から触媒放出器30までの距離つま
り高さを検出するものであり、その検出出力は制御手段
70に接続されている。
用いた当接センサ87が配置され、下端には光学式や超音
波式等の遠隔測定可能な距離センサ88が配置されてい
る。当接センサ87は、ローラ85が反応塔10の内面に当接
した際の揺動アーム86の揺動を検出するものであり、そ
の検出出力は制御手段70に接続されている。距離センサ
88は、下方に向けて光または超音波のビームを発射し、
反応塔10内に充填された触媒11の表面からの反射を検出
することで、当該表面から触媒放出器30までの距離つま
り高さを検出するものであり、その検出出力は制御手段
70に接続されている。
【0021】制御手段70は、図4に示すように、基本的
な散布動作制御を行う散布制御部72と、その伸縮指令お
よび当接センサ87の出力に基づいて保持アーム35の伸縮
を制御する伸縮制御部73と、距離センサ88が出力する距
離および保持アーム35の伸縮位置から反応塔10内の触媒
11の表面形状を計測する表面形状計測部74とを備えてい
る。
な散布動作制御を行う散布制御部72と、その伸縮指令お
よび当接センサ87の出力に基づいて保持アーム35の伸縮
を制御する伸縮制御部73と、距離センサ88が出力する距
離および保持アーム35の伸縮位置から反応塔10内の触媒
11の表面形状を計測する表面形状計測部74とを備えてい
る。
【0022】散布制御部72は、予め設定されたパラメー
タおよび動作プログラムにより動作し、散布の際に伸縮
制御部73へ保持アーム35の伸縮を指令するとともに、前
述したレベル計71からの触媒11の表面高さに応じて巻き
上げ機構40を制御し、触媒放出器30の高さを調整して触
媒の散布高さを制御し、さらに触媒放出器30のモータ32
を制御し、放出板31の回転数を調整して触媒の散布範囲
を制御するように構成されている。なお、散布制御部72
は、ホース巻き上げ機構60によるホース61の巻き出し、
巻き上げ状態や、ホッパ機構50からの触媒供給状態など
を含む全体的な制御を行う機能を含むものとされてい
る。
タおよび動作プログラムにより動作し、散布の際に伸縮
制御部73へ保持アーム35の伸縮を指令するとともに、前
述したレベル計71からの触媒11の表面高さに応じて巻き
上げ機構40を制御し、触媒放出器30の高さを調整して触
媒の散布高さを制御し、さらに触媒放出器30のモータ32
を制御し、放出板31の回転数を調整して触媒の散布範囲
を制御するように構成されている。なお、散布制御部72
は、ホース巻き上げ機構60によるホース61の巻き出し、
巻き上げ状態や、ホッパ機構50からの触媒供給状態など
を含む全体的な制御を行う機能を含むものとされてい
る。
【0023】伸縮制御部73は、散布制御部72からの伸縮
指令に基づいてエアシリンダ83を制御して保持アーム35
を伸縮させるものであり、伸長動作時には当接センサ87
から当接が検出されるまで伸長を継続することで、反応
塔10の内面に対する保持アーム35の先端の当接を確実に
行えるようになっている。
指令に基づいてエアシリンダ83を制御して保持アーム35
を伸縮させるものであり、伸長動作時には当接センサ87
から当接が検出されるまで伸長を継続することで、反応
塔10の内面に対する保持アーム35の先端の当接を確実に
行えるようになっている。
【0024】表面形状計測部74は、伸縮制御部73から得
られる保持アーム35の伸縮量から距離センサ88の反応塔
10内における径方向位置を得るとともに、各位置におい
て距離センサ88が測定した距離を記録してゆくことによ
り、反応塔10内に散布された触媒11の表面高さを径方向
に走査し、触媒11表面の径方向の輪郭形状を計測するも
のである(図5参照)。表面形状計測部74は計測した表
面形状を図示しない操作コンソールに表示し、この表示
から作業員が触媒11の表面の平坦度を判定し、凹凸が大
きいと判断した際には散布制御部72に再度散布を指令す
る。または、表面形状計測部74において所定量以上の高
さ変動がある場合に平坦でないと判定し、自動的に散布
制御部72に再度散布を指令するようにしてもよい。
られる保持アーム35の伸縮量から距離センサ88の反応塔
