JPH0122807B2 - - Google Patents
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- JPH0122807B2 JPH0122807B2 JP59138488A JP13848884A JPH0122807B2 JP H0122807 B2 JPH0122807 B2 JP H0122807B2 JP 59138488 A JP59138488 A JP 59138488A JP 13848884 A JP13848884 A JP 13848884A JP H0122807 B2 JPH0122807 B2 JP H0122807B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- reaction tower
- filling
- hopper
- discharger
- Prior art date
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、化学工業で使用する大容量の筒形反
応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する触媒充填方
法および触媒充填装置に関する。
応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する触媒充填方
法および触媒充填装置に関する。
[背景技術とその問題点]
従来、大容量の筒形の反応塔への顆粒状の触媒
の充填は、塔外上部のホツパーから触媒を、反応
塔内に吊下させた充填パイプに導き、充填パイプ
の下端にフレキシブルパイプを接続し、塔内に入
つた作業員がこれを操作して触媒を散布し、レー
キ等で平にならしていた。この充填作業により充
填床のレベルが上昇して作業が困難になると、そ
の都度作業を中断して充填パイプの中間パイプを
取外し、これを短くして作業を再開し、これを繰
返すという方法を採つていた。
の充填は、塔外上部のホツパーから触媒を、反応
塔内に吊下させた充填パイプに導き、充填パイプ
の下端にフレキシブルパイプを接続し、塔内に入
つた作業員がこれを操作して触媒を散布し、レー
キ等で平にならしていた。この充填作業により充
填床のレベルが上昇して作業が困難になると、そ
の都度作業を中断して充填パイプの中間パイプを
取外し、これを短くして作業を再開し、これを繰
返すという方法を採つていた。
このため、作業の効率が悪くて徒らに長時間を
要し、また、作業者が充填した触媒を踏み締める
ため触媒の充填密度にむらを生じ、並置された反
応塔相互間でも充填密度に相違を来し、これらに
反応用流体を流すとき触媒層の差圧に大幅の異同
を生じて、製品の品質や歩溜りを悪くし、ひどい
ときは、装置の運転の継続に支障を来すという不
具合があつた。
要し、また、作業者が充填した触媒を踏み締める
ため触媒の充填密度にむらを生じ、並置された反
応塔相互間でも充填密度に相違を来し、これらに
反応用流体を流すとき触媒層の差圧に大幅の異同
を生じて、製品の品質や歩溜りを悪くし、ひどい
ときは、装置の運転の継続に支障を来すという不
具合があつた。
また、この充填作業は、触媒の粉の舞上る中で
行なわれるため、作業環境が極めて悪く、この点
でも何らかの対策が望まれていた。
行なわれるため、作業環境が極めて悪く、この点
でも何らかの対策が望まれていた。
ところで、顆粒状触媒の中には衝撃によつて容
易に粉化するものが多く、1m以上の高さからの
自然落下でも壊れて粉になり、触媒機能が低下す
るとともに、充填むらを大きくしてしまうものが
ある。このような場合は、フレキシブルチユーブ
の先端を作業員が手で絞つて静かに散布し、表面
をならす必要があり、これには熟練作業者の慎重
かつ長時間の作業を要していた。
易に粉化するものが多く、1m以上の高さからの
自然落下でも壊れて粉になり、触媒機能が低下す
るとともに、充填むらを大きくしてしまうものが
ある。このような場合は、フレキシブルチユーブ
の先端を作業員が手で絞つて静かに散布し、表面
をならす必要があり、これには熟練作業者の慎重
かつ長時間の作業を要していた。
従つて、これらの問題を解決する装置の出現が
強く望まれていた。
強く望まれていた。
[発明の目的]
本発明の目的は、作業者による散布やならし作
業に頼ることなく、しかも顆粒を粉化させない穏
やかさで、触媒を反応塔内に均一な密度に充填す
ることのできる触媒充填方法およびその装置を提
供するにある。
業に頼ることなく、しかも顆粒を粉化させない穏
やかさで、触媒を反応塔内に均一な密度に充填す
