JPH076421A - Magneto-optical recording medium - Google Patents
Magneto-optical recording mediumInfo
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- JPH076421A JPH076421A JP16754993A JP16754993A JPH076421A JP H076421 A JPH076421 A JP H076421A JP 16754993 A JP16754993 A JP 16754993A JP 16754993 A JP16754993 A JP 16754993A JP H076421 A JPH076421 A JP H076421A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体に係
り、とくに耐久性を考慮した光磁気記録媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium, and more particularly to a magneto-optical recording medium considering durability.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光メモリー素子の中で、追加記録および
消去が可能な媒体（光磁気記録媒体，相変化記録媒体）
は、既に一部の技術が実用化されている段階にある。こ
の光記録媒として、レーザー光線照射時の記録再生効率
を向上させるために、基板上の光記録層上にＡl 合金層
をヒートシンク層或いは反射層として設ける方式も提案
されている。2. Description of the Related Art Among optical memory devices, a medium capable of additional recording and erasing (magneto-optical recording medium, phase change recording medium)
Is in the stage where some technologies have already been put to practical use. As this optical recording medium, there has been proposed a system in which an Al alloy layer is provided as a heat sink layer or a reflective layer on the optical recording layer on the substrate in order to improve the recording / reproducing efficiency upon irradiation with a laser beam.
【０００３】一方、Ａl 合金を使用した場合には、高温
高湿度環境での長期保存性が充分ではない。即ち、Ａl
合金膜は表面に自然酸化膜を作るために、全体腐食に対
しては強固な特性を示すが、一度ピンホールが生成する
と、腐食電流の集中が起こりピンホールの拡大をもたら
すことになる。この反応は、特に水分の存在下において
顕著である。これを防ぐ手段として、例えば特開平１−
２１３８４９号公報記載のものが提案されている。On the other hand, when an Al alloy is used, the long-term storability in a high temperature and high humidity environment is not sufficient. That is, Al
Since the alloy film forms a natural oxide film on the surface, it exhibits strong characteristics against general corrosion, but once pinholes are generated, the corrosion current is concentrated and the pinholes expand. This reaction is remarkable especially in the presence of water. As means for preventing this, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-
The one described in Japanese Patent No. 213849 has been proposed.
【０００４】この特開平１−２１３８４９号公報記載の
ものは、図２に示すように、基板１１の上に、金属酸化
物からなる干渉膜２２，希土類金属と遷移金属の合金か
らなる光磁気記録膜２３，記録層に接して設けられたＡ
ｌ合金膜１５があり、その上に金属酸化物からなる保護
膜２４が設けられたものとなっている。As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 1-213849, as shown in FIG. 2, an interference film 22 made of a metal oxide and a magneto-optical recording made of an alloy of a rare earth metal and a transition metal are formed on a substrate 11. A provided in contact with the film 23 and the recording layer
There is a 1-alloy film 15, and a protective film 24 made of a metal oxide is provided thereon.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来例における光磁気記録媒体は、Ａｌ合金膜１５が
変質する場合があり、これによって媒体反射率の変動
や、Ａｌ合金膜１５の腐食反応が促進される事態が生
じ、長期保存にそぐわないという不都合があった。However, in the magneto-optical recording medium in the above-mentioned conventional example, the Al alloy film 15 may be deteriorated, which causes variations in the medium reflectance and corrosion reaction of the Al alloy film 15. There was the inconvenience that the situation was promoted and it was not suitable for long-term storage.
【０００６】[0006]
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに耐久性良好な光磁気記録媒体を提供す
ることを、その目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium having improved durability and particularly excellent durability.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明では、基板上に、
第１のＳi Ｎ膜，光磁気記録，第２のＳi Ｎ膜，Ａｌ合
金膜および第３のＳi Ｎ膜を順次積層する、等の構成を
採っている。これによって前述した目的を達成しようと
するものである。According to the present invention, on a substrate,
The first Si 3 N 4 film, the magneto-optical recording, the second Si 3 N 4 film, the Al alloy film, and the third Si 3 N 4 film are sequentially laminated. This aims to achieve the above-mentioned object.
