JPH076326A - 薄膜磁気ヘッド装置 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド装置Info
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- JPH076326A JPH076326A JP16754793A JP16754793A JPH076326A JP H076326 A JPH076326 A JP H076326A JP 16754793 A JP16754793 A JP 16754793A JP 16754793 A JP16754793 A JP 16754793A JP H076326 A JPH076326 A JP H076326A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドの製造プロセスを複雑化すること
なく、電気抵抗値の少ない効率のよい薄膜磁気ヘッド装
置を提供すること。 【構成】 一方の磁性体パターン１１，１２と磁気ヘッ
ドコイル３１，３２と他方の磁性体パターン２１，２２
とが，絶縁膜を介して基板１上に順次積層され、各磁性
体パターン１１，１２，２１，２２は一端部で導通され
ると共に他端部に磁気ギャップ４０が設定され，この磁
気ギャップ４０を介して磁気ヘッドコイル３１，３２の
動作と共に磁気回路が形勢されている。磁気ヘッドコイ
ル３１，３２は、少なくとも二層の積層構造のものが使
用され、一方と他方の磁性体パターン１１，１２，２
１，２２は、磁気ヘッドコイル全体を対象として該磁気
ヘッドコイルのコイル辺の一部を複数回巻いた状態に連
結され磁気ヘッドコイル３１，３２に磁気結合されてい
ること。
なく、電気抵抗値の少ない効率のよい薄膜磁気ヘッド装
置を提供すること。 【構成】 一方の磁性体パターン１１，１２と磁気ヘッ
ドコイル３１，３２と他方の磁性体パターン２１，２２
とが，絶縁膜を介して基板１上に順次積層され、各磁性
体パターン１１，１２，２１，２２は一端部で導通され
ると共に他端部に磁気ギャップ４０が設定され，この磁
気ギャップ４０を介して磁気ヘッドコイル３１，３２の
動作と共に磁気回路が形勢されている。磁気ヘッドコイ
ル３１，３２は、少なくとも二層の積層構造のものが使
用され、一方と他方の磁性体パターン１１，１２，２
１，２２は、磁気ヘッドコイル全体を対象として該磁気
ヘッドコイルのコイル辺の一部を複数回巻いた状態に連
結され磁気ヘッドコイル３１，３２に磁気結合されてい
ること。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッド装置に
係り、磁気記録における記録再生用の薄膜磁気ヘッド装
置に関する。
係り、磁気記録における記録再生用の薄膜磁気ヘッド装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録における薄膜ヘッドは、ＩＢＭ
Disk Storage Technology（１９８０年９月発行）の第
６頁〜９頁にわたって開示されているように、薄膜プロ
セスで形成した一層８ターンのコイル部と、ＮｉＦｅ合
金薄膜で形成された下部磁性体パタンおよび上部磁性体
パタンで構成された磁気コアとを備え、この各磁性体パ
タンでコイルを挟み込んだ形状を有している。この構造
は、磁気コアの磁気回路がコイルと一回鎖交している点
に特長を備えている。
Disk Storage Technology（１９８０年９月発行）の第
６頁〜９頁にわたって開示されているように、薄膜プロ
セスで形成した一層８ターンのコイル部と、ＮｉＦｅ合
金薄膜で形成された下部磁性体パタンおよび上部磁性体
パタンで構成された磁気コアとを備え、この各磁性体パ
タンでコイルを挟み込んだ形状を有している。この構造
は、磁気コアの磁気回路がコイルと一回鎖交している点
に特長を備えている。
【０００３】近年に至って、磁気記録装置の性能向上は
目ざましく、これにともない磁気記録密度はトラック密
度と線密度の双方にわたって増大してきた。記録密度が
向上すると、一般に薄膜ヘッドの様な電磁誘導型ヘッド
では再生出力の低下が生じる。この再生出力の低下を改
善するために、コイルのターン数の増大が図られてき
た。
目ざましく、これにともない磁気記録密度はトラック密
度と線密度の双方にわたって増大してきた。記録密度が
向上すると、一般に薄膜ヘッドの様な電磁誘導型ヘッド
では再生出力の低下が生じる。この再生出力の低下を改
善するために、コイルのターン数の増大が図られてき
た。
【０００４】一層コイルのターン数は、コイル外径をあ
まり大きくできないため、その増大に限りがある。通常
は、一層では２０ターン程度が限度と考えられている。
従って、これよりコイルターン数を増大させるために、
JARECT,Recent Magn.Electr.（１９８３年発行）の第MA
G-10巻の７７頁以降に示されるようにコイルを多層化す
ることが行われてきた。
まり大きくできないため、その増大に限りがある。通常
は、一層では２０ターン程度が限度と考えられている。
従って、これよりコイルターン数を増大させるために、
JARECT,Recent Magn.Electr.（１９８３年発行）の第MA
G-10巻の７７頁以降に示されるようにコイルを多層化す
ることが行われてきた。
【０００５】コイルのターン数を増大すると、一般にコ
イルの直流抵抗はターン数に比例して増大するばかりで