ることのできる触媒充填方法およびその装置を提
供するにある。
[発明の構成]
本発明の方法は、触媒を反応塔内にほぼ均等に
放出できる触媒放出器の反応塔内に昇降可能に吊
下げるとともに、この触媒放出器と、反応塔内に
充填される触媒の表面との距離がほぼ所定の範囲
内におさまるように触媒放出器を上昇させなが
ら、反応塔内に触媒を順次充填してゆくものであ
る。
放出できる触媒放出器の反応塔内に昇降可能に吊
下げるとともに、この触媒放出器と、反応塔内に
充填される触媒の表面との距離がほぼ所定の範囲
内におさまるように触媒放出器を上昇させなが
ら、反応塔内に触媒を順次充填してゆくものであ
る。
本発明の装置は、反応塔の塔外から昇降の可能
なゴンドラを、ほぼ反応の中心軸に沿つて反応塔
内に吊し、このゴンドラには、触媒を下方および
半径方向周縁に向つて放出可能な触媒放出器を載
せ、更にこの触媒放出器上に連通されるとともに
塔外のホツパーに連通される触媒補給装置を設
け、これにより触媒補給装置から触媒放出器に触
媒を供給して触媒放出器から順次反応塔内に放出
して反応塔内に触媒を順次充填し、この充填に伴
い触媒放出器を順次ゴンドラと共に引上げるよう
にして反応塔内に所定量の触媒を充填するように
し、前記目的を達成しようとするものである。
なゴンドラを、ほぼ反応の中心軸に沿つて反応塔
内に吊し、このゴンドラには、触媒を下方および
半径方向周縁に向つて放出可能な触媒放出器を載
せ、更にこの触媒放出器上に連通されるとともに
塔外のホツパーに連通される触媒補給装置を設
け、これにより触媒補給装置から触媒放出器に触
媒を供給して触媒放出器から順次反応塔内に放出
して反応塔内に触媒を順次充填し、この充填に伴
い触媒放出器を順次ゴンドラと共に引上げるよう
にして反応塔内に所定量の触媒を充填するように
し、前記目的を達成しようとするものである。
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面に基いて説明す
る。
る。
第1図ないし第3図には本発明の一実施例が示
されている。第1図において、大容積の筒形反応
塔1の中心軸部には、充填制御器2を備えたウイ
ンチ3からワイヤー4を介してゴンドラ5が吊下
げられている。このゴンドラ5の下端には回転数
調整可能なエアモータ6が取付けられ、このモー
タ6には、円錐形状の触媒分配器7と、浅皿状部
材8とが同軸に、かつ、回転軸を前記の中心軸に
平行にして連結され、これらのエアモータ6、触
媒分配器7および浅皿状部材8により触媒放出器
9が構成されている。
されている。第1図において、大容積の筒形反応
塔1の中心軸部には、充填制御器2を備えたウイ
ンチ3からワイヤー4を介してゴンドラ5が吊下
げられている。このゴンドラ5の下端には回転数
調整可能なエアモータ6が取付けられ、このモー
タ6には、円錐形状の触媒分配器7と、浅皿状部
材8とが同軸に、かつ、回転軸を前記の中心軸に
平行にして連結され、これらのエアモータ6、触
媒分配器7および浅皿状部材8により触媒放出器
9が構成されている。
前記反応塔1内に充填される顆粒状の触媒30
は、塔外上部のホツパー10内に収納されてお
り、このホツパー10から送出パイプ11を介し
て触媒補給装置としての充填用シユート12の入
口13に送られ、充填用シユート12の下部の出
口14はゴンドラ5の上部に達してゴンドラ5に
固定され、更にゴンドラ5内に形成された導孔5
1を経由して触媒分配器7の上部に近接して開口
連通されている。
は、塔外上部のホツパー10内に収納されてお
り、このホツパー10から送出パイプ11を介し
て触媒補給装置としての充填用シユート12の入
口13に送られ、充填用シユート12の下部の出
口14はゴンドラ5の上部に達してゴンドラ5に
固定され、更にゴンドラ5内に形成された導孔5
1を経由して触媒分配器7の上部に近接して開口
連通されている。
前記触媒分配器7は、前記導孔51の開口部か
ら受取つた触媒30を速度を遅くして浅皿状部材
8上にほぼ均等に散布し得るようになつている。
また、導孔51には図示しないシヤツタが取付け
られており、図示しない外部のスイツチによつて
開閉されるようになつている。
ら受取つた触媒30を速度を遅くして浅皿状部材
8上にほぼ均等に散布し得るようになつている。
また、導孔51には図示しないシヤツタが取付け
られており、図示しない外部のスイツチによつて
開閉されるようになつている。
前記充填用シユート12は、第2図に示される
ように、フアスナ15,15等で筒形に結合され
る例えば4枚の可撓性帯体16,16等で構成さ