【０００８】[0008]
【作 用】本願発明にかかる光磁気記録媒体を、ＵＶオ
ーバーコートしたのち、７０〔℃〕，８５〔％〕の高温
高湿環境下で１０００時間保持させる耐候性試験を行っ
たところ、ＡｌＴｉ膜に腐食はなく、記録再生特性も良
好であった。比較のため、第３のＳｉＮ膜の代わりに、
酸化タンタル保護膜を用いた従来の光磁気記録媒体でも
同様の試験を行ったところ、ＡｌＴｉ膜に腐食が見られ
ると共に、媒体反射率の変動が見られるものもあった。[Operation] The magneto-optical recording medium according to the present invention was UV-overcoated and then subjected to a weather resistance test in which it was kept in a high temperature and high humidity environment of 70 [° C.] and 85 [%] for 1000 hours. There was no corrosion and the recording and reproducing characteristics were good. For comparison, instead of the third SiN film,
When the same test was performed on the conventional magneto-optical recording medium using the tantalum oxide protective film, the AlTi film was found to be corroded and the reflectance of the medium was sometimes changed.
【０００９】[0009]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて説
明する。この図１において、符号１１は基板を示し、符
号１２は第１のＳｉＮ膜を示し、符号１３は光磁気記録
膜を示す。また、符号１４は第２のＳｉＮ膜を、符号１
５はＡｌ合金膜を、符号１６は第３のＳｉＮ膜を各々示
す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 1, reference numeral 11 represents a substrate, reference numeral 12 represents a first SiN film, and reference numeral 13 represents a magneto-optical recording film. Further, reference numeral 14 is a second SiN film, and reference numeral 1
Reference numeral 5 represents an Al alloy film, and reference numeral 16 represents a third SiN film.
【００１０】ここで、従来より問題視されていたＡｌ合
金膜の変質は、本願発明者が鋭意調査した結果、保護膜
として用いられている金属酸化物中の酸素の影響である
ことをつきとめるに至ったHere, as a result of a diligent investigation by the inventors of the present application, the alteration of the Al alloy film, which has been regarded as a problem in the past, is due to the effect of oxygen in the metal oxide used as the protective film. Arrived
【００１１】即ち、本実施例では、金属酸化物の保護膜
の代わりに、緻密なＳｉＮ膜を用いることによって、良
好な記録再生特性を阻害することなく、劣悪環境長期保
存後の変質を防止することを可能としたものである。That is, in this embodiment, a dense SiN film is used in place of the metal oxide protective film to prevent deterioration after storage in a bad environment for a long time without impairing good recording and reproducing characteristics. It made it possible.
【００１２】以下、これを更に詳述する。This will be described in more detail below.
【００１３】本発明に用いる基板１１としては、アクリ
ル樹脂，ポリカーボネート樹脂等のプラスチック，ガラ
ス，ガラス上に溝つき樹脂を形成した基板等が使用され
ている。ガラス上に溝を形成する場合に用いる樹脂とし
ては、紫外線硬化樹脂が用いられている。As the substrate 11 used in the present invention, a plastic such as an acrylic resin or a polycarbonate resin, glass, a substrate having a grooved resin formed on glass, or the like is used. An ultraviolet curable resin is used as the resin used when forming the groove on the glass.
【００１４】光磁気記録層１３としては、ＴｂＦｅ，Ｔ
ｂＣｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＦｅＣｏ，ＤｙＦｅＣｏ，
ＮｄＦｅＣｏ，ＰｔＣｏ，ＭｎＢｉ，ＭｎＣｕＢｉが用
いられている。又、それらには、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｎ
ｉ，Ｐｔ，Ｎｂを小量添加しても良い。光磁気記録層と
しては、単一の層を用いても良いし、ＧｄＦｅＣｏ／Ｔ
ｂＦｅのように、二層以上の記録層を重ねても良い。光
磁気記録層の膜厚は、１００〜１０００〔 〕に設定さ
れている。As the magneto-optical recording layer 13, TbFe, T
bCo, TbFeCo, GdFeCo, DyFeCo,
NdFeCo, PtCo, MnBi, MnCuBi are used. In addition, they include Ti, Cr, Ta, N
You may add a small amount of i, Pt, and Nb. As the magneto-optical recording layer, a single layer may be used, or GdFeCo / T
Two or more recording layers may be stacked, such as bFe. The film thickness of the magneto-optical recording layer is set to 100 to 1000 [].
