JPH076343A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH076343A JPH076343A JP5145891A JP14589193A JPH076343A JP H076343 A JPH076343 A JP H076343A JP 5145891 A JP5145891 A JP 5145891A JP 14589193 A JP14589193 A JP 14589193A JP H076343 A JPH076343 A JP H076343A
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- JP
- Japan
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- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
- metal thin
- ferromagnetic metal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録再生機器に使用される磁気記録媒体
において、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体
の信頼性と電磁変換特性のアンバランスを解決し、狭ギ
ャップリング型磁気ヘッドで効率良くオーバーライト記
録でき、エラーの少ない信頼性の優れた磁気記録媒体の
提供を目的とする。 【構成】 強磁性金属薄膜6と硬質炭素膜8からなる積
層体を複数層配し、短波長化、狭トラック化により進む
ディジタル信号のオーバーライト記録性能と信頼性をバ
ランス良く改善した磁気記録媒体が得られる。
において、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体
の信頼性と電磁変換特性のアンバランスを解決し、狭ギ
ャップリング型磁気ヘッドで効率良くオーバーライト記
録でき、エラーの少ない信頼性の優れた磁気記録媒体の
提供を目的とする。 【構成】 強磁性金属薄膜6と硬質炭素膜8からなる積
層体を複数層配し、短波長化、狭トラック化により進む
ディジタル信号のオーバーライト記録性能と信頼性をバ
ランス良く改善した磁気記録媒体が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高密度ディジタル磁気記
録に適するCo系強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁
気記録媒体に関するものである。
録に適するCo系強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁
気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、記録すべき情
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。しかし高密度化と高画質、高音質を両立させる
のは難しく、情報量の増大に対しては信号をディジタル
化して、高能率符号化技術を利用するのが得策である。
かかる高密度ディジタル記録には、強磁性金属薄膜を磁
性層とする磁気記録媒体が適していることが知られてい
る。
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。しかし高密度化と高画質、高音質を両立させる
のは難しく、情報量の増大に対しては信号をディジタル
化して、高能率符号化技術を利用するのが得策である。
かかる高密度ディジタル記録には、強磁性金属薄膜を磁
性層とする磁気記録媒体が適していることが知られてい
る。
【0003】以下に従来の磁気記録媒体について説明す
る。図3は従来の磁気記録媒体の拡大断面を示すもので
ある。図3において1はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムでSiO
2,ZnO等の無機超微粒子やイミド等の有機超微粒子
等を分散塗布したいわゆる微粒子塗布層を配したものが
用いられる。2はCo−Ni、Co−O、Co−Cr、
Co−Cr−Ta等の強磁性金属薄膜で、雑音が鋸歯状
の磁化遷移領域が形成されると極端に増大することか
ら、2層構成にし、場合によっては層間にCr,Cr
V,Mo等を2〜50nm配した構成が採られている
(アイ、イーイーイー、トランザクションズ、オン、マ
グネティックス、第29巻、第1号、223頁〜229
