JPH0766563A - Multilayer circuit board with built-in capacitor - Google Patents

Multilayer circuit board with built-in capacitor

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JPH0766563A
JPH0766563A JP5216533A JP21653393A JPH0766563A JP H0766563 A JPH0766563 A JP H0766563A JP 5216533 A JP5216533 A JP 5216533A JP 21653393 A JP21653393 A JP 21653393A JP H0766563 A JPH0766563 A JP H0766563A
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capacitor
capacitance
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晃 井本
Masakazu Yasui
正和 安井
Kazumasa Furuhashi
和雅 古橋
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  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】基板本体の誘電率温度特性の絶対値を小さくし
て、基板強度に優れた容量内蔵型多層回路基板を提供す
る。 【構成】本発明は、ガラス成分及び無機物フィラーから
成る複数の誘電体層1a、1b・・・を積層し、その内
部に金系、銀系又は銅系導体材料から成る所定配線パタ
ーン2及び容量発生パターン3を形成して、且つその表
面に厚膜抵抗体膜6を形成した容量内蔵型多層回路基板
10において、前記無機物フィラーは、アルミナ、粒径
2〜10μmのペロブスカイト結晶構造で、負の温度特
性を有する誘電体材料を含んでいる。
(57) [Summary] [Object] To provide a multilayer circuit board with a built-in capacitor, which has a small absolute value of the dielectric constant temperature characteristics of the board body and is excellent in board strength. According to the present invention, a plurality of dielectric layers 1a, 1b, ... Made of a glass component and an inorganic filler are laminated, and a predetermined wiring pattern 2 and a capacitor made of a gold-based, silver-based or copper-based conductive material are provided inside thereof. In the multilayer capacitor built-in circuit board 10 on which the generation pattern 3 is formed and the thick film resistor film 6 is formed on the surface thereof, the inorganic filler is alumina, a perovskite crystal structure having a particle size of 2 to 10 μm, and a negative It includes a dielectric material having temperature characteristics.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、内部に形成された容量
の容量温度特性を補正し、温度依存性が少ない容量が得
られ、且つ強固な容量内蔵型層回路基板に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a layered circuit board with a built-in capacitor, which is capable of correcting the capacity-temperature characteristic of a capacitor formed inside thereof, to obtain a capacitor having little temperature dependence, and having a strong capacity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、アルミナ等の無機物フィラー
とガラス成分とから成る絶縁層を用いて、低温(約90
0℃前後)焼成を可能にした多層回路基板が既に使用さ
れている。この低温焼成可能な多層回路基板は、内部配
線パターンに金、銀、銅などの低抵抗材料を使用するこ
とができ、信号伝播速度が速い電子回路や高周波回路が
実現できる。
2. Description of the Related Art Conventionally, an insulating layer composed of an inorganic filler such as alumina and a glass component has been used to obtain a low temperature (about 90%).
A multilayer circuit board capable of firing (around 0 ° C.) has already been used. This low-temperature sinterable multilayer circuit board can use a low resistance material such as gold, silver or copper for the internal wiring pattern, and can realize an electronic circuit or a high frequency circuit with a high signal propagation speed.

【0003】さらに、このような多層回路基板に内部配
線パターンとともに容量発生パターン(絶縁(誘電体)
層を挟んで対向する1対の配線パターンなど)を形成し
て、容量を内蔵した容量内蔵型多層回路基板が提案され
ている。
Further, a capacitance generating pattern (insulation (dielectric)) is formed on such a multilayer circuit board together with an internal wiring pattern.
There is proposed a multilayer circuit board with a built-in capacitor in which a pair of wiring patterns, which face each other with a layer sandwiched therebetween, is formed and a capacitor is built therein.

【0004】この場合、基板組成材料の誘電率温度特性
を充分に配慮しなくては、例えば容量内蔵型多層回路基
板に共振回路などを有する発振器等に用いることができ
ない。これは、誘電体層を構成する材料であるガラス成
分は、例えば硼珪酸ガラスやアルミノ酸ガラスなどであ
り、無機物フィラーはアルミナであるが、これらの材料
は誘電率温度特性が正特性を示し、基板本体が正の誘電
率温度特性となってしまい、温度変化によって容量値が
大きく変動してしまうためである。
In this case, it cannot be used, for example, in an oscillator or the like having a resonant circuit in a multilayer circuit board with a built-in capacitor unless the temperature characteristics of the dielectric constant of the substrate composition material are sufficiently taken into consideration. This is because the glass component, which is the material constituting the dielectric layer, is, for example, borosilicate glass or alumino acid glass, and the inorganic filler is alumina, but these materials have positive dielectric constant temperature characteristics, This is because the substrate body has a positive dielectric constant temperature characteristic, and the capacitance value greatly changes due to temperature changes.

【0005】このような基板材料の誘電率温度特性の絶
対値を小さく補正するため、従来より、無機物フィラー
に、アルミナとともにチタニアを用いることが、特開平
4−82297号に既に提案されている。しかし、チタ
ニアは、その誘電率温度係数は−910ppm/℃であ
り、基板材料全体の誘電率温度特性を補正するに不十分
となる。これは、チタニアはアルミナやガラス成分の基
板材料や配線パターン等、特に表面に厚膜抵抗体膜など
と反応しやすく、基板の強度を低下させたり、特に厚膜
抵抗抵抗体膜の特性を変化させる恐れがあり、その添加
量が制限されるためである。
In order to correct the absolute value of the dielectric constant temperature characteristic of such a substrate material to a small value, it has been conventionally proposed in JP-A-4-82297 to use titania together with alumina as an inorganic filler. However, titania has a temperature coefficient of permittivity of −910 ppm / ° C., which is insufficient to correct the temperature coefficient of permittivity of the entire substrate material. This is because titania easily reacts with the substrate material and wiring pattern of alumina or glass components, especially on the surface of the thick film resistor film, which lowers the strength of the substrate or changes the characteristics of the thick film resistor film. This is because there is a possibility that it will be caused, and the addition amount thereof is limited.