【００１５】本実施例の磁気記録媒体は、第３のＳｉＮ
膜１６の上に、ＵＶオーバーコートが施されている。こ
の磁気記録媒体は、同じものを２枚或いはカバー基板と
貼り合わせたものであってもよい。The magnetic recording medium of this embodiment is the third SiN.
A UV overcoat is applied on the film 16. This magnetic recording medium may be the same two or may be bonded to a cover substrate.
【００１６】次に、本実施例の具体的製法を説明する。Next, a specific manufacturing method of this embodiment will be described.
【００１７】まず、２ｐ１ガラス基板をスパッタ装置内
に装着し、３×１０-7Ｔｏｒｒ以下に真空排気後、アル
ゴンガスを導入して、基板をおよそ１０ 程度スパッタ
エッチングし、引き続きアルゴンと窒素との混合ガスを
導入して２×１０-3Ｔｏｒｒとし、純度５Ｎのシリコン
ターゲットを反応性スパッタリングをすることにより、
８００〔 〕厚の第１のＳｉＮ膜を形成する。First, a 2p1 glass substrate was mounted in a sputtering apparatus, and after evacuation to 3 × 10 -7 Torr or less, an argon gas was introduced to sputter-etch the substrate for about 10 minutes, followed by argon and nitrogen. By introducing a mixed gas to 2 × 10 −3 Torr and reactively sputtering a silicon target having a purity of 5N,
A first SiN film having a thickness of 800 [] is formed.
【００１８】次に、アルゴンガスを導入して、ＴｂＦｅ
ＣｏＴｉターゲットをスパッタリングすることにより、
２５０〔 〕厚のＴｂＦｅＣｏＴｉの光磁気記録膜を形
成する。Next, by introducing argon gas, TbFe
By sputtering a CoTi target,
A magneto-optical recording film of TbFeCoTi having a thickness of 250 [] is formed.
【００１９】１次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して４×１０-3Ｔｏｒｒとし、純度５Ｎのシリコンター
ゲットを反応性スパッタリングする事により６００
〔 〕厚の第２のＳｉＮ膜を形成した。First, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced to obtain 4 × 10 -3 Torr, and a silicon target having a purity of 5N was reactively sputtered to 600.
[] A second SiN film having a large thickness was formed.
【００２０】更に、アルゴンガスを導入して、ＡｌＴｉ
ターゲットをスパッタリングする事により、２００
〔 〕厚のＡｌＴｉ膜を形成した。Further, by introducing argon gas, AlTi
200 by sputtering the target
[] A thick AlTi film was formed.
【００２１】最後に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して１．５×１０-3Ｔｏｒｒとし、純度５Ｎのシリコン
ターゲットを反応性スパッタリングする事により、２０
０〔〕厚の第３のＳｉＮ膜を形成した。この際に、第３
のＳｉＮ膜のバリヤー性を高めるために、低スパッタガ
ス圧を用いると更に耐候性上効果があることが判明し、
実験的にも確認することができた。Finally, by introducing a mixed gas of argon and nitrogen to 1.5 × 10 -3 Torr and reactively sputtering a silicon target having a purity of 5N,
A third SiN film having a thickness of 0 [] was formed. At this time, the third
It has been found that the use of a low sputtering gas pressure in order to improve the barrier property of the SiN film has a further effect on weather resistance,
It could be confirmed experimentally.
【００２２】次に、第３のＳｉＮ膜の上にＵＶオーバー
コートを塗布した。このようにして作製した光磁気記録
媒体の記録再生特性は、Ｃ／Ｎが４７〔ｄＢ〕であり良
好であった。Next, a UV overcoat was applied on the third SiN film. The recording / reproducing characteristics of the magneto-optical recording medium manufactured in this manner were C / N of 47 [dB], which was good.