頁[1993])。3は保護層で潤滑剤、プラズマ重合
膜、酸化膜と潤滑剤の積層等で、4はバックコート層で
ある。
る。図3は従来の磁気記録媒体の拡大断面を示すもので
ある。図3において1はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムでSiO
2,ZnO等の無機超微粒子やイミド等の有機超微粒子
等を分散塗布したいわゆる微粒子塗布層を配したものが
用いられる。2はCo−Ni、Co−O、Co−Cr、
Co−Cr−Ta等の強磁性金属薄膜で、雑音が鋸歯状
の磁化遷移領域が形成されると極端に増大することか
ら、2層構成にし、場合によっては層間にCr,Cr
V,Mo等を2〜50nm配した構成が採られている
(アイ、イーイーイー、トランザクションズ、オン、マ
グネティックス、第29巻、第1号、223頁〜229
頁[1993])。3は保護層で潤滑剤、プラズマ重合
膜、酸化膜と潤滑剤の積層等で、4はバックコート層で
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、ディジタル記録における高密度オーバー
ライト特性が初期的には十分である条件が存在するもの
の、長期保存において劣化するといった問題点を有して
いた。本発明は上記従来の問題点を解決するもので、狭
トラック高密度ディジタル記録でのオーバーライト特性
の長期保証を可能にする磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
来の構成では、ディジタル記録における高密度オーバー
ライト特性が初期的には十分である条件が存在するもの
の、長期保存において劣化するといった問題点を有して
いた。本発明は上記従来の問題点を解決するもので、狭
トラック高密度ディジタル記録でのオーバーライト特性
の長期保証を可能にする磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体は、基板上にCo系強磁性金属
薄膜と硬質炭素膜の積層体を複数層配したものである。
に本発明の磁気記録媒体は、基板上にCo系強磁性金属
薄膜と硬質炭素膜の積層体を複数層配したものである。
【0006】
【作用】この構成によって、層間の磁気的相互作用が弱
められノイズが改善される上に、硬質炭素膜が薄くても
Co系強磁性金属薄膜を十分に保護することから、初期
に得られる優れたオーバーライト特性が長期に渡って維
持されることになる。
められノイズが改善される上に、硬質炭素膜が薄くても
Co系強磁性金属薄膜を十分に保護することから、初期
に得られる優れたオーバーライト特性が長期に渡って維
持されることになる。
【0007】
(実施例1)以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【0008】図1において、5はポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサ
ルファイド、アラミド、ポリイミド等の高分子フィルム
で必要に応じて内在粒子による微細な凹凸を形成したも
のや、2層押し出しによる複合構成のもの等でもよく、
厚みは3〜7μmの範囲で、表面粗さや機械強度は適宜
最適化検討によって得られる値で構成すれば良い。6,
7は磁性層でCo−O、Co−Ni−O、Co−Cr、
Co−Cr−Ta、Co−Pt−B−O等のCo系強磁
性金属薄膜からなるもので、6,7共に同じ材質で構成
するなり、異なった材質にする点、厚み配分、磁気的性
質、物性定数の選択は適宜最適化すればよい。8,9は
硬質炭素膜で、プラズマCVD法、スパッタリング法等
で形成するのが適している。8は1.5〜5nmの範囲
で9は保護膜としての機能面から10nm前後が好まし
い。
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサ
ルファイド、アラミド、ポリイミド等の高分子フィルム
で必要に応じて内在粒子による微細な凹凸を形成したも
のや、2層押し出しによる複合構成のもの等でもよく、
厚みは3〜7μmの範囲で、表面粗さや機械強度は適宜
最適化検討によって得られる値で構成すれば良い。6,
7は磁性層でCo−O、Co−Ni−O、Co−Cr、
Co−Cr−Ta、Co−Pt−B−O等のCo系強磁
性金属薄膜からなるもので、6,7共に同じ材質で構成
するなり、異なった材質にする点、厚み配分、磁気的性
質、物性定数の選択は適宜最適化すればよい。8,9は
硬質炭素膜で、プラズマCVD法、スパッタリング法等