はなく、そのインダクタンスもターン数の自乗に比例し
て増大する。今、磁気コアの実効帯率をχG , コイルが
囲む実効面積をＳ，コイルのみの単位電流当りの発生磁
界をｈとすると、このヘッドの自己インダクタンスＬは
次のように近似される。
イルの直流抵抗はターン数に比例して増大するばかりで
はなく、そのインダクタンスもターン数の自乗に比例し
て増大する。今、磁気コアの実効帯率をχG , コイルが
囲む実効面積をＳ，コイルのみの単位電流当りの発生磁
界をｈとすると、このヘッドの自己インダクタンスＬは
次のように近似される。
【０００６】 Ｌ＝ｈ（１＋χG ）Ｓ＝ＬO ＋Ｌｃ＝Ｌ０＋χG ・ＬO ……
【０００７】ここで、ＬO （＝ｈＳ）は空芯コイルの自
己インダクタンスを示し、Ｌｃ（＝ｈχG Ｓ）は磁気コ
アの実効インダクタンスを示す。
己インダクタンスを示し、Ｌｃ（＝ｈχG Ｓ）は磁気コ
アの実効インダクタンスを示す。
【０００８】磁気記録の再生時には、記録媒体の磁化情
報から発生する磁界によって磁気ヘッドの磁気コア内に
誘起される磁束の時間変化分を検出する。ヘッドコアに
誘起される磁束量はヘッドコアの実効帯磁率χG に比例
する。したがって、再生出力を大きくするためにはχG
に関する磁気コアインダクタンスＬｃを大きくする必要
がある。空芯コイルのみでは信号磁束を検知しないた
め、ＬO の大小は直接には再生出力には寄与しない。
報から発生する磁界によって磁気ヘッドの磁気コア内に
誘起される磁束の時間変化分を検出する。ヘッドコアに
誘起される磁束量はヘッドコアの実効帯磁率χG に比例
する。したがって、再生出力を大きくするためにはχG
に関する磁気コアインダクタンスＬｃを大きくする必要
がある。空芯コイルのみでは信号磁束を検知しないた
め、ＬO の大小は直接には再生出力には寄与しない。
【０００９】一方磁気記録の記録時には、記録電力の低
減からヘッドのＬの低減が求められている。このために
は、再生出力に直接関係はしない空芯コイルのＬO を小
さくする必要がある。ＬO を小さくすることは、通常は
コイルターン数を低減することにより実現される。これ
はコイル抵抗値の低減にもなり、ジョンソンノイズが低
減する。
減からヘッドのＬの低減が求められている。このために
は、再生出力に直接関係はしない空芯コイルのＬO を小
さくする必要がある。ＬO を小さくすることは、通常は
コイルターン数を低減することにより実現される。これ
はコイル抵抗値の低減にもなり、ジョンソンノイズが低
減する。
【００１０】従来の代表的な薄膜磁気ヘッドは、２層３
０数ターンの薄膜コイルをＮｉＦｅ合金の下部磁性体パ
タンと上部磁性体パタンで挟み込んだ形状を呈してい
る。このヘッドの自己インダクダンスＬは０．６〜１
〔μＨ〕である。さらに、再生出力向上の為に４層４０
数ターンの薄膜コイルをもつ薄膜ヘッドも実用化されて
いる。そのインダクタンスは当然増大している。
０数ターンの薄膜コイルをＮｉＦｅ合金の下部磁性体パ
タンと上部磁性体パタンで挟み込んだ形状を呈してい
る。このヘッドの自己インダクダンスＬは０．６〜１
〔μＨ〕である。さらに、再生出力向上の為に４層４０
数ターンの薄膜コイルをもつ薄膜ヘッドも実用化されて
いる。そのインダクタンスは当然増大している。
【００１１】薄膜磁気ヘッドの再生出力の向上を図るた
めに、一層の薄膜コイルに対し磁性体パタンの磁気回路
が２回路鎖交している構造の薄膜ヘッドが特開昭６０−
２９９１５号公報にて開示されている。この構造では、
コイルターン数が同じなら通常の薄膜ヘッドに対して２
倍の再生出力が期待できるものである。
めに、一層の薄膜コイルに対し磁性体パタンの磁気回路
が２回路鎖交している構造の薄膜ヘッドが特開昭６０−
２９９１５号公報にて開示されている。この構造では、
コイルターン数が同じなら通常の薄膜ヘッドに対して２
倍の再生出力が期待できるものである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドコアと薄膜
コイルの鎖交回数１回である従来の１回鎖交型磁気ヘッ
ドでは、再生出力の増大のためにコイルターン数の増大
が図られてきた。しかしながら、コイルターン数を増大
すると、ターン数の増大にほぼ比例してコイル抵抗値が
増大すること、更に再生出力に直接関係しない空芯コイ
ルのインダクタンスを増大させる問題があった。
コイルの鎖交回数１回である従来の１回鎖交型磁気ヘッ
ドでは、再生出力の増大のためにコイルターン数の増大
が図られてきた。しかしながら、コイルターン数を増大
すると、ターン数の増大にほぼ比例してコイル抵抗値が
増大すること、更に再生出力に直接関係しない空芯コイ
ルのインダクタンスを増大させる問題があった。
【００１３】更に、磁気ヘッドのコイルはスライダー搭
載のため、その外径が制限される。従って、コイルター
ン数の増大は、コイル層数の増大となる。従来の薄膜磁
気ヘッドでは、コイルターン数は１層８ターンから４層
４２ターンへと増大してきた。コイル層数が増大する
と、それに比例して、薄膜磁気ヘッドのコイル薄膜成
膜、露光、エッチング等の製造プロセスが増大し、製造
コストの増大を招くという不都合があった。
載のため、その外径が制限される。従って、コイルター
ン数の増大は、コイル層数の増大となる。従来の薄膜磁
気ヘッドでは、コイルターン数は１層８ターンから４層
４２ターンへと増大してきた。コイル層数が増大する
と、それに比例して、薄膜磁気ヘッドのコイル薄膜成
膜、露光、エッチング等の製造プロセスが増大し、製造
