JPH0766266A - 基板搬送装置における集塵装置 - Google Patents
基板搬送装置における集塵装置Info
- Publication number
- JPH0766266A JPH0766266A JP23542193A JP23542193A JPH0766266A JP H0766266 A JPH0766266 A JP H0766266A JP 23542193 A JP23542193 A JP 23542193A JP 23542193 A JP23542193 A JP 23542193A JP H0766266 A JPH0766266 A JP H0766266A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dust
- collector
- substrate
- electrode
- substrate transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 微粒子コレクターを清浄な状態に自己再生で
きるメンテナンス性に優れた基板搬送装置における集塵
装置を提供する。 【構成】 基板の搬送方向と直交する方向に配列された
複数の集塵電極6を有する微粒子コレクター1を基板搬
送装置の搬送経路上に配置し、微粒子コレクター1の個
々の集塵電極6の極性を切換可能な極性制御部4を設け
た。
きるメンテナンス性に優れた基板搬送装置における集塵
装置を提供する。 【構成】 基板の搬送方向と直交する方向に配列された
複数の集塵電極6を有する微粒子コレクター1を基板搬
送装置の搬送経路上に配置し、微粒子コレクター1の個
々の集塵電極6の極性を切換可能な極性制御部4を設け
た。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板収納カセットから
取り出した基板を基板処理室に搬送する基板搬送装置に
関わり、特に、基板搬送装置によって搬送される基板の
ダストを集塵する集塵装置に関するものである。
取り出した基板を基板処理室に搬送する基板搬送装置に
関わり、特に、基板搬送装置によって搬送される基板の
ダストを集塵する集塵装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、基板処理工程、特に半導体ウエ
ハの処理工程では、ウエハの大口径化や生産性・歩留り
の向上を図るため、ウエハカセットから一枚ずつウエハ
を取り出して処理室に供給し、処理終了後は再び処理室
からウエハを取り出してウエハカセットに収納する自動
搬送方式が主流となっている。このような自動搬送方式
では、搬送系の周辺エリアを清浄化して発塵源をおさ
え、ウエハへのダスト付着を防止する対策が講じられて
きたが、半導体パターンの微細化が進む中で、発塵をお
さえるだけでは不十分となっている。このため最近で
は、静電気を利用して、ウエハに付着したダストを搬送
途中で強制的に取り除く搬送装置が提案されている。
ハの処理工程では、ウエハの大口径化や生産性・歩留り
の向上を図るため、ウエハカセットから一枚ずつウエハ
を取り出して処理室に供給し、処理終了後は再び処理室
からウエハを取り出してウエハカセットに収納する自動
搬送方式が主流となっている。このような自動搬送方式
では、搬送系の周辺エリアを清浄化して発塵源をおさ
え、ウエハへのダスト付着を防止する対策が講じられて
きたが、半導体パターンの微細化が進む中で、発塵をお
さえるだけでは不十分となっている。このため最近で
は、静電気を利用して、ウエハに付着したダストを搬送
途中で強制的に取り除く搬送装置が提案されている。
【0003】図6はこの種の基板搬送装置を説明する図
である。図においては、複数の基板33が収納された基
板収納カセット30と、基板33に所定の処理を施すた
めの基板処理室31との間に基板搬送装置32が設置さ
れている。この基板搬送装置32は、基板収納カセット
30から一枚ずつ基板33を取り出して基板処理室31
に供給するものである。ここで、基板処理室31の入口
近傍には集塵装置34が設置されており、基板搬送装置
32によって搬送される基板33のダストはこの集塵装
置34によって集塵されるようになっている。
である。図においては、複数の基板33が収納された基
板収納カセット30と、基板33に所定の処理を施すた
めの基板処理室31との間に基板搬送装置32が設置さ
れている。この基板搬送装置32は、基板収納カセット
30から一枚ずつ基板33を取り出して基板処理室31
に供給するものである。ここで、基板処理室31の入口
