JPH0765579A - 半導体メモリ装置 - Google Patents

半導体メモリ装置

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JPH0765579A
JPH0765579A JP6189735A JP18973594A JPH0765579A JP H0765579 A JPH0765579 A JP H0765579A JP 6189735 A JP6189735 A JP 6189735A JP 18973594 A JP18973594 A JP 18973594A JP H0765579 A JPH0765579 A JP H0765579A
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bar
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signal
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JP6189735A
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Inventor
Si-Yeol Lee
始烈 李
Hyun-Soon Jang
賢淳 張
Myung-Ho Kim
明鎬 金
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Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
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Publication date
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    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
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    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4096Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches 
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
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  • Databases & Information Systems (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 十分なプリチャージ及び等化時間を確保した
うえで高速にデータ伝送を行える半導体メモリ装置を提
供する。 【構成】 対応するビット線対(BL,バーBL)に接
続される複数の入出力線対(I/O,バーI/O)を、
第1群の選択信号CSL0、2、……によりデータ伝送
を行う第1群の入出力線対と、第2群の選択信号CSL
1、3、……によりデータ伝送を行う第2群の入出力線
対とに分け、そして、一方の群の入出力線対がデータ伝
送を行っている間に他方の群の入出力線対をプリチャー
ジ及び等化するようにした。従来では、全ての入出力線
対でデータ伝送を行った後一斉にプリチャージを行って
いたため、高速化を図るにはプリチャージ時間をできる
だけ短くしなければならず限界があった。一方、本発明
によれば、データ伝送とプリチャージを並行して行える
ので十分なプリチャージ時間を確保したうえで高速化を
図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、メモリセルに書込まれ
る、あるいはメモリセルから読出されるデータを複数の
入出力線を通じて伝送する半導体メモリ装置に関し、特
に、所定の列アドレスを用いてこのような入出力線を選
択するようになった半導体メモリ装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ装置の代表であるDRAM
(dynamic RAM)は、行アドレスストローブ信号RA
S(Row Address Strobe signal)の活性化によってラ
ッチされる行アドレス信号と列アドレスストローブ信号
CAS(Column Address Strobe signal)によってラッ
チされる列アドレス信号とに従ってワード線及びビット
線を選択し、それにより1ビット単位で構成されたメモ
リセルを選択する。そして、選択されたメモリセルに記
憶されたデータビットを読出したり、あるいは外部から
供給されるデータビット(以下、“データビット”は1
ワード又は1バイト相当のデータを構成する2進ビット
を意味するとする)を選択されたメモリセルに書込む際
には、列選択スイッチを適宜選択して入出力線対とビッ
ト線対(センスアンプを含む)を接続することで、ビッ
ト線対から入出力線対へ読出データビットを伝送し、あ
るいは半導体メモリ装置のチップ外部から供給されるデ
ータビットを入出力線対からビット線対へ伝送するよう
になっている。このデータ伝送を行う際の入出力線対
は、入出力線対を構成する2つの相補的入出力線が電荷
分配(charge sharing)により互いに逆の電位状態に展
開(develope)され、一方、データ伝送を行わない際の
入出力線対は、予め設定された電位にプリチャージ及び
等化される。
【0003】図10は、従来のDRAMにおける1つの
サブメモリセルアレイと入出力線対との間の接続関係を
示す概略回路図であって、k本のワード線WL0〜WL
k−1と、m対のビット線〔BL0,バーBL0〕〜
〔BLm−1,バーBLm−1〕と、k×m個のメモリ
セル10とで構成されたサブメモリセルアレイ、及び、
サブメモリセルアレイの各ビット線対に設けられたm個
のセンスアンプSAに列選択スイッチ20を介して接続
される入出力線対〔I/O,バーI/O〕を示してい
る。
【0004】このサブメモリセルアレイは複数に区分さ
れるメモリバンクのいずれかに属している。つまり、各