コストの増大を招くという不都合があった。
【００１４】一方、コイルと磁気ヘッドコアの磁気回路
の鎖交数が２回である前述した特開昭６０−２９９１５
号記載のものは、１層のコイルから構成されている。こ
の構造のものは、前述したようにコイルターン数が同じ
なら通常の薄膜ヘッドに対して２倍の再生出力が期待で
きるが、この状態で更に再生出力の増大を図るにはコイ
ルターン数を大きくしなければならない。
の鎖交数が２回である前述した特開昭６０−２９９１５
号記載のものは、１層のコイルから構成されている。こ
の構造のものは、前述したようにコイルターン数が同じ
なら通常の薄膜ヘッドに対して２倍の再生出力が期待で
きるが、この状態で更に再生出力の増大を図るにはコイ
ルターン数を大きくしなければならない。
【００１５】このため、この特開昭６０−２９９１５号
記載のものにあっても、再生出力の増大を意図した場合
には抵抗値の増大という不都合を常に備えていた。
記載のものにあっても、再生出力の増大を意図した場合
には抵抗値の増大という不都合を常に備えていた。
【００１６】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、磁気ヘッドの製造プロセスを複雑化すること
なく、電気抵抗値の少ない効率のよい薄膜磁気ヘッド装
置を提供することを、その目的とする。
を改善し、磁気ヘッドの製造プロセスを複雑化すること
なく、電気抵抗値の少ない効率のよい薄膜磁気ヘッド装
置を提供することを、その目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明では、一方の磁性
体パターンと磁気ヘッドコイルと他方の磁性体パターン
とが，絶縁膜を介して基板上に順次積層され、一方と他
方の磁性体パターンは一端部で導通されると共に他端部
に磁気ギャップが設定され，この磁気ギャップを介して
前記磁気ヘッドコイルの動作と共に磁気回路が形勢され
てなる薄膜磁気ヘッド装置において、磁気ヘッドコイル
は，絶縁膜を介して少なくとも二層以上に分けて積層さ
れた積層構造のものが使用され、一方と他方の磁性体パ
ターンは，磁気ヘッドコイル全体を対象として当該磁気
ヘッドコイルのコイル辺の一部を複数回巻いた状態に連
結され磁気ヘッドコイルに磁気結合されている、等の構
成を採っている。これによって前述した目的を達成しよ
うとするものである。
体パターンと磁気ヘッドコイルと他方の磁性体パターン
とが，絶縁膜を介して基板上に順次積層され、一方と他
方の磁性体パターンは一端部で導通されると共に他端部
に磁気ギャップが設定され，この磁気ギャップを介して
前記磁気ヘッドコイルの動作と共に磁気回路が形勢され
てなる薄膜磁気ヘッド装置において、磁気ヘッドコイル
は，絶縁膜を介して少なくとも二層以上に分けて積層さ
れた積層構造のものが使用され、一方と他方の磁性体パ
ターンは，磁気ヘッドコイル全体を対象として当該磁気
ヘッドコイルのコイル辺の一部を複数回巻いた状態に連
結され磁気ヘッドコイルに磁気結合されている、等の構
成を採っている。これによって前述した目的を達成しよ
うとするものである。
【００１８】
【作 用】二層コイルを使用した場合、第１層のコイル
と第２層のコイルが、コイル中心部で接続されている。
このため、コイル電流電圧端子は、その流入端及び出流
端ともコイルの外側に配置される。これに対し従来の単
層コイルの場合は、電流端子がコイルの内側にあり、コ
イル内部から外側へ電流端子を導くためには、上下いず
れかの磁性体パタン層の導通端子パタンを設ける必要が
あった。この導通パタンは、磁気回路形成磁性体パタン
の配置を制限していたが二層導体コイルを用いると、か
かる困難性は無い。
と第２層のコイルが、コイル中心部で接続されている。
このため、コイル電流電圧端子は、その流入端及び出流
端ともコイルの外側に配置される。これに対し従来の単
層コイルの場合は、電流端子がコイルの内側にあり、コ
イル内部から外側へ電流端子を導くためには、上下いず
れかの磁性体パタン層の導通端子パタンを設ける必要が
あった。この導通パタンは、磁気回路形成磁性体パタン
の配置を制限していたが二層導体コイルを用いると、か
かる困難性は無い。
【００１９】また、ヘッド磁気回路がコイルと複数回鎖
交していることから、再生出力Ｖは、「Ｖ＝ｎ・Ｖ0 」
となり、従来のヘッドのｎ倍が得られる。また、自己イ
ンダクタンスは、「Ｌ〜ｎ・Ｌ0 」となり、従来のほぼ
ｎ倍で納まる。
交していることから、再生出力Ｖは、「Ｖ＝ｎ・Ｖ0 」
となり、従来のヘッドのｎ倍が得られる。また、自己イ
ンダクタンスは、「Ｌ〜ｎ・Ｌ0 」となり、従来のほぼ
ｎ倍で納まる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図に従って説明す
る。
る。
【００２１】最初に、本実施例全体の基本的な構成につ
いて説明する。本実施例では、ヘッドコイルに対し、磁
気ヘッドコアの磁気回路が複数回鎖交する構造を実現す
る構造を提供することにある。ヘッドコアの磁気回路が
コイルと鎖交する回数をｎとすると、この磁気ヘッドの
再生出力Ｖは、
いて説明する。本実施例では、ヘッドコイルに対し、磁
気ヘッドコアの磁気回路が複数回鎖交する構造を実現す
る構造を提供することにある。ヘッドコアの磁気回路が
コイルと鎖交する回数をｎとすると、この磁気ヘッドの
再生出力Ｖは、
【００２２】 Ｖ＝−（ｄΦ／ｄｔ）＝−（ｄφ／ｄｔ）＝ｎ・Ｖ0 …… で表わされる。ここで、φは磁気回路中の磁束を示し、