【００２３】この光磁気記録媒体を、７０〔℃〕，８５
〔％〕の高温高湿環境下で１０００時間保持させる耐候
性試験を行ったところ、ＡｌＴｉ膜に腐食はなく、記録
再生特性も良好であった。比較のため、第３のＳｉＮ膜
の代わりに、酸化タンタル保護膜を用いた従来の光磁気
記録媒体でも同様の試験を行ったところ、ＡｌＴｉ膜に
腐食が見られると共に、媒体反射率の変動が見られるも
のもあった。This magneto-optical recording medium was tested at 70 [° C.], 85
When a weather resistance test was carried out for 1000 hours in a high temperature and high humidity environment of [%], the AlTi film was not corroded and the recording / reproducing characteristics were also good. For comparison, a similar test was conducted on a conventional magneto-optical recording medium using a tantalum oxide protective film instead of the third SiN film. As a result, the AlTi film was corroded and the medium reflectance varied. Some were seen.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、基
板上に、第１のＳｉＮ膜，光磁気記録膜，第２のＳｉＮ
膜，Ａｌ合金膜，第３のＳｉＮ膜を順次積層することに
より、良好な記録再生特性を示し、かつ、劣悪環境に長
期保存しても変質しないという従来にない優れた光磁気
記録媒体うぃ提供することができる。As described above, according to the present invention, the first SiN film, the magneto-optical recording film and the second SiN film are formed on the substrate.
By providing a film, an Al alloy film, and a third SiN film in this order, good recording / reproducing characteristics are exhibited, and an unprecedented excellent magneto-optical recording medium that does not deteriorate even when stored in a bad environment for a long time is provided. can do.
【図１】本発明の一実施例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the present invention.
【図２】従来の光記録媒体を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a conventional optical recording medium.
１１ 基板 １２ 第１のＳｉＮ膜 １３ 光磁気記録膜 １４ 第２のＳｉＮ膜 １５ Ａｌ合金膜 １６ 第３のＳｉＮ膜 11 substrate 12 first SiN film 13 magneto-optical recording film 14 second SiN film 15 Al alloy film 16 third SiN film
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成５年８月４日[Submission date] August 4, 1993
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】発明の詳細な説明[Name of item to be amended] Detailed explanation of the invention
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体に係
り、とくに耐久性を考慮した光磁気記録媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium, and more particularly to a magneto-optical recording medium considering durability.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光メモリー素子の中で、追加記録および
消去が可能な媒体（光磁気記録媒体，相変化記録媒体）
は、既に一部の技術が実用化されている段階にある。こ
の光記録媒として、レーザー光線照射時の記録再生効率
を向上させるために、基板上の光記録層上にＡl 合金層
をヒートシンク層或いは反射層として設ける方式も提案
されている。2. Description of the Related Art Among optical memory devices, a medium capable of additional recording and erasing (magneto-optical recording medium, phase change recording medium)
Is in the stage where some technologies have already been put to practical use. As this optical recording medium, there has been proposed a system in which an Al alloy layer is provided as a heat sink layer or a reflective layer on the optical recording layer on the substrate in order to improve the recording / reproducing efficiency upon irradiation with a laser beam.
【０００３】一方、Ａl 合金を使用した場合には、高温
高湿度環境での長期保存性が充分ではない。即ち、Ａl
合金膜は表面に自然酸化膜を作るために、全体腐食に対
しては強固な特性を示すが、一度ピンホールが生成する
と、腐食電流の集中が起こりピンホールの拡大をもたら
すことになる。この反応は、特に水分の存在下において
顕著である。これを防ぐ手段として、例えば特開平１−
２１３８４９号公報記載のものが提案されている。On the other hand, when an Al alloy is used, the long-term storability in a high temperature and high humidity environment is not sufficient. That is, Al
Since the alloy film forms a natural oxide film on the surface, it exhibits strong characteristics against general corrosion, but once pinholes are generated, the corrosion current is concentrated and the pinholes expand. This reaction is remarkable especially in the presence of water. As means for preventing this, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-
The one described in Japanese Patent No. 213849 has been proposed.