メモリバンクが複数のサブメモリセルアレイに分けられ
た構造を有する一般的なDRAMにおけるメモリバンク
のうちのいずれかのメモリバンクに属するサブメモリセ
ルアレイを示しており、折返しビット線(folded bit
line)方式を採用したものである。16Mb(メガビッ
ト)の容量を有するDRAMを例にとると、4Mbの容
量をもつメモリバンクが4つ形成され、各メモリバンク
が16個のサブメモリセルアレイにブロック化される。
したがって、この場合の図10に示すサブメモリセルア
レイは、256本(k=256)のワード線と、102
4対(m=1024)のビット線とを有した256kb
の容量をもつことになる。
【0005】サブメモリセルアレイの両サイドに配置さ
れた入出力線対、すなわち、図中左側に配置された入出
力線対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バー
I/O1〕及び図中右側に配置された入出力線対〔I/
O0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′、バーI/O
1′〕は、それぞれ隣接するサブメモリセルアレイと共
通する入出力バスを構成する。つまり、図中左側の入出
力線対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バー
I/O1〕は図中左側の入出力バスを構成し、図中右側
の入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/
O1′,バーI/O1′〕は図中右側の入出力バスを構
成する。また、各入出力バスにある入出力線対は2ビッ
トのデータを連続して伝送する。
【0006】列選択スイッチ20を制御する列選択線
(列選択信号)CSL0〜CSLi−1は、図中左右側
の各2ビットのビット線対に対応する列選択スイッチ2
0に接続されている。したがって、1本の列選択線が活
性化されると、図中左右側の各入出力バスにそれぞれ2
ビットのデータが伝送される。
【0007】図11のタイミング図に示すように、入出
力線プリチャージ信号(PRECHARGESIGNAL)によりプリ
チャージレベル(通常、電源電圧からNMOSトランジ
スタのしきい電圧を除いた値)にプリチャージ及び等化
されている入出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、
〔I/O1,バーI/O1〕、〔I/O0′,バーI/
O0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕は、列選択
線のうちのいずれか1つが論理“ハイ”に活性化される
度に論理“ハイ”あるいは論理“ロウ”に展開され、列
選択線が活性化されない間は、入出力線プリチャージ信
号によりプリチャージレベルにプリチャージ及び等化さ
れている。
【0008】例えば、列選択信号CSL0が論理“ハ
イ”に活性化されると、ビット線対〔BL0,バーBL
0〕、〔BL1,バーBL1〕に送られた2ビットのデ
ータが4個の列選択スイッチ20を介して図中左側の入
出力バス、すなわち入出力線対〔I/O0,バーI/O
0〕、〔I/O1,バーI/O1〕に伝送され、入出力
線対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI
/O1〕で各データビットの電位に従って展開動作が遂
行される。同時に、ビット線対〔BL2,バーBL
2〕、〔BL3,バーBL3〕に送られた2ビットのデ
ータが4個の列選択スイッチ20を介して図中右側の入
出力バス、すなわち入出力線対〔I/O0′,バーI/
O0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕に伝送さ
れ、入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I
/O1′,バーI/O1′〕で各データビットの電位に
従って展開動作が遂行される。
【0009】このような入出力線対〔I/O0,バーI
/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕、〔I/O
0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バーI/O
1′〕での展開動作により読出されたデータがDRAM
等に内蔵される図示せぬデータバス及びデータ出力バッ
ファへ伝送されると、次のデータ伝送に備えて、展開し
た入出力線対は入出力線プリチャージ信号によりプリチ
ャージ及び等化される。
【0010】その後、例えば列選択信号CSL1が論理
“ハイ”に活性化されると、ビット線対〔BL4,バー
BL4〕、〔BL5,バーBL5〕に送られた2ビット
のデータが入出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、
〔I/O1,バーI/O1〕に伝送され、また、ビット
線対〔BL6,バーBL6〕、〔BL7,バーBL7〕
に送られた2ビットのデータが入出力線対〔I/O
0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バーI/O
1′〕に伝送される。そして、これら入出力線対〔I/
O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕、
〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バー
I/O1′〕は、同様に展開動作を遂行する。
【0011】ところでこのような構成においては、列選
択線(列選択信号)が活性化される度に入出力バスの全
てが展開され、そしてプリチャージ及び等化されるよう
になっているため、入出力線対のプリチャージ及び等化
時間を十分に確保しにくいという問題がある。さらに
は、1本の列選択線が活性化されて2ビットずつのデー
タが両入出力バスを構成する入出力線対に展開された
後、次の2ビットデータが展開されるまでにプリチャー
ジ及び等化を行う時間が必然的に存在するため、データ
伝送及びプリチャージ動作に十分な余裕をとりにくく、