10内における径方向位置を得るとともに、各位置におい
て距離センサ88が測定した距離を記録してゆくことによ
り、反応塔10内に散布された触媒11の表面高さを径方向
に走査し、触媒11表面の径方向の輪郭形状を計測するも
のである(図5参照)。表面形状計測部74は計測した表
面形状を図示しない操作コンソールに表示し、この表示
から作業員が触媒11の表面の平坦度を判定し、凹凸が大
きいと判断した際には散布制御部72に再度散布を指令す
る。または、表面形状計測部74において所定量以上の高
さ変動がある場合に平坦でないと判定し、自動的に散布
制御部72に再度散布を指令するようにしてもよい。
【0025】このような本実施例においては、次のよう
な手順で反応塔10内に触媒の散布を行う。先ず、架台14
に設置されたチェン巻き上げ機構40からのチェン41で触
媒放出器30を反応塔10の上部開口12の上方に吊るし、こ
の状態でホース巻き上げ機構60から引き出したホース61
を触媒放出器30の触媒通路34上端に接続する。この際、
触媒放出器30は保持アーム35が格納部36内に格納された
状態としておく。次に、制御手段70の指令によりチェン
巻き上げ機構40を作動させ、チェン41を延ばして触媒放
出器30を下降させ、上部開口12から反応塔10内に導入す
る。
な手順で反応塔10内に触媒の散布を行う。先ず、架台14
に設置されたチェン巻き上げ機構40からのチェン41で触
媒放出器30を反応塔10の上部開口12の上方に吊るし、こ
の状態でホース巻き上げ機構60から引き出したホース61
を触媒放出器30の触媒通路34上端に接続する。この際、
触媒放出器30は保持アーム35が格納部36内に格納された
状態としておく。次に、制御手段70の指令によりチェン
巻き上げ機構40を作動させ、チェン41を延ばして触媒放
出器30を下降させ、上部開口12から反応塔10内に導入す
る。
【0026】触媒放出器30が反応塔10内の底部近傍に達
したら、制御手段70の指令によりエアシリンダ83を作動
させて三本の保持アーム35を同時に伸長させる。保持ア
ーム35が伸長して先端のローラ85が反応塔10の内面に当
接すると、当接センサ87が作動する。この作動により、
制御手段70はエアシリンダ83を停止させる。これによ
り、各方向の保持アーム35が同じ長さで反応塔10の内面
に当接した状態となり、触媒放出器30は反応塔10の中央
に保持される。
したら、制御手段70の指令によりエアシリンダ83を作動
させて三本の保持アーム35を同時に伸長させる。保持ア
ーム35が伸長して先端のローラ85が反応塔10の内面に当
接すると、当接センサ87が作動する。この作動により、
制御手段70はエアシリンダ83を停止させる。これによ
り、各方向の保持アーム35が同じ長さで反応塔10の内面
に当接した状態となり、触媒放出器30は反応塔10の中央
に保持される。
【0027】触媒放出器30が反応塔10の中央に保持され
たら、制御手段70はモータ32を作動させ、シャフト33を
介して放出板31を所定回転数で回転される。放出板31に
は、触媒通路34およびホース61を介してホッパ機構50か
ら触媒が供給され、この触媒は回転する放出板31から多
重同心円状に散布される。この際、触媒放出器30の中心
位置は保持アーム35により反応塔10の中心位置に維持さ
れており、触媒散布範囲の中心は反応塔10も中心に一致
される。従って、制御手段70により触媒放出器30の高
さ、放出板31の回転速度、触媒の放出量を適宜調整し、
触媒散布範囲の最外周が反応塔10の内面位置に略一致す
るように制御すれば、反応塔10内に充填される触媒11の
密度が均一かつ表面が平坦なものになる。
たら、制御手段70はモータ32を作動させ、シャフト33を
介して放出板31を所定回転数で回転される。放出板31に
は、触媒通路34およびホース61を介してホッパ機構50か
ら触媒が供給され、この触媒は回転する放出板31から多
重同心円状に散布される。この際、触媒放出器30の中心
位置は保持アーム35により反応塔10の中心位置に維持さ
れており、触媒散布範囲の中心は反応塔10も中心に一致
される。従って、制御手段70により触媒放出器30の高
さ、放出板31の回転速度、触媒の放出量を適宜調整し、