近傍には集塵装置34が設置されており、基板搬送装置
32によって搬送される基板33のダストはこの集塵装
置34によって集塵されるようになっている。
【0004】図7は従来の基板搬送装置における集塵装
置の構成を示す概略図である。図示した集塵装置は、微
粒子コレクター40と電源部41とを有しており、この
うち微粒子コレクター40は、図示せぬ基板の大きさに
応じて形成された単一の集塵電極42と、この集塵電極
42を被覆する絶縁材43とによって構成されている。
また、集塵電極42の電極電位は、電源部41との電気
的な接続によって常に負電位に維持されており、これに
よってウエハに付着したダストが、微粒子コレクター4
0を通過する際の静電吸着力によって吸い寄せられ、コ
レクター側に吸着されるようになっている。
置の構成を示す概略図である。図示した集塵装置は、微
粒子コレクター40と電源部41とを有しており、この
うち微粒子コレクター40は、図示せぬ基板の大きさに
応じて形成された単一の集塵電極42と、この集塵電極
42を被覆する絶縁材43とによって構成されている。
また、集塵電極42の電極電位は、電源部41との電気
的な接続によって常に負電位に維持されており、これに
よってウエハに付着したダストが、微粒子コレクター4
0を通過する際の静電吸着力によって吸い寄せられ、コ
レクター側に吸着されるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の集塵装置においては、基板から吸着したダストが集塵
回数を重ねるうちに微粒子コレクターに蓄積して、基板
に対するコレクターの清浄機能が著しく損なわれたり、
コレクターに蓄積したダストが逆に基板の汚染源に成り
兼ねないという問題があった。したがって従来装置で
は、微粒子コレクターで吸着したダストを装置外部に排
出するため、人手に頼って頻繁に微粒子コレクターを清
掃しなければならないなど、メンテナンスの面で難点が
あった。
の集塵装置においては、基板から吸着したダストが集塵
回数を重ねるうちに微粒子コレクターに蓄積して、基板
に対するコレクターの清浄機能が著しく損なわれたり、
コレクターに蓄積したダストが逆に基板の汚染源に成り
兼ねないという問題があった。したがって従来装置で
は、微粒子コレクターで吸着したダストを装置外部に排
出するため、人手に頼って頻繁に微粒子コレクターを清
掃しなければならないなど、メンテナンスの面で難点が
あった。
【0006】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、その目的は、微粒子コレクターを清浄な状
態に自己再生できるメンテナンス性に優れた基板搬送装
置における集塵装置を提供することにある。
れたもので、その目的は、微粒子コレクターを清浄な状
態に自己再生できるメンテナンス性に優れた基板搬送装
置における集塵装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、複数の基板が収納された
基板収納カセットから基板を一枚ずつ取り出して基板処
理室に搬送する基板搬送装置において、基板搬送装置に
よって搬送される基板に付着したダストを集塵する集塵
装置であって、基板搬送装置の搬送経路上に配置され、
基板の搬送方向と直交する方向に配列された複数の集塵
電極を有する微粒子コレクターと、微粒子コレクターの
個々の集塵電極の極性を切換可能な極性制御部とを備え
たものである。また、上記複数の集塵電極は、2つおき
に電気的に接続された3つの電極群を備え、上記極性制
御部は、ダスト集塵の際は3つの電極群の各電極電位を
全て負電位に設定するとともに、コレクター再生の際は
3つの電極群の各電極電位を正電位、負電位、接地電位
の間で順に切り換えるものである。。さらに、集塵電極
の各電極電位の切り換えによって微粒子コレクターの端
部に集められたダストを基板搬送装置の外部に排出する
排出手段を設けたものである。
成するためになされたもので、複数の基板が収納された
基板収納カセットから基板を一枚ずつ取り出して基板処
理室に搬送する基板搬送装置において、基板搬送装置に
よって搬送される基板に付着したダストを集塵する集塵
装置であって、基板搬送装置の搬送経路上に配置され、
基板の搬送方向と直交する方向に配列された複数の集塵
電極を有する微粒子コレクターと、微粒子コレクターの
個々の集塵電極の極性を切換可能な極性制御部とを備え
たものである。また、上記複数の集塵電極は、2つおき
に電気的に接続された3つの電極群を備え、上記極性制
御部は、ダスト集塵の際は3つの電極群の各電極電位を
