JPH0763588B2 - ハロゲン化合物を含有するプロセス又は排煙ガスの処理方法 - Google Patents
ハロゲン化合物を含有するプロセス又は排煙ガスの処理方法Info
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- JPH0763588B2 JPH0763588B2 JP4211729A JP21172992A JPH0763588B2 JP H0763588 B2 JPH0763588 B2 JP H0763588B2 JP 4211729 A JP4211729 A JP 4211729A JP 21172992 A JP21172992 A JP 21172992A JP H0763588 B2 JPH0763588 B2 JP H0763588B2
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
- B01D53/8662—Organic halogen compounds
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/26—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with two or more fluidised beds, e.g. reactor and regeneration installations
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- F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
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Description
【０００１】本発明は、第一の循環流動床反応槽内で高
温ガスが温度＞４００℃まで、第二の循環流動床反応槽
内で高温ガスが２５０−４００℃の温度域よりも下に急
速に冷却される二つの連続した循環流動床反応槽内でハ
ロゲン化合物を含有する排煙ガス又はプロセスガスを冷
却する方法に関する。
温ガスが温度＞４００℃まで、第二の循環流動床反応槽
内で高温ガスが２５０−４００℃の温度域よりも下に急
速に冷却される二つの連続した循環流動床反応槽内でハ
ロゲン化合物を含有する排煙ガス又はプロセスガスを冷
却する方法に関する。
【０００２】本発明は、特に廃棄物、生物起源のスラジ
（biological sludge ）、金属濃縮物、金属スクラッ
プ、例えば銅精錬から出るスラジなどの塩素又はハロゲ
ン化炭水化物を含有する物質の処理により生ずる排煙ガ
ス又はプロセスガスを冷却する方法、すなわち環境に有
害な排出物を最小限にする方法に関するものである。
（biological sludge ）、金属濃縮物、金属スクラッ
プ、例えば銅精錬から出るスラジなどの塩素又はハロゲ
ン化炭水化物を含有する物質の処理により生ずる排煙ガ
ス又はプロセスガスを冷却する方法、すなわち環境に有
害な排出物を最小限にする方法に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】都市廃棄物の焼却、生物起源のスラジ、
及び精錬から発生する塩素を含有する環境有毒物は、こ
れまで問題視されてきた。共平面性ＰＣＢ、ポリ塩素化
ダイオキシン、及びポリ塩素化フランなどの猛毒物質と
して類別されるポリ塩素化芳香族化合物は、その大部分
は都市廃棄物の焼却工場、及び生物起源のスラジの工業
的燃焼工場の双方から排出される。ダイオキシンはま
た、金属精錬により発生する排煙ガス中にも見出され
る。これらの塩素含有化合物は人間や動物に極めて有毒
であり、遺伝的破壊をもたらし、また明らかに発ガン性
を有するものである。環境中に分散される有毒化合物の
大部分は排煙ガスと結合している。
及び精錬から発生する塩素を含有する環境有毒物は、こ
れまで問題視されてきた。共平面性ＰＣＢ、ポリ塩素化
ダイオキシン、及びポリ塩素化フランなどの猛毒物質と
して類別されるポリ塩素化芳香族化合物は、その大部分
は都市廃棄物の焼却工場、及び生物起源のスラジの工業
的燃焼工場の双方から排出される。ダイオキシンはま
た、金属精錬により発生する排煙ガス中にも見出され