で形成するのが適している。8は1.5〜5nmの範囲
で9は保護膜としての機能面から10nm前後が好まし
い。
【0009】硬質炭素膜であるが実効的な厚みが変わら
ない範囲でプラズマ重合膜、酸化膜等を介した構成であ
っても良い。10はパーフルオロカルボン酸、パーフル
オロポリエーテル等の潤滑剤層である。なお積層数は上
述したように2層に限定されるものではないが、テープ
状にて実施する場合は、生産の面から2層が好ましい。
磁気ディスクの形態ではこの限りではない。また5,6
の構成要素間にも炭素膜を配しても良い。
ない範囲でプラズマ重合膜、酸化膜等を介した構成であ
っても良い。10はパーフルオロカルボン酸、パーフル
オロポリエーテル等の潤滑剤層である。なお積層数は上
述したように2層に限定されるものではないが、テープ
状にて実施する場合は、生産の面から2層が好ましい。
磁気ディスクの形態ではこの限りではない。また5,6
の構成要素間にも炭素膜を配しても良い。
【0010】以下更に具体例と従来例を比較して本実施
例の効果について明確にする。厚み6.2μmで、長手
方向、幅方向夫々550,580[Kg/mm2]のヤング
率で、平均粗さ25Åのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを用い、直径1mのクーリングキャン(キャン温
度0℃)に沿わせて、入射角60度から30度の範囲で
Coを酸素の存在下で0.06μm蒸着し、その上にメ
タンガスを用いたプラズマCVD法で硬質炭素膜を2n
m(構成A)と4nm(構成B)形成し、更に入射角6
0度から30度の範囲でCoを酸素の存在下で0.06
μm蒸着し、その上にメタンガスを用いたプラズマCV
D法で硬質炭素膜を2nm(構成A)と4nm(構成
B)形成し、更に入射角60度から30度の範囲でCo
を酸素の存在下で0.06μm蒸着し(構成C)たもの
と、蒸着は2層にとどめたものとを実施し、いずれもそ
の上にメタンガスを用いたプラズマCVD法で厚み8n
mの硬質炭素膜を配し、その上に更に潤滑剤としてパー
フルオロポリエーテルを40Å溶液塗布法で配し、バッ
クコート層を0.45μm形成し6.35mm幅の磁気テ
ープを試作した。比較例としてCrのスパッタ膜を5n
m、配したものを準備し、夫々の磁気テープの特性比較
は、試作したビデオデッキでビット長0.24μm、ト
ラックピッチ10μmでのオーバーライト記録エラーレ
ートの相対比較で行った。磁気テープの長さは1磁気テ
ープの長さは100mとし、ランダムに5巻選び出して
5巻の平均値で表示した。スチル特性はテンションを2
5gに増加させて40℃、5%RHで比較した。本実施
例による磁気記録媒体の特性と比較例の磁気記録媒体の
特性を(表1)に比較して示している。
例の効果について明確にする。厚み6.2μmで、長手
方向、幅方向夫々550,580[Kg/mm2]のヤング
率で、平均粗さ25Åのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを用い、直径1mのクーリングキャン(キャン温
度0℃)に沿わせて、入射角60度から30度の範囲で
Coを酸素の存在下で0.06μm蒸着し、その上にメ
タンガスを用いたプラズマCVD法で硬質炭素膜を2n
m(構成A)と4nm(構成B)形成し、更に入射角6
0度から30度の範囲でCoを酸素の存在下で0.06
μm蒸着し、その上にメタンガスを用いたプラズマCV
D法で硬質炭素膜を2nm(構成A)と4nm(構成
B)形成し、更に入射角60度から30度の範囲でCo
を酸素の存在下で0.06μm蒸着し(構成C)たもの
と、蒸着は2層にとどめたものとを実施し、いずれもそ
の上にメタンガスを用いたプラズマCVD法で厚み8n
mの硬質炭素膜を配し、その上に更に潤滑剤としてパー
フルオロポリエーテルを40Å溶液塗布法で配し、バッ
クコート層を0.45μm形成し6.35mm幅の磁気テ
ープを試作した。比較例としてCrのスパッタ膜を5n
m、配したものを準備し、夫々の磁気テープの特性比較
は、試作したビデオデッキでビット長0.24μm、ト
ラックピッチ10μmでのオーバーライト記録エラーレ
ートの相対比較で行った。磁気テープの長さは1磁気テ
ープの長さは100mとし、ランダムに5巻選び出して
5巻の平均値で表示した。スチル特性はテンションを2
5gに増加させて40℃、5%RHで比較した。本実施
例による磁気記録媒体の特性と比較例の磁気記録媒体の
特性を(表1)に比較して示している。
【0011】
【表1】
【0012】この(表1)から明らかなように、本実施
