JPH0765159B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH0765159B2 JPH0765159B2 JP63090858A JP9085888A JPH0765159B2 JP H0765159 B2 JPH0765159 B2 JP H0765159B2 JP 63090858 A JP63090858 A JP 63090858A JP 9085888 A JP9085888 A JP 9085888A JP H0765159 B2 JPH0765159 B2 JP H0765159B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mounting
- film
- evaporation source
- forming thin
- adjacent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 35
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 35
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は真空蒸着装置に係り、特に光学式ビデオディス
クや光学式オーディオディスク等の光ディスクの素材に
Al等の薄膜を成膜するのに好適な真空蒸着装置に関す
る。
クや光学式オーディオディスク等の光ディスクの素材に
Al等の薄膜を成膜するのに好適な真空蒸着装置に関す
る。
［従来の技術］ 第５図は従来の光ディスク用真空蒸着装置を示したもの
で、真空チャンバ１内の固定円板２には一対の棒状蒸着
電極３、４が固設され、これらの蒸発電極３、４の間に
は所定間隔毎にアルミニウム蒸発源５が接続取付けされ
ている。蒸発電極３、４を取囲むリング状の回転テーブ
ル６はコロ７を介して回転可能な固定円板２に支持さ
れ、この回転テーブル６には複数本のホルダ軸８が回転
可能に支持されている。これらのホルダ軸８にはホルダ
板９が固着され、これらのホルダ板９の両面にはプラス
チック製の光ディスク素材10が複数枚取付けられてい
る。回転テーブル６を貫通したホルダ軸８の下端には自
転ギヤ11が取付けられ、これらの自転ギヤ11は円板２の
外歯と係合し、また回転テーブル６の外歯はモータ12に
連結された駆動ギヤ13に係合している。
で、真空チャンバ１内の固定円板２には一対の棒状蒸着
電極３、４が固設され、これらの蒸発電極３、４の間に
は所定間隔毎にアルミニウム蒸発源５が接続取付けされ
ている。蒸発電極３、４を取囲むリング状の回転テーブ
ル６はコロ７を介して回転可能な固定円板２に支持さ
れ、この回転テーブル６には複数本のホルダ軸８が回転
可能に支持されている。これらのホルダ軸８にはホルダ
板９が固着され、これらのホルダ板９の両面にはプラス
チック製の光ディスク素材10が複数枚取付けられてい
る。回転テーブル６を貫通したホルダ軸８の下端には自
転ギヤ11が取付けられ、これらの自転ギヤ11は円板２の
外歯と係合し、また回転テーブル６の外歯はモータ12に
連結された駆動ギヤ13に係合している。
モータ12の駆動より駆動ギヤ13を介して回転テーブル６
が回転されると、自転ギヤ11も円板２の回りを回りなが
ら自転する。こうしてホルダ板９上の光ディスク素材10
は第６図に示されたように蒸発電極３、４を回りを公転
しながら自転する。この状態で、通電加熱された蒸発源
５からのアルミ蒸気は自転公転されている光ディスク素
材10にムラなく均一に蒸着される。
が回転されると、自転ギヤ11も円板２の回りを回りなが
ら自転する。こうしてホルダ板９上の光ディスク素材10
は第６図に示されたように蒸発電極３、４を回りを公転
しながら自転する。この状態で、通電加熱された蒸発源
５からのアルミ蒸気は自転公転されている光ディスク素
材10にムラなく均一に蒸着される。
［発明が解決しようとする課題］ ところが、上述の光ディスク用真空蒸着装置は、光ディ
スク素材10をホルダ板９上に取付ける構成であるために
一度に蒸着することができる枚数が少なく（例えば直径
300mmのディスクの場合76枚）、効率がよくないという
問題があった。
スク素材10をホルダ板９上に取付ける構成であるために
一度に蒸着することができる枚数が少なく（例えば直径
300mmのディスクの場合76枚）、効率がよくないという
問題があった。
そこで、本発明の目的は一度に大量の被成膜薄板を蒸着
処理することのできる真空蒸着装置を提供することにあ
る。
処理することのできる真空蒸着装置を提供することにあ
る。
［課題を解決するための手段］ この目的を達成するために、本発明は、互いに離間した