る。これらの塩素含有化合物は人間や動物に極めて有毒
であり、遺伝的破壊をもたらし、また明らかに発ガン性
を有するものである。環境中に分散される有毒化合物の
大部分は排煙ガスと結合している。
【０００４】温度を下げれば下げるほど、また滞留時間
を短くすれば短くするほど、発生するこれらの猛毒物質
の量は増加することが知られている。５００−７００℃
での燃焼は特にポリ塩素化ダイオキシン及びフランの生
成に好適であることが知られている。従って、猛毒物質
を分解するためには、燃焼が高温かつより長い滞留時間
で行われるべきであるとの結論が導かれる。他方、この
ことは、もし排煙ガスが例えばダイオキシンやフラン毒
物が分解されるような高温で後燃焼されるならば、比較
的低温で廃棄物が安全に処理されることを示唆する。
を短くすれば短くするほど、発生するこれらの猛毒物質
の量は増加することが知られている。５００−７００℃
での燃焼は特にポリ塩素化ダイオキシン及びフランの生
成に好適であることが知られている。従って、猛毒物質
を分解するためには、燃焼が高温かつより長い滞留時間
で行われるべきであるとの結論が導かれる。他方、この
ことは、もし排煙ガスが例えばダイオキシンやフラン毒
物が分解されるような高温で後燃焼されるならば、比較
的低温で廃棄物が安全に処理されることを示唆する。
【０００５】しかしながら、実際の工程又は後燃焼にお
いて猛毒物質を分解するために適する温度を維持するこ
とは必ずしも可能ではない。さらに、猛毒物質は工程の
後段で、また後燃焼の後に再生成されることが見出され
ている。
いて猛毒物質を分解するために適する温度を維持するこ
とは必ずしも可能ではない。さらに、猛毒物質は工程の
後段で、また後燃焼の後に再生成されることが見出され
ている。
【０００６】ダイオキシンは、適温下、石炭、水、及び
酸素の存在のもとで、例えば排煙ガス中で塩素化合物か
らの合成により生成される。灰粒子中の大部分のダイオ
キシンは、燃焼後にのみ熱交換器や煙突中でいわゆるド
ゥ・ノボ合成によって生成されることが確認されてい
る。何故なら、ダイオキシンのドゥ・ノボ合成は温度に
非常に依存し、２５０−４００℃の温度が特にこの合成
に適しているからである。出来るだけ少ない炭素を含有
する灰粒子を生成するため、出来るだけ完全な燃焼によ
り、高い燃焼温度及び長い滞留時間によって、かかる合
成を阻止しうるよう努力が為されている。廃棄物から金
属を分離することにより、排煙ガス中のポリ塩素化芳香
族化合物の量を減少させるための試みもまた為されてき
た。
酸素の存在のもとで、例えば排煙ガス中で塩素化合物か
らの合成により生成される。灰粒子中の大部分のダイオ
キシンは、燃焼後にのみ熱交換器や煙突中でいわゆるド
ゥ・ノボ合成によって生成されることが確認されてい
る。何故なら、ダイオキシンのドゥ・ノボ合成は温度に
非常に依存し、２５０−４００℃の温度が特にこの合成
に適しているからである。出来るだけ少ない炭素を含有
する灰粒子を生成するため、出来るだけ完全な燃焼によ
り、高い燃焼温度及び長い滞留時間によって、かかる合
成を阻止しうるよう努力が為されている。廃棄物から金
属を分離することにより、排煙ガス中のポリ塩素化芳香
族化合物の量を減少させるための試みもまた為されてき
た。
【０００７】米国特許明細書４，７６２，０７４は、有
毒成分の分解のため、少なくとも１２００℃の高温で酸
素処理空気を用いる方法により、生成初期の有毒ダイオ
キシン及びフランを含有する廃棄物の燃焼を提案してい
る。極めて過剰量の酸素を使用することにより、高温下
で増加する窒素酸化物の量を許容できるレベルに維持す
る試みも為されている。
毒成分の分解のため、少なくとも１２００℃の高温で酸
素処理空気を用いる方法により、生成初期の有毒ダイオ
キシン及びフランを含有する廃棄物の燃焼を提案してい
る。極めて過剰量の酸素を使用することにより、高温下
で増加する窒素酸化物の量を許容できるレベルに維持す
る試みも為されている。
【０００８】スウェーデン特許明細書４５３，７７７
は、９００℃以下の温度で、沸騰流動床中の反応槽内で
固形廃棄物を燃焼する方法を開示している。反応槽内で
は、流動床そのものの上で排煙ガスの温度は、二次空気
を加え、反応槽壁を断熱することによって、少なくとも
９５０℃まで上昇する。排煙ガスの温度は、炭化水素及