例による磁気記録媒体は、ディジタル信号の高密度記録
で高い信頼性と高性能を実現出来るといった優れた効果
が得られる。
例による磁気記録媒体は、ディジタル信号の高密度記録
で高い信頼性と高性能を実現出来るといった優れた効果
が得られる。
【0013】以上の様に本実施例によれば、基板上にC
o系強磁性金属薄膜と硬質炭素膜の積層体を複数層配す
ることで、ディジタル信号の高密度記録で高い信頼性と
高性能を実現出来る。
o系強磁性金属薄膜と硬質炭素膜の積層体を複数層配す
ることで、ディジタル信号の高密度記録で高い信頼性と
高性能を実現出来る。
【0014】(実施例2)以下本発明の第2の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。図2は本発明の第
2の実施例の磁気記録媒体の製造方法を実施するための
磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図2にお
いて図1と同一でよい構成要素は同一の番号を付してあ
る。11はCo−O、Co−Cr、Co−W、Co−T
a、Co−Pt、Co−Pt−B−OなどのCo系強磁
性金属薄膜で12はグラファイト状の炭素リッチな非磁
性層でその領域は厚み方向に1〜4nm程度であれば良
い。この非磁性層によって、1〜4nmであっても12
の薄膜は上下に磁気的に分離され雑音が改良され、その
非磁性層による間隙損失は無視できることから良好なオ
ーバーライト特性が得られる。この層は炭素イオンを蒸
着過程の中間で照射し、エネルギーをキャン温度、蒸着
速度との関係で最適化して形成すれば良い。グラファイ
ト状に制御することはその層を薄くして磁気分離を良く
する上で重要である。上記した構成を更に積層化しても
良い。
ついて図面を参照しながら説明する。図2は本発明の第
2の実施例の磁気記録媒体の製造方法を実施するための
磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図2にお
いて図1と同一でよい構成要素は同一の番号を付してあ
る。11はCo−O、Co−Cr、Co−W、Co−T
a、Co−Pt、Co−Pt−B−OなどのCo系強磁
性金属薄膜で12はグラファイト状の炭素リッチな非磁
性層でその領域は厚み方向に1〜4nm程度であれば良
い。この非磁性層によって、1〜4nmであっても12
の薄膜は上下に磁気的に分離され雑音が改良され、その
非磁性層による間隙損失は無視できることから良好なオ
ーバーライト特性が得られる。この層は炭素イオンを蒸
着過程の中間で照射し、エネルギーをキャン温度、蒸着
速度との関係で最適化して形成すれば良い。グラファイ
ト状に制御することはその層を薄くして磁気分離を良く
する上で重要である。上記した構成を更に積層化しても
良い。
【0015】以下更に具体例と従来例を比較して本実施
例の効果について明確にする。厚み5.7μmで、長手
方向、幅方向夫々650、780[Kg/mm2]のヤング率
で、平均粗さ25Åのポリエチレンナフタレートフィル
ムを用い、直径1mのクーリングキャン(キャン温度0
℃)に沿わせて、入射角55度から35度の範囲でCo
を酸素の存在下で0.18μm蒸着する際に、炭素イオ
ンを120μA/cm2蒸気の入射角が47度の部分に、
垂直に3KeVで照射(2a)、4KeVで照射(2
b)、7KeVで照射(比較例1)、入射角を蒸気と同
じ47度にして3KeVで照射(比較例2)して炭素リ
ッチの非磁性層を配した。いずれもその上にメタンガス
を用いたプラズマCVD法で厚み8nmの硬質炭素膜を
配し、その上に更に潤滑剤としてパーフルオロポリエー
テルを40Å溶液塗布法で配し、バックコート層を0.
45μm形成し6.35mm幅の磁気テープを試作した。
例の効果について明確にする。厚み5.7μmで、長手
方向、幅方向夫々650、780[Kg/mm2]のヤング率
で、平均粗さ25Åのポリエチレンナフタレートフィル
ムを用い、直径1mのクーリングキャン(キャン温度0
℃)に沿わせて、入射角55度から35度の範囲でCo
を酸素の存在下で0.18μm蒸着する際に、炭素イオ
ンを120μA/cm2蒸気の入射角が47度の部分に、
垂直に3KeVで照射(2a)、4KeVで照射(2
b)、7KeVで照射(比較例1)、入射角を蒸気と同
じ47度にして3KeVで照射(比較例2)して炭素リ
ッチの非磁性層を配した。いずれもその上にメタンガス
を用いたプラズマCVD法で厚み8nmの硬質炭素膜を
配し、その上に更に潤滑剤としてパーフルオロポリエー
テルを40Å溶液塗布法で配し、バックコート層を0.