【０００４】この特開平１−２１３８４９号公報記載の
ものは、図２に示すように、基板１１の上に、金属酸化
物からなる干渉膜２２，希土類金属と遷移金属の合金か
らなる光磁気記録膜２３，記録層に接して設けられたＡ
ｌ合金膜１５があり、その上に金属酸化物からなる保護
膜２４が設けられたものとなっている。As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 1-213849, as shown in FIG. 2, an interference film 22 made of a metal oxide and a magneto-optical recording made of an alloy of a rare earth metal and a transition metal are formed on a substrate 11. A provided in contact with the film 23 and the recording layer
There is a 1-alloy film 15, and a protective film 24 made of a metal oxide is provided thereon.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来例における光磁気記録媒体は、Ａｌ合金膜１５が
変質する場合があり、これによって媒体反射率の変動
や、Ａｌ合金膜１５の腐食反応が促進される事態が生
じ、長期保存にそぐわないという不都合があった。However, in the magneto-optical recording medium in the above-mentioned conventional example, the Al alloy film 15 may be deteriorated, which causes variations in the medium reflectance and corrosion reaction of the Al alloy film 15. There was the inconvenience that the situation was promoted and it was not suitable for long-term storage.
【０００６】[0006]
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに耐久性良好な光磁気記録媒体を提供す
ることを、その目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium having improved durability and particularly excellent durability.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明では、基板上に、
第１のＳi Ｎ膜，光磁気記録，第２のＳi Ｎ膜，Ａｌ合
金膜および第３のＳi Ｎ膜を順次積層する、等の構成を
採っている。これによって前述した目的を達成しようと
するものである。According to the present invention, on a substrate,
The first Si 3 N 4 film, the magneto-optical recording, the second Si 3 N 4 film, the Al alloy film, and the third Si 3 N 4 film are sequentially laminated. This aims to achieve the above-mentioned object.
【０００８】[0008]
【作 用】本願発明にかかる光磁気記録媒体を、ＵＶオ
ーバーコートしたのち、７０〔℃〕，８５〔％〕の高温
高湿環境下で１０００時間保持させる耐候性試験を行っ
たところ、ＡｌＴｉ膜に腐食はなく、記録再生特性も良
好であった。比較のため、第３のＳｉＮ膜の代わりに、
酸化タンタル保護膜を用いた従来の光磁気記録媒体でも
同様の試験を行ったところ、ＡｌＴｉ膜に腐食が見られ
ると共に、媒体反射率の変動が見られるものもあった。[Operation] The magneto-optical recording medium according to the present invention was UV-overcoated and then subjected to a weather resistance test in which it was kept in a high temperature and high humidity environment of 70 [° C.] and 85 [%] for 1000 hours. There was no corrosion and the recording and reproducing characteristics were good. For comparison, instead of the third SiN film,
When the same test was performed on the conventional magneto-optical recording medium using the tantalum oxide protective film, the AlTi film was found to be corroded and the reflectance of the medium was sometimes changed.
【０００９】[0009]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて説
明する。この図１において、符号１１は基板を示し、符
号１２は第１のＳｉＮ膜を示し、符号１３は光磁気記録
膜を示す。また、符号１４は第２のＳｉＮ膜を、符号１
５はＡｌ合金膜を、符号１６は第３のＳｉＮ膜を各々示
す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 1, reference numeral 11 represents a substrate, reference numeral 12 represents a first SiN film, and reference numeral 13 represents a magneto-optical recording film. Further, reference numeral 14 is a second SiN film, and reference numeral 1
Reference numeral 5 represents an Al alloy film, and reference numeral 16 represents a third SiN film.
【００１０】ここで、従来より問題視されていたＡｌ合
金膜の変質は、本願発明者が鋭意調査した結果、保護膜
として用いられている金属酸化物中の酸素の影響である
ことをつきとめるに至ったHere, as a result of a diligent investigation by the inventors of the present application, the alteration of the Al alloy film, which has been regarded as a problem in the past, is due to the effect of oxygen in the metal oxide used as the protective film. Arrived
【００１１】即ち、本実施例では、金属酸化物の保護膜
の代わりに、緻密なＳｉＮ膜を用いることによって、良
好な記録再生特性を阻害することなく、劣悪環境長期保
存後の変質を防止することを可能としたものである。That is, in this embodiment, a dense SiN film is used in place of the metal oxide protective film to prevent deterioration after storage in a bad environment for a long time without impairing good recording and reproducing characteristics. It made it possible.
【００１２】以下、これを更に詳述する。This will be described in more detail below.