全て負電位に設定するとともに、コレクター再生の際は
3つの電極群の各電極電位を正電位、負電位、接地電位
の間で順に切り換えるものである。。さらに、集塵電極
の各電極電位の切り換えによって微粒子コレクターの端
部に集められたダストを基板搬送装置の外部に排出する
排出手段を設けたものである。
【0008】
【作用】本発明の基板搬送装置における集塵装置におい
ては、極性制御部が微粒子コレクターの3つの電極群の
各電極電位を全て負電位に設定することにより、ウエハ
に付着したダストが微粒子コレクターに静電吸着され
る。また、極性制御部が微粒子コレクターの3つの電極
群の各電極電位を正電位、負電位、接地電位の間で順に
切り換えることにより、微粒子コレクターに吸着された
ダストが順次移動してコレクター端部に集められ、これ
により基板に対する微粒子コレクターの対向面が清浄な
状態に自己再生される。さらに、コレクター端部に集め
られたダストは排出手段によって基板搬送装置の外部に
排出されるため、人手に頼ったメンテナンス作業が一切
不要となる。
ては、極性制御部が微粒子コレクターの3つの電極群の
各電極電位を全て負電位に設定することにより、ウエハ
に付着したダストが微粒子コレクターに静電吸着され
る。また、極性制御部が微粒子コレクターの3つの電極
群の各電極電位を正電位、負電位、接地電位の間で順に
切り換えることにより、微粒子コレクターに吸着された
ダストが順次移動してコレクター端部に集められ、これ
により基板に対する微粒子コレクターの対向面が清浄な
状態に自己再生される。さらに、コレクター端部に集め
られたダストは排出手段によって基板搬送装置の外部に
排出されるため、人手に頼ったメンテナンス作業が一切
不要となる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図1は本発明に係わる基板搬送
装置における集塵装置の一実施例を示す構成図である。
本実施例の集塵装置は、大きくは、図示せぬ基板搬送装
置の搬送経路上に配置される微粒子コレクター1と、こ
の微粒子コレクター1に所定の電極電位を与えるための
電源部2と、極性切換スイッチ3のスイッチング動作を
制御する極性制御部4とから構成される。
ながら詳細に説明する。図1は本発明に係わる基板搬送
装置における集塵装置の一実施例を示す構成図である。
本実施例の集塵装置は、大きくは、図示せぬ基板搬送装
置の搬送経路上に配置される微粒子コレクター1と、こ
の微粒子コレクター1に所定の電極電位を与えるための
電源部2と、極性切換スイッチ3のスイッチング動作を
制御する極性制御部4とから構成される。
【0010】微粒子コレクター1は、絶縁材5によって
被覆された複数の集塵電極6を有しており、これらの集
塵電極6は基板の搬送方向X(図6参照)と直交する方
向に配列されている。さらに詳述すると、上記複数の集
塵電極6は、極性切換スイッチ3から引き出された3本
の配線を介して2つおきに電気的に接続された3つの電
極群(A群,B群,C群)と、その両端部に配置された
電極(D)とから成るものである。
被覆された複数の集塵電極6を有しており、これらの集
塵電極6は基板の搬送方向X(図6参照)と直交する方
向に配列されている。さらに詳述すると、上記複数の集
塵電極6は、極性切換スイッチ3から引き出された3本
の配線を介して2つおきに電気的に接続された3つの電
極群(A群,B群,C群)と、その両端部に配置された
電極(D)とから成るものである。
【0011】一方、電源部2の陽極(+)、接地電極
(G)、陰極(−)から引き出された配線はそれぞれ極
性切換スイッチ3に接続されており、この極性切換スイ
ッチ3のスイッチング動作によって、電源部2の陽極
(+)、接地電極(G)、陰極(−)と、微粒子コレク
ター1の各集塵電極6との接続関係が切り換えられるよ
うになっている。ちなみに、極性切換スイッチ3として
は、例えばロータリースイッチ等が用いられる。
(G)、陰極(−)から引き出された配線はそれぞれ極
性切換スイッチ3に接続されており、この極性切換スイ
ッチ3のスイッチング動作によって、電源部2の陽極
(+)、接地電極(G)、陰極(−)と、微粒子コレク
ター1の各集塵電極6との接続関係が切り換えられるよ
うになっている。ちなみに、極性切換スイッチ3として
は、例えばロータリースイッチ等が用いられる。
【0012】極性制御部4は、先にも述べたように極性
切換スイッチ3のスイッチング動作を制御するもので、
この極性制御部4からの制御指令に基づいて微粒子コレ
クター1の個々の集塵電極6の極性が切り換えられるよ
うになっている。
切換スイッチ3のスイッチング動作を制御するもので、