れ、シユート12の下方の反応塔1内部ではフア
スナ15が閉じられ、反応塔1の外部では、フア
スナ15のスライダ17が反応塔1の上方に設け
られた図示しないスライダ開閉具により可撓性帯
体16の上昇に伴つて作動されてフアスナ15が
開かれ、分離された可撓性帯体16,16等はそ
れぞれ個別にドラム18,18等に巻き取られる
ようになつている。この際、可撓性帯体16の下
降に伴つて前記スライダ開閉具によるフアスナ1
5の閉止が自動的に行われるようになつている。
ように、フアスナ15,15等で筒形に結合され
る例えば4枚の可撓性帯体16,16等で構成さ
れ、シユート12の下方の反応塔1内部ではフア
スナ15が閉じられ、反応塔1の外部では、フア
スナ15のスライダ17が反応塔1の上方に設け
られた図示しないスライダ開閉具により可撓性帯
体16の上昇に伴つて作動されてフアスナ15が
開かれ、分離された可撓性帯体16,16等はそ
れぞれ個別にドラム18,18等に巻き取られる
ようになつている。この際、可撓性帯体16の下
降に伴つて前記スライダ開閉具によるフアスナ1
5の閉止が自動的に行われるようになつている。
前記ゴンドラ5の側面には、レベルセンサー2
1が取付けられ、このセンサー21により、反応
塔1内に充填される触媒30の表面からのゴンド
ラ5ひいては浅皿状部材8の高さが検出され、こ
の検出信号が前記充填制御器2に送られ、この信
号に基づいてウインチ3が駆動制御されるように
なつている。
1が取付けられ、このセンサー21により、反応
塔1内に充填される触媒30の表面からのゴンド
ラ5ひいては浅皿状部材8の高さが検出され、こ
の検出信号が前記充填制御器2に送られ、この信
号に基づいてウインチ3が駆動制御されるように
なつている。
前記反応塔1の下部の開口端付近の底部には、
流体整流および触媒支持用のボール状の粗大粒材
22が敷かれており、この粗大粒材22上に前記
触媒30が散布され、充填されるようになつてい
る。
流体整流および触媒支持用のボール状の粗大粒材
22が敷かれており、この粗大粒材22上に前記
触媒30が散布され、充填されるようになつてい
る。
前記触媒放出器9の触媒分配器7と浅皿状部材
8とは、第3図に半断面斜視図で拡大して示され
ている。即ち、触媒分配器7は、截頭円錐筒7
1、この円錐筒71を回転軸23に連結するとと
もに螺旋状に傾斜された複数のリブ72等から構
成されており、また、回転軸23の下端に取付け
られた浅皿状部材8には複数、例えば6個の立上
つた板状のウエア25と、これら各ウエア25の
間において複数、例えば6個のスリツト26が設
けられた構造とされている。
8とは、第3図に半断面斜視図で拡大して示され
ている。即ち、触媒分配器7は、截頭円錐筒7
1、この円錐筒71を回転軸23に連結するとと
もに螺旋状に傾斜された複数のリブ72等から構
成されており、また、回転軸23の下端に取付け
られた浅皿状部材8には複数、例えば6個の立上
つた板状のウエア25と、これら各ウエア25の
間において複数、例えば6個のスリツト26が設
けられた構造とされている。
次に、本実施例の触媒充填操作を説明する。
はじめに、反応塔1の上部の入口にゴンドラ5
を吊し、ウインチ3のワイヤ4を繰出し方向に駆
動させてゴンドラ5を降下させながら、これに同
期してドラム18,18等を同じく繰出し方向に
駆動させて可撓性帯体16,16等を降下させる
と、前記スライダ開閉具によりスライダ18が作
動されてフアスナ15,15等が遂次閉じられて
充填用シユート12が作られてゆく。このシユー
ト12の下降と同時にホツパー10の出口扉(図
示せず)が開かれて充填用シユート12の中に穏
かに触媒30が充填されてゆく。このとき、充填
用シユート12の下部の出口14に連通する前記
導孔51のシヤツタは閉じられたままとされてい
る。
を吊し、ウインチ3のワイヤ4を繰出し方向に駆
動させてゴンドラ5を降下させながら、これに同
期してドラム18,18等を同じく繰出し方向に
駆動させて可撓性帯体16,16等を降下させる
と、前記スライダ開閉具によりスライダ18が作
動されてフアスナ15,15等が遂次閉じられて
充填用シユート12が作られてゆく。このシユー
ト12の下降と同時にホツパー10の出口扉(図
示せず)が開かれて充填用シユート12の中に穏
かに触媒30が充填されてゆく。このとき、充填
用シユート12の下部の出口14に連通する前記
導孔51のシヤツタは閉じられたままとされてい
る。
このようにしてシユート12内に触媒30が充
填されながらゴンドラ5が粗大粒材22上の所定
の高さ、例えば1m以下の高さに達したとき、セ