【００１３】本発明に用いる基板１１としては、アクリ
ル樹脂，ポリカーボネート樹脂等のプラスチック，ガラ
ス，ガラス上に溝つき樹脂を形成した基板等が使用され
ている。ガラス上に溝を形成する場合に用いる樹脂とし
ては、紫外線硬化樹脂が用いられている。As the substrate 11 used in the present invention, a plastic such as an acrylic resin or a polycarbonate resin, glass, a substrate having a grooved resin formed on glass, or the like is used. An ultraviolet curable resin is used as the resin used when forming the groove on the glass.
【００１４】光磁気記録層１３としては、ＴｂＦｅ，Ｔ
ｂＣｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＦｅＣｏ，ＤｙＦｅＣｏ，
ＮｄＦｅＣｏ，ＰｔＣｏ，ＭｎＢｉ，ＭｎＣｕＢｉが用
いられている。又、それらには、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｎ
ｉ，Ｐｔ，Ｎｂを小量添加しても良い。光磁気記録層と
しては、単一の層を用いても良いし、ＧｄＦｅＣｏ／Ｔ
ｂＦｅのように、二層以上の記録層を重ねても良い。光
磁気記録層の膜厚は、１００〜１０００〔オングストロ
ーム〕に設定されている。As the magneto-optical recording layer 13, TbFe, T
bCo, TbFeCo, GdFeCo, DyFeCo,
NdFeCo, PtCo, MnBi, MnCuBi are used. In addition, they include Ti, Cr, Ta, N
You may add a small amount of i, Pt, and Nb. As the magneto-optical recording layer, a single layer may be used, or GdFeCo / T
Two or more recording layers may be stacked, such as bFe. The thickness of the magneto-optical recording layer is 100 to 1000 [angstrom
It is set to [home ] .
【００１５】本実施例の磁気記録媒体は、第３のＳｉＮ
膜１６の上に、ＵＶオーバーコートが施されている。こ
の磁気記録媒体は、同じものを２枚或いはカバー基板と
貼り合わせたものであってもよい。The magnetic recording medium of this embodiment is the third SiN.
A UV overcoat is applied on the film 16. This magnetic recording medium may be the same two or may be bonded to a cover substrate.
【００１６】次に、本実施例の具体的製法を説明する。Next, a specific manufacturing method of this embodiment will be described.
【００１７】まず、２ｐ１ガラス基板をスパッタ装置内
に装着し、３×１０-7Ｔｏｒｒ以下に真空排気後、アル
ゴンガスを導入して、基板をおよそ１０ 程度スパッタ
エッチングし、引き続きアルゴンと窒素との混合ガスを
導入して２×１０-3Ｔｏｒｒとし、純度５Ｎのシリコン
ターゲットを反応性スパッタリングをすることにより、
８００〔オングストローム〕厚の第１のＳｉＮ膜を形成
する。First, a 2p1 glass substrate was mounted in a sputtering apparatus, and after evacuation to 3 × 10 -7 Torr or less, an argon gas was introduced to sputter-etch the substrate for about 10 minutes, followed by argon and nitrogen. By introducing a mixed gas to 2 × 10 −3 Torr and reactively sputtering a silicon target having a purity of 5N,
A first SiN film having a thickness of 800 [angstrom] is formed.
【００１８】次に、アルゴンガスを導入して、ＴｂＦｅ
ＣｏＴｉターゲットをスパッタリングすることにより、
２５０〔オングストローム〕厚のＴｂＦｅＣｏＴｉの光
磁気記録膜を形成する。Next, by introducing argon gas, TbFe
By sputtering a CoTi target,
A magneto-optical recording film of TbFeCoTi having a thickness of 250 [angstrom] is formed.
【００１９】１次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して４×１０-3Ｔｏｒｒとし、純度５Ｎのシリコンター
ゲットを反応性スパッタリングする事により６００〔オ
ングストローム〕厚の第２のＳｉＮ膜を形成した。First, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced to obtain 4 × 10 -3 Torr, and a silicon target having a purity of 5N was reactively sputtered to 600 [O].
Ngstrom] thick second SiN film was formed.
【００２０】更に、アルゴンガスを導入して、ＡｌＴｉ
ターゲットをスパッタリングする事により、２００〔オ
ングストローム〕厚のＡｌＴｉ膜を形成した。Further, by introducing argon gas, AlTi
By sputtering the target, 200 [O
Ngstrom] thick AlTi film was formed.