この極性制御部4からの制御指令に基づいて微粒子コレ
クター1の個々の集塵電極6の極性が切り換えられるよ
うになっている。
【0013】続いて、本実施例における集塵装置の動作
について説明する。まず、基板に付着したダストを集塵
する際は、極性制御部4の制御指令に基づく極性切換ス
イッチ3のスイッチング動作によって、微粒子コレクタ
ー1の3つの電極群(A群,B群,C群)を全て電源部
2の陰極に電気的に接続し、これによって図2に示すよ
うに3つの電極群(A群,B群,C群)の各電極電位を
全て負電位に設定する。この状態で、図2に示すように
被搬送物である基板7をコレクター近傍で通過させる
と、基板7に付着したダストが微粒子コレクター1から
の静電吸引力によって吸い寄せられ、コレクター側に集
塵される。
について説明する。まず、基板に付着したダストを集塵
する際は、極性制御部4の制御指令に基づく極性切換ス
イッチ3のスイッチング動作によって、微粒子コレクタ
ー1の3つの電極群(A群,B群,C群)を全て電源部
2の陰極に電気的に接続し、これによって図2に示すよ
うに3つの電極群(A群,B群,C群)の各電極電位を
全て負電位に設定する。この状態で、図2に示すように
被搬送物である基板7をコレクター近傍で通過させる
と、基板7に付着したダストが微粒子コレクター1から
の静電吸引力によって吸い寄せられ、コレクター側に集
塵される。
【0014】次に、こうしてダストを集塵したコレクタ
ーを再生する際は、極性制御部4の制御指令に基づく極
性切換スイッチ3のスイッチング動作によって、微粒子
コレクター1の3つの電極群(A群,B群,C群)の各
電極電位を正電位、負電位、接地電位の間で順に切り換
えるようにする。すなわち、まず図4(a)に示すよう
に、A群の電極電位を正電位、B群の電極電位を負電
位、C群の電極電位を接地電位に切り換え、次いで図4
(b)に示すように、A群の電極電位を接地電位、B群
の電極電位を正電位、C群の電極電位を負電位に切り換
え、さらに図4(c)に示すように、A群の電極電位を
負電位、B群の電極電位を接地電位、C群の電極電位を
正電位に切り換える。そして、以降は上記一連の切換動
作を集塵電極6の数に応じて適宜回数だけ繰り返す。こ
のとき、極性制御部4は、微粒子コレクター1の両端部
の集塵電極(D)6が常に負電位となるように極性切換
スイッチ3のスイッチング動作を制御する。
ーを再生する際は、極性制御部4の制御指令に基づく極
性切換スイッチ3のスイッチング動作によって、微粒子
コレクター1の3つの電極群(A群,B群,C群)の各
電極電位を正電位、負電位、接地電位の間で順に切り換
えるようにする。すなわち、まず図4(a)に示すよう
に、A群の電極電位を正電位、B群の電極電位を負電
位、C群の電極電位を接地電位に切り換え、次いで図4
(b)に示すように、A群の電極電位を接地電位、B群
の電極電位を正電位、C群の電極電位を負電位に切り換
え、さらに図4(c)に示すように、A群の電極電位を
負電位、B群の電極電位を接地電位、C群の電極電位を
正電位に切り換える。そして、以降は上記一連の切換動
作を集塵電極6の数に応じて適宜回数だけ繰り返す。こ
のとき、極性制御部4は、微粒子コレクター1の両端部
の集塵電極(D)6が常に負電位となるように極性切換
スイッチ3のスイッチング動作を制御する。
【0015】こうした一連の動作によって、微粒子コレ
クター1に集塵されたダストは、集塵電極6の各電極電
位の切り換えによって、微粒子コレクター1上を図3に
示すように順次移動し、コレクター端部に集められる。
また、こうしてコレクター端部に集められたダストは、
常に負電位に維持されたコレクター端部の集塵電極
(D)6によって吸着保持される。
クター1に集塵されたダストは、集塵電極6の各電極電
位の切り換えによって、微粒子コレクター1上を図3に
示すように順次移動し、コレクター端部に集められる。
また、こうしてコレクター端部に集められたダストは、
常に負電位に維持されたコレクター端部の集塵電極
(D)6によって吸着保持される。
【0016】さらに本実施例では、微粒子コレクター1
の端部に集められたダストが以下の排出手段によって排
出される。すなわち、図5に示すように、その一端が基
板搬送装置(不図示)の外部に配置された排気ダクト1
0をコレクター端部に連結し、この排気ダクト10を通
して真空引きを行うことによって、コレクター端部の集
塵電極(D)6に吸着保持されたダストが強制的に排出
される。
の端部に集められたダストが以下の排出手段によって排
出される。すなわち、図5に示すように、その一端が基