一対の棒状電極からなり複数の蒸発源を取付ける蒸発源
取付体と；この蒸発源取付体とほぼ平行に延び、この蒸
発源取付体の回りを公転しかつ自転する複数の取付軸
と；これらの取付軸の各々にその軸方向に沿って所定間
隔において軸線に対して直角に保持された多数の被成膜
薄板とを具備することを特徴とするものである。
一対の棒状電極からなり複数の蒸発源を取付ける蒸発源
取付体と；この蒸発源取付体とほぼ平行に延び、この蒸
発源取付体の回りを公転しかつ自転する複数の取付軸
と；これらの取付軸の各々にその軸方向に沿って所定間
隔において軸線に対して直角に保持された多数の被成膜
薄板とを具備することを特徴とするものである。
［作 用］ 取付軸に互いに離間して取付けられた各被成膜薄板は、
蒸発源取付体の回りを公転しかつ自転しながら蒸着され
る。蒸発源からの蒸気は、各被成膜薄板の間の間隙を通
って被成膜薄板の表面に達するので、ムラなく均一に付
着することができる。
蒸発源取付体の回りを公転しかつ自転しながら蒸着され
る。蒸発源からの蒸気は、各被成膜薄板の間の間隙を通
って被成膜薄板の表面に達するので、ムラなく均一に付
着することができる。
被成膜薄板は保持部によって取付軸に対して直角に取付
けられるので、一度に多数枚の被成膜薄板に蒸着するこ
とができる。
けられるので、一度に多数枚の被成膜薄板に蒸着するこ
とができる。
蒸発源の取付ピッチが各被成膜薄板の間隔とほぼ同等が
それ以下であると、蒸着を一層均一に行うことができ
る。
それ以下であると、蒸着を一層均一に行うことができ
る。
保持部により二枚の被成膜薄板を互いに重ね合せた状態
で保持すると、取付軸への被成膜薄板の取付け枚数を大
幅に増大することができる。
で保持すると、取付軸への被成膜薄板の取付け枚数を大
幅に増大することができる。
同様に、隣接する取付軸の被成膜薄板が互い違いに一部
重なり合うようにすることにより、更に多くの被成膜薄
板を一度に蒸着することができる。
重なり合うようにすることにより、更に多くの被成膜薄
板を一度に蒸着することができる。
［実施例］ 以下に本発明による真空蒸着装置の実施例を第５図及び
第６図と同部分には同一符号を付して示した第１図乃至
第４図を参照して説明する。
第６図と同部分には同一符号を付して示した第１図乃至
第４図を参照して説明する。
第１図において、リング状回転テーブル６に回転可能に
支持された複数本の取付軸14は、棒状蒸発電極３、４に
平行に延び、蒸発電極３、４を取囲むようにほぼ等間隔
に配置されている。取付軸14は、下端が回転テーブル６
を貫通し自転ギヤ11に固定されており、モータ12の回転
駆動によって自転しながら電極３、４の回りを公転する 各取付軸14にはその軸方向に沿って多数のプラスチック
製光ディスク素材10が軸方向に垂直に保持されている。
この光ディスク素材10の保持は第２図に詳細に示された
ように裏面同士を重ね合せた２枚の光ディスク素材10を
所定間隔Ｄ毎に保持具15によって取付軸14に固定するこ
とによって行われる。
支持された複数本の取付軸14は、棒状蒸発電極３、４に
平行に延び、蒸発電極３、４を取囲むようにほぼ等間隔
に配置されている。取付軸14は、下端が回転テーブル６
を貫通し自転ギヤ11に固定されており、モータ12の回転
駆動によって自転しながら電極３、４の回りを公転する 各取付軸14にはその軸方向に沿って多数のプラスチック
製光ディスク素材10が軸方向に垂直に保持されている。
この光ディスク素材10の保持は第２図に詳細に示された
ように裏面同士を重ね合せた２枚の光ディスク素材10を
所定間隔Ｄ毎に保持具15によって取付軸14に固定するこ
とによって行われる。
光ディスク素材10の所定間隔Ｄとアルミニウム蒸発源５
のピッチＰとの関係は、光ディスク素材10と蒸発源５と
の距離が依存するが、一般にはピッチＰが所定間隔Ｄの
ほぼ同等がそれ以下となるように定めることが望まし
く、これにより、蒸着の均一性が確保される。その他の
構成は第５図と同一である。
のピッチＰとの関係は、光ディスク素材10と蒸発源５と
の距離が依存するが、一般にはピッチＰが所定間隔Ｄの
ほぼ同等がそれ以下となるように定めることが望まし
く、これにより、蒸着の均一性が確保される。その他の
構成は第５図と同一である。
次にこの実施例の作用を説明する。
モータ12が回転駆動すると、駆動ギヤ13を介してリング
状回転テーブル６が蒸発源５を中心として回転し、これ
によって、固定円板２の外歯と係合している自転ギヤ11
が回転し、光ディスク素材10が自転しながら蒸発源５の
回りを公転する。
状回転テーブル６が蒸発源５を中心として回転し、これ
によって、固定円板２の外歯と係合している自転ギヤ11