【0006】チタニア以外の基板材料の誘電率温度特性
を補正するためのアルミナとともに添加される無機物フ
ィラーとして、ペロブスカイト結晶構造を有し、キュリ
ー点が常温にりも高い物質、例えばスズ酸ストロンチウ
ム(誘電率−3720ppm/℃)、チタン酸ストロン
チウム(同−3360ppm/℃)、チタン酸カルシウ
ム(同−1620ppm/℃)などが挙げられる。
As an inorganic filler added together with alumina for correcting the dielectric constant temperature characteristics of substrate materials other than titania, a substance having a perovskite crystal structure and a high Curie point at room temperature, such as strontium stannate (dielectric Rate-3720 ppm / ° C.), strontium titanate (-3360 ppm / ° C.), calcium titanate (-1620 ppm / ° C.), and the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のペロブ
スカイト結晶構造を有する物質をアルミナとともに添加
される無機物フィラーとして用いた場合、焼成時にガラ
ス成分と固溶し、結晶構造が崩れるため、逆に上述の誘
電率温度特性の補正作用が少なくなるという問題があっ
た。
However, when the above-mentioned substance having a perovskite crystal structure is used as an inorganic filler to be added together with alumina, it will form a solid solution with the glass component during firing and the crystal structure will collapse. However, there is a problem that the effect of correcting the temperature characteristic of the dielectric constant is reduced.

【0008】本発明者らは、種々実験を行った結果、ペ
ロブスカイト結晶構造を有する物質の無機物フィラーの
粒径を制御、例えば粒径を大きくすることによってガラ
ス成分との接触面積を少なくして、固溶反応を起こす面
積を減少させることができることを知見した。即ち、固
溶反応を低減して、充分な誘電率温度特性の補正作用を
維持させることができる。また、粒径を大きくしすぎる
と、焼成後の基板の緻密性に劣り強度や耐湿信頼性が低
下してしまう。
As a result of various experiments, the inventors of the present invention have controlled the particle size of the inorganic filler of the substance having a perovskite crystal structure, for example, by increasing the particle size to reduce the contact area with the glass component, It was found that the area in which a solid solution reaction occurs can be reduced. That is, it is possible to reduce the solid solution reaction and maintain a sufficient correction action of the dielectric constant temperature characteristic. On the other hand, if the particle size is too large, the denseness of the substrate after firing will be poor and the strength and moisture resistance will be reduced.

【0009】本発明は、上述の知見に基づくものであ
り、その目的は、ペロブスカイト結晶構造を有する物質
の無機物フィラーの粒径を適正化して、基板の誘電率温
度特性を充分に補正することができ、且つ基板強度の高
い容量内蔵型多層回路基板を提供することにある。
The present invention is based on the above findings, and an object thereof is to optimize the particle size of the inorganic filler of a substance having a perovskite crystal structure to sufficiently correct the temperature coefficient of dielectric constant of the substrate. An object of the present invention is to provide a multi-layer circuit board with a built-in capacitor that can be manufactured and has high board strength.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス成分及
び無機物フィラーから成る誘電体層を複数積層して成
り、内部に金系、銀系又は銅系導体材料から成る内部配
線パターン及び容量発生パターンを有する容量内蔵型多
層回路基板において、前記無機物フィラーはペロブスカ
イト結晶構造で且つ誘電率の温度特性が負である粒径2
〜10μmの誘電体材料を含む容量内蔵型多層回路基板
である。
According to the present invention, a plurality of dielectric layers composed of a glass component and an inorganic filler are laminated, and an internal wiring pattern made of a gold-based, silver-based or copper-based conductive material and a capacitance generation are formed inside. In the multilayered circuit board with a built-in capacitor having a pattern, the inorganic filler has a perovskite crystal structure and has a negative temperature characteristic of dielectric constant.
A multilayer circuit board with a built-in capacitor including a dielectric material of 10 μm.

【0011】また、好ましくは、前記誘電体材料は、チ
タン酸ストロンチウムである容量内蔵型多層回路基板で
ある。
Preferably, the dielectric material is a strontium titanate-embedded multilayer circuit board.

【0012】[0012]

【作用】以上のように、本発明によれば、絶縁(誘電
体)層の材料がガラス成分及び無機物フィラーから構成
されているため、比較的低温(〜1000℃)で焼結可
能であるため、内部配線パターンや容量発生パターンを
比抵抗の小さい金、銀、銅などの金属材料を用いること
ができる。
As described above, according to the present invention, since the material of the insulating (dielectric) layer is composed of the glass component and the inorganic filler, it can be sintered at a relatively low temperature (up to 1000 ° C). A metal material such as gold, silver, or copper having a low specific resistance can be used for the internal wiring pattern and the capacitance generation pattern.

【0013】また、例えばアルミナフィラーとともに用
いられる誘電率温度特性を補正する無機物フィラーとし
て、ペロブスカイト結晶構造で且つ誘電率が負の温度特
性を有する誘電体材料(以下、単に負の温特材料とい
う)を含んでいるため、誘電体層の全体の誘電率の温度
特性の絶対値を、例えば±60ppm/℃と極めて小さ
く補正でき、容量発生パターンを内蔵しても安定した容
量特性が得られる容量内蔵型多層回路基板となる。
A dielectric material having a perovskite crystal structure and a negative dielectric constant temperature characteristic (hereinafter, simply referred to as a negative temperature characteristic material) is used as an inorganic filler for correcting the dielectric constant temperature characteristic used with an alumina filler, for example. Therefore, the absolute value of the temperature characteristic of the permittivity of the entire dielectric layer can be corrected to be extremely small, for example ± 60 ppm / ° C, and a stable capacitance characteristic can be obtained even if the capacitance generation pattern is built in. Type multi-layer circuit board.