Φはコイルを通過する磁束を示す。Ｖ0 は、一回鎖交の
従来のヘッドの出力である。
Φはコイルを通過する磁束を示す。Ｖ0 は、一回鎖交の
従来のヘッドの出力である。
【００２３】インダクタンスＬは、式より通常の磁気
ヘッドコア材料の特性である「ＸG＞＞１」を用いる
と、
ヘッドコア材料の特性である「ＸG＞＞１」を用いる
と、
【００２４】Ｌ〜ｎ・Ｌ0 …………… となり、磁気回路の鎖交数ｎに比例する。この場合、ヘ
ッドコイルの抵抗値Ｒは特には増加しない。
ッドコイルの抵抗値Ｒは特には増加しない。
【００２５】一方、従来の一回鎖交である磁気ヘッド
で、同じｎ倍の出力を得るには、ヘッドコイルのターン
数をｎ倍にする必要がある。コイルターン数をｎ倍にす
るとそのインダクタンスＬは、最初のインダクタンスＬ
0 に対して、
で、同じｎ倍の出力を得るには、ヘッドコイルのターン
数をｎ倍にする必要がある。コイルターン数をｎ倍にす
るとそのインダクタンスＬは、最初のインダクタンスＬ
0 に対して、
【００２６】Ｌ＝ｎ2 ・Ｌ0 ………… となる。コイルの抵抗値Ｒは、元のコイルターン数で抵
抗値をＲ0 とすると、
抗値をＲ0 とすると、
【００２７】Ｒ〜ｎ・Ｒ0 …………… となり、抵抗が増加する。
【００２８】従って、本実施例を用いれば、従来の磁気
ヘッドに比べて、小さい自己インダクタンスで且つ小さ
いコイル抵抗のヘッドが実現される。逆に、同じインダ
クタンスのヘッドで、大きな再生出力が得られる。
ヘッドに比べて、小さい自己インダクタンスで且つ小さ
いコイル抵抗のヘッドが実現される。逆に、同じインダ
クタンスのヘッドで、大きな再生出力が得られる。
【００２９】（第１実施例）図１に第１実施例を示す。
この図１に示す第１実施例は、Ａl2Ｏ3-Ｔi Ｃセラミッ
クからなる非磁性基板１上にＮi Ｆe 合金膜よりなる一
方の磁性体パタンとしての下部磁性体パタン１１及び１
２を、フレームメッキ法若しくはスパッタ法と露光エッ
チング法により成膜形成する。その上に、記録再生用磁
気ギャップ４０を形成するためのＡl2Ｏ3 絶縁薄膜をス
パッタ成膜する（図示せず）
この図１に示す第１実施例は、Ａl2Ｏ3-Ｔi Ｃセラミッ
クからなる非磁性基板１上にＮi Ｆe 合金膜よりなる一
方の磁性体パタンとしての下部磁性体パタン１１及び１
２を、フレームメッキ法若しくはスパッタ法と露光エッ
チング法により成膜形成する。その上に、記録再生用磁
気ギャップ４０を形成するためのＡl2Ｏ3 絶縁薄膜をス
パッタ成膜する（図示せず）
【００３０】次に、第１層のＣu コイル３１を公知のメ
ッキ法又はスパッタ法で形成する。第２層のＣu コイル
３２を同様に成膜・形成する。第１層コイルと第２層コ
イルの相関には、電気絶縁層及び第１層コイルの段差解
消層であるフォトレジスト層が設けられ、このフォトレ
ジスト層に設けられたコイル接続部１０を介して前述し
た二層のコイルは第１層のコイルと接続されている。さ
らにその上に、他方の磁性体パタンとしての上部磁性体
パタン２１，２２を前述した下部磁性体パタンと同様の
方法で設ける。
ッキ法又はスパッタ法で形成する。第２層のＣu コイル
３２を同様に成膜・形成する。第１層コイルと第２層コ
イルの相関には、電気絶縁層及び第１層コイルの段差解
消層であるフォトレジスト層が設けられ、このフォトレ
ジスト層に設けられたコイル接続部１０を介して前述し
た二層のコイルは第１層のコイルと接続されている。さ
らにその上に、他方の磁性体パタンとしての上部磁性体
パタン２１，２２を前述した下部磁性体パタンと同様の
方法で設ける。
【００３１】この上部磁性体パタンは、磁気ギャップ層
及び絶縁・段差解消レジスト層に設けられたビアホール
接続部４１ａ，４１ｂ，４２を介して磁気的に接続され
ている。接続部４１ａ，４１ｂはコイル内部にあり、ま
た接続部４２はコイル外部にあるため、この磁気ヘッド
の磁気回路はヘッドコイルと２回鎖交している構造を為
している。
及び絶縁・段差解消レジスト層に設けられたビアホール
接続部４１ａ，４１ｂ，４２を介して磁気的に接続され
ている。接続部４１ａ，４１ｂはコイル内部にあり、ま
た接続部４２はコイル外部にあるため、この磁気ヘッド
の磁気回路はヘッドコイルと２回鎖交している構造を為
している。
【００３２】この図１に示す第１実施例では、第１層の
コイルと第２層のコイルが、コイル中心部で接続されて
いる。このため、コイル電流電圧端子は、その流入端及
び出流端ともコイルの外側に配置される。これに対し従
来の単層コイルの場合は、電流端子がコイルの内側にあ
り、コイル内部から外側へ電流端子を導くためには、上
下いずれかの磁性体パタン層の導通端子パタンを設ける
必要があった。この導通パタンは、磁気回路形成磁性体
パタンの配置を制限していた。本実施例では、二層導体
コイルを用いているため、このような困難は無い。
コイルと第２層のコイルが、コイル中心部で接続されて
いる。このため、コイル電流電圧端子は、その流入端及
び出流端ともコイルの外側に配置される。これに対し従
来の単層コイルの場合は、電流端子がコイルの内側にあ
り、コイル内部から外側へ電流端子を導くためには、上
下いずれかの磁性体パタン層の導通端子パタンを設ける
必要があった。この導通パタンは、磁気回路形成磁性体
パタンの配置を制限していた。本実施例では、二層導体
コイルを用いているため、このような困難は無い。
【００３３】また、この第１実施例では、ヘッド磁気回
路がコイルと二回鎖交している。このため、再生出力