ンサー21によつてそれが検知されて充填制御器
2に信号が伝えられると、ゴンドラ5、シユート
12等の降下が停止され、以下この制御器2で制
御されながら触媒30の反応塔1内への充填動作
が行われる。
填されながらゴンドラ5が粗大粒材22上の所定
の高さ、例えば1m以下の高さに達したとき、セ
ンサー21によつてそれが検知されて充填制御器
2に信号が伝えられると、ゴンドラ5、シユート
12等の降下が停止され、以下この制御器2で制
御されながら触媒30の反応塔1内への充填動作
が行われる。
即ち、モータ6が回転されて触媒分配器7と浅
皿状部材8が所定の速度で回転されるとともに、
導孔51のシヤツタが開かれて充填用シユート1
2の出口から触媒30が触媒分配器7内にそそが
れ、触媒30の流速と流出方向が調整されてその
下方の浅皿状部材8上に触媒30が略均一に落下
される。この触媒30は、浅皿状部材8のスリツ
ト26とウエア25との働きによつて反応塔1の
内部にまんべんなく散布される。即ち、スリツト
26、ウエア25の形状は、触媒30の表面と浅
皿状部材8との距離が所定範囲に保たれているこ
とに加えた前記回転の回転数、触媒30の送出量
とともに触媒30のまんべんのない散布を保証す
るもので、スリツト26は下方への落下を適度に
し、ウエア25は遠心力による遠心的放出をうな
がし、かつ、浅皿状部材8の周縁からの均一散布
を許し、この両者が協調動作して均一散布が行わ
れる。この際、ウエア25およびスリツト26の
形状は、事前の入念な実験によつて決定されてい
る。また、触媒放出器9のエアモータ6の回転数
は、触媒の種類、粒径により適宜な値となるよう
設定されている。
皿状部材8が所定の速度で回転されるとともに、
導孔51のシヤツタが開かれて充填用シユート1
2の出口から触媒30が触媒分配器7内にそそが
れ、触媒30の流速と流出方向が調整されてその
下方の浅皿状部材8上に触媒30が略均一に落下
される。この触媒30は、浅皿状部材8のスリツ
ト26とウエア25との働きによつて反応塔1の
内部にまんべんなく散布される。即ち、スリツト
26、ウエア25の形状は、触媒30の表面と浅
皿状部材8との距離が所定範囲に保たれているこ
とに加えた前記回転の回転数、触媒30の送出量
とともに触媒30のまんべんのない散布を保証す
るもので、スリツト26は下方への落下を適度に
し、ウエア25は遠心力による遠心的放出をうな
がし、かつ、浅皿状部材8の周縁からの均一散布
を許し、この両者が協調動作して均一散布が行わ
れる。この際、ウエア25およびスリツト26の
形状は、事前の入念な実験によつて決定されてい
る。また、触媒放出器9のエアモータ6の回転数
は、触媒の種類、粒径により適宜な値となるよう
設定されている。
充填によつて触媒30のレベルが上昇し、充填
された触媒30の表面と浅皿状部材8との高さの
差が所定値、例えば30cm以下になると、それはレ
ベルセンサー21で検出され、ウインチ3および
ドラム18,18等が所定量巻上げられ、前記高
さの差が1m近傍になつたときに停止される。
された触媒30の表面と浅皿状部材8との高さの
差が所定値、例えば30cm以下になると、それはレ
ベルセンサー21で検出され、ウインチ3および
ドラム18,18等が所定量巻上げられ、前記高
さの差が1m近傍になつたときに停止される。
以下、この動作は浅皿状部材8が上昇して、反
応塔1の上部開口部の設定高さに達するまで継続
され、反応塔1内への触媒30の所定量の充填が
行われて充填作業が終了されるものである。
応塔1の上部開口部の設定高さに達するまで継続
され、反応塔1内への触媒30の所定量の充填が
行われて充填作業が終了されるものである。
上述のような本実施例によれば、触媒30は作
業員の手を煩わすことなく円滑かつ迅速に反応塔
1内に充填でき、作業能率を向上できる。また、
その充填も穏やかに行なわれて粉化が防止され、
触媒30の性能の低下が生じることがない。更
に、充填密度が一定にされて嵩密度を増大でき、
かつ、この充填状態は反応塔1が違つても変るこ
とがないため、並列された反応塔1における処理
流体の差圧等が発生することがない。
業員の手を煩わすことなく円滑かつ迅速に反応塔
1内に充填でき、作業能率を向上できる。また、
その充填も穏やかに行なわれて粉化が防止され、
触媒30の性能の低下が生じることがない。更
に、充填密度が一定にされて嵩密度を増大でき、
かつ、この充填状態は反応塔1が違つても変るこ
とがないため、並列された反応塔1における処理
流体の差圧等が発生することがない。
なお、実施にあたり、レベルセンサー21、充
填制御器2等はこれを簡略化または省略して制御
