JPH0765362A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0765362A JPH0765362A JP5228350A JP22835093A JPH0765362A JP H0765362 A JPH0765362 A JP H0765362A JP 5228350 A JP5228350 A JP 5228350A JP 22835093 A JP22835093 A JP 22835093A JP H0765362 A JPH0765362 A JP H0765362A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 32
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 15
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 208000001840 Dandruff Diseases 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】塗布スジの原因となる異物を効率よく確実に除
去し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を製造する。 【構成】非磁性支持体１上に磁性膜２を形成する工程を
含む磁気記録媒体の製造方法において、非磁性支持体１
を、少なくとも接触面が粘着性物質で構成された回転ロ
ール３１および／または少なくとも接触面が多孔性高分
子で構成されたクリーニング部材３２と接触させること
によってクリーニングした後、磁性膜２を形成する。
去し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を製造する。 【構成】非磁性支持体１上に磁性膜２を形成する工程を
含む磁気記録媒体の製造方法において、非磁性支持体１
を、少なくとも接触面が粘着性物質で構成された回転ロ
ール３１および／または少なくとも接触面が多孔性高分
子で構成されたクリーニング部材３２と接触させること
によってクリーニングした後、磁性膜２を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塗布型の磁気記録媒体
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の磁気記録媒体は、非磁性支持体
上に磁性膜を形成する工程を経て製造される。磁性膜の
形成方法としては、従来より、塗布方式、蒸着方式及び
スパッタ方式等が周知である。
上に磁性膜を形成する工程を経て製造される。磁性膜の
形成方法としては、従来より、塗布方式、蒸着方式及び
スパッタ方式等が周知である。
【０００３】
【発明が解決しよとする課題】塗布型磁気記録媒体の磁
性膜、バックコート等の厚さは、通常０．３μｍ〜４．
０μｍの範囲である。塗布時の塗料の厚さ（ウェット膜
厚）に換算すると約２μｍ〜４０μｍになっている。こ
のような塗膜形成（塗布）をノズルのような静止型塗布
治具を用いた静止型塗布方式によって形成する場合、塗
布治具と、ＰＥＴ、ＰＥＮまたはアラミドフィルム等か
らなる非磁性支持体との間隙（ウェット膜厚）を超える
サイズの異物が存在すると、塗布治具に異物が引っ掛か
り塗布スジを発生させる。また塗布スジにならなくて
も、異物はドロップアウトの原因となる。従って、製品
の品質、製造時の歩留まり向上のために、異物の除去対
策が非常に重要な課題となっている。
性膜、バックコート等の厚さは、通常０．３μｍ〜４．
０μｍの範囲である。塗布時の塗料の厚さ（ウェット膜
厚）に換算すると約２μｍ〜４０μｍになっている。こ
のような塗膜形成（塗布）をノズルのような静止型塗布
治具を用いた静止型塗布方式によって形成する場合、塗
布治具と、ＰＥＴ、ＰＥＮまたはアラミドフィルム等か
らなる非磁性支持体との間隙（ウェット膜厚）を超える
サイズの異物が存在すると、塗布治具に異物が引っ掛か
り塗布スジを発生させる。また塗布スジにならなくて
も、異物はドロップアウトの原因となる。従って、製品
の品質、製造時の歩留まり向上のために、異物の除去対
策が非常に重要な課題となっている。
【０００４】また、蒸着方式、スパッタ方式のように磁
性膜の厚さが非常に薄く、記録密度が高い場合は微小な
異物でも塗布欠陥がドロップアウトとなる。この非磁性
支持体上の異物は非磁性支持体製造時に発生しユーザー
に納入されるまでに存在するもの、及びユーザにおいて
磁性膜を形成するまでに非磁性支持体上に新たに付着す
るものが含まれる。異物の内容は、主として塵埃、フケ
等の人体組織、繊維、設備の摩耗粉等である。
性膜の厚さが非常に薄く、記録密度が高い場合は微小な
異物でも塗布欠陥がドロップアウトとなる。この非磁性
支持体上の異物は非磁性支持体製造時に発生しユーザー
に納入されるまでに存在するもの、及びユーザにおいて
磁性膜を形成するまでに非磁性支持体上に新たに付着す
るものが含まれる。異物の内容は、主として塵埃、フケ
等の人体組織、繊維、設備の摩耗粉等である。
【０００５】磁気記録媒体製造者は、製品の品質向上、
歩留まり向上の為に、特に静止型塗布方式のような異物
の影響を非常に受け易い生産方式の製品の品質、歩留ま
り向上のために様々な検討を行なっている。磁性膜形成
前にこれらの異物を除去するために、様々なクリーニン