が回転し、光ディスク素材10が自転しながら蒸発源５の
回りを公転する。
蒸発源５は、電極３、４への通電により発熱し、第３図
に模式的に示されたように自公転してる光ディスク素材
10の間隔Ｄを通って光ディスク素材10の表面に蒸着しア
ルミニウム膜16（第２図）を形成する。
に模式的に示されたように自公転してる光ディスク素材
10の間隔Ｄを通って光ディスク素材10の表面に蒸着しア
ルミニウム膜16（第２図）を形成する。
このように蒸発材料が光ディスク素材10の間隙Ｄに充分
に入込んで光ディスク素材10の表面に付着するために
は、例えば直径300mmの光ディスク素材の場合に間隔Ｄ
は100mm程度必要である。
に入込んで光ディスク素材10の表面に付着するために
は、例えば直径300mmの光ディスク素材の場合に間隔Ｄ
は100mm程度必要である。
このようにして成膜されたアルミニウム膜16は第５図に
示した従来の真空蒸着装置により成膜されたものと特性
上実質的に同一であった。これは、蒸発源５からの蒸気
が光ディスク素材10の表面に付着する方向が本発明の場
合も従来装置の場合もほぼ同一、即ち共に斜め方向であ
るためである。詳述すると、従来の真空蒸着装置では、
第６図に示されたように光ディスク素材10は位置Ａの時
に一時的に蒸発源５からの蒸気に垂直になるが、それ以
外では位置Ｂのように傾斜している。本発明では第３図
に示されたように光ディスク素材10の表面は常に蒸発源
５からの蒸気に対して傾斜いている。
示した従来の真空蒸着装置により成膜されたものと特性
上実質的に同一であった。これは、蒸発源５からの蒸気
が光ディスク素材10の表面に付着する方向が本発明の場
合も従来装置の場合もほぼ同一、即ち共に斜め方向であ
るためである。詳述すると、従来の真空蒸着装置では、
第６図に示されたように光ディスク素材10は位置Ａの時
に一時的に蒸発源５からの蒸気に垂直になるが、それ以
外では位置Ｂのように傾斜している。本発明では第３図
に示されたように光ディスク素材10の表面は常に蒸発源
５からの蒸気に対して傾斜いている。
以上のように光ディスク素材10を取付軸14に互いに所定
間隔Ｄだけ離間して積重ねることによって、160枚の光
ディスク素材（これは上述した従来の真空蒸着装置での
取付け数76枚の約２倍である。）を一度に取付けること
ができた。
間隔Ｄだけ離間して積重ねることによって、160枚の光
ディスク素材（これは上述した従来の真空蒸着装置での
取付け数76枚の約２倍である。）を一度に取付けること
ができた。
第４図（ａ）及び（ｂ）は、光ディスク素材10の取付枚
数を更に増大するための取付軸14の構成例を示したもの
で、隣接する一対の取付軸14、14の一方に取付けられた
光ディスク素材10と他方に取付けられた光ディスク素材
10とは軸方向に互い違いにらなるように取付けられ、両
隣接取付軸14、14の距離Ｌはその隣接取付軸の一方の光
ディスク素材10と他方の光ディスク素材10とが軸方向に
互いに一部重なり合うように定められている。
数を更に増大するための取付軸14の構成例を示したもの
で、隣接する一対の取付軸14、14の一方に取付けられた
光ディスク素材10と他方に取付けられた光ディスク素材
10とは軸方向に互い違いにらなるように取付けられ、両
隣接取付軸14、14の距離Ｌはその隣接取付軸の一方の光
ディスク素材10と他方の光ディスク素材10とが軸方向に
互いに一部重なり合うように定められている。
以上の実施例では、取付け枚数を増加するために裏面同
士を重ね合せた２枚の光ディスク素材10、10を１組をし
て取付軸14に取付けたが、本発明はこれに限らず１枚ず
つ離間して取付けてもよい。
士を重ね合せた２枚の光ディスク素材10、10を１組をし
て取付軸14に取付けたが、本発明はこれに限らず１枚ず
つ離間して取付けてもよい。
また、上述の例では被成膜薄板として光ディスク素材を
用いたが、その他の薄板を使用することもできる。
用いたが、その他の薄板を使用することもできる。
［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、被成
膜薄板は保持部によって取付軸に対して直角にかつ軸方
向に所定間隔離間して取付けられるので、一度に多数枚
の被成膜薄板にムラなく均一に蒸着することができる。
膜薄板は保持部によって取付軸に対して直角にかつ軸方
向に所定間隔離間して取付けられるので、一度に多数枚
の被成膜薄板にムラなく均一に蒸着することができる。
蒸発源の取付ピッチを各被成膜薄板の間隔とほぼ同等か
それ以下にするならば、蒸着を一層均一に行うことがで
きる。
それ以下にするならば、蒸着を一層均一に行うことがで
きる。