を反応塔外の作業員に委ねてもよく、触媒分配器
7も別の形状にするか、全く設けないようにして
もよい。充填用シユート12などの触媒補給装置
についても同様であつて、例えばシユート12の
フアスナ15の数、従つて可撓性帯体16等の数
は、これを変更し、例えばそれらを1個宛にして
単一のドラム18に巻取るような構成にしてもよ
い。また、第4図に示されるように、シユート1
2の代りにフアスナのない撓み管27にして、ホ
ツパー10ともども、昇降させる構成にすること
もできる。この際、ホツパー10内の触媒30を
適宜な流体圧送装置で強制移送できるようにすれ
ば、ホツパー10は必ずしも昇降させなくともよ
く、一定位置に固定しておいてもよい。更に、ゴ
ンドラ5はこれを単なる吊り金具にまで簡略化す
ることが可能であるし、モータ6も電動モータ、
油圧モータなど他の動力源に代えることができ
る。
填制御器2等はこれを簡略化または省略して制御
を反応塔外の作業員に委ねてもよく、触媒分配器
7も別の形状にするか、全く設けないようにして
もよい。充填用シユート12などの触媒補給装置
についても同様であつて、例えばシユート12の
フアスナ15の数、従つて可撓性帯体16等の数
は、これを変更し、例えばそれらを1個宛にして
単一のドラム18に巻取るような構成にしてもよ
い。また、第4図に示されるように、シユート1
2の代りにフアスナのない撓み管27にして、ホ
ツパー10ともども、昇降させる構成にすること
もできる。この際、ホツパー10内の触媒30を
適宜な流体圧送装置で強制移送できるようにすれ
ば、ホツパー10は必ずしも昇降させなくともよ
く、一定位置に固定しておいてもよい。更に、ゴ
ンドラ5はこれを単なる吊り金具にまで簡略化す
ることが可能であるし、モータ6も電動モータ、
油圧モータなど他の動力源に代えることができ
る。
[発明の効果]
上述のような本発明の方法および装置は、作業
者の煩しい作業に頼ることなく、顆粒状触媒を粉
化させない穏かさで、反応塔内に均一な密度に充
填することを可能にするという効果がある。
者の煩しい作業に頼ることなく、顆粒状触媒を粉
化させない穏かさで、反応塔内に均一な密度に充
填することを可能にするという効果がある。
第1図は本発明に係る触媒充填装置の一実施例
の概略構成を示す正面断面図、第2図は第1図の
実施例に使用される充填用シユートの斜視図、第
3図は同じく触媒放出器の縦断斜視図、第4図は
本発明の他の実施例の要部を示す正面断面図であ
る。 1……反応塔、5……ゴンドラ、6……モー
タ、7……触媒分配器、8……浅皿状部材、9…
…触媒放出器、10……ホツパー、12……触媒
補給装置としての充填用シユート、25……ウエ
ア、26……スリツト、30……触媒。
の概略構成を示す正面断面図、第2図は第1図の
実施例に使用される充填用シユートの斜視図、第
3図は同じく触媒放出器の縦断斜視図、第4図は
本発明の他の実施例の要部を示す正面断面図であ
る。 1……反応塔、5……ゴンドラ、6……モー
タ、7……触媒分配器、8……浅皿状部材、9…
…触媒放出器、10……ホツパー、12……触媒
補給装置としての充填用シユート、25……ウエ
ア、26……スリツト、30……触媒。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 触媒を下方および半径方向周縁に向つて放出
可能な触媒放出器を前記反応塔内に昇降可能に吊
下するとともに、この触媒放出器と、反応塔内に
充填される触媒の表面との距離がほぼ所定距離範
囲内におさまるよう触媒放出器を上昇させなが
ら、反応塔内に触媒を順次充填することを特徴と
する触媒充填方法。 2 筒形の反応塔の内部に果粒状の触媒を充填す
る触媒充填装置において、この反応塔の上部の塔
外から、昇降の可能なゴンドラを前記筒形の反応
塔の軸に沿つて反応塔内に吊し、このゴンドラに
は、触媒を下方および半径方向周縁に向つて放出
可能な触媒放出器を載せ、この触媒放出器上に連
通されるとともに前記反応塔の塔外に置かれたホ
ツパーに連通されホツパー内の触媒を触媒放出器
に供給する触媒補給装置を設け、前記触媒放出器
は、モータと、このモータに回転駆動される浅皿
状部材とを備え、この浅皿状部材は、所定間隔に
設けられた立上つた板状のウエアと、これらのウ
エア間において設けられたスリツトとを有してい
ることを特徴とする触媒充填装置。 3 特許請求の範囲第2項において、前記触媒放
出器は、触媒の種類、粒径により回転数をコント