触媒散布範囲の最外周が反応塔10の内面位置に略一致す
るように制御すれば、反応塔10内に充填される触媒11の
密度が均一かつ表面が平坦なものになる。
【0028】触媒散布に伴って、反応塔10内の触媒11の
表面位置が上昇する。制御手段70は、チェン巻き上げ機
構40のチェン41巻き出し長さから触媒放出器30の高さを
算出し、レベル計71による反応塔10内の触媒11の表面高
さを検出し、各々から触媒11の表面から触媒放出器30ま
での相対高さを算出する。この相対高さが所定高さ範囲
を超えた場合、制御手段70は、チェン巻き上げ機構40を
作動させて触媒放出器30を所定量上昇させ、触媒11の表
面から触媒放出器30までの相対高さが所定範囲内に収ま
るように調整する。この際、保持アーム35はローラ85が
反応塔10の内面に転動するため、触媒放出器30を保持し
たままでも触媒放出器30の上昇を妨げることはない。
表面位置が上昇する。制御手段70は、チェン巻き上げ機
構40のチェン41巻き出し長さから触媒放出器30の高さを
算出し、レベル計71による反応塔10内の触媒11の表面高
さを検出し、各々から触媒11の表面から触媒放出器30ま
での相対高さを算出する。この相対高さが所定高さ範囲
を超えた場合、制御手段70は、チェン巻き上げ機構40を
作動させて触媒放出器30を所定量上昇させ、触媒11の表
面から触媒放出器30までの相対高さが所定範囲内に収ま
るように調整する。この際、保持アーム35はローラ85が
反応塔10の内面に転動するため、触媒放出器30を保持し
たままでも触媒放出器30の上昇を妨げることはない。
【0029】前述した触媒散布および触媒放出器30の上
昇を繰り返し、触媒放出器30が反応塔10内の所定の高さ
に達したら、反応塔10内に充分な量の触媒11が充填され
たことになるので、制御手段70は、触媒放出器30による
触媒散布を停止させ、保持アーム35を収縮させて格納す
る。制御手段70は、保持アーム35を収縮させる間に、そ
の先端下部の距離センサ88で触媒11の表面までの距離を
測定し、触媒11の表面に対して径方向の走査を行うこと
で当該表面の平坦度を検査する。この検査の結果、表面
に凹凸等がある場合、再び保持アーム35を伸長させて触
媒放出器30による触媒散布を行う。この際、凹部分の径
方向位置に多量の触媒が落下するように触媒放出器30の
散布状態を適宜調整する。
昇を繰り返し、触媒放出器30が反応塔10内の所定の高さ
に達したら、反応塔10内に充分な量の触媒11が充填され
たことになるので、制御手段70は、触媒放出器30による
触媒散布を停止させ、保持アーム35を収縮させて格納す
る。制御手段70は、保持アーム35を収縮させる間に、そ
の先端下部の距離センサ88で触媒11の表面までの距離を
測定し、触媒11の表面に対して径方向の走査を行うこと
で当該表面の平坦度を検査する。この検査の結果、表面
に凹凸等がある場合、再び保持アーム35を伸長させて触
媒放出器30による触媒散布を行う。この際、凹部分の径
方向位置に多量の触媒が落下するように触媒放出器30の
散布状態を適宜調整する。
【0030】このような本実施例によれば、次に示すよ
うな効果がある。すなわち、保持手段として周方向に均
等配置された三本の保持アーム35を設けたので、触媒放
出器30の中心を反応塔10の中心に一致させることができ
る。このため、制御手段70の制御により触媒放出器30か
ら多重同心円状に散布される触媒の散布領域を反応塔10
内部形状に対応させておけば、各々の中心を保持アーム
35によって確実に一致させることができ、反応塔10底面
側に一様な状態で触媒を散布ないし充填させることがで
きる。
うな効果がある。すなわち、保持手段として周方向に均
等配置された三本の保持アーム35を設けたので、触媒放
出器30の中心を反応塔10の中心に一致させることができ
る。このため、制御手段70の制御により触媒放出器30か
ら多重同心円状に散布される触媒の散布領域を反応塔10
内部形状に対応させておけば、各々の中心を保持アーム
35によって確実に一致させることができ、反応塔10底面
側に一様な状態で触媒を散布ないし充填させることがで
きる。
【0031】つまり、触媒放出器30からの触媒の散布領
