JPH0765347A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0765347A JPH0765347A JP20649293A JP20649293A JPH0765347A JP H0765347 A JPH0765347 A JP H0765347A JP 20649293 A JP20649293 A JP 20649293A JP 20649293 A JP20649293 A JP 20649293A JP H0765347 A JPH0765347 A JP H0765347A
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- magnetic
- magnetic film
- metal magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｃ／Ｎといった磁気特性に優れ、再生出力が
高い磁気記録媒体を提供することである。 【構成】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜が複数個設け
られると共に、これらＣｏを主成分とする金属磁性膜の
間に前記磁性膜の磁気特性とは異なる磁気特性の金属磁
性膜が設けられてなる磁気記録媒体。
高い磁気記録媒体を提供することである。 【構成】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜が複数個設け
られると共に、これらＣｏを主成分とする金属磁性膜の
間に前記磁性膜の磁気特性とは異なる磁気特性の金属磁
性膜が設けられてなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関する
ものである。
ものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体の製造時、例えばＣｏ−Ｎｉ合金か
らなる金属磁性膜を成膜する時に酸素ガスを導入し、磁
気特性の改善が図られている。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体の製造時、例えばＣｏ−Ｎｉ合金か
らなる金属磁性膜を成膜する時に酸素ガスを導入し、磁
気特性の改善が図られている。
【０００４】しかしながら、この酸素ガス導入による磁
気特性の改善手段は、保磁力を向上させることが出来る
ものの、残留磁束密度を減少させることになり、磁気特
性の大幅な改善は達成できていない。
気特性の改善手段は、保磁力を向上させることが出来る
ものの、残留磁束密度を減少させることになり、磁気特
性の大幅な改善は達成できていない。
【０００５】
【発明の開示】本発明の目的は、Ｃ／Ｎといった磁気特
性に優れ、再生出力が高い磁気記録媒体を提供すること
である。この本発明の目的は、Ｃｏを主成分とする金属
磁性膜が複数個設けられると共に、これらＣｏを主成分
とする金属磁性膜の間に前記磁性膜の磁気特性とは異な
る磁気特性の金属磁性膜が設けられてなることを特徴と
する磁気記録媒体によって達成される。
性に優れ、再生出力が高い磁気記録媒体を提供すること
である。この本発明の目的は、Ｃｏを主成分とする金属
磁性膜が複数個設けられると共に、これらＣｏを主成分
とする金属磁性膜の間に前記磁性膜の磁気特性とは異な
る磁気特性の金属磁性膜が設けられてなることを特徴と
する磁気記録媒体によって達成される。
【０００６】尚、この本発明の磁気記録媒体における複
数個設けられたＣｏを主成分とする金属磁性膜のうち、
支持体から遠ざかる金属磁性膜ほど保磁力が大きなよう
にＣｏを主成分とする金属磁性膜が構成されてなること
が好ましい。又、Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の厚さ
が１００〜２０００Åであることが好ましい。特に、こ
のようなＣｏを主成分とする金属磁性膜の膜厚は、支持
体に一番近い金属磁性膜の膜厚を１とすると、上層の膜
厚が１〜１／１０の厚さになるよう構成されてなること
が好ましい。そして、このようなＣｏを主成分とする金
属磁性膜はＣｏ−Ｎｉ系合金で構成させることが出来
る。特に、Ｃｏを主成分とする金属磁性膜をＣｏ−Ｎｉ
系合金で構成させた場合には、このＣｏ−Ｎｉ系合金磁
性膜のうち支持体から遠ざかる金属磁性膜ほどＮｉ含有
量を少なくさせることが好ましい。例えば、Ｃｏを主成
分とする金属磁性膜をＣｏ−Ｎｉ系合金で構成させた場
合、Ｃｏ−Ｎｉ系合金磁性膜のうち支持体に一番近いＣ
ｏ−Ｎｉ系金属磁性膜のＮｉ含有量が６〜２０ｗｔ％で
あって、遠ざかるにつれてＮｉ含有量が少なくなり、一
番遠い金属磁性膜のＮｉ含有量が５〜１９ｗｔ％である
よう構成されてなることが好ましい。
数個設けられたＣｏを主成分とする金属磁性膜のうち、
支持体から遠ざかる金属磁性膜ほど保磁力が大きなよう
にＣｏを主成分とする金属磁性膜が構成されてなること
が好ましい。又、Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の厚さ