グを試みてきた。しかし、静止型塗布方式は、リバース
ロール塗布やグラビアシリンダー塗布方式のような回転
体を使用した塗布方式に比べ、塗布スジの発生率が格段
に高く、従来のクリーニング手段では、充分な効果が得
られていないのが現状である。例えば、クリーニング手
段として従来より知られている洗浄方式、不織布等によ
るワイピング方式、イオン化エアー吹きつけ、吸引によ
るクリーニング等のうち、洗浄方式は、クリーニングの
効果は高いが、インラインでの高速連続クリーニング、
真空中での使用（蒸着、スパッタ等による磁性膜形成
法）、片面に既に機能性膜（磁性膜、非磁性膜等）が形
成されている場合などの対応が困難である。不織布ある
いは織布等によるワイピング方式は、異物の補足効果不
足、布からの発塵等の問題がある。イオン化エアー吹き
つけ・吸引方式によるクリーニングも、異物の除去効果
が万全では無く、数種類の方式を組み合わせて、できる
だけ良い状態を得ているのが現状であり、充分な効果は
得られていない。
歩留まり向上の為に、特に静止型塗布方式のような異物
の影響を非常に受け易い生産方式の製品の品質、歩留ま
り向上のために様々な検討を行なっている。磁性膜形成
前にこれらの異物を除去するために、様々なクリーニン
グを試みてきた。しかし、静止型塗布方式は、リバース
ロール塗布やグラビアシリンダー塗布方式のような回転
体を使用した塗布方式に比べ、塗布スジの発生率が格段
に高く、従来のクリーニング手段では、充分な効果が得
られていないのが現状である。例えば、クリーニング手
段として従来より知られている洗浄方式、不織布等によ
るワイピング方式、イオン化エアー吹きつけ、吸引によ
るクリーニング等のうち、洗浄方式は、クリーニングの
効果は高いが、インラインでの高速連続クリーニング、
真空中での使用（蒸着、スパッタ等による磁性膜形成
法）、片面に既に機能性膜（磁性膜、非磁性膜等）が形
成されている場合などの対応が困難である。不織布ある
いは織布等によるワイピング方式は、異物の補足効果不
足、布からの発塵等の問題がある。イオン化エアー吹き
つけ・吸引方式によるクリーニングも、異物の除去効果
が万全では無く、数種類の方式を組み合わせて、できる
だけ良い状態を得ているのが現状であり、充分な効果は
得られていない。
【０００６】本発明は、塗布スジの原因となる異物を効
率よく確実に除去し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を
製造し得る製造方法を提供することである。
率よく確実に除去し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を
製造し得る製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明は、図１及び図２に示すように、非磁性支持
体１上に磁性膜２を形成する工程を含む磁気記録媒体の
製造方法において、前記非磁性支持体１を、少なくとも
接触面が粘着性物質で構成された回転ロール３１および
／または少なくとも接触面が多孔性高分子で構成された
クリーニング部材３２と接触させることによってクリー
ニングした後、前記磁性膜２を形成することを特徴とす
る。図１及び図２において、クリーニング．ステージＡ
は磁性膜塗布ステージＢの前に設定されている。
め、本発明は、図１及び図２に示すように、非磁性支持
体１上に磁性膜２を形成する工程を含む磁気記録媒体の
製造方法において、前記非磁性支持体１を、少なくとも
接触面が粘着性物質で構成された回転ロール３１および
／または少なくとも接触面が多孔性高分子で構成された
クリーニング部材３２と接触させることによってクリー
ニングした後、前記磁性膜２を形成することを特徴とす
る。図１及び図２において、クリーニング．ステージＡ
は磁性膜塗布ステージＢの前に設定されている。
【０００８】
【作用】本発明者は、塗布スジの原因となり易い３μｍ
以上の異物の除去方法を鋭意研究した結果、図１に示す
ように、少なくとも接触面が粘着性物質で構成された回
転ロール３１と接触させることによってクリーニングす
ることにより、上述した異物を効率よく確実に除去でき
ることを見出した。或いは、図２に示すように、少なく
とも接触面が多孔性高分子で構成されたクリーニング部
材３２と接触させることによってクリーニングすること
により、異物を効率よく確実に除去できることを見出し
た。そして、このクリーニング工程の後に、非磁性支持
体１上に磁性膜２を形成することにより、異物による塗
布スジのない磁気記録媒体を製造することができる。
以上の異物の除去方法を鋭意研究した結果、図１に示す
ように、少なくとも接触面が粘着性物質で構成された回
転ロール３１と接触させることによってクリーニングす
ることにより、上述した異物を効率よく確実に除去でき
ることを見出した。或いは、図２に示すように、少なく
とも接触面が多孔性高分子で構成されたクリーニング部
材３２と接触させることによってクリーニングすること
により、異物を効率よく確実に除去できることを見出し
た。そして、このクリーニング工程の後に、非磁性支持
体１上に磁性膜２を形成することにより、異物による塗
布スジのない磁気記録媒体を製造することができる。
【０００９】図１及び図２において、４はノズル等の静
止型塗布治具、５、６はローラである。非磁性支持体１
は矢印ａの方向に走行する。また、図１において、回転