は、式とほぼ一致して同じコイルターン数の従来のヘ
ッドの二倍が得られた。また、自己インダクタンスは、
式を反映して、従来のほぼ２倍で納まった。
路がコイルと二回鎖交している。このため、再生出力
は、式とほぼ一致して同じコイルターン数の従来のヘ
ッドの二倍が得られた。また、自己インダクタンスは、
式を反映して、従来のほぼ２倍で納まった。
【００３４】（第２実施例）図２に第２実施例を示す。
この図２に示す第２実施例は、基本的構造は第１の実施
例と同等である。この第２実施例は、磁気ヘッドの磁気
回路がヘッドコイルと３回鎖交しているところが異な
る。本実施例では、磁気回路の上下磁性体パタンの接続
部４１ａ，４１ｂ，４１ｃはコイル内部にある。又、接
続部４２ａ，４２ｂはコイル外部にあり、ヘッドギャッ
プ４０に対して外側に位置している。
この図２に示す第２実施例は、基本的構造は第１の実施
例と同等である。この第２実施例は、磁気ヘッドの磁気
回路がヘッドコイルと３回鎖交しているところが異な
る。本実施例では、磁気回路の上下磁性体パタンの接続
部４１ａ，４１ｂ，４１ｃはコイル内部にある。又、接
続部４２ａ，４２ｂはコイル外部にあり、ヘッドギャッ
プ４０に対して外側に位置している。
【００３５】この第２実施例では、磁気回路のコイルに
対する鎖交回数は３回である。従って、同じターン数の
従来の薄膜磁気ヘッドに比べて３倍の出力が得られる。
従来の多層コイル薄膜磁気ヘッドでは、コイルターン数
は６０ターンが限度であった。本実施例を実施すれば、
４層コイルで６０ターンコイルヘッドと同等の再生出力
を得るには２０ターンコイルで充分である。この２０タ
ーンコイルは２層コイルで製造でき、製造コストの大幅
な削減となる。又、従来の６０ターンコイルヘッドに比
べて、インダクタンス及び抵抗値が１／３に低減し、ヘ
ッドの高周波特性の改善と再生Ｓ／Ｎの向上が得られ
る。
対する鎖交回数は３回である。従って、同じターン数の
従来の薄膜磁気ヘッドに比べて３倍の出力が得られる。
従来の多層コイル薄膜磁気ヘッドでは、コイルターン数
は６０ターンが限度であった。本実施例を実施すれば、
４層コイルで６０ターンコイルヘッドと同等の再生出力
を得るには２０ターンコイルで充分である。この２０タ
ーンコイルは２層コイルで製造でき、製造コストの大幅
な削減となる。又、従来の６０ターンコイルヘッドに比
べて、インダクタンス及び抵抗値が１／３に低減し、ヘ
ッドの高周波特性の改善と再生Ｓ／Ｎの向上が得られ
る。
【００３６】（第３実施例）本発明の第３実施例を図３
に示す。この図３に示す第３実施例は、磁気コアをＮi
Ｆe 合金で製作している。Ｎi Ｆe 合金は、透磁率を大
きくし、磁気ノイズを安定化するためにＨk で示す方向
に一軸異方性を付与している。一般に、磁気コアの磁束
通過方向（長軸）がＨk の方向に対して垂直である場合
に、透磁率が最大となり再生出力が高くなる。磁束通過
方向がＨk に並行の場合には、磁気ノイズが増大し出力
の低下が見られる。
に示す。この図３に示す第３実施例は、磁気コアをＮi
Ｆe 合金で製作している。Ｎi Ｆe 合金は、透磁率を大
きくし、磁気ノイズを安定化するためにＨk で示す方向
に一軸異方性を付与している。一般に、磁気コアの磁束
通過方向（長軸）がＨk の方向に対して垂直である場合
に、透磁率が最大となり再生出力が高くなる。磁束通過
方向がＨk に並行の場合には、磁気ノイズが増大し出力
の低下が見られる。
【００３７】従って、本第３実施例では、下部磁性体パ
タン１１，１２，１３及び上部磁性体パタン２１，２
２，２３のいずれも磁束通過方向である長軸が磁気異方
性の方向に対し、４５゜以上の角度をなし、再生出力の
低下を防いでいる。
タン１１，１２，１３及び上部磁性体パタン２１，２
２，２３のいずれも磁束通過方向である長軸が磁気異方
性の方向に対し、４５゜以上の角度をなし、再生出力の
低下を防いでいる。
【００３８】（第４実施例）本発明の第４実施例を図４
に示す。この図４に示す第４実施例は、磁気コアの磁気
回路がコイルと三回鎖交している例であり、コイル外部
にある下部磁性体パタンと上部磁性体パタンの接合部４
２ａ，４２ｂが、磁気ギャップを形成する下部磁性体パ
タン１１と上部磁性体パタン２１で挟まれた内部に配置
されている。このために、上部磁性体膜の一軸磁気異方
性の方向に垂直な磁性体パタンの配置を実現することが
できた。
に示す。この図４に示す第４実施例は、磁気コアの磁気
回路がコイルと三回鎖交している例であり、コイル外部
にある下部磁性体パタンと上部磁性体パタンの接合部４
２ａ，４２ｂが、磁気ギャップを形成する下部磁性体パ
タン１１と上部磁性体パタン２１で挟まれた内部に配置
されている。このために、上部磁性体膜の一軸磁気異方
性の方向に垂直な磁性体パタンの配置を実現することが
できた。
【００３９】（第５実施例）本発明の第５実施例を図５
に示す。この図５に示す第５実施例は、二層コイル構成
で、磁気回路の上下磁性体パタンのコイル内部に４箇所
の接続部４１ａ〜４１ｄを備えている。このため、磁気
回路が、コイルと４回鎖交している４重磁束鎖交型磁気
ヘッドとなっている。そして、コイル外部の上下磁性体
パタンの接続部は、全て磁気ギャップ４０を形成する上
下磁性体パタン１１，２１の挟持領域外にある。
に示す。この図５に示す第５実施例は、二層コイル構成
で、磁気回路の上下磁性体パタンのコイル内部に４箇所
の接続部４１ａ〜４１ｄを備えている。このため、磁気