データ伝送速度を向上させるにも限界がある。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、入出力線を用いてより高速でデータ伝送を行える
ような半導体メモリ装置を提供することにある。また、
本発明の他の目的は、待機時にプリチャージ及び等化さ
れる入出力線を有する半導体メモリ装置について、プリ
チャージ及び等化を余裕をもって行えるような半導体メ
モリ装置を提供することにある。加えて、本発明の更に
他の目的は、入出力線対のプリチャージ及び等化に必要
な時間の制限を受けることなく、連続的なデータ伝送が
可能な半導体メモリ装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために本発明は、複数の入出力線対を備えてデータ伝
送を行うようになった半導体メモリ装置について、複数
の入出力線対を第1群と第2群に分けて形成し、第1群
の入出力線対を第1群の選択信号により駆動すると共に
第2群の入出力線対を第2群の選択信号により駆動し、
一方の群の入出力線対でデータ伝送が行われている間に
他方の群の入出力線対のプリチャージ及び等化を実行す
るようにして、第1群の入出力線対と第2群の入出力線
対とで交互にデータ伝送を行うことを特徴とする。
【0014】このような構成の本発明によると、第1群
の入出力線対と第2群の入出力線対とで交互にデータ伝
送とプリチャージ・等化を並行して行うようにしている
ので、従来のように入出力線対のプリチャージ時間の十
分な確保のために入出力線対を選択する選択信号の活性
時間を調整する必要がなくなり、より高速で安定したデ
ータ伝送動作を行えるようになる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付の図面を
参照して詳細に説明する。
【0016】この実施例で示すのは、高速化に伴って連
続的なデータ伝送動作を遂行するようになった高集積の
半導体メモリ装置に適した技術で、半導体メモリ装置の
外部から供給される同期クロックに応答して動作するよ
うな半導体メモリ装置に特に有用な技術である。この例
では、16Mb容量のセルアレイが4Mbの容量をもつ
4個のメモリバンクに分けられ、そして各メモリバンク
が256Kbの容量をもつ16個のサブメモリセルアレ
イにブロック化されたDRAMについて一例として説明
する。
【0017】図1及び図2は互いに連続する図で、本発
明に従う1つのサブメモリセルアレイと入出力線対との
間の接続関係を示す概略回路図である。この例における
半導体メモリ装置は256Kb容量のサブメモリセルア
レイを有するDRAMであるので、図示のサブメモリセ
ルアレイは、256本のワード線(k=256)、10
24対のビット線(m=1024)、そして256×1
024個のメモリセル10で構成された折返しビット線
形のサブメモリセルアレイである。
【0018】ビット線対〔BL0,バーBL0〕〜〔B
Lm−1,バーBLm−1〕はセンスアンプSAを備
え、列選択スイッチ20を介して入出力線対〔I/O
0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕、
〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バー
I/O1′〕に接続される。入出力線対の配置は、サブ
メモリセルアレイの図中左側に入出力線対〔I/O0,
バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕が配置さ
れて図中左側の入出力バスを構成し、サブメモリセルア
レイの図中右側に入出力線対〔I/O0′,バーI/O
0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕が配置されて
図中右側の入出力バスを構成している。つまり、入出力
線対の配置は、全てのサブメモリセルアレイについて、
サブメモリセルアレイの一方の側に第1群の入出力線対
を配置して入出力バスを構成し、他方の側に第2群の入
出力線対を配置して入出力バスを構成するようにしてい
る。
【0019】また、図1及び図2において、第1群の入
出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バ
ーI/O1〕と対応するビット線対(センスアンプSA
を含む)とを接続する列選択スイッチ20は、2ビット
単位で第1群としての偶数番目の列選択線CSL0、C
SL2、CSL4、CSL6、…につながれており、第
2群の入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、
〔I/O1′,バーI/O1′〕と対応するビット線対
(センスアンプSAを含む)とを接続する列選択スイッ
チ20は、2ビット単位で第2群としての奇数番目の列
選択線CSL1、CSL3、CSL5、CSL7、…、
CSLi−1につながれている。各列選択線は、入出力
線と直交するようにしてDRAM内の他のサブメモリセ
ルアレイも通過するように配されており、偶数番目の列
選択線は、各サブメモリセルアレイの一方の側に配置さ
れた第1群の入出力線対に接続された列選択スイッチに
つながれ、そして奇数番目の列選択線は、各サブメモリ
セルアレイの他方の側に配置された第2群の入出力線対
に接続された列選択スイッチにつながれている。
【0020】入出力線対は第1群と第2群とで相互に異
なる時間帯に展開され、またプリチャージ及び等化され
る。すなわち、例えばワード線WL0と列選択線CSL
0が活性化され、ビット線対〔BL0,バーBL0〕、
〔BL1,バーBL1〕から2ビットのデータが第1群
の入出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O
1,バーI/O1〕に伝送され、この入出力線対〔I/
O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕が
展開されている間に、第2群の入出力線対〔I/O
0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バーI/O
1′〕が該当するプリチャージ信号によりプリチャージ
及び等化される。逆に、第1群の入出力線対〔I/O
0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕がプ
リチャージ及び等化される間に、第2群の入出力線対
〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′、バー
I/O1′〕がビット線対〔BL2,バーBL2〕、
〔BL3,バーBL3〕からの2ビットのデータにより
展開される。このような方式を可能とするように各列選
択線に供給される列選択信号は、DRAMに内蔵された
アドレスカウンタから提供される列アドレスのデコーデ
ィング信号に応答して発生される。
【0021】このような入出力線駆動方式を実現するた
めの周辺回路、すなわちデコーディング手段について、
図3〜図6を参照して次に説明する。
【0022】図3は、図1及び図2に示す列選択線に供
給される列選択信号(以下、“CSL0、CSL1、
…”で表す)の発生に必要な列アドレスのプリデコーデ
ィング信号を発生する列プリデコーダの回路を示す。ま
ず、同図を参照して列プリデコーダから説明する。
【0023】第1プリデコーダ部100は、行アドレス
ストローブ信号バーRASに連動する行関連信号の発生
完了状態に応答し、列アドレスストローブ信号バーCA
Sに関連するCASチェーンを駆動させる信号φYE
と、ブロック選択に関連する列アドレス信号CA11
(単一のメモリバンク構造の場合には行アドレス信号を
使用できる)と、2つの列アドレス信号CA0、CA1
と、を入力とし、列アドレス信号CA0、CA1の論理
状態に応答する列プリデコーディング信号群バーDCA
01、 DCAバー01、CA0バー1、DCA01を発
生する。
【0024】第2プリデコーダ部200は、前記の列ア
ドレス信号CA11と、2つの列アドレス信号CA2、
CA3と、を入力とし、列アドレス信号CA2、CA3
の論理状態に応答する列プリデコーディング信号群バー
DCA23、DCAバー23、DCA2バー3、DCA
23を発生する。
【0025】第3プリデコーダ部300は、前記の列ア
ドレス信号CA11と、2つの列アドレス信号CA4、
CA5と、を入力とし、列アドレス信号CA4、CA5
の論理状態に応答する列プリデコーディング信号群バー
DCA45、DCAバー45、DCA4バー5、DCA
45を発生する。
【0026】第4プリデコーダ部400は、前記の列ア
ドレス信号CA11と、2つの列アドレス信号CA6、
CA7と、を入力とし、列アドレス信号CA6、CA7
の論理状態に応答する列プリデコーディング信号群バー
DCA67、DCAバー67、DCA6バー7、DCA
67を発生する。
【0027】第5プリデコーダ部500は、前記の列ア
ドレス信号CA11と、列アドレス信号CA8と、を入
力とし、列アドレス信号CA8の論理状態に応答する列
プリデコーディング信号群DCA8、バーDCA8を発
生する。
【0028】このように、列プリデコーダに入力される
列アドレス信号数が全部で9個あれば、図1及び図2に
示すような1つのサブメモリセルアレイを構成する10
24対のビット線に対応する512個の列選択信号を発
生し得る。尚、前述のように、列アドレス信号CA11
は該当するサブメモリセルアレイの選択に関わる列アド
レス信号である。
【0029】各部について更に詳述すると、第1プリデ
コーダ部100は、信号φYEを共通の入力とすると共
に列アドレス信号バーCA0、CA0を各入力とするN
ANDゲート32、38と、列アドレス信号CA11を
共通の入力とすると共に列アドレス信号CA1、バーC
A1を各入力とするNANDゲート34、36と、NA
NDゲート32、34、36、38の出力信号をそれぞ
れ反転させるインバータ33、35、37、39と、イ
ンバータ33の出力信号を共通の入力とすると共にイン
バータ37、35の出力信号を各入力とするNANDゲ
ート42、44と、インバータ39の出力信号を共通の
入力とすると共にインバータ37、35の出力信号を各
入力とするNANDゲート46、48と、NANDゲー
ト42、44、46、48の出力信号の論理整形を行う
ために2個ずつ直列接続して設けられ、列プリデコーデ
ィング信号バーDCA01、DCAバー01、DCA0
バー1、DCA01をそれぞれ発生するインバータ43
/51、45/52、47/53、49/54と、から
構成されている。
【0030】第2プリデコーダ部200〜第4プリデコ
ーダ部400は同様の内部構成を有している。代表的に
第2部分プリデコーダ200の構成を説明すると、列ア
ドレス信号バーCA2、CA2の各論理状態をそれぞれ
反転させるインバータ61、63と、列アドレス信号C
A11を共通の入力とすると共に列アドレス信号CA
3、バーCA3を各入力とするNANDゲート62、6
4と、インバータ61の出力信号を共通の入力とすると
共にNANDゲート64、62の出力信号を各入力とす
るNORゲート66、68と、インバータ63の出力信
号を共通の入力とすると共にNANDゲート64、62
の出力信号を各入力とするNORゲート72、74と、
NORゲート66、68、72、74の出力信号の論理
整形を行うために2個ずつ直列接続して設けられ、列プ
リデコーディング信号バーDCA23、DCAバー2
3、DCA2バー3、DCA23を発生するインバータ
65/73、67/75、69/77、71/78と、
から構成されている。
【0031】第5プリデコーダ部500は、列アドレス
信号CA11を共通の入力とすると共に列アドレス信号
CA8、バーCA8を各入力とするNANDゲート8
2、84と、NANDゲート82の出力信号を論理整形
及び反転させて列プリデコーディング信号DCA8を発
生する直列接続されたインバータ83、87、91と、
NANDゲート84の出力信号を論理整形及び反転させ
て列プリデコーディング信号バーDCA8を発生する直
列接続されたインバータ85、89、93と、から構成
される。
【0032】以上のような回路から発生される多数の列
プリデコーディング信号は、図4に示す列選択回路に供
給される。
【0033】図4の列選択回路600は、本発明を適用
したDRAMで図3の列プリデコーダから発生される列
プリデコーディング信号を入力として512個の列選択
信号を発生する列選択回路について、8個の列選択信号
CSL0〜CSL7を発生する一部分を示したものであ
る。すなわち、512個の列選択信号を発生させるため
には、図4に示すような回路が64個必要となる。
【0034】図4に示すように、2入力をもつ8個のN
ORゲート132、134、…、144、146が、図
3の列プリデコーダから供給される列プリデコーディン
グ信号の論理組合せを行うために備えられている。各N
ORゲートの出力信号は、2個ずつ直列接続されたイン
バータ133/149、135/151、…、145/
161、147/163をそれぞれ通じて列選択信号C
SL0〜CSL7として出力される。また、NORゲー
ト132、134、…、144、146の一方の入力
は、図3の第1プリデコーダ部100から供給される列
プリデコーディング信号バーDCA01、DCAバー0
1、DCA0バー1、DCA01となる。すなわち、列
プリデコーディング信号バーDCA01は第1及び第5
NORゲート132、140の1入力、列プリデコーデ
ィング信号DCA0バー1は第2及び第6NORゲート
134、142の1入力、列プリデコーディング信号D
CAバー01は第3及び第7NORゲート136、14
4の1入力、列プリデコーディング信号DCA01は第
4及び第8NORゲート138、146の1入力として
それぞれ供給される。
【0035】一方、NORゲートの他方の入力端子は、
図3の列プリデコーダから供給される列プリデコーディ
ング信号バーDCA23、DCA2バー3、バーDCA
45、バーDCA67、バーDCA8の論理状態によっ
て電位決定される第1制御ノード601、第2制御ノー
ド602に対応接続されている。すなわち、第1〜第4
NORゲート132、134、136、138の入力端
子は第1制御ノード601に接続され、第5〜第8NO
Rゲート140、142、144、146の入力端子は
第2制御ノード602に接続される。
【0036】第1制御ノード601と電源供給電圧端
(Vcc)との間には、列プリデコーディング信号バー
DCA45、バーDCA67、バーDCA8、バーDC
A23を各ゲートに受ける4個のp形MOSトランジス
タ102、104、106、108が並列に接続されて
いる。また、第2制御ノード602と電源供給電圧端
(Vcc)との間には、列プリデコーディング信号バー
DCA45、バーDCA67、バーDCA8、DCA2
バー3を各ゲートに受ける4個のp形MOSトランジス
タ112、114、116、118が並列に接続されて
いる。さらに、第1制御ノード601と第3制御ノード
603との間に列プリデコーディング信号バーDCA2
3をゲートに受けるn形MOSトランジスタ110が接
続され、第2制御ノード602と第3制御ノードとの間
に列プリデコーディング信号DCA2バー3をゲートに
受けるn形MOSトランジスタ120が接続される。そ
して、第3制御ノード603と接地電圧端(GND)と
の間には、列プリデコーディング信号バーDCA45、
バーDCA67、バーDCA8を各ゲートに受ける3個
のn形MOSトランジスタ122、124、126が直
列に接続される。
【0037】このような列選択回路を通じて発生される
列選択信号CSL0〜CSL7は、図1及び図2に示す
列選択線にそれぞれ供給される。
【0038】図5は、本発明に従って入出力線対をプリ
チャージ及び等化するためのプリチャージ信号IOPR
I、バーIOPRIを発生する入出力線プリチャージ信
号発生回路700を示す図である。列アドレス信号CA
0は、ブロック選択に関連する列アドレス信号CA11
を入力とするNANDゲート172を介して入力され
る。また、列アドレス信号バーCA0は、ブロック選択
に関連する列アドレス信号CA11を入力とするNAN
Dゲート174を介して入力される。これらNANDゲ
ート172、174は、列アドレスの入力に従って列関
連回路を駆動させる信号φYEによってエネーブル・デ
ィスエーブルされる。
【0039】そして、NANDゲート172の出力信号
は、インバータ173、NANDゲート188、インバ
ータ189、190、及びNANDゲート191で構成
された遅延設定回路を通過することにより、列アドレス
信号CA0の入力から所定時間遅延された後に列アドレ
ス信号CA0より短いパルス幅を有する信号としてNA
NDゲート191から出力される。このNANDゲート
191の出力信号は、インバータ197、198を通過
してからNANDゲート210に入力される。一方、N
ANDゲート174の出力信号は、インバータ175、
NANDゲート192、インバータ194、195、及
びNANDゲート196で構成された遅延設定回路を通
過することにより、列アドレス信号バーCA0の入力か
ら所定時間遅延された後に列アドレス信号バーCA0よ
り短いパルス幅を有する信号としてNANDゲート19
6から出力される。このNANDゲート196の出力信
号は、インバータ200、201を通過してからNAN
Dゲート212に入力される。
【0040】NANDゲート172、174に対する各
遅延設定回路に属するNANDゲート188、192に
は、DRAMに実装されたバーCASバッファで発生さ
れ、列アドレス信号の発生完了を知らせる信号φCPが
共通に入力される。また、信号φCPは更に、インバー
タ186を通過した後、インバータ193、199とN
ANDゲート205とで構成された遅延設定回路を通じ
てNANDゲート210、212に共通に入力される。
【0041】NANDゲート210の出力信号は、イン
バータ213、217を通じて入出力線プリチャージ信
号IOPRIとして発生される。また、NANDゲート
212の出力信号は、インバータ215、219を通
じ、入出力線プリチャージ信号IOPRIに対して相補
的な論理状態を有する入出力線プリチャージ信号バーI
OPRIとして発生される。
【0042】図6は、図5に示す回路700で発生され
た入出力線プリチャージ信号IOPRI、バーIOPR
Iと入出力線対との接続関係を示す図である。同図に示
すように、入出力線プリチャージ信号バーIOPRI
は、第1群の入出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、
〔I/O1,バーI/O1〕のプリチャージ及び等化に
関係し、入出力線プリチャージ信号IOPRIは、第2
群の入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I
/O1′,バーI/O1′〕のプリチャージ及び等化に
関係する。入出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、
〔I/O1,バーI/O1〕、〔I/O0′,バーI/
O0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕にはそれぞ
れ、等化用のp形MOSトランジスタ236、238、
232、234と、電源供給電圧Vccをプリチャージ
用電源とし、3個のn形MOSトランジスタで構成され
たプリチャージ回路246、248、242、244
と、ビット線プリチャージ及び等化電圧VBLをプリチ
ャージ用電源として3個のn形MOSトランジスタで構
成され、ブロック選択信号BLSに応答して動作するブ
ロックプリチャージ回路256、258、252、25
4と、が設けられている。
【0043】ブロックプリチャージ回路を構成するn形
MOSトランジスタのゲートはインバータ225を通じ
てブロック選択信号BLSを受ける。第1群の入出力線
対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/
O1〕に属する等化用のp形MOSトランジスタ23
6、238のゲートは、ブロック選択信号BLSと入出
力線プリチャージ信号バーIOPRIとを入力とするN
ANDゲート222の出力端に接続され、また、第2群
の入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/
O1′,バーI/O1′〕に属する等化用のp形MOS
トランジスタ232、234のゲートは、ブロック選択
信号BLSと入出力線プリチャージ信号IOPRIとを
入力とするNANDゲート224の出力端に接続され
る。さらに、第1群の入出力線対〔I/O0,バーI/
O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕に属するプリチャ
ージ回路246、248を構成するn形MOSトランジ
スタのゲートは、NANDゲート222の出力信号を反
転するインバータ227の出力端に接続され、また、第
2群の入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、
〔I/O1′,バーI/O1′〕に属するプリチャージ
回路242、244を構成するn形MOSトランジスタ
のゲートは、NANDゲート224の出力信号を反転す
るインバータ229の出力端に接続される。
【0044】次に、図7及び図8を参照して、この例の
入出力線対駆動に関する動作について説明する。この図
7及び図8のタイミング図に示すDRAMの動作方式
は、チップの外部から供給される同期クロックCLKに
従って種々のデータアクセス動作を行う同期式DRAM
に本発明を適用した場合の例で、本発明が、高速化され
るであろう将来のメモリ装置等に非常に有用な技術であ
ることが分かるものである。本実施例のDRAMは、上
述のようにセルアレイが4つのメモリバンクから構成さ
れ、これらメモリバンクは2つずつ1組として動作する
ようにされている。この2組のメモリバンクは交互に選
択され、そのための選択信号として12ビットの列アド
レス信号CA0〜CA11の最上位ビットである列アド
レス信号CA11を使用する。そして、図1及び図2に
示すサブメモリセルアレイを含む組のメモリバンクは列
アドレス信号CA11の論理“ハイ”で選択されるもの
とする。つまり、この例のサブメモリセルアレイの選択
に際しては、列アドレス信号の最上位ビットである列ア
ドレス信号CA11が論理“ハイ”となり、第1〜第5
プリデコーダ部100〜500、入出力線プリチャージ
信号発生回路700がエネーブルされる。
【0045】同期クロックCLKの所定番目のパルスで
列アドレスCAがラッチされると、その後、内部のアド
レスカウンタが動作することにより列アドレス信号CA
0〜CA8が発生される。本欄の説明では、便宜上、8
個の列選択信号CSL0〜CSL7を発生するのに必要
な3個の列アドレス信号CA0、CA1、CA2の論理
組合せによる信号の発生について説明し、この間、他の
列アドレス信号CA3〜CA8は論理“ロウ”であると
する。
【0046】したがって、図3の第3、第4、第5プリ
デコーダ部300、400、500から発生され、図4
のn形MOSトランジスタ122、124、126の各
ゲートに印加される列プリデコーディング信号バーDC
A45、バーDCA67、バーDCA8は全部論理“ハ
イ”となり、図4の第3制御ノード603は接地電圧端
(GND)と接続される。
【0047】さらに、図7及び図8において、図1及び
図2のサブメモリセルアレイが選択される前はブロック
選択信号BLSが論理“ロウ”で、この場合、該サブメ
モリセルアレイに属する全ての入出力線対〔I/O0,
バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕、〔I/
O0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バーI/O
1′〕は、図6に示すようにブロック選択信号BLSに
制御されるブロックプリチャージ回路252、254、
256、258を有するので、VBL−VTH(VTHはn
形MOSトランジスタのしきい電圧)の電位にプリチャ
ージされる。
【0048】そして、図1及び図2のサブメモリセルア
レイが選択された場合にはブロック選択信号BLSが論
理“ハイ”となるので、入出力線対は、列アドレス信号
CA0、バーCA0の論理状態に応答する入出力線プリ
チャージ信号IOPRI、バーIOPRIによって制御
される等化用のp形MOSトランジスタ232、23
4、236、238及びプリチャージ回路242、24
4、246、248によってプリチャージ及び等化され
る。
【0049】ブロック選択信号BLSが論理“ハイ”と
なって図1及び図2のサブメモリセルアレイが選択され
ると、列選択信号CSL0〜CSL7が順次に活性化さ
れる。その際のプリチャージ期間に関して説明する。こ
のとき、信号φYEは論理“ハイ”に活性化されている
ので、図3の列プリデコーダから列プリデコーディング
信号が発生する。すなわち、列アドレス信号CA0、C
A1、CA2が全部論理“ロウ”の場合には、列プリデ
コーディング信号バーDCA01は論理“ロウ”、列プ
リデコーディング信号DCAバー01、DCA0バー
1、DCA01は全部論理“ハイ”となるので、図4の
回路で第1NORゲート132及び第5NORゲート1
40を除いた残りのNORゲートはディスエーブルされ
る。一方、列プリデコーディング信号バーDCA23が
論理“ハイ”、列プリデコーディング信号DCA2バー
3が論理“ロウ”となるので、図4の回路で第1制御ノ
ード601の電位は論理“ロウ”、第2制御ノード60
2の電位は論理“ハイ”となる。したがって、図4の第
1NORゲート132の出力信号のみが論理“ハイ”と
なることにより、列選択信号CSL0のみが論理“ハ
イ”に活性化され、残りの列選択信号CSL1〜CSL
7は全部論理“ロウ”に非活性化される。
【0050】図1及び図2においてワード線WL0が選
択されたと仮定すれば、活性化される列選択信号CSL
0により、ビット線対〔BL0,バーBL0〕、〔BL
1,バーBL1〕に送られた2ビットのデータが4個の
列選択スイッチ20を通じて第1群の入出力線対〔I/
O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕に
伝送される。これら第1群の入出力線対〔I/O0,バ
ーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕は、伝送さ
れるデータの電位に従って展開動作を遂行する。このと
き、選択対象でない入出力線対、すなわち第2群の入出
力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/O
1′,バーI/O1′〕のプリチャージ及び等化に関係
する入出力線プリチャージ信号IOPRIは、図5に示
すように、列アドレス信号CA0が論理“ロウ”なので
論理“ハイ”で発生し、図6から分かるように、p形M
OSトランジスタ232、234とプリチャージ回路2
42、244をエネーブルさせる。したがって、列選択
信号CSL0の活性化により第1群の入出力線対〔I/
O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕が
展開動作を行う間に、第2群の入出力線対〔I/O
0′,バーI/O0′〕、〔I/O1′,バーI/O
1′〕は、活性化された入出力線プリチャージ信号IO
PRIによりVcc−VTHの電位にプリチャージ及び等
化される。
【0051】次に、列アドレス信号CA0が論理“ハ
イ”となると、図3の列プリデコーダから列プリデコー
ディング信号DCA0バー1のみが論理“ハイ”で出力
され、残りの列プリデコーディング信号バーDCA0
1、DCAバー01、DCA01は全て論理“ハイ”と
なる。このとき、列プリデコーディング信号バーDCA
23、DCA2バー3は依然としてそれぞれ論理“ハ
イ”及び“ロウ”である。したがって、図4の第2NO
Rゲート134のみがエネーブルされ、残りのNORゲ
ートは全部ディスエーブルされた状態となる。そして第
2NORゲート134の入力が全て論理“ロウ”なの
で、列選択信号CSL1が論理“ハイ”に活性化され
る。
【0052】このように列選択信号CSL1が活性化さ
れると、図1及び図2において、ビット線対〔BL2,
バーBL2〕、〔BL3,バーBL3〕に送られた2ビ
ットのデータが、4個の列選択スイッチ20を通じて第
2群の入出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、
〔I/O1′,バーI/O1′〕に伝送される。したが
って、第2群の入出力線対〔I/O0′,バーI/O
0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕は伝送される
データの電位に従って展開動作を遂行する。このとき、
選択対象でない入出力線対、すなわち第1群の入出力線
対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O1,バーI/
O1〕のプリチャージ及び等化に関係する入出力線プリ
チャージ信号バーIOPRIは、図5に示すように、列
アドレス信号CA0が論理“ハイ”なので論理“ハイ”
で発生され、図6から分かるように、p形MOSトラン
ジスタ236、238とプリチャージ回路246、24
8をエネーブルさせる。したがって、列選択信号CSL
1の活性化により第2群の入出力線対〔I/O0′,バ
ーI/O0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕が展
開動作を行う間、第1群の入出力線対〔I/O0,バー
I/O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕は、活性化さ
れた入出力線プリチャージ信号バーIOPRIによりV
cc−VTHの電位にプリチャージ及び等化される。
【0053】他の列選択信号CSL2〜CSL7につい
ても、図8に示すように上記と同様の過程を通じて順次
に発生する。そして、偶数番目(第1群)の列選択信号
CSL0、CSL2、CSL4、CSL6のいずれかが
活性化され、第1群の入出力線対〔I/O0,バーI/
O0〕、〔I/O1,バーI/O1〕の展開が行われる
間に、第2群の入出力線対〔I/O0′,バーI/O
0′〕、〔I/O1′,バーI/O1′〕は、活性化さ
れる入出力線プリチャージ信号IOPRIによってプリ
チャージ及び等化されることが分かる。その反対に、奇
数番目(第2群)の列選択信号CLS1、CSL3、C
SL5、CSL7のいずれかが活性化され、第2群の入
出力線対〔I/O0′,バーI/O0′〕、〔I/O
1′,バーI/O1′〕の展開が行われる間に、第1群
の入出力線対〔I/O0,バーI/O0〕、〔I/O
1,バーI/O1〕は、活性化される入出力線プリチャ
ージ信号バーIOPRIによりプリチャージ及び等化さ
れる。
【0054】このように、サブメモリセルアレイの両側
に配置した第1群、第2群の入出力線対(入出力バス)
を相補的な時間帯で展開/プリチャージ及び等化するよ
うにしたことにより、従来のようにプリチャージ及び等
化時間を十分に確保するために列選択信号の非活性化時
点を早め且つ活性化時刻を遅くするよう考慮する必要が
なくなる。すなわち、入出力線対のプリチャージ及び等
化に十分な時間を確保したうえで、列選択信号の活性・
非活性時間を早めることができる。したがって、入出力
線対のプリチャージ時間を考慮したデータ伝送時間の遅
延及び障害を排除でき、入出力バスが接続されるデータ
バスを通じてより高速に連続してデータを出力すること
が可能となる。
【0055】尚、図9に、連続図面である図1及び図
2、図7及び図8の各関係を示しておく。
【0056】上述の実施例では、メモリセルから入出力
線対にデータが伝送される過程についてのみ説明した
が、チップ外部から提供されるデータを入出力線対を通
じてメモリセルに伝送する場合にも、同様の列選択信号
発生による入出力線対の駆動が可能である。また、入出
力線対を第1群と第2群に区分してサブメモリセルアレ
イの両側に分割配置し、第1群と第2群の列選択信号を
これに対応して発生させ、その際に列アドレス信号を2
進計数方式で発生する例を説明したが、2進計数方式で
はなく、よく知られたインタリーブ方式で列アドレス信
号を発生させるものでも本発明を適用できることは、こ
の技術分野で通常の知識を有する者なら容易に分かるこ
とである。
【0057】
【発明の効果】以上述べてきたように本発明は、選択対
象の入出力線対によるデータ伝送が行われている間に選
択対象外の入出力線のプリチャージ及び等化を行うよう
にしたことで、入出力線対のプリチャージ時間を十分に
確保して安定したデータ伝送を高速で行うことが可能と
なる。したがって、更なる高速化が要求される今後のD
RAM等の半導体メモリ装置に対し、有効な入出力線駆
動及びプリチャージ方式を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における半導体メモリ装置のサ
ブメモリセルアレイと入出力線対との間の接続関係を示
す回路図。
【図2】図1に続く残りの部分を示す回路図。
【図3】本発明の実施例において使用される列プリデコ
ーダの回路図。
【図4】図3の列プリデコーダによる列プリデコーディ
ング信号に応答して列選択信号を発生する列選択回路の
一部を示す回路図。
【図5】本発明の実施例において入出力線プリチャージ
信号を発生する入出力線プリチャージ信号発生回路を示
す回路図。
【図6】本発明の実施例において入出力線対をプリチャ
ージ及び等化するための回路を示す回路図。
【図7】本発明の実施例における入出力線対の駆動につ
いてのタイミングを説明する電圧波形図。
【図8】図7に続く電圧波形図。
【図9】図1及び図2、図7及び図8の関係を説明する
ブロック図。
【図10】従来の半導体メモリ装置におけるサブメモリ
セルアレイと入出力線対との間の接続関係を示す回路
図。
【図11】図10に示す半導体メモリ装置における入出
力線の駆動についてのタイミングを説明する電圧波形
図。
【符号の説明】
10 メモリセル 20 列選択スイッチ 100 第1プリデコーダ部 200 第2プリデコーダ部 300 第3プリデコーダ部 400 第4プリデコーダ部 500 第5プリデコーダ部 600 列選択回路 700 入出力線プリチャージ信号発生回路 232、234、236、238 等化用p形MOSト
ランジスタ 242、244、246、248 プリチャージ回路 252、254、256、258 ブロックプリチャー
ジ回路 WL ワード線 BL ビット線 I/O 入出力線 CSL 列選択線(列選択信号) DCA 列プリデコーディング信号 CA 列アドレス信号 IOPRI 入出力線プリチャージ信号 SA センスアンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11C 11/34 362 H

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数のビット線対に接続された複数の入
    出力線対を介してメモリセルのデータ読出/書込を行う
    ようになった半導体メモリ装置において、 複数の入出力線対を、第1群の選択信号によりデータ伝
    送を行う第1群の入出力線対と、第2群の選択信号によ
    りデータ伝送を行う第2群の入出力線対とに分け、そし
    て、一方の群の入出力線対がデータ伝送を行っている間
    に他方の群の入出力線対をプリチャージ及び等化するよ
    うにしたことを特徴とする半導体メモリ装置。
  2. 【請求項2】 セルアレイを多数のサブメモリセルアレ
    イにブロック化した構造を有する半導体メモリ装置にお
    いて、 サブメモリセルアレイの両側にそれぞれ配置されると共
    に当該サブメモリセルアレイ内の対応するビット線対に
    接続されてメモリセルに対するデータ伝送を行う第1群
    の入出力線対及び第2群の入出力線対と、一方の群の入
    出力線対でデータ伝送を行っている間に他方の群の入出
    力線対のプリチャージ及び等化を行うように制御するデ
    コーディング手段と、を備えることを特徴とする半導体
    メモリ装置。
  3. 【請求項3】 セルアレイを複数のサブメモリセルアレ
    イにブロック化してその各サブメモリセルアレイの両側
    に入出力線対を配置し、これら入出力線対を介してサブ
    メモリセルアレイ内のメモリセルに対するデータ伝送を
    行うようになった半導体メモリ装置において、 サブメモリセルアレイの一方の側に配置された入出力線
    対と対応するビット線対との接続選択を行う列選択スイ
    ッチを第1群の列選択信号により制御し、且つサブメモ
    リセルアレイの他方の側に配置された入出力線対と対応
    するビット線対との接続選択を行う列選択スイッチを第
    2群の列選択信号により制御し、そして、第1群と第2
    群の列選択信号を交互に活性化すると共に非活性化群の
    列選択信号に対応した側の入出力線対に対しプリチャー
    ジ及び等化を行うようにして、サブメモリセルアレイの
    両側に配置された入出力線対で交互にデータ伝送を行う
    ようにしたことを特徴とする半導体メモリ装置。
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