45μm形成し6.35mm幅の磁気テープを試作した。
【0016】従来例は炭素イオンの照射を行わないで蒸
着した以外は、実施例と同じ条件でテープ化した。
着した以外は、実施例と同じ条件でテープ化した。
【0017】夫々の磁気テープの特性比較は、試作した
ビデオデッキでビット長0.24μm、トラックピッチ
10μmでのオーバーライト記録でのエラーレートの相
対比較で行った。
ビデオデッキでビット長0.24μm、トラックピッチ
10μmでのオーバーライト記録でのエラーレートの相
対比較で行った。
【0018】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
磁気記録媒体の特性を(表2)に比較して示している。
磁気記録媒体の特性を(表2)に比較して示している。
【0019】
【表2】
【0020】この(表2)から明らかなように、本実施
例による磁気記録媒体は、狭トラック条件での高密度デ
ィジタル記録を重ね書きで行った時、良好なエラー率で
行うことが出来るといった優れた効果がある。
例による磁気記録媒体は、狭トラック条件での高密度デ
ィジタル記録を重ね書きで行った時、良好なエラー率で
行うことが出来るといった優れた効果がある。
【0021】以上のように本実施例によれば基板上に配
したCo系強磁性金属薄膜がグラファイト状の炭素リッ
チな非磁性層で分離されているようにすることで、狭ト
ラック条件での高密度ディジタル記録を重ね書きで行っ
た時、良好なエラー率で行うことが出来る。
したCo系強磁性金属薄膜がグラファイト状の炭素リッ
チな非磁性層で分離されているようにすることで、狭ト
ラック条件での高密度ディジタル記録を重ね書きで行っ
た時、良好なエラー率で行うことが出来る。
【0022】なお第1の実施例、第2の実施例いずれも
磁気テープとしたが、磁気ディスクであっても良く、そ
の状態はハード、フレキシブルを問わず高密度記録での
優れた記録特性と耐久性をバランス良く得られる点は同
様である。
磁気テープとしたが、磁気ディスクであっても良く、そ
の状態はハード、フレキシブルを問わず高密度記録での
優れた記録特性と耐久性をバランス良く得られる点は同
様である。
【0023】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、基板上にC
o系強磁性金属薄膜と硬質炭素膜の積層体を複数層配す
ることによって層間の磁気的相互作用が弱められノイズ
が改善される上に、硬質炭素膜が薄くてもCo系強磁性
金属薄膜を十分に保護することから、初期に得られる優
れたオーバーライト特性が長期に渡って維持されるとい
った優れた磁気記録媒体を実現出来る。
o系強磁性金属薄膜と硬質炭素膜の積層体を複数層配す
ることによって層間の磁気的相互作用が弱められノイズ
が改善される上に、硬質炭素膜が薄くてもCo系強磁性
金属薄膜を十分に保護することから、初期に得られる優
れたオーバーライト特性が長期に渡って維持されるとい
った優れた磁気記録媒体を実現出来る。
【図1】本発明の第1の実施例における磁気記録媒体の
拡大断面図
拡大断面図
【図2】本発明の第2の実施例における磁気記録媒体の
拡大断面図
拡大断面図
【図3】従来の磁気記録媒体の拡大断面図
6 Co系強磁性金属薄膜 7 Co系強磁性金属薄膜 8 硬質炭素膜 9 硬質炭素膜 11 Co系強磁性金属薄膜 12 グラファイト状炭素リッチ非磁性層
Claims (2)
- 【請求項1】 基板上にCo系強磁性金属薄膜と硬質炭
素膜の積層体を複数層配したことを特徴とする磁気記録
媒体。 - 【請求項2】 基板上に配したCo系強磁性金属薄膜が
グラファイト状の炭素リッチな非磁性層で分離されてい
ることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5145891A JPH076343A (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5145891A JPH076343A (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076343A true JPH076343A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15395445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5145891A Pending JPH076343A (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076343A (ja) |
-
1993
- 1993-06-17 JP JP5145891A patent/JPH076343A/ja active Pending
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