が１００〜２０００Åであることが好ましい。特に、こ
のようなＣｏを主成分とする金属磁性膜の膜厚は、支持
体に一番近い金属磁性膜の膜厚を１とすると、上層の膜
厚が１〜１／１０の厚さになるよう構成されてなること
が好ましい。そして、このようなＣｏを主成分とする金
属磁性膜はＣｏ−Ｎｉ系合金で構成させることが出来
る。特に、Ｃｏを主成分とする金属磁性膜をＣｏ−Ｎｉ
系合金で構成させた場合には、このＣｏ−Ｎｉ系合金磁
性膜のうち支持体から遠ざかる金属磁性膜ほどＮｉ含有
量を少なくさせることが好ましい。例えば、Ｃｏを主成
分とする金属磁性膜をＣｏ−Ｎｉ系合金で構成させた場
合、Ｃｏ−Ｎｉ系合金磁性膜のうち支持体に一番近いＣ
ｏ−Ｎｉ系金属磁性膜のＮｉ含有量が６〜２０ｗｔ％で
あって、遠ざかるにつれてＮｉ含有量が少なくなり、一
番遠い金属磁性膜のＮｉ含有量が５〜１９ｗｔ％である
よう構成されてなることが好ましい。
【０００７】又、Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の間に
設けられる金属磁性膜の厚さは１００〜５００Åである
ことが好ましく、そしてこのような金属磁性膜はＮｉで
構成させることが出来る。以下、本発明について更に詳
しく説明する。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略
断面図を示す。
設けられる金属磁性膜の厚さは１００〜５００Åである
ことが好ましく、そしてこのような金属磁性膜はＮｉで
構成させることが出来る。以下、本発明について更に詳
しく説明する。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略
断面図を示す。
【０００８】同図中、１は非磁性の支持体であり、この
支持体１はポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、
セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分
子材料、ガラスやセラミック等の無機系材料、アルミニ
ウム合金などの金属材料が用いられる。
支持体１はポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、
セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分
子材料、ガラスやセラミック等の無機系材料、アルミニ
ウム合金などの金属材料が用いられる。
【０００９】支持体１面上には磁性層の密着性を向上さ
せる為のアンダーコート層２が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾式メッキによ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、さらに磁気記
録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善
する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが
０．００５〜０．１μｍの塗膜を設けることによってア
ンダーコート層２が構成されている。
せる為のアンダーコート層２が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾式メッキによ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、さらに磁気記
録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善
する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが
０．００５〜０．１μｍの塗膜を設けることによってア
ンダーコート層２が構成されている。
【００１０】アンダーコート層２の上には、例えば斜め
蒸着装置によって金属薄膜型の第１の金属磁性膜３ａが
設けられる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真
空雰囲気下でＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金を抵抗
加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発さ
せ、支持体１のアンダーコート層２面上に堆積（蒸着）
させることにより、第１の金属（Ｃｏ−Ｎｉ（８０％−
２０％）合金）磁性膜３ａが４００〜７００Å厚形成さ
れる。
蒸着装置によって金属薄膜型の第１の金属磁性膜３ａが
設けられる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真
空雰囲気下でＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金を抵抗
加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発さ