ロール３１は矢印ｂ１の方向に回転させる。
止型塗布治具、５、６はローラである。非磁性支持体１
は矢印ａの方向に走行する。また、図１において、回転
ロール３１は矢印ｂ１の方向に回転させる。
【００１０】図１において、回転ロール３１は、ショア
ー硬度（Ａ）が２０〜４０°の範囲にある弾性体によっ
て構成するのが望ましい。このような回転ロール３１
は、非磁性支持体１との密着性が良くかつ適度な粘着性
を有するために異物の捕捉効果が非常に高いことを分っ
た。回転ロール３１に用いられる粘着性物質としては、
塩化ビニル樹脂に高分子量可塑剤を添加したもの（明和
ゴム工業株式会社製ベタロン）が望ましい。この粘着性
物質は、洗浄等による粘着性回復を含めた繰返しの使用
に対して、一般にゴムの業界でいわれる「ほそり」が少
なく、長期間安定に使用できるものである。回転ロール
３１は回転接触面に粘着性物質を付着させるか、また
は、全体を粘着性物質によって形成することによって構
成される。
ー硬度（Ａ）が２０〜４０°の範囲にある弾性体によっ
て構成するのが望ましい。このような回転ロール３１
は、非磁性支持体１との密着性が良くかつ適度な粘着性
を有するために異物の捕捉効果が非常に高いことを分っ
た。回転ロール３１に用いられる粘着性物質としては、
塩化ビニル樹脂に高分子量可塑剤を添加したもの（明和
ゴム工業株式会社製ベタロン）が望ましい。この粘着性
物質は、洗浄等による粘着性回復を含めた繰返しの使用
に対して、一般にゴムの業界でいわれる「ほそり」が少
なく、長期間安定に使用できるものである。回転ロール
３１は回転接触面に粘着性物質を付着させるか、また
は、全体を粘着性物質によって形成することによって構
成される。
【００１１】一方、図２において、多孔性高分子でなる
クリーニング部材３２は、シート状、ブレード状の形状
で使用できる。そして多孔性高分子のみでの使用も可能
であるし、適当な支持体３３上に多孔性高分子膜として
設けてもよい。多孔性高分子素材としては耐摩耗性に優
れる発泡性ポリウレタンが特に適している。容易に入手
できる製品例としては、フジボウ愛媛（株）製パルパ
ス、ベルテック（株）製のＳＭＴ等がある。
クリーニング部材３２は、シート状、ブレード状の形状
で使用できる。そして多孔性高分子のみでの使用も可能
であるし、適当な支持体３３上に多孔性高分子膜として
設けてもよい。多孔性高分子素材としては耐摩耗性に優
れる発泡性ポリウレタンが特に適している。容易に入手
できる製品例としては、フジボウ愛媛（株）製パルパ
ス、ベルテック（株）製のＳＭＴ等がある。
【００１２】クリーニング効果を高めるためには、回転
ロール３１またはクリーニング部材３２の異物補捉性能
が問題となる。この補捉性能は、非磁性支持体１から確
実に異物を取る性能と、取った異物を回転ロール３１ま
たはクリーニング部材３２中に保持し続ける性能からな
る。
ロール３１またはクリーニング部材３２の異物補捉性能
が問題となる。この補捉性能は、非磁性支持体１から確
実に異物を取る性能と、取った異物を回転ロール３１ま
たはクリーニング部材３２中に保持し続ける性能からな
る。
【００１３】非磁性支持体１から確実に異物を取る性能
を高めるためには、非磁性支持体１と回転ロール３１ま
たはクリーニング部材３２との密着性を高めることが必
要となる。密着性を確実なものとするためには回転ロー
ル３１またはクリーニング部材３２を非磁性支持体１に
適当な圧力で押つける方法が一般的にとられるが、回転
ロール３１またはクリーニング部材３２が固い場合は、
押付けても充分な接触が得られなかったり、非磁性支持
体１に傷をつけてしまう等の問題が発生する。回転ロー
ル３１またはクリーニング部材３２が適度な弾性を有し
ていれば、非磁性支持体１の表面形状に沿って良好な接
触状態を得ることができる。例えば、ショアー硬度は２
０〜６０°の範囲にあることが望ましい。ショアー硬度
が小さい場合は（２０°未満）、密着力が強過ぎるため
にフィルム状の非磁性支持体１自体を保持しようとする
働きが強過ぎて、非磁性支持体１の走行安定性に支障を
きたす。ショアー硬度が大きい場合（４０°より大き
い）は、密着性が不足して異物の補捉性能が充分でなく
なる。
を高めるためには、非磁性支持体１と回転ロール３１ま
たはクリーニング部材３２との密着性を高めることが必
要となる。密着性を確実なものとするためには回転ロー
ル３１またはクリーニング部材３２を非磁性支持体１に
適当な圧力で押つける方法が一般的にとられるが、回転
ロール３１またはクリーニング部材３２が固い場合は、
押付けても充分な接触が得られなかったり、非磁性支持
体１に傷をつけてしまう等の問題が発生する。回転ロー
ル３１またはクリーニング部材３２が適度な弾性を有し
ていれば、非磁性支持体１の表面形状に沿って良好な接
触状態を得ることができる。例えば、ショアー硬度は２
０〜６０°の範囲にあることが望ましい。ショアー硬度
が小さい場合は（２０°未満）、密着力が強過ぎるため
にフィルム状の非磁性支持体１自体を保持しようとする
働きが強過ぎて、非磁性支持体１の走行安定性に支障を
きたす。ショアー硬度が大きい場合（４０°より大き
い）は、密着性が不足して異物の補捉性能が充分でなく
なる。
【００１４】粘着性ロールを使用したクリーニングの先
行技術として、特開昭６２ー１７１７６（富士写真フィ
ルム株式会社）があるが、この先行技術は真空中で蒸着
等を行なう際の、回転キャンをクリーニングすることが