【0014】本発明では、特に負の温特材料の無機物フ
ィラーの粒径を2〜10μmとしている。即ち、粒径が
2μm以上とすることで、アルミナやガラス成分ととも
に低温(例えば900℃)で焼結しても、その焼結反応
時にガラス成分との固溶反応を抑制でき、ぺロブスカイ
ト構造が充分に維持できため、上述の補正作用を充分に
維持させることができ、上述のように誘電率温度特性を
±60ppm以内にすることができる。
In the present invention, the particle diameter of the inorganic filler, which is a negative temperature characteristic material, is 2 to 10 μm. That is, by setting the particle size to 2 μm or more, even if sintering is performed at a low temperature (for example, 900 ° C.) with alumina or a glass component, the solid solution reaction with the glass component can be suppressed during the sintering reaction, and the perovskite structure can be obtained. Since it can be sufficiently maintained, the above-mentioned correction action can be sufficiently maintained, and the dielectric constant temperature characteristic can be kept within ± 60 ppm as described above.

【0015】また、その粒径が10μm以下であるた
め、焼成後の基板全体を緻密化することができ、基板の
強度が所定値以上を維持できる。ここで、粒径が10μ
mを越えると、基板強度の劣化が著しく、また製造工程
においても、ガラスフリット、アルミナフィラーととも
に溶剤などでスラリー状にした場合、沈降現象が発生し
たり、均質分散ができないという問題が発生する。
Further, since the grain size is 10 μm or less, the whole substrate after firing can be densified and the strength of the substrate can be maintained at a predetermined value or more. Here, the particle size is 10μ
If it exceeds m, the strength of the substrate is significantly deteriorated, and in the manufacturing process, when it is slurried with a solvent such as a glass frit and an alumina filler, a sedimentation phenomenon occurs or homogeneous dispersion cannot occur.

【0016】特に、負の温特材料としてチタン酸ストロ
ンチウムを用いれば高い基板強度が達成される。
In particular, if strontium titanate is used as the negative temperature characteristic material, high substrate strength can be achieved.

【0017】さらに、チタニアを用いた基板に比較し
て、基板表面にチタニア成分が析出されず、その表面に
厚膜抵抗体膜を形成しても、その抵抗特性に大きな変化
を与えることがない。
Further, as compared with a substrate using titania, the titania component is not deposited on the substrate surface, and even if a thick film resistor film is formed on the surface, the resistance characteristic is not significantly changed. .

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明の容量内蔵型多層回路基板を図
面に基づいて詳説する。図1は、本発明の容量内蔵型多
層回路基板の断面構造を示す。図において、10は容量
内蔵型多層回路基板であり、1は複数の誘電体層1a、
1b・・・を積層した基板本体であり、2は誘電体層1
a、1b・・・間に形成された所定内部配線パターンで
あり、3は誘電体層1a、1b・・・間に形成された容
量発生パターンであり、4はビアホール導体であり、5
は表面配線パターンであり、6は厚膜抵抗体膜である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A capacitor built-in multilayer circuit board of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a capacitor-embedded multilayer circuit board of the present invention. In the figure, 10 is a multilayer circuit board with a built-in capacitor, 1 is a plurality of dielectric layers 1a,
1b is a laminated substrate body, and 2 is a dielectric layer 1
a is a predetermined internal wiring pattern formed between a, 1b ..., 3 is a capacitance generating pattern formed between dielectric layers 1a, 1b ..., 4 is a via-hole conductor, 5
Is a surface wiring pattern, and 6 is a thick film resistor film.

【0019】基板本体1は、ガラス−セラミックスから
成る複数の誘電体層1a、1b・・・と、該誘電体層1
a、1b・・・間に配置された金系、銀系、または銅系
の導体から成る所定内部配線パターン2、容量発生パタ
ーン3と、該誘電体層1a、1b・・・を貫くビアホー
ル導体4とから構成されている。
The substrate body 1 comprises a plurality of glass-ceramic dielectric layers 1a, 1b.
A predetermined internal wiring pattern 2 made of a gold-based, silver-based, or copper-based conductor, a capacitance generation pattern 3, and a via-hole conductor penetrating the dielectric layers 1a, 1b. 4 and.

【0020】これにより、基板本体1内には、誘電体
層、例えば1c、1dを挟んで互いに対向する容量発生
パターン3によって容量が所定回路の一部が形成される
ことになる。
As a result, a part of a circuit having a predetermined capacitance is formed in the substrate body 1 by the capacitance generating patterns 3 which face each other with the dielectric layers, for example, 1c and 1d interposed therebetween.

【0021】基板本体1の主面には、金系、銀系、また
は銅系の導体から成る所定表面配線パターン5及び厚膜
抵抗体膜6が形成され、これらが、ビアホール導体4を
介して、内部配線パターン2や容量発生パターン3と電
気的に接続され、全体として、所定回路が達成されるこ
とになる。尚、図には記載していないが、表面には保護
膜が形成され、必要に応じてICチップや、チップ電子
部品などが搭載されている。
A predetermined surface wiring pattern 5 made of a gold-based, silver-based, or copper-based conductor and a thick film resistor film 6 are formed on the main surface of the substrate body 1, and these are connected via a via-hole conductor 4. , Is electrically connected to the internal wiring pattern 2 and the capacitance generation pattern 3, and a predetermined circuit is achieved as a whole. Although not shown in the drawing, a protective film is formed on the surface, and an IC chip, a chip electronic component, etc. are mounted as needed.