ロール可能とされたことを特徴とする触媒充填装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13848884A JPS6118430A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13848884A JPS6118430A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6118430A JPS6118430A (ja) | 1986-01-27 |
| JPH0122807B2 true JPH0122807B2 (ja) | 1989-04-27 |
Family
ID=15223267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13848884A Granted JPS6118430A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6118430A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0760101A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-03-07 | Idemitsu Eng Co Ltd | 触媒充填方法および装置 |
| JPH0952630A (ja) * | 1995-06-08 | 1997-02-25 | Japan Energy Corp | 粒子充填装置における粒子充填面の平滑化方法 |
| JPH1057801A (ja) * | 1996-08-13 | 1998-03-03 | Japan Energy Corp | 粒子充填状態予測方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0644988B2 (ja) * | 1988-07-01 | 1994-06-15 | 出光エンジニアリング株式会社 | 触媒充▲填▼方法 |
| JPH0760102A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-03-07 | Idemitsu Eng Co Ltd | 触媒充填方法および装置 |
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| DE102004055152B4 (de) * | 2004-11-16 | 2010-10-14 | Universität Kassel | Festbettreaktor und Verfahren zur biologischen Reinigung eines Fluids, insbesondere von Abwasser |
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| JP2020059009A (ja) * | 2018-10-12 | 2020-04-16 | ソフタード工業株式会社 | 散布装置及び触媒充填装置 |
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| JPS59249A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-05 | Nec Corp | 環状通信網の障害検出方式 |
-
1984
- 1984-07-03 JP JP13848884A patent/JPS6118430A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0760101A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-03-07 | Idemitsu Eng Co Ltd | 触媒充填方法および装置 |
| JPH0952630A (ja) * | 1995-06-08 | 1997-02-25 | Japan Energy Corp | 粒子充填装置における粒子充填面の平滑化方法 |
| JPH1057801A (ja) * | 1996-08-13 | 1998-03-03 | Japan Energy Corp | 粒子充填状態予測方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6118430A (ja) | 1986-01-27 |
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