回路が、コイルと４回鎖交している４重磁束鎖交型磁気
ヘッドとなっている。そして、コイル外部の上下磁性体
パタンの接続部は、全て磁気ギャップ４０を形成する上
下磁性体パタン１１，２１の挟持領域外にある。
【００４０】上下の各磁性体パタンは、四方に伸びてい
るため、単一の一軸異方性の磁性膜で形成するわけには
いかない。従って、本実施例では、上下磁性体パタン
は、等方性膜を用いて形成している。
るため、単一の一軸異方性の磁性膜で形成するわけには
いかない。従って、本実施例では、上下磁性体パタン
は、等方性膜を用いて形成している。
【００４１】具体的には、Ｆe79.5 Ｔa9.5Ｎ11膜をスパ
ッタ成膜し、５５０℃で熱処理を行った軟磁性膜を用い
ている。この軟磁性膜は透磁率が高く、飽和磁束密度も
大きく従来のＮi Ｆe 合金膜の１．５倍を示す。このた
めに、効率の高い磁気ヘッドが実現している。
ッタ成膜し、５５０℃で熱処理を行った軟磁性膜を用い
ている。この軟磁性膜は透磁率が高く、飽和磁束密度も
大きく従来のＮi Ｆe 合金膜の１．５倍を示す。このた
めに、効率の高い磁気ヘッドが実現している。
【００４２】等方性の軟磁性膜として、Ｆe Ｓi Ａl 組
成をもつセンダストスパッタ膜を用いても本実施例が実
現されることは勿論である。
成をもつセンダストスパッタ膜を用いても本実施例が実
現されることは勿論である。
【００４３】（第６実施例）本発明の第６実施例を図６
に示す。この図６に示す第６実施例では、磁気ヘッドコ
イル３１が１層から構成され、このコイル内部に磁気回
路の上下磁性体パタンの接続部が３箇所設けられて３重
磁束鎖交型磁気ヘッドを構成している。コイル外部にあ
る上下磁性体パタンの接続部は、２つとも磁気ギャップ
を形成する磁性体パタン１１，１２に挟持された領域に
あり、いずれも磁気ギャップ側に存在している。換言す
れば、磁気回路的には、磁気ギャップと逆側のコイル外
部には、上下いずれの磁性体パタンも必要としない。従
って、１層コイルの内部にあるコイル端点は、上部磁性
体と同じ層の磁性体リード線２６で、接続部３１を介し
て、コイル外側へ導通が図られている。
に示す。この図６に示す第６実施例では、磁気ヘッドコ
イル３１が１層から構成され、このコイル内部に磁気回
路の上下磁性体パタンの接続部が３箇所設けられて３重
磁束鎖交型磁気ヘッドを構成している。コイル外部にあ
る上下磁性体パタンの接続部は、２つとも磁気ギャップ
を形成する磁性体パタン１１，１２に挟持された領域に
あり、いずれも磁気ギャップ側に存在している。換言す
れば、磁気回路的には、磁気ギャップと逆側のコイル外
部には、上下いずれの磁性体パタンも必要としない。従
って、１層コイルの内部にあるコイル端点は、上部磁性
体と同じ層の磁性体リード線２６で、接続部３１を介し
て、コイル外側へ導通が図られている。
【００４４】（第７実施例）本発明の第７実施例を図７
に示す。この図７に示す第７実施例では、基本的な磁気
回路の形状は第６の実施例を同じである。相違点は、コ
イル内部のコイル端点が、下部磁性体パタンと同じ磁性
層である磁性体リードパタン１６で接続点３１を介し
て、コイル外部と導通を保たれている点である。
に示す。この図７に示す第７実施例では、基本的な磁気
回路の形状は第６の実施例を同じである。相違点は、コ
イル内部のコイル端点が、下部磁性体パタンと同じ磁性
層である磁性体リードパタン１６で接続点３１を介し
て、コイル外部と導通を保たれている点である。
【００４５】（第８実施例）本発明の第８実施例を図８
に示す。この図８に示す第８実施例では、磁気回路は、
上下磁性体パタンのコイル内部の接続部が４１ａ，４１
ｂ，４１ｃの３箇所である３重磁束鎖交型である。コイ
ル外部の上下磁性体パタン接続部４２ａは、磁気ギャッ
プ形成パタン１１及び１２の挟持領域にある。他の接続
部４２ｂは磁気ギャップと逆側にあるが、その位置はコ
イルの中心軸Ａから離れた所にある。従って、コイル内
部端点と外部との接続用磁性パタンは、磁気回路の支障
無く構成することが可能となった。
に示す。この図８に示す第８実施例では、磁気回路は、
上下磁性体パタンのコイル内部の接続部が４１ａ，４１
ｂ，４１ｃの３箇所である３重磁束鎖交型である。コイ
ル外部の上下磁性体パタン接続部４２ａは、磁気ギャッ
プ形成パタン１１及び１２の挟持領域にある。他の接続
部４２ｂは磁気ギャップと逆側にあるが、その位置はコ
イルの中心軸Ａから離れた所にある。従って、コイル内
部端点と外部との接続用磁性パタンは、磁気回路の支障
無く構成することが可能となった。
【００４６】ここで、上述した第６乃至第７及び第８の
各実施例において、コイルを構成するコイル層が奇数で
ある場合は、全てこのようにコイル外部との導通が、上
下いずれかの層の磁性体パタンを用いて行われるように
なっている。
各実施例において、コイルを構成するコイル層が奇数で
ある場合は、全てこのようにコイル外部との導通が、上
下いずれかの層の磁性体パタンを用いて行われるように
なっている。
【００４７】
【発明の効果】以上のように本実施例によると、多重磁
束鎖交型の薄膜磁気ヘッドを比較的容易に実現すること
ができ、特に、偶数層からなるコイルを用いることによ
り、磁気回路を構成するためのコイル中心部での上下磁
性体パタンの接続部，及び磁性体パタンの配置が自由に
構成でき、更に、多重磁束鎖交型磁気ヘッドは、ヘッド
の自己インダクタンス及び抵抗値の大きな増大を招かず
に、高出力を得ることができるという従来にない優れた