【0022】ここで、基板本体1の内部に形成される容
量は、例えば、図中の誘電体層1cを挟むように配置さ
れた所定対向面積を有する容量発生パターン3間で発生
するものであり、さらに、誘電体層1dを挟むように配
置された容量発生パターン3間でも所定容量が発生す
る。
Here, the capacitance formed inside the substrate body 1 is generated, for example, between the capacitance generating patterns 3 having a predetermined facing area and arranged so as to sandwich the dielectric layer 1c in the figure. Further, a predetermined capacitance is generated between the capacitance generation patterns 3 arranged so as to sandwich the dielectric layer 1d.

【0023】誘電体層1a、1b・・・は、ガラス成分
と無機物フィラーなどを焼結させて構成される。ガラス
成分は、結晶化ガラス、非晶質ガラスなどであり、無機
物フィラーは、少なくとも負の温特材料の粉末を含み、
その他にはアルミナ粉末などが挙げられる。また、無機
物フィラー負の温特材料としては、チタン酸ストロンチ
ウム(−3360ppm/℃)、スズ酸ストロンチウム
(−3720ppm/℃)、チタン酸カルシウム(−1
620ppm/℃)が例示できる。また、ガラス成分
は、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラスなどの低融点ガ
ラスが例示できる。
The dielectric layers 1a, 1b ... Are formed by sintering a glass component and an inorganic filler. The glass component is crystallized glass, amorphous glass, or the like, and the inorganic filler includes at least powder of a negative temperature characteristic material,
Other examples include alumina powder. In addition, as the inorganic filler negative temperature characteristic material, strontium titanate (-3360 ppm / ° C), strontium stannate (-3720 ppm / ° C), calcium titanate (-1
620 ppm / ° C.). Further, examples of the glass component include low melting glass such as borosilicate glass and aluminosilicate glass.

【0024】ガラス成分の構成比率は40〜90重量%
であり、アルミナ粉末及び負の温特材料の粉末からなる
無機物フィラーの構成比率は10〜60重量%である。
無機物フィラーが10重量%未満であると、相対的にア
ルミナ粉末など基板の強度に有効な材料が減少してしま
うため、焼結した基板本体1の強度が低下してしまう。
一方60重量%を越えると焼結後の基板本体1中に相対
的にガラス成分が不足するため、緻密な回路基板が達成
されない。尚、好ましくはガラス成分の構成比率は30
〜50重量%であり、その残部がガラス成分となるよう
にすることである。
The composition ratio of the glass component is 40 to 90% by weight.
The composition ratio of the inorganic filler composed of the alumina powder and the powder of the negative temperature characteristic material is 10 to 60% by weight.
When the content of the inorganic filler is less than 10% by weight, the amount of the material such as alumina powder that is effective for the strength of the substrate decreases relatively, so that the strength of the sintered substrate body 1 decreases.
On the other hand, when it exceeds 60% by weight, the glass component is relatively insufficient in the substrate body 1 after sintering, so that a dense circuit substrate cannot be achieved. The composition ratio of the glass component is preferably 30.
Is about 50% by weight, and the balance is a glass component.

【0025】このように、負の温特材料の粒径を2〜1
0μmに設定することが重要である。粒径を2〜10μ
mに設定することにより、基板材料をスラリー状にする
際にも、沈降現象が発生することなく、均質混合された
スラリーを得ることができる。また、1050℃程度ま
での温度で焼結しても、非常に安定なペロブスカイト結
晶構造が維持でき、基板1の誘電率温度特性の補正効果
が充分に現れ、その温度特性を±60ppm以内にする
ことができる。
In this way, the particle size of the negative temperature characteristic material is set to 2-1.
It is important to set it to 0 μm. Particle size 2 to 10μ
By setting m, it is possible to obtain a homogeneously mixed slurry without causing a sedimentation phenomenon even when the substrate material is made into a slurry state. Further, even when sintered at a temperature up to about 1050 ° C., a very stable perovskite crystal structure can be maintained, the effect of correcting the dielectric constant temperature characteristic of the substrate 1 sufficiently appears, and the temperature characteristic is kept within ± 60 ppm. be able to.

【0026】これにより、容量発生パターン3を形成し
ても、容量が温度に大きく依存することがない安定した
容量成分を簡単に形成することができる。さらに比誘電
率を8.0以上にすることが可能となり、容量発生パタ
ーン3を対向面積を小さくしても充分な容量値の容量が
達成できる。
As a result, even if the capacitance generating pattern 3 is formed, a stable capacitance component whose capacitance does not largely depend on temperature can be easily formed. Further, the relative permittivity can be set to 8.0 or more, and a capacitance having a sufficient capacitance value can be achieved even if the facing area of the capacitance generating pattern 3 is reduced.

【0027】特に、上述の誘電体材料としてチタン酸ス
トロンチウムを用いれば、基板の抗折強度が他の誘電体
材料に比較して優れる。
In particular, when strontium titanate is used as the above-mentioned dielectric material, the flexural strength of the substrate is superior to other dielectric materials.

【0028】また、誘電体層1a、1b・・・間に形成
した内部配線パターン2や容量発生パターン3を構成す
る導体材料の特性に影響を与えることがない。
Further, the characteristics of the conductor material forming the internal wiring pattern 2 and the capacitance generating pattern 3 formed between the dielectric layers 1a, 1b ... Are not affected.

【0029】さらに、無機物フィラーのアルミナ粉末と
ともに用いることにより、基板本体1の強度が実用的な
値となる。
Further, the strength of the substrate body 1 becomes a practical value by using it together with the alumina powder of the inorganic filler.

【0030】尚、基板本体1の表面に酸化ルテニウム、
六硼化ランタン、酸化スズなどの厚膜抵抗体膜6を形成
しても、厚膜抵抗体膜6に半導体伝導性を与えたり、温
度特性を負側にシフトさせたりすることが一切なくな
る。
Note that ruthenium oxide on the surface of the substrate body 1
Even if the thick film resistor film 6 made of lanthanum hexaboride, tin oxide or the like is formed, the thick film resistor film 6 is never given semiconductor conductivity and the temperature characteristic is not shifted to the negative side at all.