域形状が反応塔10内部形状に対応していても、触媒放出
器30が偏りを生じて反応塔10の中心からずれた場合に
は、反応塔10の一側内面近傍に多量の触媒が堆積し、反
対側内面近傍には触媒が不足する等の不都合が生じる可
能性があるが、本実施例では触媒放出器30は保持アーム
35により常に反応塔10の中心に保持されるため、このよ
うな不都合は確実に回避される。
域形状が反応塔10内部形状に対応していても、触媒放出
器30が偏りを生じて反応塔10の中心からずれた場合に
は、反応塔10の一側内面近傍に多量の触媒が堆積し、反
対側内面近傍には触媒が不足する等の不都合が生じる可
能性があるが、本実施例では触媒放出器30は保持アーム
35により常に反応塔10の中心に保持されるため、このよ
うな不都合は確実に回避される。
【0032】さらに、保持アーム35の先端に上下方向に
延びる先端部材84を設け、その上下端部のローラ85の二
点で反応塔10の内面に当接するようにしたため、各保持
アーム35は当接に伴って触媒放出器30の姿勢を垂直に保
持するように働き、その軸線方向を反応塔10の中心軸に
一致させることができる。このため、触媒放出器30の軸
線の傾きによる触媒散布状態の不均一をも未然に解消す
ることができ、前述した触媒散布の正確さを一層高める
ことができる。
延びる先端部材84を設け、その上下端部のローラ85の二
点で反応塔10の内面に当接するようにしたため、各保持
アーム35は当接に伴って触媒放出器30の姿勢を垂直に保
持するように働き、その軸線方向を反応塔10の中心軸に
一致させることができる。このため、触媒放出器30の軸
線の傾きによる触媒散布状態の不均一をも未然に解消す
ることができ、前述した触媒散布の正確さを一層高める
ことができる。
【0033】また、保持アーム35は触媒放出器30に一体
化され、かつ内部に格納可能であるため、触媒充填にあ
たっての設置作業が容易に行えるとともに、反応塔10内
に導入する際には格納状態とすることで触媒放出器30が
通過可能な開口があればどのような反応塔10にでも確実
に適用することができる。
化され、かつ内部に格納可能であるため、触媒充填にあ
たっての設置作業が容易に行えるとともに、反応塔10内
に導入する際には格納状態とすることで触媒放出器30が
通過可能な開口があればどのような反応塔10にでも確実
に適用することができる。
【0034】さらに、三本の保持アーム35は、同じエア
シリンダ83およびスライド部材82で一括駆動するように
したため、各々の動作を同期させて互いの伸縮量を等し
くすることができる。このため、各保持アーム35を伸長
させ、各々の先端を反応塔10の内面に当接させれば、そ
の状態は各保持アーム35の長さが等しく、つまり触媒放
出器30が反応塔10の中心に位置されていることになる。
従って、触媒放出器30の反応塔10中央への保持は制御が
容易かつ動作を確実に行うことができる。
シリンダ83およびスライド部材82で一括駆動するように
したため、各々の動作を同期させて互いの伸縮量を等し
くすることができる。このため、各保持アーム35を伸長
させ、各々の先端を反応塔10の内面に当接させれば、そ
の状態は各保持アーム35の長さが等しく、つまり触媒放
出器30が反応塔10の中心に位置されていることになる。
従って、触媒放出器30の反応塔10中央への保持は制御が
容易かつ動作を確実に行うことができる。
【0035】そして、保持アーム35の先端には当接部材
としてのローラ85を設け、その反応塔10への当接を当接
スイッチ87で検出するようにしたため、触媒放出器30を
反応塔10中央に保持するために保持アーム35を伸長させ
る場合、伸長長さ等を考慮することなく、当接スイッチ
87の作動があるまで伸長動作を続ければよいから、当該
動作の制御を容易にできる。また、反応塔10に当接する
までは伸長動作が継続されるため、伸長不足により触媒
放出器30の反応塔10中央保持が不十分になるといった不
都合を未然に回避することができる。
としてのローラ85を設け、その反応塔10への当接を当接
スイッチ87で検出するようにしたため、触媒放出器30を
反応塔10中央に保持するために保持アーム35を伸長させ
る場合、伸長長さ等を考慮することなく、当接スイッチ