薄膜磁気ヘッド装置を提供することができる。
束鎖交型の薄膜磁気ヘッドを比較的容易に実現すること
ができ、特に、偶数層からなるコイルを用いることによ
り、磁気回路を構成するためのコイル中心部での上下磁
性体パタンの接続部，及び磁性体パタンの配置が自由に
構成でき、更に、多重磁束鎖交型磁気ヘッドは、ヘッド
の自己インダクタンス及び抵抗値の大きな増大を招かず
に、高出力を得ることができるという従来にない優れた
薄膜磁気ヘッド装置を提供することができる。
【００４８】また、本発明によると、磁気コアを形成す
る磁気回路の各磁性体パタンの長軸方向と磁性体膜の磁
気異方性の方向を適当に選択することにより、ヘッド再
生出力の更なる増大が可能となる。
る磁気回路の各磁性体パタンの長軸方向と磁性体膜の磁
気異方性の方向を適当に選択することにより、ヘッド再
生出力の更なる増大が可能となる。
【００４９】さらに、本発明によると、磁気回路形成磁
気パタンとして、等方性磁性膜を用いることにより、コ
イルと磁気回路の鎖交回数を自由に設定し増大すること
を容易に実現することができる。
気パタンとして、等方性磁性膜を用いることにより、コ
イルと磁気回路の鎖交回数を自由に設定し増大すること
を容易に実現することができる。
【図１】本発明の第１実施例を示す説明図である。
【図２】本発明の第２実施例を示す説明図である。
【図３】本発明の第３実施例を示す説明図である。
【図４】本発明の第４実施例を示す説明図である。
【図５】本発明の第５実施例を示す説明図である。
【図６】本発明の第６実施例を示す説明図である。
【図７】本発明の第７実施例を示す説明図である。
【図８】本発明の第８実施例を示す説明図である。
【符号の説明】 １ 非磁性基板 １１，１２，１３，１４ 一方の磁性体パタンとしての
下部磁性体パタン １６ 磁性体パタン層からなるコイル端接続リードパタ
ン ２１，２２，２３，２４ 他方の磁性体パタンとしての
上部磁性体パタン ２６ 磁性体パタン層からなるコイル端接続リードパタ
ン ３０ コイル接続部 ３１ 磁気ヘッドコイルとしての第１層コイル ３２ 磁気ヘッドコイルとしての第２層コイル ４０ 磁気ギャップ ４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄ 上下磁性体パタンの
コイル内部の接続部 ４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ 上下磁性体パタンの
コイル外部の接続部 Ｈｋ 磁性パタン膜の磁気異方性の方向
下部磁性体パタン １６ 磁性体パタン層からなるコイル端接続リードパタ
ン ２１，２２，２３，２４ 他方の磁性体パタンとしての
上部磁性体パタン ２６ 磁性体パタン層からなるコイル端接続リードパタ
ン ３０ コイル接続部 ３１ 磁気ヘッドコイルとしての第１層コイル ３２ 磁気ヘッドコイルとしての第２層コイル ４０ 磁気ギャップ ４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄ 上下磁性体パタンの
コイル内部の接続部 ４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ 上下磁性体パタンの
コイル外部の接続部 Ｈｋ 磁性パタン膜の磁気異方性の方向
Claims (8)
- 【請求項１】 一方の磁性体パターンと磁気ヘッドコイ
ルと他方の磁性体パターンとが，絶縁膜を介して基板上
に順次積層され、前記一方と他方の磁性体パターンは一
端部で導通されると共に他端部に磁気ギャップが設定さ
れ，この磁気ギャップを介して前記磁気ヘッドコイルの
動作と共に磁気回路が形勢されてなる薄膜磁気ヘッド装
置において、 前記磁気ヘッドコイルは，絶縁膜を介して少なくとも二
層以上に分けて積層された積層構造のものが使用され、 前記一方と他方の磁性体パターンは，前記磁気ヘッドコ
イル全体を対象として当該磁気ヘッドコイルのコイル辺
の一部を複数回巻いた状態に連結され前記磁気ヘッドコ
イルに磁気結合されていることを特徴とした薄膜磁気ヘ
ッド装置。 - 【請求項２】 前記磁気ヘッドコイルは、そのコイルパ
ターンが多角形状に形成され，中心部に前記一方と他方
の磁性体パターンの連結点が複数設けられていることを
特徴とした請求項１記載の薄膜磁気ヘッド装置。 - 【請求項３】 前記磁気ヘッドコイルは、四角形状に形
成され，中心部に前記一方と他方の磁性体パターンの連
結点が三箇所設けられると共に，前記磁気ヘッドコイル
の外側に、前記一方と他方の磁性体パターンの連結点が
二箇所設けられていることを特徴とした請求項２記載の
薄膜磁気ヘッド装置。 - 【請求項４】 前記磁気ヘッドコイルは、五角形状に形
成され，その中心部に前記一方と他方の磁性体パターン
の連結点が少なくとも三箇所設けられると共に，前記磁
気ヘッドコイルの外側に、前記一方と他方の磁性体パタ
ーンの連結点が少なくとも二箇所設けられていることを
特徴とした請求項２記載の薄膜磁気ヘッド装置。 - 【請求項５】 前記一方と他方の磁性体パターンは、そ
の実質的な長軸と当該磁性体パターンを形成する磁性膜
の磁気異方性容易軸との成す角度が、４５°ないし９０
°の範囲に設定されていることを特徴とした請求項１，
２，３又は４記載の薄膜磁気ヘッド装置。 - 【請求項６】 前記磁気ヘッドコイルは、四角形状に形
成され，中心部に前記一方と他方の磁性体パターンの連
結点が四箇所設けられると共に，前記磁気ヘッドコイル