びダイオキシンが分解されるのに必要な限り、無冷却送
ガス管を通して排煙ガスを処理することにより、９５０
℃以上の水準に維持される。このガスは、熱交換器へ行
くまでに、ガス中へ空気または排煙ガスを注入すること
により冷却される。
は、９００℃以下の温度で、沸騰流動床中の反応槽内で
固形廃棄物を燃焼する方法を開示している。反応槽内で
は、流動床そのものの上で排煙ガスの温度は、二次空気
を加え、反応槽壁を断熱することによって、少なくとも
９５０℃まで上昇する。排煙ガスの温度は、炭化水素及
びダイオキシンが分解されるのに必要な限り、無冷却送
ガス管を通して排煙ガスを処理することにより、９５０
℃以上の水準に維持される。このガスは、熱交換器へ行
くまでに、ガス中へ空気または排煙ガスを注入すること
により冷却される。
【０００９】米国特許明細書４，７９４，８７１は、二
又は三段階から成る方法を開示している。即ち、最初に
廃棄物は高くても温度５００℃でロータリードラム中で
処理され、次にそこで生成された固体状の廃棄物を、少
なくとも５００℃、出来れば温度５００−１０００℃
で、有毒物質の分解のため処理するものである。この両
段階において発生した排煙ガスを一緒にし、ガス中の有
毒化合物が完全に分解される上記の高温で燃焼する。
又は三段階から成る方法を開示している。即ち、最初に
廃棄物は高くても温度５００℃でロータリードラム中で
処理され、次にそこで生成された固体状の廃棄物を、少
なくとも５００℃、出来れば温度５００−１０００℃
で、有毒物質の分解のため処理するものである。この両
段階において発生した排煙ガスを一緒にし、ガス中の有
毒化合物が完全に分解される上記の高温で燃焼する。
【００１０】スウェーデン特許出願８４０６０９０−４
は、環境に有害で、かつ塩素化炭化水素を含有する廃棄
物が、少なくとも温度１２００℃で亜当量的に焼却され
る方法を開示している。その燃焼は、プラズマ燃焼を起
こす。この特許出願によれば、有毒化合物の生成が、温
度３５０ないし７００℃に冷却された排煙ガスをこのガ
スから塩素を分離するため石灰と接触させることによっ
て、防止できるとしている。好ましくは、塩素分離はガ
スを石灰で充たした縦型の反応槽中を通して処理するこ
とによって達成される。しかしながら低温では、ポリ塩
素化芳香族化合物が、塩素が石灰に結合する前に急速に
生成される。そのため、本方法は望ましい結果を導かな
い。
は、環境に有害で、かつ塩素化炭化水素を含有する廃棄
物が、少なくとも温度１２００℃で亜当量的に焼却され
る方法を開示している。その燃焼は、プラズマ燃焼を起
こす。この特許出願によれば、有毒化合物の生成が、温
度３５０ないし７００℃に冷却された排煙ガスをこのガ
スから塩素を分離するため石灰と接触させることによっ
て、防止できるとしている。好ましくは、塩素分離はガ
スを石灰で充たした縦型の反応槽中を通して処理するこ
とによって達成される。しかしながら低温では、ポリ塩
素化芳香族化合物が、塩素が石灰に結合する前に急速に
生成される。そのため、本方法は望ましい結果を導かな
い。
【００１１】他の方法のうち、米国特許明細書４，９３
８，３６６は、二段階触媒処理による有毒ポリハロゲン
の分解を示唆している。その方法では、ガスは最初に酸
化触媒分解工程を経て、第二段階で接触後燃焼工程へ送
られる。
８，３６６は、二段階触媒処理による有毒ポリハロゲン
の分解を示唆している。その方法では、ガスは最初に酸
化触媒分解工程を経て、第二段階で接触後燃焼工程へ送
られる。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、高温の
プロセスガス又は排煙ガスを生成するプラントでのポリ
ハロゲン炭化水素化合物の排出を最小限にするための簡
便な方法を提供するものである。
プロセスガス又は排煙ガスを生成するプラントでのポリ
ハロゲン炭化水素化合物の排出を最小限にするための簡
便な方法を提供するものである。
【００１３】本発明による方法の特徴は、温度が７００
℃以上であるプロセス又は排煙ガスが、第一の循環流動
床反応槽へ流動ガスとして導入され、そこで４００−７
００℃に冷却されるところにあり、第一の循環流動床反
応槽中でのガスの滞留時間は１−１０秒であり、かつ第
一の循環流動床反応槽中でガスとポリハロゲン化合物を