せ、支持体１のアンダーコート層２面上に堆積（蒸着）
させることにより、第１の金属（Ｃｏ−Ｎｉ（８０％−
２０％）合金）磁性膜３ａが４００〜７００Å厚形成さ
れる。
【００１１】上記のようにして従来の金属磁性膜の厚さ
よりも薄くした第１の金属磁性膜３ａが構成された後、
この第１の金属磁性膜３ａ上に金属磁性膜３ａの磁気特
性とは異なる第２の金属磁性膜、例えばＮｉ膜４ａが１
５０〜３００Å厚さ設けられる。この第２の金属磁性膜
４ａの成膜の手法は、第１の金属磁性膜３ａと同様な手
法が採用されても、異なる手法が採用されても良い。
よりも薄くした第１の金属磁性膜３ａが構成された後、
この第１の金属磁性膜３ａ上に金属磁性膜３ａの磁気特
性とは異なる第２の金属磁性膜、例えばＮｉ膜４ａが１
５０〜３００Å厚さ設けられる。この第２の金属磁性膜
４ａの成膜の手法は、第１の金属磁性膜３ａと同様な手
法が採用されても、異なる手法が採用されても良い。
【００１２】この後、第１の金属磁性膜３ａの成膜と同
様な手法を用い、そしてＣｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）
合金を用いて、第２の金属磁性膜４ａの上に第３の金属
（Ｃｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）合金）磁性膜３ｂを４
００〜７００Å厚形成する。そして、この後、第３の金
属磁性膜３ｂの上に第２の金属磁性膜（Ｎｉ膜）４ａの
成膜手法と同様な手法で第４の金属磁性膜（Ｎｉ膜）４
ｂが１５０〜３００Å厚さ設けられる。
様な手法を用い、そしてＣｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）
合金を用いて、第２の金属磁性膜４ａの上に第３の金属
（Ｃｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）合金）磁性膜３ｂを４
００〜７００Å厚形成する。そして、この後、第３の金
属磁性膜３ｂの上に第２の金属磁性膜（Ｎｉ膜）４ａの
成膜手法と同様な手法で第４の金属磁性膜（Ｎｉ膜）４
ｂが１５０〜３００Å厚さ設けられる。
【００１３】この後、第１の金属磁性膜３ａの成膜と同
様な手法を用い、そしてＣｏ−Ｎｉ（９５％−５％）合
金を用いて、第４の金属磁性膜４ｂの上に第５の金属
（Ｃｏ−Ｎｉ（９５％−５％）合金）磁性膜３ｃを４０
０〜７００Å厚形成する。上記の金属磁性膜の成膜に際
しては、酸素を供給して行う。特に、第５の金属磁性膜
３ｃが一番上の金属磁性膜であるとした場合には、少な
くともこの金属磁性膜の形成時には酸素が吹き付けられ
ている。
様な手法を用い、そしてＣｏ−Ｎｉ（９５％−５％）合
金を用いて、第４の金属磁性膜４ｂの上に第５の金属
（Ｃｏ−Ｎｉ（９５％−５％）合金）磁性膜３ｃを４０
０〜７００Å厚形成する。上記の金属磁性膜の成膜に際
しては、酸素を供給して行う。特に、第５の金属磁性膜
３ｃが一番上の金属磁性膜であるとした場合には、少な
くともこの金属磁性膜の形成時には酸素が吹き付けられ
ている。
【００１４】この後も、必要に応じて同様に構成させ
る。但し、３層〜５層（Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜は２〜３
層）程度が実際的である。勿論、これ以上の層構成であ
っても良い。つまり、従来のＣｏ−Ｎｉ合金磁性膜を、
一膜の厚さが薄い複数のＣｏ−Ｎｉ合金磁性膜で構成
し、そして各Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜は支持体から遠ざか
るにつれてＮｉ含有量を減らして保磁力が大きなように
なすと共に、Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜の間にはＮｉ膜を設
け、各々の磁性膜が分離・独立するように構成させたの
である。
る。但し、３層〜５層（Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜は２〜３
層）程度が実際的である。勿論、これ以上の層構成であ
っても良い。つまり、従来のＣｏ−Ｎｉ合金磁性膜を、
一膜の厚さが薄い複数のＣｏ−Ｎｉ合金磁性膜で構成
し、そして各Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜は支持体から遠ざか
るにつれてＮｉ含有量を減らして保磁力が大きなように
なすと共に、Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜の間にはＮｉ膜を設
け、各々の磁性膜が分離・独立するように構成させたの
である。
【００１５】そして、このように磁性膜を構成させてい
ると、Ｃ／Ｎ特性が向上し、再生出力も高くなったので
ある。５は第５の金属磁性膜３ｃの上に設けられた潤滑
剤層である。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定
の手段で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましく
は約１０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層５が設けられ
る。
ると、Ｃ／Ｎ特性が向上し、再生出力も高くなったので
ある。５は第５の金属磁性膜３ｃの上に設けられた潤滑
剤層である。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定
の手段で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましく
は約１０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層５が設けられ
る。
【００１６】６は、基板１の他面に設けられたカーボン
ブラック等を含有させたバックコート層である。以下、
具体的な実施例を挙げて説明する。
ブラック等を含有させたバックコート層である。以下、
具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１７】
〔実施例１〕厚さ１０μｍのアンダーコート層が設けら
れたＰＥＴフィルムを斜め蒸着装置に装着し、又、酸化
マグネシウム製のルツボにＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０
％）合金を入れ、そして３０ｋＷの電子銃を作動させて
Ｃｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金を蒸発させ、２ｍ／
分の走行速度で走行しているＰＥＴフィルムにＣｏ−Ｎ
ｉ（８０％−２０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ５００
Åの第１の金属磁性膜３ａを設けた。
れたＰＥＴフィルムを斜め蒸着装置に装着し、又、酸化
マグネシウム製のルツボにＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０
％）合金を入れ、そして３０ｋＷの電子銃を作動させて
Ｃｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金を蒸発させ、２ｍ／
分の走行速度で走行しているＰＥＴフィルムにＣｏ−Ｎ
ｉ（８０％−２０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ５００
Åの第１の金属磁性膜３ａを設けた。
【００１８】この後、この第１の金属磁性膜３ａ上に、
厚さが１５０Åの第２の金属磁性膜膜（Ｎｉ膜）４ａを
設けた。続いて、この第２の金属磁性膜４ａの上に、Ｃ
ｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）合金を用いて、Ｃｏ−Ｎｉ
（９０％−１０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ５００Å
の第３の金属磁性膜３ｂを設けた。
厚さが１５０Åの第２の金属磁性膜膜（Ｎｉ膜）４ａを
設けた。続いて、この第２の金属磁性膜４ａの上に、Ｃ
ｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）合金を用いて、Ｃｏ−Ｎｉ
（９０％−１０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ５００Å
の第３の金属磁性膜３ｂを設けた。
【００１９】この後、この第３の金属磁性膜３ｂ上に、
厚さが１５０Åの第４の金属磁性膜膜（Ｎｉ膜）４ｂを
設けた。続いて、この第４の金属磁性膜４ｂの上に、Ｃ
ｏ−Ｎｉ（９５％−５％）合金を用いて、Ｃｏ−Ｎｉ
（９５％−５％）合金粒子を蒸着させ、厚さ５００Åの
第５の金属磁性膜３ｃを設けた。尚、この時にも、Ｃｏ
−Ｎｉ合金粒子の蒸着時に酸素が吹き付けられている。
厚さが１５０Åの第４の金属磁性膜膜（Ｎｉ膜）４ｂを
設けた。続いて、この第４の金属磁性膜４ｂの上に、Ｃ
ｏ−Ｎｉ（９５％−５％）合金を用いて、Ｃｏ−Ｎｉ
（９５％−５％）合金粒子を蒸着させ、厚さ５００Åの
第５の金属磁性膜３ｃを設けた。尚、この時にも、Ｃｏ
−Ｎｉ合金粒子の蒸着時に酸素が吹き付けられている。
【００２０】この後、第５の金属磁性膜３ｃの表面に潤
滑剤を塗布し、又、ＰＥＴフィルムの他面にバックコー
ト層を形成し、図１に示す如くの磁気記録媒体を得た。 〔実施例２〕実施例１において、第２の金属磁性膜膜４
ａ、及び第４の金属磁性膜膜４ｂの厚さを３００Åとし
た他は同様に行い、磁気記録媒体を得た。
滑剤を塗布し、又、ＰＥＴフィルムの他面にバックコー
ト層を形成し、図１に示す如くの磁気記録媒体を得た。 〔実施例２〕実施例１において、第２の金属磁性膜膜４
ａ、及び第４の金属磁性膜膜４ｂの厚さを３００Åとし
た他は同様に行い、磁気記録媒体を得た。
【００２１】〔実施例３〕実施例１において、第１の金
属磁性膜膜３ａ、第３の金属磁性膜膜３ｂ、及び第５の
金属磁性膜膜３ｃの厚さを８００Åとした他は同様に行
い、磁気記録媒体を得た。 〔実施例４〕厚さ１０μｍのアンダーコート層が設けら