【0031】上述の負の温特材料のなかで、チタン酸ス
トロンチウムが望ましい理由として、上述したように基
板本体1の強度が充分に得られ、温度特性の補償作用が
顕著に現れ、焼成条件が比較的緩和されるためである。
Among the above-mentioned negative temperature characteristic materials, the reason why strontium titanate is preferable is that the strength of the substrate body 1 is sufficiently obtained as described above, the compensating action of the temperature characteristic is remarkably exhibited, and the firing condition is This is because it is relatively eased.

【0032】例えば、チタン酸カルシウムでは、チタン
酸ストロンチウムに比較してイオン半径が小さいため、
ガラス成分との反応が顕著となり、結晶構造が崩れやす
く、誘電率の補正効果を充分に得るために粒径を10μ
mに近い値にする必要がある。
For example, calcium titanate has a smaller ionic radius than strontium titanate,
The reaction with the glass component becomes remarkable, the crystal structure is easily broken, and the particle size is 10 μm in order to obtain a sufficient effect of correcting the dielectric constant.
It should be close to m.

【0033】また、スズ酸ストロンチウムは、焼結後に
おいては、ペロブスカイト構造を維持することが難し
く、焼成条件を充分に留意する必要がある。
Further, strontium stannate is difficult to maintain the perovskite structure after sintering, and it is necessary to pay sufficient attention to the firing conditions.

【0034】尚、誘電体層1a、1b・・・として、ガ
ラス成分、アルミナ粉末、負の温特材料の粉末の他に、
酸化剤などを必要に応じて添加しても構わない。
As the dielectric layers 1a, 1b ... In addition to the glass component, the alumina powder and the powder of the negative temperature characteristic material,
An oxidizing agent or the like may be added if necessary.

【0035】次に、本発明の容量内蔵型多層回路基板の
製造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing the capacitor built-in type multilayer circuit board of the present invention will be described.

【0036】まず、基板用組成物(誘電体層1a、1b
・・・)となる結晶化又は非晶質の低融点ガラスフリッ
ト、アルミナ粉末、負の温特材料、例えば、チタン酸ス
トロンチウム粉末と、有機バインダー(例えばポリメタ
クリレート樹脂)と、可塑剤(例えばジブチルフタレー
ト)と溶剤(例えばメチルエチルケトン)と、他の添加
剤(例えば消泡剤)とを所定割合で混合して、これをボ
ールミルを用いて24〜72時間程度混練して均質なス
ラリーを調整する。このスラリーを脱泡処理した後、例
えばドクターブレード法などの公知の方法で50〜30
0μm程度の厚みのグリーンシートを形成する。
First, the substrate composition (dielectric layers 1a, 1b)
...) which is a crystallized or amorphous low-melting-point glass frit, alumina powder, a negative temperature characteristic material, for example, strontium titanate powder, an organic binder (for example, polymethacrylate resin), and a plasticizer (for example, dibutyl). Phthalate), a solvent (for example, methyl ethyl ketone), and another additive (for example, an antifoaming agent) are mixed at a predetermined ratio, and this is kneaded for about 24 to 72 hours using a ball mill to prepare a homogeneous slurry. After defoaming the slurry, the slurry is subjected to a known method such as doctor blade method at 50-30.
A green sheet having a thickness of about 0 μm is formed.

【0037】次に得られたグリーンシートの表面にビア
ホール導体4となる穴をパンチ加工を行い、ビアホール
導体4の充填及び内部配線パターン2、容量発生パター
ン3を印刷する。尚、ビアホール導体4の充填は、内部
配線パターン2、容量発生パターン3を印刷した後に行
っても構わない。
Next, a hole to be the via-hole conductor 4 is punched on the surface of the obtained green sheet to fill the via-hole conductor 4 and print the internal wiring pattern 2 and the capacitance generating pattern 3. The filling of the via-hole conductor 4 may be performed after printing the internal wiring pattern 2 and the capacitance generating pattern 3.

【0038】内部配線パターン2、容量発生パターン3
用導体ペーストは、金、銀、銅及びその合金のうちから
選ばれた少なくとも1種類の金属を主成分とする導体ペ
ーストが用いられる。これらの内部配線パターン2、容
量発生パターン3及びビアホール導体4が形成されたグ
リーンシートを、各誘電体層1a、1b・・・の層構成
を考慮して、順次積層して、熱圧着などで基板本体1と
なる積層体を形成する。
Internal wiring pattern 2, capacitance generation pattern 3
As the conductor paste for use, a conductor paste containing as a main component at least one metal selected from gold, silver, copper and alloys thereof is used. The green sheets on which the internal wiring pattern 2, the capacitance generating pattern 3 and the via-hole conductor 4 are formed are sequentially laminated in consideration of the layer structure of the dielectric layers 1a, 1b ... A laminated body to be the substrate body 1 is formed.