分解することができる触媒とを接触させるところにあ
る。
℃以上であるプロセス又は排煙ガスが、第一の循環流動
床反応槽へ流動ガスとして導入され、そこで４００−７
００℃に冷却されるところにあり、第一の循環流動床反
応槽中でのガスの滞留時間は１−１０秒であり、かつ第
一の循環流動床反応槽中でガスとポリハロゲン化合物を
分解することができる触媒とを接触させるところにあ
る。
【００１４】温度４００−７００℃である第一の循環流
動床反応槽中でのガスの滞留時間は２−５秒であること
が好ましく、その間にガス中に含まれるダイオキシンと
フランの完全な分解がもたらされる。
動床反応槽中でのガスの滞留時間は２−５秒であること
が好ましく、その間にガス中に含まれるダイオキシンと
フランの完全な分解がもたらされる。
【００１５】触媒は、亜鉛、銅、ニッケル、クローム、
鉄、アルミニウム、鉛、その他の金属又は合金のような
金属粉末、ＺｎＯ，ＮｉＯ，Ｃｒ2 Ｏ3 ，ＦｅＯ，Ｆｅ
3 Ｏ 4 ，ＰｂＯ，ＣａＯ，ＭｇＯ，のような金属の酸化
物又はその他の金属酸化物、又はそれらの混合物、又は
Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｋ2 ＣＯ3 ，ＣａＣＯ3 のような金属塩
が好ましい。触媒物質は触媒活性が高い金属、金属酸化
物、又は金属粉末から成るものが好ましく、それがプロ
セスガスに乗せられ、少なくとも一部が循環流動床反応
槽中の床物質を形成するものであってもよい。循環流動
床反応槽は、例えばスクラップ銅精錬のシャフト炉の次
に設置することができる。炉からの排煙ガスは、例えば
酸化銅、酸化鉛、酸化錫などのスクラップ由来の混入物
を含んでいる。これらの混入物は循環流動床反応槽の塵
分別器で分別され、床物質として残存し、触媒として有
機塩素化合物の分解に寄与する。
鉄、アルミニウム、鉛、その他の金属又は合金のような
金属粉末、ＺｎＯ，ＮｉＯ，Ｃｒ2 Ｏ3 ，ＦｅＯ，Ｆｅ
3 Ｏ 4 ，ＰｂＯ，ＣａＯ，ＭｇＯ，のような金属の酸化
物又はその他の金属酸化物、又はそれらの混合物、又は
Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｋ2 ＣＯ3 ，ＣａＣＯ3 のような金属塩
が好ましい。触媒物質は触媒活性が高い金属、金属酸化
物、又は金属粉末から成るものが好ましく、それがプロ
セスガスに乗せられ、少なくとも一部が循環流動床反応
槽中の床物質を形成するものであってもよい。循環流動
床反応槽は、例えばスクラップ銅精錬のシャフト炉の次
に設置することができる。炉からの排煙ガスは、例えば
酸化銅、酸化鉛、酸化錫などのスクラップ由来の混入物
を含んでいる。これらの混入物は循環流動床反応槽の塵
分別器で分別され、床物質として残存し、触媒として有
機塩素化合物の分解に寄与する。
【００１６】循環流動床反応槽内では、流動ガスとして
そこへ送られた高温ガスは、そのガスよりも冷たい循環
中の床物質と混ざった時に、極めて急速に冷却される。
一般に混合槽内で冷却される速度は、＞５００℃／秒で
あるが、１０００℃／秒以上であることが好ましい。
そこへ送られた高温ガスは、そのガスよりも冷たい循環
中の床物質と混ざった時に、極めて急速に冷却される。
一般に混合槽内で冷却される速度は、＞５００℃／秒で
あるが、１０００℃／秒以上であることが好ましい。
【００１７】本発明の一の実施態様としての、本発明の
冷却装置は、金属精錬の廃物焼却器の放熱室に連結され
ている。ガスは、温度７００−１２００℃で放熱室から
排出され、次に流動ガスとして第一の循環流動床反応槽
へ送られ、その中でガスは４００−７００℃にまで冷却
される。床物質は、少なくとも一部、例えば酸化亜鉛の
ような金属酸化物によって形成され、ダイオキシン及び
フランの分解反応において触媒として働く。反応槽中で
のガスの滞留時間は２−５秒であることが好ましい。も
し必要ならば、灰を含む床物質は循環流動床反応槽から
取り除くことができる。新しい触媒を含む床実質は、必
要に応じて添加するか、又は少なくとも排煙ガス中に含
まれる金属酸化物の塵を床物質として残存させることに
よって、反応槽へ導入される。第一循環流動床反応槽か
ら、触媒を予め取り除いたガスは第二の循環流動床反応
槽に導入され、そこでガスの最終的な冷却が達成され