れたＰＥＴフィルムを斜め蒸着装置に装着し、又、酸化
マグネシウム製のルツボにＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０
％）合金を入れ、そして３０ｋＷの電子銃を作動させて
Ｃｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金を蒸発させ、２ｍ／
分の走行速度で走行しているＰＥＴフィルムにＣｏ−Ｎ
ｉ（８０％−２０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ１５０
０Åの第１の金属磁性膜３ａを設けた。
属磁性膜膜３ａ、第３の金属磁性膜膜３ｂ、及び第５の
金属磁性膜膜３ｃの厚さを８００Åとした他は同様に行
い、磁気記録媒体を得た。 〔実施例４〕厚さ１０μｍのアンダーコート層が設けら
れたＰＥＴフィルムを斜め蒸着装置に装着し、又、酸化
マグネシウム製のルツボにＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０
％）合金を入れ、そして３０ｋＷの電子銃を作動させて
Ｃｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金を蒸発させ、２ｍ／
分の走行速度で走行しているＰＥＴフィルムにＣｏ−Ｎ
ｉ（８０％−２０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ１５０
０Åの第１の金属磁性膜３ａを設けた。
【００２２】この後、この第１の金属磁性膜３ａ上に、
厚さが１５０Åの第２の金属磁性膜膜（Ｎｉ膜）４ａを
設けた。続いて、この第２の金属磁性膜４ａの上に、Ｃ
ｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）合金を用いて、Ｃｏ−Ｎｉ
（９０％−１０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ３００Å
の第３の金属磁性膜３ｂを設けた。この時にも、Ｃｏ−
Ｎｉ合金粒子の蒸着時に酸素が吹き付けられている。
厚さが１５０Åの第２の金属磁性膜膜（Ｎｉ膜）４ａを
設けた。続いて、この第２の金属磁性膜４ａの上に、Ｃ
ｏ−Ｎｉ（９０％−１０％）合金を用いて、Ｃｏ−Ｎｉ
（９０％−１０％）合金粒子を蒸着させ、厚さ３００Å
の第３の金属磁性膜３ｂを設けた。この時にも、Ｃｏ−
Ｎｉ合金粒子の蒸着時に酸素が吹き付けられている。
【００２３】この後、第３の金属磁性膜３ｂの表面に潤
滑剤を塗布し、又、ＰＥＴフィルムの他面にバックコー
ト層を形成し、磁気記録媒体を得た。 〔比較例１〕厚さ１０μｍのアンダーコート層が設けら
れたＰＥＴフィルムを斜め蒸着装置に装着し、又、酸化
マグネシウム製のルツボにＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０
％）合金を入れ、そして３０ｋＷの電子銃を作動させて
Ｃｏ−Ｎｉを蒸発させ、２ｍ／分の走行速度で走行して
いるＰＥＴフィルムにＣｏ−Ｎｉ粒子を厚さ１８００Å
蒸着させた。尚、Ｃｏ−Ｎｉ合金粒子の蒸着時に酸素は
吹き付けられている。
滑剤を塗布し、又、ＰＥＴフィルムの他面にバックコー
ト層を形成し、磁気記録媒体を得た。 〔比較例１〕厚さ１０μｍのアンダーコート層が設けら
れたＰＥＴフィルムを斜め蒸着装置に装着し、又、酸化
マグネシウム製のルツボにＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０
％）合金を入れ、そして３０ｋＷの電子銃を作動させて
Ｃｏ−Ｎｉを蒸発させ、２ｍ／分の走行速度で走行して
いるＰＥＴフィルムにＣｏ−Ｎｉ粒子を厚さ１８００Å
蒸着させた。尚、Ｃｏ−Ｎｉ合金粒子の蒸着時に酸素は
吹き付けられている。
【００２４】この後、金属磁性膜の表面に潤滑剤を塗布
し、又、ＰＥＴフィルムの他面にバックコート層を形成
し、磁気記録媒体を得た。 〔特性〕上記各例で得られた磁気記録媒体の再生特性及
び耐蝕性について調べたので、その結果を下記の表−１
に示す。
し、又、ＰＥＴフィルムの他面にバックコート層を形成
し、磁気記録媒体を得た。 〔特性〕上記各例で得られた磁気記録媒体の再生特性及
び耐蝕性について調べたので、その結果を下記の表−１
に示す。
【００２５】 表−１ 再 生 出 力（ｄＢ） Ｃ／Ｎ（ｄＢ） ΔＢｓ（％） １ＭＨｚ ７ＭＨｚ 実施例１ −０．５ ＋４．６ ５．０ ５ 実施例２ −０．３ ＋４．４ ４．７ ４ 実施例３ ＋０．２ ＋４．９ ５．２ ４ 実施例４ ＋０．２ ＋２．６ ３．９ ４ 比較例１ ０ ０ ０ ３ これによれば、Ｃｏを主成分とする金属磁性膜が複数個
設けられると共に、これらＣｏを主成分とする金属磁性
膜の間に前記磁性膜の磁気特性とは異なる磁気特性の金
属磁性膜が設けられてなる本発明の磁気記録媒体は、Ｃ
／Ｎが高く、かつ、高域での再生出力が高いことが判
る。
設けられると共に、これらＣｏを主成分とする金属磁性
膜の間に前記磁性膜の磁気特性とは異なる磁気特性の金