目的であり、安定な走行性を要求される薄い非磁性支持
体から、効果的に異物を除去するための技術とは本質的
に異なるものである。
行技術として、特開昭６２ー１７１７６（富士写真フィ
ルム株式会社）があるが、この先行技術は真空中で蒸着
等を行なう際の、回転キャンをクリーニングすることが
目的であり、安定な走行性を要求される薄い非磁性支持
体から、効果的に異物を除去するための技術とは本質的
に異なるものである。
【００１５】多孔性高分子は、硬度が４０〜６５°の範
囲が非磁性支持体１への密着性が非常に良く、硬度が大
きくなると媒体に傷をつけ、小さくなると「ヘタリ」の
ために効果が発揮されなくなる。また発泡性ポリウレタ
ンは復元力が優れ（圧縮弾性率９０％以上）ており、密
着性が非常に優れたものとなっている。また開孔率は自
由に設定できる。開孔率とクリーニング効果との相関は
あまり見られないが、一般的には、開孔密度としては１
２０００個／cm2 前後のものが用いられる。
囲が非磁性支持体１への密着性が非常に良く、硬度が大
きくなると媒体に傷をつけ、小さくなると「ヘタリ」の
ために効果が発揮されなくなる。また発泡性ポリウレタ
ンは復元力が優れ（圧縮弾性率９０％以上）ており、密
着性が非常に優れたものとなっている。また開孔率は自
由に設定できる。開孔率とクリーニング効果との相関は
あまり見られないが、一般的には、開孔密度としては１
２０００個／cm2 前後のものが用いられる。
【００１６】以上に記載の回転ロール３１と多孔性高分
子でなるクリーニング部材３２はそれぞれ単独でも充分
効果がでるが、両者を組合わせて使用することも可能で
あり、それによって更に高いクリーニング効果を得るこ
とができる。
子でなるクリーニング部材３２はそれぞれ単独でも充分
効果がでるが、両者を組合わせて使用することも可能で
あり、それによって更に高いクリーニング効果を得るこ
とができる。
【００１７】
【実施例】実施例１〜９及び比較例１〜６では、７５μ
ｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムでなる非磁性支持
体上に、固形分濃度２８％の塗料を、ダイノズルを用い
て乾燥後厚み１μｍになるように塗布を行うに当たり、
塗布を行う前の段階でインラインで非磁性支持体の表面
をクリーニングした。比較例７では同様の塗布を行うに
当たり、クリーニングを行わなかった。塗布方式、クリ
ーニング条件及び発生した塗布スジの本数の詳細を表１
に示す。
ｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムでなる非磁性支持
体上に、固形分濃度２８％の塗料を、ダイノズルを用い
て乾燥後厚み１μｍになるように塗布を行うに当たり、
塗布を行う前の段階でインラインで非磁性支持体の表面
をクリーニングした。比較例７では同様の塗布を行うに
当たり、クリーニングを行わなかった。塗布方式、クリ
ーニング条件及び発生した塗布スジの本数の詳細を表１
に示す。
【００１８】上記表１において、スジ本数は幅５５０ｍ
ｍ、長さ２０００ｍ、両面塗布時の平均値である。硬度
はショアー硬度計（Ａ）を用いて測定した。密度はＪＩ
ＳＫ６５０５に準じた。粘着ロールは明和ゴム工業
（株）製のベタロンを用いた。発泡ウレタンはフジボウ
愛媛（株）製のパルパスを用いた。
ｍ、長さ２０００ｍ、両面塗布時の平均値である。硬度
はショアー硬度計（Ａ）を用いて測定した。密度はＪＩ
ＳＫ６５０５に準じた。粘着ロールは明和ゴム工業
（株）製のベタロンを用いた。発泡ウレタンはフジボウ
愛媛（株）製のパルパスを用いた。
【００１９】上記表１から明らかなように、回転ロール
の場合、ショアー硬度（Ａ）２０〜４０°の範囲にある
弾性体からなる回転ロールが、異物の捕捉効果が非常に
高い。回転ロールと非磁性支持体との密着性が良く、か
つ、適度な粘着性を有するためと推測される。
の場合、ショアー硬度（Ａ）２０〜４０°の範囲にある
弾性体からなる回転ロールが、異物の捕捉効果が非常に
高い。回転ロールと非磁性支持体との密着性が良く、か
つ、適度な粘着性を有するためと推測される。
【００２０】多孔性高分子でなるクリーニング部材の場
合は、硬度４０〜６５°の範囲の多孔性高分子が非常に
高い異物捕捉効果を示す。この硬度範囲では、非磁性支
持体への密着性が非常に良いためと推測される。硬度が
上記値よりも大きくなると非磁性支持体に傷をつけ、小
さくなると「ヘタリ」のために効果が発揮されなくな
る。多孔性高分子を用いてクリーニングする技術は、例
えばフロッピディスクの内面に多孔性高分子シートを装
着してクリーニング部材として用いる等、フロッピディ
スク等にも適用できる。
合は、硬度４０〜６５°の範囲の多孔性高分子が非常に
高い異物捕捉効果を示す。この硬度範囲では、非磁性支
持体への密着性が非常に良いためと推測される。硬度が
上記値よりも大きくなると非磁性支持体に傷をつけ、小
さくなると「ヘタリ」のために効果が発揮されなくな
る。多孔性高分子を用いてクリーニングする技術は、例
えばフロッピディスクの内面に多孔性高分子シートを装
着してクリーニング部材として用いる等、フロッピディ
スク等にも適用できる。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明に係る磁気記
録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に磁性膜を形成す