板搬送装置(不図示)の外部に配置された排気ダクト1
0をコレクター端部に連結し、この排気ダクト10を通
して真空引きを行うことによって、コレクター端部の集
塵電極(D)6に吸着保持されたダストが強制的に排出
される。
【0017】このとき、排気ダクト10で真空引きを行
いながら、コレクター端部の集塵電極(D)6の電極電
位を負電位から正電位に切り換えるようにすれば、ダス
トがプラスの電荷をもっている場合は、集塵電極(D)
6とダストの電荷が等しくなって互いに反発しあうよう
になるため、微粒子コレクター1からのダストの遊離が
スムースになって、ダストの排出効率が高まる。また、
図例のようにエアーノズル11をコレクター端部の集塵
電極(D)6に向けて設置し、このエアーノズル11か
ら窒素(N2 )等の不活性ガスを吹き付けるようにすれ
ば、吹き付けられたエアー圧によって微粒子コレクター
1からのダストの遊離が促進され、さらに効率良くダス
トを排出することができる。
いながら、コレクター端部の集塵電極(D)6の電極電
位を負電位から正電位に切り換えるようにすれば、ダス
トがプラスの電荷をもっている場合は、集塵電極(D)
6とダストの電荷が等しくなって互いに反発しあうよう
になるため、微粒子コレクター1からのダストの遊離が
スムースになって、ダストの排出効率が高まる。また、
図例のようにエアーノズル11をコレクター端部の集塵
電極(D)6に向けて設置し、このエアーノズル11か
ら窒素(N2 )等の不活性ガスを吹き付けるようにすれ
ば、吹き付けられたエアー圧によって微粒子コレクター
1からのダストの遊離が促進され、さらに効率良くダス
トを排出することができる。
【0018】このように本実施例の集塵装置において
は、極性制御部4の制御指令に基づいて極性切換スイッ
チ3をスイッチング動作させ、集塵電極6の各電極電位
を正電位、負電位、接地電位の間で順に切り換えること
によって、微粒子コレクター1に吸着したダストが順次
移動してコレクター端部に集められ、これによって基板
に対する微粒子コレクター1の対向面が清浄な状態に自
己再生される。したがって、基板を基板処理室に供給す
る前や基板処理中に、微粒子コレクター1の自己再生を
行うようにすれば、集塵直前に微粒子コレクター1が清
浄化されるため、常に高い集塵効率をもって基板に付着
したダストを集塵することができる。
は、極性制御部4の制御指令に基づいて極性切換スイッ
チ3をスイッチング動作させ、集塵電極6の各電極電位
を正電位、負電位、接地電位の間で順に切り換えること
によって、微粒子コレクター1に吸着したダストが順次
移動してコレクター端部に集められ、これによって基板
に対する微粒子コレクター1の対向面が清浄な状態に自
己再生される。したがって、基板を基板処理室に供給す
る前や基板処理中に、微粒子コレクター1の自己再生を
行うようにすれば、集塵直前に微粒子コレクター1が清
浄化されるため、常に高い集塵効率をもって基板に付着
したダストを集塵することができる。
【0019】また本実施例の集塵装置では、微粒子コレ
クター1の端部に集められたダストが、排出手段である
排気ダクト10からの真空引きによって基板搬送装置の
外部に排出されるようになっているため、従来のように
人手に頼ったメンテナンス作業が一切不要となる。
クター1の端部に集められたダストが、排出手段である
排気ダクト10からの真空引きによって基板搬送装置の
外部に排出されるようになっているため、従来のように
人手に頼ったメンテナンス作業が一切不要となる。
【0020】なお、上記実施例の説明では、微粒子コレ
クター1の3つの電極群(A群,B群,C群)の電極電
位を正電位→接地電位→負電位→・・・の順で繰り返し
切り換えるようにしたが、電極電位の切換順序として
は、負電位→接地電位→正電位→・・・の順で切り換え
るようにしてもよい。
クター1の3つの電極群(A群,B群,C群)の電極電
位を正電位→接地電位→負電位→・・・の順で繰り返し
切り換えるようにしたが、電極電位の切換順序として
は、負電位→接地電位→正電位→・・・の順で切り換え
るようにしてもよい。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明の集塵装置に
よれば、極性制御部が微粒子コレクターの個々の集塵電
極の極性を適宜切り換えることにより、静電吸着力をも
って基板からコレクター側に吸着したダストを順次移動
させてコレクター端部に集めることができる。これによ
って、基板に対する微粒子コレクターの対向面を清浄な
状態に自己再生することができるため、常に高い集塵効