属磁性膜が設けられてなる本発明の磁気記録媒体は、Ｃ
／Ｎが高く、かつ、高域での再生出力が高いことが判
る。
【００２６】
【効果】高域での再生出力が高く、Ｃ／Ｎも高い特長が
奏される。
奏される。
【図１】磁気記録媒体の概略断面図である。
１ 支持体 ３ａ，３ｂ，３ｃ Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性膜 ４ａ，４ｂ Ｎｉ磁性膜 ５ 潤滑剤層 ６ バックコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (9)
- 【請求項１】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜が複数個
設けられると共に、これらＣｏを主成分とする金属磁性
膜の間に前記磁性膜の磁気特性とは異なる磁気特性の金
属磁性膜が設けられてなることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 複数個設けられたＣｏを主成分とする金
属磁性膜のうち、支持体から遠ざかる金属磁性膜ほど保
磁力が大きなようにＣｏを主成分とする金属磁性膜が構
成されてなることを特徴とする請求項１の磁気記録媒
体。 - 【請求項３】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の厚さが
１００〜２０００Åであることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の膜厚
は、支持体に一番近い金属磁性膜の膜厚を１とすると、
上層の膜厚が１〜１／１０の厚さになるよう構成されて
なることを特徴とする請求項１〜請求項３の磁気記録媒
体。 - 【請求項５】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜がＣｏ−
Ｎｉ系合金で構成されてなることを特徴とする請求項１
〜請求項４の磁気記録媒体。 - 【請求項６】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜がＣｏ−
Ｎｉ系合金で構成されてなり、このＣｏ−Ｎｉ系合金磁
性膜のうち支持体から遠ざかる金属磁性膜ほどＮｉ含有
量が少なくなるよう構成されてなることを特徴とする請
求項１〜請求項５の磁気記録媒体。 - 【請求項７】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜がＣｏ−
Ｎｉ系合金で構成されてなり、このＣｏ−Ｎｉ系合金磁
性膜のうち支持体に一番近い金属磁性膜のＮｉ含有量が
６〜２０ｗｔ％であって、遠ざかるにつれてＮｉ含有量
が少なくなり、一番遠い金属磁性膜のＮｉ含有量が５〜
１９ｗｔ％であるよう構成されてなることを特徴とする
請求項１〜請求項６の磁気記録媒体。 - 【請求項８】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の間に設
けられる金属磁性膜の厚さが１００〜５００Åであるこ
とを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。 - 【請求項９】 Ｃｏを主成分とする金属磁性膜の間に設
けられる金属磁性膜がＮｉで構成されてなることを特徴
とする請求項１または請求項８の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20649293A JPH0765347A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20649293A JPH0765347A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765347A true JPH0765347A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16524273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20649293A Pending JPH0765347A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765347A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10781524B2 (en) | 2014-09-18 | 2020-09-22 | Modumetal, Inc. | Methods of preparing articles by electrodeposition and additive manufacturing processes |
| US10808322B2 (en) * | 2013-03-15 | 2020-10-20 | Modumetal, Inc. | Electrodeposited compositions and nanolaminated alloys for articles prepared by additive manufacturing processes |