る工程を含み、非磁性支持体を、少なくとも接触面が粘
着性を有する回転ロールおよび／または少なくとも接触
面が多孔性高分子でなるクリーニング部材と接触させる
ことによってクリーニングした後、磁性膜を形成するか
ら、塗布スジの原因となる異物を効率よく確実に除去
し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を製造し得る製造方
法を提供することができる。
録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に磁性膜を形成す
る工程を含み、非磁性支持体を、少なくとも接触面が粘
着性を有する回転ロールおよび／または少なくとも接触
面が多孔性高分子でなるクリーニング部材と接触させる
ことによってクリーニングした後、磁性膜を形成するか
ら、塗布スジの原因となる異物を効率よく確実に除去
し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を製造し得る製造方
法を提供することができる。
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を示す図
である。
である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を示す図
である。
である。
１ 非磁性支持体 ２ 磁性膜 ３１ 回転ロール ３２ クリーニング部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 細萱 隆二 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に磁性膜を形成する工程
を含む磁気記録媒体の製造方法であって、 前記非磁性支持体を、少なくとも接触面が粘着性物質で
構成された回転クリーニングロールおよび／または少な
くとも接触面が多孔性高分子で構成されたクリーニング
部材と接触させることによってクリーニングした後、前
記磁性膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - 【請求項２】 前記回転ロールは、粘着性物質のショア
ー硬度（Ａ）が、２０〜４０°の範囲にある請求項１に
記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記粘着性物質は、塩化ビニル樹脂に高
分子量可塑剤を添加したものであることを特徴とする請
求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 前記多孔性高分子は、発泡性ポリウレタ
ンである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 前記磁性膜は、ノズルによる塗布方式に
よって形成される請求項１に記載の磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22835093A JP3431222B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE4429472A DE4429472A1 (de) | 1993-08-20 | 1994-08-19 | Herstellungsverfahren für ein magnetisches Aufzeichnungsmedium |
| KR1019940020505A KR950006719A (ko) | 1993-08-20 | 1994-08-19 | 자기(磁氣)기록매체의 제조방법 |
| US08/293,211 US5415889A (en) | 1993-08-20 | 1994-08-19 | Manufacturing method for a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22835093A JP3431222B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002034643A Division JP2002334429A (ja) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | クリーニング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765362A true JPH0765362A (ja) | 1995-03-10 |
| JP3431222B2 JP3431222B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=16875090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22835093A Expired - Fee Related JP3431222B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5415889A (ja) |
| JP (1) | JP3431222B2 (ja) |
| KR (1) | KR950006719A (ja) |