【００２１】最後に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して１．５×１０-3Ｔｏｒｒとし、純度５Ｎのシリコン
ターゲットを反応性スパッタリングする事により、２０
０〔オングストローム〕厚の第３のＳｉＮ膜を形成し
た。この際に、第３のＳｉＮ膜のバリヤー性を高めるた
めに、低スパッタガス圧を用いると更に耐候性上効果が
あることが判明し、実験的にも確認することができた。Finally, by introducing a mixed gas of argon and nitrogen to 1.5 × 10 -3 Torr and reactively sputtering a silicon target having a purity of 5N,
A third SiN film having a thickness of 0 [angstrom] was formed. At this time, it was found that the use of a low sputtering gas pressure in order to enhance the barrier property of the third SiN film was more effective in terms of weather resistance, and it could be confirmed experimentally.
【００２２】次に、第３のＳｉＮ膜の上にＵＶオーバー
コートを塗布した。このようにして作製した光磁気記録
媒体の記録再生特性は、Ｃ／Ｎが４７〔ｄＢ〕であり良
好であった。Next, a UV overcoat was applied on the third SiN film. The recording / reproducing characteristics of the magneto-optical recording medium manufactured in this manner were C / N of 47 [dB], which was good.
【００２３】この光磁気記録媒体を、７０〔℃〕，８５
〔％〕の高温高湿環境下で１０００時間保持させる耐候
性試験を行ったところ、ＡｌＴｉ膜に腐食はなく、記録
再生特性も良好であった。比較のため、第３のＳｉＮ膜
の代わりに、酸化タンタル保護膜を用いた従来の光磁気
記録媒体でも同様の試験を行ったところ、ＡｌＴｉ膜に
腐食が見られると共に、媒体反射率の変動が見られるも
のもあった。This magneto-optical recording medium was tested at 70 [° C.], 85
When a weather resistance test was carried out for 1000 hours in a high temperature and high humidity environment of [%], the AlTi film was not corroded and the recording / reproducing characteristics were also good. For comparison, a similar test was conducted on a conventional magneto-optical recording medium using a tantalum oxide protective film instead of the third SiN film. As a result, the AlTi film was corroded and the medium reflectance varied. Some were seen.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、基
板上に、第１のＳｉＮ膜，光磁気記録膜，第２のＳｉＮ
膜，Ａｌ合金膜，第３のＳｉＮ膜を順次積層することに
より、良好な記録再生特性を示し、かつ、劣悪環境に長
期保存しても変質しないという従来にない優れた光磁気
記録媒体を提供することができる。As described above, according to the present invention, the first SiN film, the magneto-optical recording film and the second SiN film are formed on the substrate.
By stacking a film, an Al alloy film, and a third SiN film in this order, good recording / reproducing characteristics are exhibited, and the excellent magneto-optical property which does not change even after long-term storage in a bad environment is exhibited.
A recording medium can be provided .
Claims (3)
録，第２のＳi Ｎ膜，Ａｌ合金膜および第３のＳi Ｎ膜
が順次積層されていることを特徴とした光磁気記録媒
体。1. A magneto-optical device characterized in that a first Si N film, a magneto-optical recording, a second Si N film, an Al alloy film and a third Si N film are sequentially laminated on a substrate. recoding media.
オーバーコートが塗布されていることを特徴とした請求
項１記載の光磁気記録媒体。2. The third Si 3 N 4 film has UV on it.
The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein an overcoat is applied.
ング法が用いれると共に、前記第３のＳi Ｎ膜の形成に
際しては低スパッタガス圧が用いられていることを特徴
とした請求項１又は２記載の光磁気記録媒体。3. A sputtering method is used for forming each of the film thicknesses, and a low sputtering gas pressure is used for forming the third Si 3 N 4 film. The magneto-optical recording medium described.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16754993A JPH076421A (en) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Magneto-optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16754993A JPH076421A (en) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Magneto-optical recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076421A true JPH076421A (en) | 1995-01-10 |
Family
ID=15851781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16754993A Pending JPH076421A (en) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Magneto-optical recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076421A (en) |
Citations (6)
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-
1993
- 1993-06-14 JP JP16754993A patent/JPH076421A/en active Pending
Patent Citations (6)
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