る。ガスが第一の反応槽から排出された時の温度は約４
００−７００℃であるが、第二の反応槽においては、ダ
イオキシン及びフランのドゥ・ノボ合成に好適な２５０
−４００℃の温度域を急速に通過するよう冷却される。
冷却速度は、＞５００℃／秒、好ましくは１０００℃／
秒である。こうしてガスは第二の混合室に入る時には、
殆ど即時的に２５０℃以下の温度に冷却されてしまう。
第二の循環流動床反応槽においては、ガスは１８０℃あ
るいはそれ以下まで冷却され、必要であればその後ガス
は最終的な清浄のためバッグフィルターに通すことがで
きる。
冷却装置は、金属精錬の廃物焼却器の放熱室に連結され
ている。ガスは、温度７００−１２００℃で放熱室から
排出され、次に流動ガスとして第一の循環流動床反応槽
へ送られ、その中でガスは４００−７００℃にまで冷却
される。床物質は、少なくとも一部、例えば酸化亜鉛の
ような金属酸化物によって形成され、ダイオキシン及び
フランの分解反応において触媒として働く。反応槽中で
のガスの滞留時間は２−５秒であることが好ましい。も
し必要ならば、灰を含む床物質は循環流動床反応槽から
取り除くことができる。新しい触媒を含む床実質は、必
要に応じて添加するか、又は少なくとも排煙ガス中に含
まれる金属酸化物の塵を床物質として残存させることに
よって、反応槽へ導入される。第一循環流動床反応槽か
ら、触媒を予め取り除いたガスは第二の循環流動床反応
槽に導入され、そこでガスの最終的な冷却が達成され
る。ガスが第一の反応槽から排出された時の温度は約４
００−７００℃であるが、第二の反応槽においては、ダ
イオキシン及びフランのドゥ・ノボ合成に好適な２５０
−４００℃の温度域を急速に通過するよう冷却される。
冷却速度は、＞５００℃／秒、好ましくは１０００℃／
秒である。こうしてガスは第二の混合室に入る時には、
殆ど即時的に２５０℃以下の温度に冷却されてしまう。
第二の循環流動床反応槽においては、ガスは１８０℃あ
るいはそれ以下まで冷却され、必要であればその後ガス
は最終的な清浄のためバッグフィルターに通すことがで
きる。
【００１８】例えばダイオキン合成に最も適する２５０
−６００℃の温度域を急速に通過するようガスを冷却す
ることによって、ポリハロゲン芳香族化合物の生成は最
小となる。別に、塩素、フッ素、及び硫黄化合物と反応
し、又はこれらの化合物を吸収する物質を、ガスからこ
れらの化合物を除去するため第一又は第二反応槽の循環
床物質へ添加することができる。同時に、水銀、ヒ素、
亜鉛、カドミウム、鉛、錫のような排煙ガス中に含ま
れ、かつ低温で溶融し蒸発する重金属及びそれらの化合
物のかなりのものを、冷却反応槽中の流動床物質へそれ
らを濃縮することによってガスから分離することができ
る。循環から有害なあるいは回収可能な物質を取り除く
ため、連続的か断続的に粒子を冷却反応槽の循環から取
り除くことができる。新たな粒子は、ガス冷却工程に必
要な循環物質を維持するため適宜添加される。
−６００℃の温度域を急速に通過するようガスを冷却す
ることによって、ポリハロゲン芳香族化合物の生成は最
小となる。別に、塩素、フッ素、及び硫黄化合物と反応
し、又はこれらの化合物を吸収する物質を、ガスからこ
れらの化合物を除去するため第一又は第二反応槽の循環
床物質へ添加することができる。同時に、水銀、ヒ素、
亜鉛、カドミウム、鉛、錫のような排煙ガス中に含ま
れ、かつ低温で溶融し蒸発する重金属及びそれらの化合
物のかなりのものを、冷却反応槽中の流動床物質へそれ
らを濃縮することによってガスから分離することができ
る。循環から有害なあるいは回収可能な物質を取り除く
ため、連続的か断続的に粒子を冷却反応槽の循環から取
り除くことができる。新たな粒子は、ガス冷却工程に必
要な循環物質を維持するため適宜添加される。
【００１９】図面は、金属精錬用の廃物焼却器の放熱室
１０に連結した二段階のガス冷却装置を示しており、こ
の冷却装置は第一の（１２）及び第二の（１４）循環流
動床反応槽から成るものである。
１０に連結した二段階のガス冷却装置を示しており、こ
の冷却装置は第一の（１２）及び第二の（１４）循環流
動床反応槽から成るものである。
【００２０】第一反応槽１２の混合室１６は、その下部
から放熱室１０のガス排出口１８に接続し、その排出口
を通ってプロセスガスが流動ガスとして混合室へと流れ