87の作動があるまで伸長動作を続ければよいから、当該
動作の制御を容易にできる。また、反応塔10に当接する
までは伸長動作が継続されるため、伸長不足により触媒
放出器30の反応塔10中央保持が不十分になるといった不
都合を未然に回避することができる。
【0036】さらに、保持アーム35の先端のローラ85
は、反応塔10内面に上下方向に転動自在であるため、触
媒表面の上昇に伴って触媒放出器30を上昇させる場合で
も保持アーム35を解除する必要はなく、中央保持を行っ
た状態のまま上昇を行うことができる。このため、保持
アーム35の伸縮等の余計な作業が必要なく、散布作業の
中断による効率低下を未然に回避することができる。
は、反応塔10内面に上下方向に転動自在であるため、触
媒表面の上昇に伴って触媒放出器30を上昇させる場合で
も保持アーム35を解除する必要はなく、中央保持を行っ
た状態のまま上昇を行うことができる。このため、保持
アーム35の伸縮等の余計な作業が必要なく、散布作業の
中断による効率低下を未然に回避することができる。
【0037】一方、本実施例では、触媒放出器30の保持
アーム35先端に設けた距離センサ88で反応塔10内の触媒
11の表面を走査し、制御手段70において触媒11の表面形
状を計測するようにしたため、触媒11の表面の平坦度あ
るいは凹凸等の検査を簡単に行うことができる。このた
め、従来のように散布結果の検査のために作業員が反応
塔10内に入る必要がなく、かつ別途の監視装置等を反応
塔10内に導入する必要性も解消でき、散布後の検査の際
の作業性を向上できるとともに、検査のための装置構成
を簡略化することができる。
アーム35先端に設けた距離センサ88で反応塔10内の触媒
11の表面を走査し、制御手段70において触媒11の表面形
状を計測するようにしたため、触媒11の表面の平坦度あ
るいは凹凸等の検査を簡単に行うことができる。このた
め、従来のように散布結果の検査のために作業員が反応
塔10内に入る必要がなく、かつ別途の監視装置等を反応
塔10内に導入する必要性も解消でき、散布後の検査の際
の作業性を向上できるとともに、検査のための装置構成
を簡略化することができる。
【0038】そして、散布に用いた触媒放出器30を反応
塔10内に導入したままの状態で検査が行えるため、表面
形状の検査に続いてすぐに凹凸等を修正するための追加
散布を行うことができ、更に効率を向上することができ
とともに、良好な散布結果を確実にえることができる。
塔10内に導入したままの状態で検査が行えるため、表面
形状の検査に続いてすぐに凹凸等を修正するための追加
散布を行うことができ、更に効率を向上することができ
とともに、良好な散布結果を確実にえることができる。
【0039】また、本実施例では、距離センサ88を径方
向に伸縮する保持アーム35の先端に設けたため、保持ア
ーム35の伸縮に伴って走査を行うことができ、距離セン
サ88の走査を行わせるために別途の移動機構等を設ける
必要がなく、装置構成を更に簡略化することができる。
向に伸縮する保持アーム35の先端に設けたため、保持ア
ーム35の伸縮に伴って走査を行うことができ、距離セン
サ88の走査を行わせるために別途の移動機構等を設ける
必要がなく、装置構成を更に簡略化することができる。
【0040】そして、保持アーム35の伸縮方向は径方向
であるため、距離センサ88は触媒11の表面を径方向に走
査することになる。ここで、反応塔10内に散布された触
媒11は、散布が多重同心円状であることから、周方向に
連続した凹凸を生じることが多い。このため、前述のよ
うな径方向の走査を行うことで、触媒11の表面の周方向
に連続した凹凸に対する計測性能が最適となり、表面平
坦度を効率よく確実に検査することができる。
であるため、距離センサ88は触媒11の表面を径方向に走
査することになる。ここで、反応塔10内に散布された触
媒11は、散布が多重同心円状であることから、周方向に
連続した凹凸を生じることが多い。このため、前述のよ
うな径方向の走査を行うことで、触媒11の表面の周方向
に連続した凹凸に対する計測性能が最適となり、表面平
坦度を効率よく確実に検査することができる。