【0039】このように得られた積層体を焼成する。先
ず、第1段階で、積層体に含まれる有機物を、ガラス成
分の軟化点以下の温度、例えば500℃前後で除去す
る。次にの段階で、ガラス成分、アルミナ粉末、チタン
酸ストロンチウムから成る誘電体層1a、1b・・・、
及び内部配線パターン2、容量発生パターン3、ビアホ
ール導体4の一体焼結を行う。この焼成温度は、誘電体
層1a、1b・・・のガラス成分や内部配線パターン2
などの導体材料の融点によって決定されるが、800〜
1050℃の温度で行われる。焼成雰囲気は、内部配線
パターン2の導体材料によって決定される。これによ
り、焼結された基板本体1が達成される。
The laminated body thus obtained is fired. First, in the first step, the organic substances contained in the laminate are removed at a temperature equal to or lower than the softening point of the glass component, for example, around 500 ° C. In the next step, the dielectric layers 1a, 1b, ... Made of glass component, alumina powder, and strontium titanate.
And the internal wiring pattern 2, the capacitance generation pattern 3, and the via-hole conductor 4 are integrally sintered. The firing temperature is set to the glass components of the dielectric layers 1a, 1b ... Or the internal wiring pattern 2
Is determined by the melting point of the conductor material such as
It is carried out at a temperature of 1050 ° C. The firing atmosphere is determined by the conductor material of the internal wiring pattern 2. Thereby, the sintered substrate body 1 is achieved.

【0040】得られた基板本体1上に、表面配線パター
ン5、厚膜抵抗体膜6を形成する。
A surface wiring pattern 5 and a thick film resistor film 6 are formed on the obtained substrate body 1.

【0041】厚膜抵抗体膜6は、表面配線パターン5の
焼きつけ雰囲気などによって決定されるが、非酸化性雰
囲気で焼成する場合には、六硼化ランタン、酸化スズな
どを主成分とする抵抗体ペーストを用いて形成される。
また、酸化性雰囲気で焼成する場合には、酸化ルテニウ
ムを主成分とする抵抗体ペーストを用いて形成される。
The thick-film resistor film 6 is determined by the baking atmosphere of the surface wiring pattern 5 and the like. However, when baking in a non-oxidizing atmosphere, the resistance mainly composed of lanthanum hexaboride, tin oxide, etc. It is formed using body paste.
When firing in an oxidizing atmosphere, a resistor paste containing ruthenium oxide as a main component is used.

【0042】尚、表面配線パターン5は、銀系導体(銀
又は銀合金)や銅系(銅又は銅合金)を用いることがで
きるが、耐マイグレーション性などを考慮して、銅系材
料が好ましい。
The surface wiring pattern 5 may be made of silver-based conductor (silver or silver alloy) or copper-based (copper or copper alloy), but copper-based material is preferable in consideration of migration resistance. .

【0043】(実験例)ガラスフリットとして、酸化珪
素51モル%、酸化アルミニウム19モル%、酸化マグ
ネシウム19モル%、酸化亜鉛8モル%、酸化硼素3モ
ル%(それに相当する硼酸)を混合し、約1600℃で
溶解した後、水中に投下し急冷することによりガラスを
得た。得られたガラスをアルミナボールとともにアルミ
ナポットに入れ、湿式粉砕して乾燥した。これにより平
均粒径2〜3μmの結晶化ガラスフリットを得た。
(Experimental Example) As a glass frit, 51 mol% of silicon oxide, 19 mol% of aluminum oxide, 19 mol% of magnesium oxide, 8 mol% of zinc oxide, and 3 mol% of boron oxide (boric acid corresponding thereto) were mixed, After melting at about 1600 ° C., it was poured into water and rapidly cooled to obtain glass. The obtained glass was put into an alumina pot together with alumina balls, wet-ground and dried. As a result, a crystallized glass frit having an average particle size of 2 to 3 μm was obtained.

【0044】次に、表1に示す割合で、結晶化ガラスフ
リット、粒径2μmのアルミナ粉末及び又は粒径3.9
μm又は粒径1.6μmのチタン酸ストロンチウム粉末
とを混合した。それらの混合物をアルミナボールととも
に、アルミナポットに入れ、ボールミル混合した後に乾
燥して、容量内蔵型多層回路基板用組成物を得た。
Next, in the proportions shown in Table 1, crystallized glass frit, alumina powder having a particle size of 2 μm and / or particle size of 3.9.
μm or 1.6 μm particle size strontium titanate powder was mixed. The mixture was put together with alumina balls in an alumina pot, mixed by a ball mill and then dried to obtain a composition for a built-in capacity type multilayer circuit board.

【0045】得られた基板用組成物1000gに対し
て、アクリル樹脂100gと可塑剤70g及びトルエン
400gを加えてスラリーを作成し、このスラリーに真
空脱泡処理を施した。
To 1000 g of the obtained composition for substrates, 100 g of acrylic resin, 70 g of plasticizer and 400 g of toluene were added to prepare a slurry, and this slurry was subjected to vacuum defoaming treatment.

【0046】次に、スラリーを用いて、ドクターブレー
ド法により厚さ200μmのグリーンシートを作成し
た。そして、このグリーンシートを10枚積層してホッ
トプレスし、得られた積層体を870℃1時間焼成して
多層の基板本体を作成した。
Next, using the slurry, a green sheet having a thickness of 200 μm was prepared by the doctor blade method. Then, 10 green sheets were laminated and hot pressed, and the obtained laminate was fired at 870 ° C. for 1 hour to prepare a multilayer substrate body.

【0047】得られた基板本体の両面にインジウム−ガ
リウムの導体膜を形成し、JIS2141に準拠して、
Qメーターにより1MHzで誘電率を計測した。
Indium-gallium conductor films were formed on both surfaces of the obtained substrate body, and in accordance with JIS 2141,
The dielectric constant was measured at 1 MHz with a Q meter.

【0048】尚、表1における評価として、誘電率温度
特性は実用的な温度範囲である−30〜80℃におい
て、±60ppm以内、基板の抗折強度が実用的な強度
である15kgf/cm2 以上を良品とした。
As the evaluation in Table 1, the dielectric constant temperature characteristics are within ± 60 ppm in the practical temperature range of −30 to 80 ° C., and the bending strength of the substrate is 15 kgf / cm 2 which is the practical strength. The above is regarded as a good product.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】実験例1、2(粒径1.6μmのチタン酸
ストロンチウムを添加)では、比誘電率が8.0を越
え、さらに誘電率温度特性も基板本体1の内部に容量を
形成するにあたり、実用的な範囲である±60ppm/
℃以下となり、抗折強度も実用に適した強度以上が確保
できる。
In Experimental Examples 1 and 2 (adding strontium titanate having a particle size of 1.6 μm), the relative dielectric constant exceeds 8.0, and the dielectric constant temperature characteristics also contribute to the formation of capacitance inside the substrate body 1. ± 60ppm / which is a practical range
Since the temperature becomes less than or equal to ℃, the bending strength can be ensured to be more than the strength suitable for practical use.

【0051】比較例1(チタン酸ストロンチウムを添加
していない)では、比誘電率も6.5と小さく、また誘
電率温度特性が130ppm/℃とプラス側に大きいも
のとなる。
In Comparative Example 1 (no addition of strontium titanate), the relative dielectric constant was as small as 6.5, and the temperature characteristic of the dielectric constant was 130 ppm / ° C., which was large on the plus side.

【0052】比較例2(粒径1.6μmのチタン酸スト
ロンチウムを添加)では、比誘電率も7.0と、比較例
1に比較して若干の向上は見られたものの、誘電率温度
特性が78〜90ppm/℃とプラス側にまだ大きいも
のとなる。
In Comparative Example 2 (addition of strontium titanate having a particle size of 1.6 μm), the relative dielectric constant was 7.0, which was slightly improved as compared with Comparative Example 1, but the dielectric constant-temperature characteristic. Is 78 to 90 ppm / ° C., which is still large on the plus side.

【0053】ここで、組成的には、実施例1と同一であ
るが、チタン酸ストロンチウムの粒径が2.0μmを下
回るため、焼結時にペロブスカイト結晶構造の一部が崩
壊してしまい、特に温度特性の補償する作用が充分に現
れなくなる。
Here, the composition is the same as in Example 1, but since the particle size of strontium titanate is less than 2.0 μm, a part of the perovskite crystal structure collapses during sintering, and in particular, The effect of compensating for the temperature characteristics will not fully appear.

【0054】比較例3(アルミナを添加していない)で
は、比誘電率も8.2であるが、誘電率温度特性が25
〜80℃で67ppm/℃と若干大きく、さらに、抗折
強度が実用的な強度15kgf/cm2 を下回るものと
なる。この場合も、チタン酸ストロンチウムの粒径が2
μmを下回るため、その一部でペロブスカイト結晶構造
のが崩壊してしまうため、正の温度特性を有するアルミ
ナ粉末を添加しなくとも、温度特性が±60ppm/℃
以内にすることができない。
In Comparative Example 3 (without addition of alumina), the relative dielectric constant was 8.2, but the dielectric constant temperature characteristic was 25.
67 ppm / ° C. at -80 ° C., which is slightly large, and the bending strength is less than the practical strength of 15 kgf / cm 2 . Also in this case, the particle size of strontium titanate is 2
Since it is less than μm, the perovskite crystal structure is partially collapsed, so that the temperature characteristic is ± 60 ppm / ° C. without adding alumina powder having a positive temperature characteristic.
Can't be within.

【0055】以上の実験結果から判るように、実施例
1、2に示すように、粒径2μm以上のペロブスカイト
結晶構造で、且つ負の温度特性を有する誘電体材料を、
アルミナ粉末とともに無機物フィラーとして用いること
で、誘電体層1a、1b・・・の誘電率の温度特性が±
60ppm/℃であることより、基板本体内部に容量発
生パターン3を形成して所定容量を得るようにしても、
その容量は周囲の温度変化に対しても安定した容量が維
持できる。
As can be seen from the above experimental results, as shown in Examples 1 and 2, a dielectric material having a perovskite crystal structure having a grain size of 2 μm or more and having a negative temperature characteristic was used.
By using it as an inorganic filler together with the alumina powder, the temperature characteristics of the dielectric constant of the dielectric layers 1a, 1b ...
Since it is 60 ppm / ° C., even if the capacitance generating pattern 3 is formed inside the substrate body to obtain a predetermined capacitance,
The capacity can maintain a stable capacity even when the ambient temperature changes.

【0056】さらに、比誘電率を従来以上に比誘電率を
高めることができることにより、例えば容量発生パター
ン3の面積を小型化しても、充分な値の容量が得られ、
さらに、図1に示すマイクロストリップ線路パターン7
を基板本体1内部に形成する場合にも、小型化された線
路パターン7が達成され、波長短縮率に応じて、誘電体
材料の配合量を制御することにより、一層のマイクロス
トリップラインを極小化させることができる。
Further, since the relative permittivity can be increased more than ever before, a sufficient value of capacitance can be obtained even if the area of the capacitance generating pattern 3 is reduced.
Furthermore, the microstrip line pattern 7 shown in FIG.
Even when the substrate is formed inside the substrate body 1, a miniaturized line pattern 7 is achieved, and by further controlling the compounding amount of the dielectric material according to the wavelength shortening rate, the microstrip line can be further minimized. Can be made.

【0057】また、負の温特材料が、基板本体1の内部
配線パターン2、容量発生パターン3、ビアーホール導
体4及び表面配線パターン5、厚膜抵抗膜6などに、悪
影響を及ぼすことが一切なく、例えば基板本体1の表面
の厚膜抵抗体膜6の抵抗温度特性を変化させることが一
切ないものとなる。
Further, the negative temperature characteristic material has no adverse effect on the internal wiring pattern 2, the capacitance generating pattern 3, the via hole conductor 4 and the surface wiring pattern 5, the thick film resistance film 6, etc. of the substrate body 1 at all. For example, the resistance temperature characteristic of the thick film resistor film 6 on the surface of the substrate body 1 is never changed.