率をもって基板に付着したダストを集塵することが可能
となる。その結果、種々の基板処理工程の中でも、特に
高清浄度が要求される半導体ウエハの処理工程などで
は、ダストの付着に起因したパターン欠陥などの外観不
良の発生を低減することができるため、歩留りの向上が
期待できる。さらに本発明によれば、コレクター端部に
集めたダストを排出手段によって基板搬送装置の外部に
排出できるため、従来のような人手に頼ったメンテナン
ス作業が一切不要となる。
よれば、極性制御部が微粒子コレクターの個々の集塵電
極の極性を適宜切り換えることにより、静電吸着力をも
って基板からコレクター側に吸着したダストを順次移動
させてコレクター端部に集めることができる。これによ
って、基板に対する微粒子コレクターの対向面を清浄な
状態に自己再生することができるため、常に高い集塵効
率をもって基板に付着したダストを集塵することが可能
となる。その結果、種々の基板処理工程の中でも、特に
高清浄度が要求される半導体ウエハの処理工程などで
は、ダストの付着に起因したパターン欠陥などの外観不
良の発生を低減することができるため、歩留りの向上が
期待できる。さらに本発明によれば、コレクター端部に
集めたダストを排出手段によって基板搬送装置の外部に
排出できるため、従来のような人手に頼ったメンテナン
ス作業が一切不要となる。
【図1】本発明に係わる集塵装置の一実施例を示す構成
図である。
図である。
【図2】ダスト集塵時の電極電位の設定状態を示す図で
ある。
ある。
【図3】電極電位の切り換えによるダストの動きを説明
する図である。
する図である。
【図4】コレクター再生時の電極電位の切り換え状態を
示す図である。
示す図である。
【図5】実施例における排出手段を説明する図である。
【図6】集塵機能を備えた基板搬送装置の一例を説明す
る図である。
る図である。
【図7】従来の基板搬送装置における集塵装置の構成を
示す概略図である。
示す概略図である。
1 微粒子コレクター 2 電源部 3 極性切換スイッチ 4 極性制御部 5 絶縁材 6 集塵電極
Claims (3)
- 【請求項1】 複数の基板が収納された基板収納カセッ
トから基板を一枚ずつ取り出して基板処理室に搬送する
基板搬送装置において、前記基板搬送装置によって搬送
される基板に付着したダストを集塵する集塵装置であっ
て、 前記基板搬送装置の搬送経路上に配置され、前記基板の
搬送方向と直交する方向に配列された複数の集塵電極を
有する微粒子コレクターと、 前記微粒子コレクターの個々の集塵電極の極性を切換可
能な極性制御部とを備えたことを特徴とする基板搬送装
置における集塵装置。 - 【請求項2】 前記複数の集塵電極は、2つおきに電気
的に接続された3つの電極群を備え、 前記極性制御部は、ダスト集塵の際は前記3つの電極群
の各電極電位を全て負電位に設定するとともに、コレク
ター再生の際は前記3つの電極群の各電極電位を正電
位、負電位、接地電位の間で順に切り換えることを特徴
とする請求項1記載の基板搬送装置における集塵装置。 - 【請求項3】 前記集塵電極の各電極電位の切り換えに
よって前記微粒子コレクターの端部に集められたダスト
を前記基板搬送装置の外部に排出する排出手段を設けた
ことを特徴とする請求項2記載の基板搬送装置における
集塵装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23542193A JPH0766266A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 基板搬送装置における集塵装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23542193A JPH0766266A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 基板搬送装置における集塵装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0766266A true JPH0766266A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16985858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23542193A Pending JPH0766266A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 基板搬送装置における集塵装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766266A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010225641A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