【0041】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、以下に示すような変形等も本発明に含まれ
るものである。すなわち、保持アーム35の先端下部の距
離センサ88は、反応塔10内の触媒11の表面状態等を監視
する装置が別途得られる場合には適宜省略してもよい。
また、保持アーム35の先端の当接センサ87は、全ての保
持アーム35に設けてもよいが、何れかの保持アーム35だ
けに設けてもよい。
のではなく、以下に示すような変形等も本発明に含まれ
るものである。すなわち、保持アーム35の先端下部の距
離センサ88は、反応塔10内の触媒11の表面状態等を監視
する装置が別途得られる場合には適宜省略してもよい。
また、保持アーム35の先端の当接センサ87は、全ての保
持アーム35に設けてもよいが、何れかの保持アーム35だ
けに設けてもよい。
【0042】つまり、全ての保持アーム35に設ければ、
全ての当接センサ87が作動した時点で保持アーム35の伸
長を停止することで、各々を反応塔10内面に確実に当接
させることができる。一方、ローラ85の揺動アーム86に
ばね等を設けて反応塔10内面に所定の力で圧接されない
限り揺動しないようにしておけば、全ての保持アーム35
が反応塔10に当接して更なる伸長により圧力を受けない
限り、何れの揺動アーム86も揺動しないようにできる。
従って、このような場合には当接センサ87を何れかの保
持アーム35だけに設けても、その作動により保持アーム
35の伸長を停止させれば、全ての保持アーム35を反応塔
10内面に確実に当接させることができる。
全ての当接センサ87が作動した時点で保持アーム35の伸
長を停止することで、各々を反応塔10内面に確実に当接
させることができる。一方、ローラ85の揺動アーム86に
ばね等を設けて反応塔10内面に所定の力で圧接されない
限り揺動しないようにしておけば、全ての保持アーム35
が反応塔10に当接して更なる伸長により圧力を受けない
限り、何れの揺動アーム86も揺動しないようにできる。
従って、このような場合には当接センサ87を何れかの保
持アーム35だけに設けても、その作動により保持アーム
35の伸長を停止させれば、全ての保持アーム35を反応塔
10内面に確実に当接させることができる。
【0043】さらに、当接センサ87を省略し、保持アー
ム35を予め指定した長さだけ伸長した時点で停止させる
ようにしてもよい。この場合、保持アーム35の長さ精度
等を考慮して、各保持アーム35に同じ定数のばねを有す
るクッション等を用い、反応塔10との間に確実な当接が
得られ、かつ触媒放出器30を反応塔10の中心に確実に保
持できるように配慮することが望ましい。
ム35を予め指定した長さだけ伸長した時点で停止させる
ようにしてもよい。この場合、保持アーム35の長さ精度
等を考慮して、各保持アーム35に同じ定数のばねを有す
るクッション等を用い、反応塔10との間に確実な当接が
得られ、かつ触媒放出器30を反応塔10の中心に確実に保
持できるように配慮することが望ましい。
【0044】また、前記実施例では当接部材として上下
に転動するローラ85を用いたが、任意方向に転動可能な
ボールブッシュや任意方向に摺動自在な低摩擦材料のパ
ッド等を当接部材としてもよい。しかし、上下にのみ転
動するローラ85を用いることで、触媒放出器30が反応塔
10内で不必要に回転することを防止できるため、ローラ
85が好ましい。ただし、放出板31の回転数制御のみで触
媒11の表面高さに対応する場合など、散布中に触媒放出
器30を昇降させる必要がないならば、ローラ85である必
要はなく、単に当接可能なブロックやパッド状部材であ
ってもよい。
に転動するローラ85を用いたが、任意方向に転動可能な
ボールブッシュや任意方向に摺動自在な低摩擦材料のパ
ッド等を当接部材としてもよい。しかし、上下にのみ転
動するローラ85を用いることで、触媒放出器30が反応塔
10内で不必要に回転することを防止できるため、ローラ
85が好ましい。ただし、放出板31の回転数制御のみで触
媒11の表面高さに対応する場合など、散布中に触媒放出
器30を昇降させる必要がないならば、ローラ85である必
要はなく、単に当接可能なブロックやパッド状部材であ
ってもよい。