更に、保持部により二枚の被成膜薄板を互いに重ね合せ
た状態で保持するならば、取付軸への被成膜薄板の取付
け枚数を大幅に増大することができる。
た状態で保持するならば、取付軸への被成膜薄板の取付
け枚数を大幅に増大することができる。
同様に、隣接する取付軸の被成膜薄板が互い違いに一部
重なり合うようにするならば、更に多くの被成膜薄板に
一度に蒸着することができる。
重なり合うようにするならば、更に多くの被成膜薄板に
一度に蒸着することができる。
第１図は本発明による真空蒸着装置の実施例を示した断
面図、第２図は第１図の取付軸を詳細に示した拡大図、
第３図は蒸発源からの蒸発材料が光ディスク素材に蒸着
する状態を示した説明図、第４図（ａ）及び（ｂ）は上
記実施例の変形例を示した平面図と正面図、第５図は従
来の真空蒸着装置を示した断面図、第６図は第５図の真
空蒸着装置による蒸着法を示した説明図である。 ３、４……棒状蒸発電極（蒸発源取付体）、５……蒸発
源、10……被成膜薄板、14……取付軸、15……固定部。
面図、第２図は第１図の取付軸を詳細に示した拡大図、
第３図は蒸発源からの蒸発材料が光ディスク素材に蒸着
する状態を示した説明図、第４図（ａ）及び（ｂ）は上
記実施例の変形例を示した平面図と正面図、第５図は従
来の真空蒸着装置を示した断面図、第６図は第５図の真
空蒸着装置による蒸着法を示した説明図である。 ３、４……棒状蒸発電極（蒸発源取付体）、５……蒸発
源、10……被成膜薄板、14……取付軸、15……固定部。
Claims (3)
- 【請求項１】互いに離間した一対の棒状電極からなり複
数の蒸発源を取付ける蒸発源取付体と；この蒸発源取付
体とほぼ平行に延び、この蒸発取付体の回りを公転しか
つ自転する複数の取付軸と；これらの取付軸の各々にそ
の軸方向に沿って所定間隔において軸線に対して直角に
保持された多数の被成膜薄板とを具備することを特徴と
する真空蒸着装置。 - 【請求項２】上記蒸発源は上記一対の棒状電極上にほぼ
一定ピッチで取付けられ、このピッチは上記被成まく薄
板の間隔とほぼ同等かそれ以下であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の真空蒸着装置。 - 【請求項３】互いに隣接した一対の上記取付軸の間隔
は、その一方の隣接取付軸に取付けられた上記被成膜薄
板と他方の隣接取付軸に取付けられた上記被成膜薄板と
が互いに上記軸方向に一部重なり合うように定められ、
上記一方の隣接する取付軸上の上記被成膜薄板と上記他
方の隣接する取付軸上の上記被成膜薄板とが互いに軸方
向に互い違いに位置するように定められていることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090858A JPH0765159B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090858A JPH0765159B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01263266A JPH01263266A (ja) | 1989-10-19 |
| JPH0765159B2 true JPH0765159B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=14010257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63090858A Expired - Fee Related JPH0765159B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765159B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101336055B1 (ko) * | 2012-08-24 | 2013-12-04 | 우창산업 주식회사 | 진공증착기의 피증착물 거치대 및 그에 거치되는 피증착물 거치용지그 |
| KR102517747B1 (ko) * | 2022-12-19 | 2023-04-03 | 백정훈 | Pcb 기판용 회전형 열 증발 확산 증착장치 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5167282B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2013-03-21 | 株式会社アルバック | 成膜装置及び成膜方法 |