| US11123773B2 (en) * | 2017-12-28 | 2021-09-21 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for and a method of removing contaminant particles from a component of an apparatus |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP23542193A patent/JPH0766266A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010225641A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
| US11123773B2 (en) * | 2017-12-28 | 2021-09-21 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for and a method of removing contaminant particles from a component of an apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2867526B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| CN104508814A (zh) | 太阳电池夹具用静电荷移除 | |
| TWI740157B (zh) | 真空處理裝置、假基板裝置 | |
| JP3191139B2 (ja) | 試料保持装置 | |
| JP4105778B2 (ja) | 気流搬送装置 | |
| CN116544136A (zh) | 基片处理系统和颗粒除去方法 | |
| WO1992015115A1 (fr) | Installation pour la fabrication de semiconducteurs | |
| US10549324B2 (en) | Method and apparatus for backside cleaning of substrates | |
| JPH0766266A (ja) | 基板搬送装置における集塵装置 | |
| JP3801130B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
| JPH1187457A (ja) | 異物除去機能付き静電吸着装置を備えた半導体製造装置 | |
| US20120017938A1 (en) | Platen cleaning | |
| JP2915458B2 (ja) | 半導体ウェーハ洗浄装置 | |
| WO2003092054A1 (en) | Mounting method and mounting system | |
| JPH07302827A (ja) | 半導体ウエハ搬送装置 | |
| CN115705988B (zh) | 治具晶圆、清洁治具以及清洁方法 | |
| JP2982203B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP4517768B2 (ja) | 異物除去装置 | |
| JPH0955418A (ja) | ウェーハ搬送装置 | |
| CN120878529B (zh) | 一种半导体刻蚀设备及颗粒物在线清理方法 | |
| JP2000138275A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2000117092A (ja) | 集塵装置、乾式処理装置および搬送装置 | |
| KR20260047768A (ko) | 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 | |
| JPH0851098A (ja) | 半導体処理装置 | |
| WO2026049565A1 (ko) | 노칭 장치, 이에 사용되는 클리닝 유닛 및 노칭 장치의 클리닝 방법 |