る。第一流動床反応槽の床物質は、少なくともダイオキ
シンとフランの分解反応に触媒として作用できる触媒物
質含有金属酸化物をある程度含んでいる。
から放熱室１０のガス排出口１８に接続し、その排出口
を通ってプロセスガスが流動ガスとして混合室へと流れ
る。第一流動床反応槽の床物質は、少なくともダイオキ
シンとフランの分解反応に触媒として作用できる触媒物
質含有金属酸化物をある程度含んでいる。
【００２１】ダイオキシン及びフランは、１−４秒の滞
留時間内に温度１２０−５００℃で金属酸化物の表面上
で接触的に破壊される。本発明によれば、ガスの温度は
第一循環流動床反応槽内で４００−７００℃に下げら
れ、そこで１−１０秒、好ましくは２−５秒保持され、
触媒効果を利用できるようになっている。
留時間内に温度１２０−５００℃で金属酸化物の表面上
で接触的に破壊される。本発明によれば、ガスの温度は
第一循環流動床反応槽内で４００−７００℃に下げら
れ、そこで１−１０秒、好ましくは２−５秒保持され、
触媒効果を利用できるようになっている。
【００２２】混合室からガスは遊離板部２０を通って粒
子分離器２２へ流れ、そこでガスから床物質粒子が分離
される。分離された粒子は、再循環管２４を経由して混
合室へと送り戻される。分離された粒子の一部は、送ガ
ス管２６により循環から除去され、これにより使用済み
の触媒あるいはガスから分離された粒子の循環からの除
去を可能にしている。新たな触媒物質は、送ガス管２８
を経由して添加することができる。循環床物質は、フリ
ーボード部に備えられた熱伝達面３０によって冷却され
る。
子分離器２２へ流れ、そこでガスから床物質粒子が分離
される。分離された粒子は、再循環管２４を経由して混
合室へと送り戻される。分離された粒子の一部は、送ガ
ス管２６により循環から除去され、これにより使用済み
の触媒あるいはガスから分離された粒子の循環からの除
去を可能にしている。新たな触媒物質は、送ガス管２８
を経由して添加することができる。循環床物質は、フリ
ーボード部に備えられた熱伝達面３０によって冷却され
る。
【００２３】触媒物質の粒子は、フリーボード部の上部
へ、更にそこから送ガス管３２を経由して粒子分離器２
２へ、ガスと伴流されるには十分小さいことが好ましい
が、しかし粒子分離器内で分離するには十分粗くなけれ
ばならない。
へ、更にそこから送ガス管３２を経由して粒子分離器２
２へ、ガスと伴流されるには十分小さいことが好ましい
が、しかし粒子分離器内で分離するには十分粗くなけれ
ばならない。
【００２４】粒子分離器からの排ガス管３４は、第二循
環流動床反応槽１４の混合室３６の注入口３８と連結す
べく配管されている。第一反応槽において触媒の純化効
果により有毒なポリハロゲン化合物が取り除かれたガス
は、流動ガスとして第二反応槽の混合室へ流れ、循環物
質によってドゥ・ノボ合成に適する温度域以下に急速に
冷却される。
環流動床反応槽１４の混合室３６の注入口３８と連結す
べく配管されている。第一反応槽において触媒の純化効
果により有毒なポリハロゲン化合物が取り除かれたガス
は、流動ガスとして第二反応槽の混合室へ流れ、循環物
質によってドゥ・ノボ合成に適する温度域以下に急速に
冷却される。
【００２５】ガスは、混合室３６からフリーボード部４
０を通って第二粒子分離器４２へと送られ、そこから出
口４２を通って無粒子状態で排出される。フリーボード
部において、ガス及び粒子は熱交換面４６によって冷却
される。分離された粒子の大部分は、再循環管４８を通
って混合室へ再循環される。分離された粒子の一部は、
必要な時は導管５０を経る循環から除去でき、第一反応
槽又は燃焼のための主経路へと送ることができる。新た
な循環床物質は、管５２を経て添加することができる。
０を通って第二粒子分離器４２へと送られ、そこから出
口４２を通って無粒子状態で排出される。フリーボード
部において、ガス及び粒子は熱交換面４６によって冷却
される。分離された粒子の大部分は、再循環管４８を通
って混合室へ再循環される。分離された粒子の一部は、
必要な時は導管５０を経る循環から除去でき、第一反応
槽又は燃焼のための主経路へと送ることができる。新た
な循環床物質は、管５２を経て添加することができる。
【図１】本願発明方法に使用する装置の模式図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 21/08 ＺＡＢ Ａ 23/06 ＺＡＢ Ａ 23/14 ＺＡＢ Ａ 23/72 ＺＡＢ Ａ 23/74 ＺＡＢ 23/755 Ｆ２３Ｇ 5/30 ＺＡＢ Ｍ
Claims (9)
- 【請求項１】 高温ガスがその温度が冷却後もなお４０
０℃を超えるように第一の循環流動床反応槽内で冷却さ
れ、次いでガス温度を急激に２５０−４００℃の温度域
よりも下に下降させることができる第二の流動床反応槽
内で冷却される、二つの連続した循環流動床反応槽内で
ハロゲン化合物を含有する高温のプロセス又は排煙ガス
を冷却する方法であって、温度が７００℃を超える高温
のプロセスガス又は排煙ガスを４００−７００℃に冷却
させる第一の流動床反応槽内へ流動ガスとして導入する
こと、第一循環流動床反応槽内でのガス滞留時間が１−
１０秒であること、第一の循環流動床反応槽内で上記ガ
スを多ハロゲン化合物を分解できる触媒物質と接触させ
ることを特徴とする前記方法。 - 【請求項２】 ４００−７００℃での高温ガスの滞留時
間が２−５秒であることを特徴とする請求項１に記載の
方法。 - 【請求項３】 第一の循環流動床反応槽内の触媒物質が
少なくとも一部として金属酸化物を含むことを特徴とす
る請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 触媒物質が酸化亜鉛、酸化鉛、酸化銅、
酸化ニッケル、酸化アルミニュウム、又は酸化ケイ素の
うちの一つであることを特徴とする請求項１に記載の方
法。 - 【請求項５】 触媒物質が酸化亜鉛又は酸化亜鉛と酸化
鉛の混合物であることを特徴とする請求項４に記載の方
法。 - 【請求項６】 第一の循環流動床反応槽の混合室内で、
高温ガスが４００−７００℃にまで冷却されることを特
徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 第二の循環流動床反応槽内での冷却速度
が５００℃／秒以上となるように制御されることを特徴
とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項８】 第一の流動床反応槽内の触媒物質の少な
くとも一部が金属塩であることを特徴とする請求項１に
従った方法。 - 【請求項９】 第１の流動床反応槽内の触媒物質の少な
くとも一部が金属粉末であることを特徴とする請求項１
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| FI913776A FI88364C (fi) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | Foerfarande foer behandling av halogenfoereningar innehaollande process- eller roekgaser |
| FI913776 | 1991-08-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05220391A JPH05220391A (ja) | 1993-08-31 |
| JPH0763588B2 true JPH0763588B2 (ja) | 1995-07-12 |
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ID=8532968
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP4211729A Expired - Lifetime JPH0763588B2 (ja) | 1991-08-09 | 1992-08-07 | ハロゲン化合物を含有するプロセス又は排煙ガスの処理方法 |
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| JP (1) | JPH0763588B2 (ja) |
| AT (1) | ATE134160T1 (ja) |
| DE (1) | DE69208302T2 (ja) |
| FI (1) | FI88364C (ja) |
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| KR20130083687A (ko) * | 2012-01-13 | 2013-07-23 | 한국에너지기술연구원 | 고온고압 오염가스 정제시스템 |
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| US4485081A (en) * | 1983-02-28 | 1984-11-27 | The B. F. Goodrich Company | Hydrogen chloride recovery process |
| FI79403C (fi) * | 1984-06-01 | 1989-12-11 | Ahlstroem Oy | Foerbraenningsmetod. |
| DE3447066A1 (de) * | 1984-12-22 | 1986-07-03 | Bergwerksverband Gmbh | Verfahren zur katalytischen entfernung von chlorkohlenwasserstoffen aus deponiegasen |
| DE3447337C2 (de) * | 1984-12-24 | 1986-11-06 | Nukem Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur chemisch-thermischen Zersetzung von höher halogenierten Kohlenwasserstoffen |
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| DE3615027A1 (de) * | 1986-05-02 | 1987-11-05 | Dietrich Dipl Ing Dr Radke | Verfahren zur zerstoerung organischer halogenverbindungen insbesondere von chlorierten biphenylen, polychlorierten dioxinen und polychlorierten furanen |
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| KR950007317B1 (ko) * | 1989-05-01 | 1995-07-10 | 알라이드-시그날 인코포레이티드 | 유기할로겐 화합물들의 촉매 분해방법 및 그에 사용되는 촉매 |
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| DK0405375T3 (da) * | 1989-06-29 | 1994-02-28 | Abb Management Ag | Fremgangsmåde ved forbrænding af heterogen brændsel |
-
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- 1991-08-09 FI FI913776A patent/FI88364C/fi active
-
1992
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- 1992-07-03 AT AT92111311T patent/ATE134160T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-07-03 EP EP92111311A patent/EP0529243B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-20 US US07/915,579 patent/US5380507A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-08-07 JP JP4211729A patent/JPH0763588B2/ja not_active Expired - Lifetime
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