【0045】さらに、保持アーム35は前記実施例のよう
なパンタグラフ式構造に限らず、テレスコピック式の伸
縮構造であってもよく、触媒放出器30の外周に沿って軸
方向に畳まれた状態から径方向に起立可能なロッド、同
じく接線方向に回動するロッド、あるいはこれらの組み
合わせた構造等を採用してもよく、実施にあたって適宜
選択すればよい。
なパンタグラフ式構造に限らず、テレスコピック式の伸
縮構造であってもよく、触媒放出器30の外周に沿って軸
方向に畳まれた状態から径方向に起立可能なロッド、同
じく接線方向に回動するロッド、あるいはこれらの組み
合わせた構造等を採用してもよく、実施にあたって適宜
選択すればよい。
【0046】また、保持アーム35の伸縮方向は、前記実
施例のような水平に限らず、径方向で上下方向に傾斜し
て延びるものでもよい。さらに、各保持アーム35は、前
記実施例のような機械的に同期伸縮するものに限らず、
各々が別個の駆動源を有するが各々の制御の際に同期さ
れるものであってもよい。
施例のような水平に限らず、径方向で上下方向に傾斜し
て延びるものでもよい。さらに、各保持アーム35は、前
記実施例のような機械的に同期伸縮するものに限らず、
各々が別個の駆動源を有するが各々の制御の際に同期さ
れるものであってもよい。
【0047】さらに、上下方向に延びる先端部材84は省
略してもよく、各保持アーム35が一点で反応塔10内面に
当接するようにしてもよい。しかし、前記実施例のよう
に上下二点で当接するようにすれば、触媒放出器30の軸
方向を反応塔10野中心軸線に一致させ、散布状態を更に
正確化できる。
略してもよく、各保持アーム35が一点で反応塔10内面に
当接するようにしてもよい。しかし、前記実施例のよう
に上下二点で当接するようにすれば、触媒放出器30の軸
方向を反応塔10野中心軸線に一致させ、散布状態を更に
正確化できる。
【0048】なお、制御手段70は既存のコンピュータシ
ステム等を用い、前述した制御が行えるように適宜設定
すればよい。また、触媒放出器30の他の部分の構造や方
式、触媒充填装置20のチェン巻き上げ機構40、ホッパ機
構50、ホース巻き上げ機構60等の構造なども実施にあた
って適宜選択すればよい。
ステム等を用い、前述した制御が行えるように適宜設定
すればよい。また、触媒放出器30の他の部分の構造や方
式、触媒充填装置20のチェン巻き上げ機構40、ホッパ機
構50、ホース巻き上げ機構60等の構造なども実施にあた
って適宜選択すればよい。
【0049】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
反応塔内面の当接する保持手段により触媒放出器を直接
的に反応塔の中心位置に保持させることができ、触媒放
出器の振れによる触媒充填状態の偏りを確実に防止する
ことができる。
反応塔内面の当接する保持手段により触媒放出器を直接
的に反応塔の中心位置に保持させることができ、触媒放
出器の振れによる触媒充填状態の偏りを確実に防止する
ことができる。
【図1】本発明の一実施例の全体構成を示す概略側面
図。
図。
【図2】前記実施例の触媒放出器を示す縦断面図。
【図3】前記実施例の触媒放出器を示す横断面図。
【図4】前記実施例の制御手段を示すブロック図。
【図5】前記実施例の表面形状検査を示す横断面図。
10 反応塔 11 触媒 20 触媒充填装置 30 触媒放出器 35 保持手段である保持アーム 40 チェン巻き上げ機構 50 ホッパ機構 60 ホース巻き上げ機構 70 制御手段 84 先端部材 85 当接部材であるローラ 87 当接センサ
Claims (4)
- 【請求項1】 反応塔の内部に触媒放出器を吊り下げ、
前記反応塔内面の周方向複数部位に当接する保持手段に
より前記触媒放出器を前記反応塔の中心に保持し、この
状態で前記触媒放出器から触媒を前記反応塔内に散布す
ることを特徴とする触媒充填方法。 - 【請求項2】 反応塔の内部に吊り下げられて当該反応
塔内に触媒を散布する触媒放出器を備えた触媒充填装置
であって、前記触媒放出器は前記反応塔内面の周方向複
数部位に当接する当接部材を有する保持手段を備え、こ
の保持手段は前記当接部材が前記触媒充填装置の中心か