| US10844504B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-11-24 | Modumetal, Inc. | Nickel-chromium nanolaminate coating having high hardness |
| US10961635B2 (en) | 2005-08-12 | 2021-03-30 | Modumetal, Inc. | Compositionally modulated composite materials and methods for making the same |
| US11118280B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-09-14 | Modumetal, Inc. | Nanolaminate coatings |
| US11180864B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-11-23 | Modumetal, Inc. | Method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings |
| US11242613B2 (en) | 2009-06-08 | 2022-02-08 | Modumetal, Inc. | Electrodeposited, nanolaminate coatings and claddings for corrosion protection |
| US11286575B2 (en) | 2017-04-21 | 2022-03-29 | Modumetal, Inc. | Tubular articles with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same |
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| US11365488B2 (en) | 2016-09-08 | 2022-06-21 | Modumetal, Inc. | Processes for providing laminated coatings on workpieces, and articles made therefrom |
| US11519093B2 (en) | 2018-04-27 | 2022-12-06 | Modumetal, Inc. | Apparatuses, systems, and methods for producing a plurality of articles with nanolaminated coatings using rotation |
| US11692281B2 (en) | 2014-09-18 | 2023-07-04 | Modumetal, Inc. | Method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings |
| US12076965B2 (en) | 2016-11-02 | 2024-09-03 | Modumetal, Inc. | Topology optimized high interface packing structures |
| US12077876B2 (en) | 2016-09-14 | 2024-09-03 | Modumetal, Inc. | System for reliable, high throughput, complex electric field generation, and method for producing coatings therefrom |
| US12227869B2 (en) | 2016-09-09 | 2025-02-18 | Modumetal, Inc. | Application of laminate and nanolaminate materials to tooling and molding processes |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP20649293A patent/JPH0765347A/ja active Pending
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| US11168408B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-11-09 | Modumetal, Inc. | Nickel-chromium nanolaminate coating having high hardness |
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