| DE (1) | DE4429472A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7713356B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-05-11 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
| US7718255B2 (en) | 2003-08-19 | 2010-05-18 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheets and method of cleaning with the same |
| US7793668B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-09-14 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
| US8460783B2 (en) | 2002-06-19 | 2013-06-11 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheets, transfer member having cleaning function, and method of cleaning substrate-processing apparatus with these |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3244024B2 (ja) * | 1997-06-20 | 2002-01-07 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US20060105164A1 (en) * | 2000-06-06 | 2006-05-18 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
| JP4711947B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2011-06-29 | ネオファーム、インコーポレイティッド | 安定な濾過滅菌性リポソームに被包化されたタキサン及び他の抗腫瘍剤 |
| DE102021207398A1 (de) * | 2021-07-13 | 2023-01-19 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6217176A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP22835093A patent/JP3431222B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-08-19 US US08/293,211 patent/US5415889A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-19 DE DE4429472A patent/DE4429472A1/de not_active Withdrawn
- 1994-08-19 KR KR1019940020505A patent/KR950006719A/ko not_active Ceased
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7713356B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-05-11 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
| US7793668B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-09-14 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
| US8460783B2 (en) | 2002-06-19 | 2013-06-11 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheets, transfer member having cleaning function, and method of cleaning substrate-processing apparatus with these |
| US7718255B2 (en) | 2003-08-19 | 2010-05-18 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheets and method of cleaning with the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950006719A (ko) | 1995-03-21 |
| DE4429472A1 (de) | 1995-02-23 |
| US5415889A (en) | 1995-05-16 |
| JP3431222B2 (ja) | 2003-07-28 |
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