【0058】尚、上述の実験では、誘電体材料としてチ
タン酸ストロンチウムを用いたが、その他にも、同様の
誘電体材料として、スズ酸ストロンチウム、チタン酸カ
ルシウムなどが例示されることは上述したが、これらの
材料は、ペロブスカイト結晶構造がチタン酸ストロンチ
ウムに比較して崩れやすいため、2〜10μmの範囲
で、10μmに近くするように粒径を大きくすることが
重要となる。
In the above experiment, strontium titanate was used as the dielectric material, but other similar dielectric materials such as strontium stannate, calcium titanate, etc. have been mentioned above. Since the perovskite crystal structure of these materials is more likely to be collapsed than that of strontium titanate, it is important to increase the particle size so as to approach 10 μm in the range of 2 to 10 μm.

【0059】尚、上述の実施例では、内部に容量発生パ
ターン3、マイクロストリップ線路パターン7を形成し
た基板本体1を例示したが、その他にコイルパターンを
基板本体1の内部又は基板本体1の表面に形成して、内
部に形成した容量成分とともにL−C共振回路を作成す
るなど、種々の回路網に広く使用できる。
In the above-mentioned embodiment, the substrate main body 1 having the capacitance generating pattern 3 and the microstrip line pattern 7 formed therein is exemplified, but other coil patterns may be provided inside the substrate main body 1 or on the surface of the substrate main body 1. It can be widely used in various circuit networks, such as forming an LC resonance circuit with a capacitance component formed inside.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、低温焼
成され、内部配線パターン、容量発生パターンとして、
比抵抗の小さい金、銀、銅などの金属材料を具備した容
量内蔵型多層回路基板であって、基板本体を構成する誘
電体層が、ガラス成分、アルミナ成分、さらに粒径2〜
10μmの負の温特材料を含んで構成されており、基板
本体の温度特性を±60ppm以内することができるた
め、基板本体内に容量発生パターンを形成して安定した
容量を形成することができる。
As described above, according to the present invention, it is fired at a low temperature and used as an internal wiring pattern and a capacitance generation pattern.
A multilayer circuit board with a built-in capacitor, which comprises a metal material such as gold, silver, or copper having a small specific resistance, wherein a dielectric layer constituting the board body has a glass component, an alumina component, and a particle size of 2 to 2
Since it is configured to include a negative temperature characteristic material of 10 μm and the temperature characteristic of the substrate body can be kept within ± 60 ppm, it is possible to form a capacitance generation pattern in the substrate body and form a stable capacitance. .

【0061】さらに、上述の負の温特材料は、焼結後に
おいても、安定した結晶構造を維持できるので、基板の
誘電率温度特性を良好に補正でき、基板表面の厚膜抵抗
体膜の抵抗温度特性に影響を与えることがない。
Furthermore, since the above-mentioned negative temperature characteristic material can maintain a stable crystal structure even after sintering, it is possible to satisfactorily correct the dielectric constant temperature characteristics of the substrate, and It does not affect the resistance temperature characteristics.

【0062】特に、誘電体材料として、チタン酸ストロ
ンチウムを用いれば、ペロブスカイト結晶構造の維持に
有効であり、粒径を小さくすることができる。
In particular, if strontium titanate is used as the dielectric material, it is effective for maintaining the perovskite crystal structure, and the grain size can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の容量内蔵型多層回路基板の断面構造を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a sectional structure of a multilayer circuit board with a built-in capacitor according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・・・・容量内蔵型多層回路基板 1・・・・・・基板本体 1a、1b・・誘電体層 2・・・・・・内部配線パターン 3・・・・・・容量発生パターン 4・・・・・・ビアホール導体 5・・・・・・表面配線パターン 6・・・・・・厚膜抵抗体膜 7・・・・・・マイクロストリップ線路パターン 10- ・ Multilayer circuit board with built-in capacitor 1- ・ Board body 1a, 1b ・ ・ Dielectric layer 2 ・ ・ Internal wiring pattern 3 ・ ・ Capacity generation pattern 4 ・ ・ Via hole conductor 5 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Surface wiring pattern 6 ・ ・ ・ ・ Thick film resistor film 7 ・ ・ ・ ・ Microstrip line pattern

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス成分及び無機物フィラーから成る
誘電体層を複数積層するとともに、内部に金系、銀系又
は銅系導体材料から成る内部配線パターン及び容量発生
パターンを配して成る容量内蔵型多層回路基板におい
て、 前記無機物フィラーが、ペロブスカイト結晶構造で且つ
誘電率の温度特性が負である粒径2〜10μmの誘電体
材料を含むことを特徴とする容量内蔵型多層回路基板。
1. A capacitance built-in type in which a plurality of dielectric layers made of a glass component and an inorganic filler are laminated and an internal wiring pattern and a capacitance generation pattern made of a gold-based, silver-based or copper-based conductor material are arranged inside. A multilayer circuit board, wherein the inorganic filler contains a dielectric material having a perovskite crystal structure and a particle diameter of 2 to 10 μm having a negative temperature characteristic of dielectric constant.
【請求項2】 前記ペロブスカイト結晶構造で且つ誘電
率の温度特性が負である誘電体材料がチタン酸ストロン
チウムであることを特徴とする請求項1記載のよりょう
内蔵型多層回路基板。
2. The multi-layer circuit board with a built-in scale according to claim 1, wherein the dielectric material having the perovskite crystal structure and a negative dielectric constant temperature characteristic is strontium titanate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6121174A (en) * 1996-09-26 2000-09-19 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Dielectric material with low temperature coefficient and high quality
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KR101018102B1 (en) * 2008-08-25 2011-02-25 삼성전기주식회사 Multilayer LTC Substrate and Manufacturing Method Thereof
JP2014120519A (en) * 2012-12-13 2014-06-30 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device

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