ら互いに等しい距離となるように構成されていることを
特徴とする触媒充填装置。 - 【請求項3】 請求項2に記載した触媒充填装置であっ
て、前記保持手段は前記触媒放出器内に格納可能であ
り、かつ先端の当接部材と前記反応塔内面との接触を検
知する当接センサを有することを特徴とする触媒充填装
置。 - 【請求項4】 請求項2または請求項3に記載した触媒
充填装置であって、前記当接部材は前記反応塔内面を上
下方向に転動可能なローラであることを特徴とする触媒
充填装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5212796A JPH0760101A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 触媒充填方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5212796A JPH0760101A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 触媒充填方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0760101A true JPH0760101A (ja) | 1995-03-07 |
Family
ID=16628528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5212796A Pending JPH0760101A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 触媒充填方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0760101A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0952630A (ja) * | 1995-06-08 | 1997-02-25 | Japan Energy Corp | 粒子充填装置における粒子充填面の平滑化方法 |
| JP2011505234A (ja) * | 2007-11-15 | 2011-02-24 | トータル・ラフィナージュ・マーケティング | 固体粒子をチャンバー内に堆積させる堆積装置及び堆積方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6214938A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-23 | Kashima Eng Kk | 触媒の抜出し装置 |
| JPH0122807B2 (ja) * | 1984-07-03 | 1989-04-27 | Idemitsu Kosan Co |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP5212796A patent/JPH0760101A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0122807B2 (ja) * | 1984-07-03 | 1989-04-27 | Idemitsu Kosan Co | |
| JPS6214938A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-23 | Kashima Eng Kk | 触媒の抜出し装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0952630A (ja) * | 1995-06-08 | 1997-02-25 | Japan Energy Corp | 粒子充填装置における粒子充填面の平滑化方法 |
| JP2011505234A (ja) * | 2007-11-15 | 2011-02-24 | トータル・ラフィナージュ・マーケティング | 固体粒子をチャンバー内に堆積させる堆積装置及び堆積方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990727 |