の外側に、前記一方と他方の磁性体パターンの連結点が
前記磁気ヘッドコイルの各辺に対応して三箇所設けられ
ていることを特徴とした請求項２記載の薄膜磁気ヘッド
装置。 - 【請求項７】 前記一方と他方の磁性体パターンは、当
該磁性体パターンを形成する磁性膜が等方性磁性膜で形
成されていることを特徴とした請求項４記載の薄膜磁気
ヘッド装置。 - 【請求項８】 一方の磁性体パターンと磁気ヘッドコイ
ルと他方の磁性体パターンとが，絶縁膜を介して基板上
に順次積層され、前記一方と他方の磁性体パターンは一
端部で導通されると共に他端部に磁気ギャップが設定さ
れ，この磁気ギャップを介して前記磁気ヘッドコイルの
動作と共に磁気回路が形勢されてなる薄膜磁気ヘッド装
置において、 前記磁気ヘッドコイルは、一層又は三層以上の奇数の層
の積層構造のものが使用され、 前記一方と他方の磁性体パターンは，前記磁気ヘッドコ
イル全体を対象として当該磁気ヘッドコイルのコイル辺
の一部を複数回巻いた状態に連結され前記磁気ヘッドコ
イルに磁気結合され、 前記磁気ヘッドコイルのコイル端の内の当該磁気ヘッド
コイルの中心部に位置するコイル端が，前記一方と他方
の磁性体パターンの内のいずれか一方の磁性体パターン
と同層に独立して設定された磁性体パターンを介して外
部に取り出されていることを特徴とした薄膜磁気ヘッド
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16754793A JPH076326A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 薄膜磁気ヘッド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16754793A JPH076326A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 薄膜磁気ヘッド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076326A true JPH076326A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15851744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16754793A Pending JPH076326A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 薄膜磁気ヘッド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076326A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07272213A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Samsung Electron Co Ltd | 二重ヨーク薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS545710A (en) * | 1977-06-15 | 1979-01-17 | Fujitsu Ltd | Thin-film magnetic head |
| JPH0227509A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH03219409A (ja) * | 1990-01-25 | 1991-09-26 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH04321910A (ja) * | 1990-10-25 | 1992-11-11 | Digital Equip Corp <Dec> | 薄膜磁気トランスジューサ及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-06-14 JP JP16754793A patent/JPH076326A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS545710A (en) * | 1977-06-15 | 1979-01-17 | Fujitsu Ltd | Thin-film magnetic head |
| JPH0227509A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH03219409A (ja) * | 1990-01-25 | 1991-09-26 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH04321910A (ja) * | 1990-10-25 | 1992-11-11 | Digital Equip Corp <Dec> | 薄膜磁気トランスジューサ及びその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07272213A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Samsung Electron Co Ltd | 二重ヨーク薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960917 |