| DE102010032591A1 (de) | 2010-07-23 | 2012-01-26 | Leybold Optics Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Vakuumbeschichtung |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55145336A (en) * | 1979-05-01 | 1980-11-12 | Yoichi Murayama | High frequency ion-plating device |
| JPS6163935A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-02 | Fujitsu Ltd | 光ピツクアツプ |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP63090858A patent/JPH0765159B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101336055B1 (ko) * | 2012-08-24 | 2013-12-04 | 우창산업 주식회사 | 진공증착기의 피증착물 거치대 및 그에 거치되는 피증착물 거치용지그 |
| KR102517747B1 (ko) * | 2022-12-19 | 2023-04-03 | 백정훈 | Pcb 기판용 회전형 열 증발 확산 증착장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01263266A (ja) | 1989-10-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4284033A (en) | Means to orbit and rotate target wafers supported on planet member | |
| TWI522486B (zh) | PVD processing device and PVD processing method | |
| WO2016052239A1 (ja) | 成膜装置 | |
| US5558909A (en) | Apparatus and method for vacuum-metallizing articles with significant deposition onto three-dimensional surfaces | |
| JP3458450B2 (ja) | スパッタリング方法 | |
| JPH01263266A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0428860A (ja) | イオンプレーティング装置用回転テーブル | |
| JPS6360275A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPH01184277A (ja) | 基板回転装置 | |
| JPH0419302B2 (ja) | ||
| JP2006070330A (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
| CA2059094C (en) | High ratio planetary drive system for vacuum chamber | |
| CN221501228U (zh) | 真空镀膜装置 | |
| JPH0226935Y2 (ja) | ||
| US3625180A (en) | Evaporation sources | |
| JP2011026652A (ja) | 両面成膜装置 | |
| JP2003313657A (ja) | 蒸着装置の制御方法及び蒸着装置 | |
| JPH0526755Y2 (ja) | ||
| JPH0373630B2 (ja) | ||
| JPH07188922A (ja) | 蒸着方法 | |
| JPH11106901A5 (ja) | 光学薄膜成膜装置、光学薄膜成膜方法およびこの方法により表面に薄膜が成膜された光学素子 | |
| JPS61205949A (ja) | 電子写真用感光体製造装置 | |
| JPH0589448U (ja) | スパッタリング装置 | |
| JP7158065B2 (ja) | 成膜装置 | |
| JP4138938B2 (ja) | 多層膜形成用スパッタ装置及びその使用方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |