JPH0766710A - 入出力バッファ回路 - Google Patents

入出力バッファ回路

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JPH0766710A
JPH0766710A JP5211787A JP21178793A JPH0766710A JP H0766710 A JPH0766710 A JP H0766710A JP 5211787 A JP5211787 A JP 5211787A JP 21178793 A JP21178793 A JP 21178793A JP H0766710 A JPH0766710 A JP H0766710A
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power supply
transistor
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node
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JP5211787A
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Yoji Nishio
洋二 西尾
Masahiro Iwamura
将弘 岩村
Tomohisa Hosono
智久 細野
Hideo Hara
英夫 原
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】自身の電源電圧より高い電源電圧レベルデバイ
スとの間で入出力を行う入出力バッファ回路において、
リ−ク電流を排除する。 【構成】入出力端子7に”L”レベルを出力する場合、
入出力コントロ−ル回路11によって、出力回路13の
PMOS P1のゲ−ト端子には、”H”レベルが印加
され、NMOS N02のゲ−ト端子にはVcc1レベ
ルが印加される。この結果、PMOS P1はオフし、
NMOS N02はオンするので、入出力端子7は”
L”レベルになる。同時にPMOS P3がオンし、P
MOS P1のゲ−ト端子は、Vcc1レベルまで上昇
するので、PMOS P1は完全にオフとなり、リ−ク
電流は流れない。一方、入出力端子7に”H”レベルが
入力される場合も、PMOS P1は完全にオフし、入
出力端子7からPMOS P1を介して、電源Vcc1
へのリ−クパスが遮断される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路装置にお
いて信号の入出力に用いられる入出力バッファ回路に関
し、特に、異なる電源電圧で動作する半導体集積回路装
置との間で信号の入出力を行うことのできる入出力バッ
ファ回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】自身の電源電圧(例えば3.3V)より
高い電源電圧レベル(例えば5V)で信号を入出力する
デバイスとの間で、信号の入出力を行う従来の入出力バ
ッファ回路としては、たとえば、特開平4−32902
4号公報記載の回路が知られている。
【0003】図12に、この特開平4−329024号
公報記載の入出力バッファ回路の構成を示す。
【0004】以下、この入出バッファ回路について説明
する。
【0005】なお、以下の説明では、PMOSトランジ
スタ(以下、単に「PMOS」と記す)をQPで表し、
NMOSトランジスタを(以下、単に「NMOS」と記
す)QNで表し説明する。なお、全てのPMOSトラン
ジスタおよびNMOSトランジスタの型はエンハンス型
である。
【0006】さて、この入出力バッファ回路を含む集積
回路には、動作メイン電源として例えば3.3Vの電源
電圧Vcc1が与えられる。また、入出力バッファ回路
には、入出力を行う他のデバイスの動作電源Vcc2が
与えられる。Vcc2は、3.3Vより高い電圧であ
り、たとえば5Vである入出力端子であるパッドPAD
に接続する出力回路はPMOS QP3とNMOS Q
N3とQN4とから構成され、PMOS QP3の基板
であるNウエルはインタフェ−スするデバイスの動作電
源電圧Vcc2のレベル電位に接続している。また、P
MOS QP3のゲ−ト端子とパッドPADとの間に
は、ゲ−ト電圧がVcc1に、基板NウエルがVcc2
に接続したPMOS QP2が挿入されている。一方、
入出力端子であるパッドPADに接続する入力回路は、
ゲ−トをVccに接続したNMOS QN5と入力バッ
ファ回路2より構成されており、この入力バッファ回路
2は2段のインバ−タより構成されている。
【0007】一方、出力デ−タ信号Doutと出力活性
化信号ENが入力する入出力コントロ−ル回路1の出力
ノ−ドN1は、PMOS QP1とNMOS QN1で
構成されるインバ−タの入力に接続され、インバ−タの
出力は、ゲ−ト電圧をVcc1に接続したNMOS Q
N2の一端に接続される。また、このNMOS QN2
の他端は、PMOS QP3のゲ−ト端子に接続され
る。
【0008】また、PMOS QP3のゲ−ト端子とパ
ッドPADとの間には、ゲ−ト電圧がVcc1に、基板
NウエルがVcc2に接続したPMOS QP2が挿入
されている。
【0009】NMOS QN3のゲ−ト端子はVcc1
に接続され、NMOS QN4のゲ−ト端子は入出力コ
ントロ−ル回路1の出力ノ−ドN2に接続されている。
【0010】入力側に関係する回路としては、ゲ−ト端
子をVcc1に接続したNMOSQN5の一端にパッド
PADが接続され、他端は入力バッファ回路2に接続さ
れる。
【0011】以下、この入出力バッファ回路の動作につ
いて説明する。
【0012】まず、出力バッファとして動作する場合に
ついて説明する。
【0013】いま、パッドPADに”H”レベルを出力
する場合、入出力コントロ−ル回路1によって、ノ−ド
N1にVcc1レベルが、ノ−ドN2にGNDレベルが
出力される。これにより、PMOS QP3とNMOS
QN4のゲ−トには、GNDレベルが印加されるの
で、PMOS QP3はオンし、NMOS QN4はオ
フする。したがい、パッドPADは”H”レベルとな
る。
【0014】一方、パッドPADに”L”レベルを出力
する場合、入出力コントロ−ル回路1によって、ノ−ド
N1にGNDレベルが、ノ−ドN2にVcc1レベルが
出力される。これにより、PMOS QP3のゲ−トに
は、Vcc1−Vtnが、NMOS QN4のゲ−トに
は、Vcc1レベルが印加される。なお、VtnはNM
OS QN2のしきい値電圧である。したがい、PMO
S QP3はオフし、NMOS QN4はオンするの
で、パッドPADは”L”レベルとなる。
【0015】さて、ここで、PMOS QP3のゲ−ト
に印加される電圧は、Vccではなく、Vcc1−Vt
nとなるので、通常完全にはオフしない。そこで、これ
を完全にオフさせるために、NMOS QN2のしきい
値電圧を小さくするか、あるいは、PMOS QP3の
しきい値電圧の絶対値を大きくするプロセス上の工夫を
行っている。
【0016】次に、この入出力バッファ回路が入力バッ
ファとして動作する場合について説明する。
【0017】この場合には、入出力コントロ−ル回路1
によって、ノ−ドN1とN2にGNDレベルが出力され
る。
【0018】パッドPADに”L”レベルが入力される
場合、PMOS QP3のゲ−ト電圧は、Vcc1−V
tnになっており、先程のプロセス上の工夫によって、
PMOS QP3は完全にオフしている。また、NMO
S QN4のゲ−ト電圧はGNDレベルになっているの
で、NMOS QN4はオフしている。したがって、出
力回路の出力はハイインピ−ダンス状態となる。
【0019】そして、パッドPADから入力された”
L”レベルにより、入力バッファ回路2のNMOS Q
N5を通した後のノ−ドN3には、GNDレベルが伝わ
る。これを受けて入力バッファ回路2は、GNDの”
L”レベルをチップ内部に入力データ信号Dinとして
伝達する。
【0020】一方、パッドPADに”H”レベルが入力
された場合、そのレベルが、Vcc1+|Vtp|を越
えると、そのレベルが、オンとなるPMOS QP2を
介して、PMOS QP3のゲ−トに伝わる。したが
い、PMOS QP3は完全にオフする。よって、パッ
ドPADからPMOS QP3を介して、電源Vcc1
へ流れるリ−クパスが遮断される。その際、PMOS
QP3のゲ−ト電位が、QP1とQN1からなるインバ
−タの出力電位Vcc1より高くなるが、NMOS Q
N2によって、分離されているので問題は生じない。ま
た、NMOS QN4のゲ−ト電圧はGNDレベルにな
っているので、NMOS QN4はオフする。したがっ
て、出力回路の出力はハイインピ−ダンス状態となる。
また、PMOS QP3とQP2の基板であるNウエル
を電源Vcc2に接続しているので、パッドPADに電
源Vcc2と同電位の信号が入力してもドレインとNウ
エルが順バイアスされることがなく、リ−ク電流が流れ
ることもない。
【0021】そして、パッドPADから”H”レベルが
入力されると、NMOS QN5を通した後のノ−ドN
3には、Vcc1−Vtn5レベルが伝わる。ただし、
Vtn5はNMOS QN5のしきい値電圧である。こ
れを受けて入力バッファ回路2は、Vcc1の”H”レ
ベルをチップ内部に伝達する。しかし、この際、入力バ
ッファ回路2の初段のインバ−タのPMOSのゲ−トに
はVcc1ではなく、Vcc1−Vtn5レベルが伝わ
るので完全にオフせず、リ−ク電流が流れる。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、前記特
開平4−329024号公報記載の入出力バッファ回路
では、まず第1にパッドPADのレベルが”L”の時、
出力部のPMOS QP3のリ−ク電流を防ぐために、
NMOS QN2のしきい値電圧を小さくするか、ある
いは、PMOS QP3のしきい値電圧の絶対値を大き
くするプロセス上の工夫をする必要があった。また、入
力バッファ回路2にリ−ク電流が発生していた。
【0023】そこで、本発明は、自身の電源電圧より高
い電源電圧レベルで信号を入出力するデバイスとの間で
信号を入出力することのできる入出力バッファ回路であ
って、プロセス工程を増加することなくリ−ク電流を排
除した入出力バッファ回路を提供することを目的とす
る。
【0024】また、本発明は、自身の電源電圧より高い
電源電圧レベルで信号を入出力するデバイスとの間で信
号を入出力することのできる入出力バッファ回路であっ
て、より簡便なプロセス上の工夫でリ−ク電流を排除す
ることのできる入出力バッファ回路を提供することを目
的とする。
【0025】
【課題を解決するための手段】前記目的達成のために本
発明は、たとえば、図2に示すように、回路外部の信号
を入出力する入出力端子7と、静電破壊保護用素子12
と、入出力端子7からの信号を入力する入力バッファ回
路10と、第1の電源Vcc1で駆動される2入力NA
ND3と2入力NOR4とインバ−タ5から構成される
入出力コントロ−ル回路11と、第1の電源Vcc1と
入出力端子7の間に挿入され基板を第2の電源Vcc2
に接続した第1のPMOS P1と、一端を前記第1の
PMOSP1のゲ−ト端子に他端を前記入出力コントロ
−ル回路11の2入力NAND3の出力端子にゲ−ト端
子を第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した第1のNM
OS N01と、一端を前記第1のPMOS P1のゲ
−ト端子に他端を入出力端子7にゲ−ト端子を第1の電
源Vcc1に基板Nウエルを第2の電源Vcc2にそれ
ぞれ接続した第2のPMOS P2と、一端を接地電位
端子にゲ−ト端子を前記入出力コントロ−ル回路11の
2入力NOR4の出力端子に接続した第2のNMOS
N02と、一端を前記入出力端子7に他端を前記第2の
NMOSN02にゲ−ト端子を第1の電源Vcc1にそ
れぞれ接続した第3のNMOSN03と、更に、一端を
前記入出力コントロ−ル回路11の2入力NAND3の
出力端子に他端を前記第1のPMOS P1のゲ−ト端
子にゲ−トを前記入出力端子7に基板を第2の電源Vc
c2に接続した第3のPMOS P3とを備えた出力バ
ッファ回路13を提供する。
【0026】また、図2に示すように、この出力バッフ
ァ回路13に、さらに、一端を前記入出力端子7に他端
をPMOS P5とNMOS N05からなるインバ−
タの入力端子にゲ−トを第1の電源Vcc1に接続した
第4のNMOS N04と、一端を第1の電源Vcc1
に他端を前記インバ−タの入力端子にゲ−トを前記イン
バ−タの出力端子に基板を第1の電源Vcc1に接続し
た第4のPMOS P4とを含む入力バッファ回路10
を付加した入出力バッファ回路を提供する。
【0027】
【作用】図2に示した入出力バッファ回路によれば、前
記入出力端子7が”L”レベルになり、第1の電源Vc
c1と入出力端子7の間に挿入され基板を第2の電源V
cc2に接続した第1のPMOS P1をオフする時、
一端を前記入出力コントロ−ル回路11の2入力NAN
D3の出力端子に他端を前記第1のPMOS P1のゲ
−ト端子にゲ−ト端子を前記入出力端子7に基板を第2
の電源Vcc2に接続した第3のPMOS P3がオン
となり、PMOS P1のゲ−ト端子がVcc1電位と
なる。従って、プロセス上の工夫を施すことなく、PM
OS P1を完全にオフできるので、電源Vcc1から
入出力端子7へのリ−ク電流を防ぐことができる。ま
た、PMOS P3の基板は第2の電源Vcc2に接続
しているので、第1のPMOS P1のゲ−ト端子がV
cc2電位になっても順バイアスされることはない。こ
れにより、自身の動作する電源電圧(Vcc1)より高
い電源電圧(Vcc2)で動作するデバイスとのインタ
フェ−スをとることができる。
【0028】また、前記入出力端子7に”H”レベルが
入力された時、第4のPMOS P4が設置されていな
いと、PMOS P5とNMOS N05からなるイン
バ−タの入力端子のレベルがVcc1−Vtn5までし
か上昇しない。しかし、前記インバ−タの出力端子の出
力をゲ−トに受ける第4のPMOS P4によって、前
記インバ−タの入力端子のレベルがVcc1までプルア
ップされる。従って、PMOS P5とNMOS N0
5からなるインバ−タを流れるリ−ク電流を防止するこ
とができる。
【0029】
【実施例】以下、本発明に係る入出力バッファ回路の実
施例について説明する。
【0030】まず、図1に、本実施例に係る入出力バッ
ファ回路を備えた半導体集積回路装置の構成を示す。
【0031】図中、1000が本実施例に係る入出力バ
ッファ回路を備えた半導体集積回路装置であり、200
0は半導体集積回路装置1000との間で入出力を行う
他の半導体集積回路である。半導体集積回路1000
は、電源電圧Vcc1で動作する論理回路部200と、
論理回路部200が他の半導体集積回路2000との間
の信号の入出力に用いる複数の入出力バッファ回路10
0を備えている。ここで、半導体集積回路装置2000
は、Vcc1より高い電源電圧Vcc2で動作する装置
であり、半導体集積回路1000の入出力バッファ回路
100には、電源電圧Vcc1、または、電源電圧Vc
c1と電源電圧Vcc2が供給される。電源電圧Vcc
1は、たとえば3.3Vや2.5Vであり、電源電圧V
cc2は、Vcc1より高い電源電圧、たとえば5Vや
3.3Vである。
【0032】半導体集積回路1000は、入出力バッフ
ァ回路100より”H(High)”レベルが電圧Vc
c1もしくはVcc2、”L(Low)”レベルがGN
Dの信号を出力し、入出力バッファ回路100で”H”
レベルが電圧Vcc2、”L”レベルがGNDの信号を
入力する。なお、ここで、「GND」はグランド電圧
(接地電圧)を表すものとする。
【0033】以下、入出力バッファ回路100の詳細に
ついて説明する。
【0034】まず、入出力バッファ回路の第1の実施例
を説明する。
【0035】図2に、本第1実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の構成を示す。
【0036】図2に示した入出力バッファ回路には、前
述したように、電源電圧Vcc1と、Vcc1より高い
電源電圧Vcc2が与えられる。
【0037】さて、図示するように、本第1実施例に係
る入出力バッファ回路は、外部の信号を入出力する入出
力端子7と、静電破壊保護用素子12と、入出力端子7
に信号を出力する出力回路13と、入出力端子7からの
信号を入力する入力回路10と、第1の電源Vcc1で
駆動される2入力NAND3と2入力NOR4とインバ
−タ5から構成される入出力コントロ−ル回路11とよ
り構成されている。
【0038】また、出力回路13は、第1の電源Vcc
1と入出力端子7の間に挿入されN型の基板ウエルを第
2の電源Vcc2に接続した第1のPMOS P1と、
一端を前記第1のPMOS P1のゲ−ト端子に他端を
前記入出力コントロ−ル回路11の2入力NAND3の
出力端子にゲ−ト端子を第1の電源Vcc1にそれぞれ
接続した第1のNMOS N01と、一端を前記第1の
PMOS P1のゲ−ト端子に他端を前記入出力端子7
にゲ−ト端子を第1の電源Vcc1に基板Nウエルを第
2の電源Vcc2にそれぞれ接続した第2のPMOS
P2と、一端を接地電位端子にゲ−ト端子を前記入出力
コントロ−ル回路11の2入力NOR回路4の出力端子
に接続した第2のNMOS N02と、一端を前記入出
力端子7に他端を前記第2のNMOS N02の他端に
ゲ−ト端子を第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した第
3のNMOS N03と、一端を前記入出力コントロ−
ル回路11の2入力NAND3の出力端子に他端を前記
第1のPMOS P1のゲ−ト端子にゲ−ト端子を前記
入出力端子7に基板Nウエルを第2の電源Vcc2にそ
れぞれ接続した第3のPMOS P3とから構成されて
いる。
【0039】また、静電破壊用保護素子12は、アノ−
ドを前記入出力端子7にカソ−ドを第2の電源Vcc2
に接続した第1の一方向導電性素子(たとえばダイオ−
ド)D1と、アノ−ドを接地電位端子にカソ−ドを前記
入出力端子7に接続した第2の一方向導電性素子(たと
えばダイオ−ド)D2とから構成される。
【0040】また、入力回路10は、一端を前記入出力
端子7に他端をPMOS P5とNMOS N05から
なるインバ−タの入力端子にゲ−ト端子を第1の電源V
cc1にそれぞれ接続した第4のNMOS N04と、
一端を第1の電源Vcc1に他端を前記インバ−タの入
力端子にゲ−ト端子を前記インバ−タの出力端子に基板
Nウエルを第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した第4
のPMOS P4を含んで構成される。
【0041】なお、各PMOSおよびNMOSの型は、
エンハンス型ある。
【0042】以下、本第1実施例に係る入出力バッファ
回路の動作について説明する。
【0043】まず、入出力バッファ回路が出力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0044】まず、入出力端子7に”H”レベルを出力
する場合、図1に示した論理回路部200は、デ−タ信
号Dとイネ−ブル信号ENを”H”レベルにする。その
結果、入出力コントロ−ル回路11によって、2入力N
AND3と2入力NOR4の出力端子がGNDレベルに
なる。したがい、出力回路13において、PMOSP1
とNMOS N02のゲ−ト端子にはGNDレベルが印
加されるので、PMOS P1はオンし、NMOS N
02はオフする。この結果、入出力端子7は”H”レベ
ルになる。なお、この際、PMOS P2とP3はオフ
状態となるので動作に無関係である。
【0045】次に、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、論理回路部200は、デ−タ信号Dを”L”
レベルにし、イネ−ブル信号ENを”H”レベルにす
る。その結果、入出力コントロ−ル回路11によって、
2入力NAND3と2入力NOR4の出力端子がVcc
1レベルになる。したがい、出力回路13のPMOSP
1のゲ−ト端子には、”H”レベルが印加され、NMO
S N02のゲ−ト端子にはVcc1レベルが印加され
る。この結果、PMOS P1はオフし、NMOS N
02はオンするので、入出力端子7は”L”レベルにな
る。同時にPMOS P3がオンし、PMOS P1の
ゲ−ト端子は、Vcc1レベルまで上昇するので、PM
OS P1は完全にオフとなる。したがい、先に示した
従来の回路のように、リ−ク電流を防ぐために、NMO
S N01のしきい値電圧を小さくするとか、PMOS
P1のしきい値電圧の絶対値を大きくする等のプロセ
ス上の工夫をする必要がない。なお、この際、PMOS
P2はオフ状態であり、動作に無関係である。
【0046】次に、入出力バッファ回路が入力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0047】この場合、論理回路部200は、イネ−ブ
ル信号ENを”L”レベルにする。その結果、入出力コ
ントロ−ル回路11によって、2入力NAND3の出力
端子はVcc1レベルになり、2入力NOR4の出力端
子はGNDレベルになる。
【0048】入出力端子7に”L”レベルが入力される
場合、出力回路13では、PMOSP3の働きによっ
て、PMOS P1のゲ−ト端子はVcc1レベルにな
り、PMOS P1は完全にオフする。また、NMOS
N02のゲ−ト端子はGNDレベルになっているの
で、NMOS N02はオフしている。したがい、出力
回路13の出力はハイインピ−ダンス状態となる。
【0049】また、入出力端子7に”H”レベルが入力
される場合、出力回路13では、そのレベルがVcc1
+|Vtp|を越えると、そのレベルがオンとなるPM
OSP2を介してPMOS P1のゲ−ト端子に伝わ
る。ここで、VtpはPMOS P2のしきい値電圧で
ある。これにより、PMOS P1は完全にオフし、入
出力端子7からPMOS P1を介して、電源Vcc1
へのリ−クパスが遮断される。なお、この際、PMOS
P1のゲ−ト電位が、2入力NAND3の出力電位V
cc1より高くなるが、NMOS N01によって分離
されているので問題は生じない。また、NMOS N0
2のゲ−ト電位はGNDレベルであり、NMOS N0
2はオフしている。したがい、出力はハイインピ−ダン
ス状態となっている。また、PMOS P1,P2,P
3の基板であるNウエルを電源Vcc2に接続している
ので、入出力端子7に電源Vcc2と同電位の信号が入
力してもドレインとNウエルが順バイアスされることが
なく、リ−ク電流が流れることはない。
【0050】一方、入力回路10では、入出力端子7か
ら”H”レベルが入力されると、NMOS N04によ
って、PMOS P5とNMOS N05から構成され
るインバ−タの入力端子のレベルがVcc1−Vtn4
まで上昇する。ここで、Vtn4はNMOS N04の
しきい値電圧である。これを受けて、PMOS P5と
NMOS N05から構成されるインバ−タの出力端子
レベルが”L”レベルに下がり、インバ−タ6の”H”
レベル出力がチップ内部に伝達される。その際、PMO
S P5とNMOS N05から構成されるインバ−タ
の出力端子レベルをゲ−ト端子に受けるPMOS P4
の働きによって、PMOS P5とNMOS N05か
ら構成されるインバ−タの入力端子のレベルがVcc1
まで上昇し、PMOS P5は完全にオフする。したが
い、PMOS P5とNMOSN05から構成されるイ
ンバ−タを流れるリ−ク電流は生じない。
【0051】次に、入出力端子7から”L”レベルが入
力されると、入力回路10では、NMOS N04によ
って、PMOS P5とNMOS N05から構成され
るインバ−タの入力端子のレベルがGNDレベルにな
る。これを受けて、PMOSP5とNMOS N05か
ら構成されるインバ−タの出力端子レベルが”H”レベ
ルになり、インバ−タ6の”L”レベル出力がチップ内
部に伝達される。
【0052】なお、静電破壊用保護素子12のダイオ−
ドD1のカソ−ドを電源Vcc2に接続しているので、
入出力端子7に電源Vcc2と同電位の信号が入力して
もダイオ−ドD1が導通することはない。
【0053】以上のように、本第1実施例に係る入出力
バッファ回路によれば、プロセス工程を増加することな
く、自身の電源電圧(Vcc1)より高い電源電圧(V
cc2)レベルで信号を入出力する装置と入出力を行う
ことのできるCMOSタイプの入出力バッファ回路を得
ることができる。
【0054】以下、入出力バッファ回路100の第2の
実施例について説明する。
【0055】本第2実施例に係る入出力バッファ回路
は、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回路
と、入出力コントロ−ル回路11と出力回路13のみが
異なるので、その他の部分の説明を省略し、この部分の
みを説明する。
【0056】図3に、本第2実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13の
構成を抜き出して示す。
【0057】図示するように、本第2実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、イネ−ブル信号ENを反転
する第1の電源Vcc1で駆動されるインバ−タ8のみ
で構成される。また、出力回路13は、第1の電源Vc
c1と入出力端子7の間に挿入されN型の基板ウエルを
第2の電源Vcc2に接続した第1のPMOS P1と
第6のPMOS P6と、一端を前記第1のPMOS
P1のゲ−ト端子に他端を前記インバ−タ8の出力端子
にゲ−ト端子を第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した
第1のNMOS N01と、一端を前記第1のPMOS
P1のゲ−ト端子に他端を前記入出力端子7にゲ−ト
端子を第1の電源Vcc1に基板Nウエルを第2の電源
Vcc2にそれぞれ接続した第2のPMOS P2と、
一端を接地電位端子にゲ−ト端子をイネ−ブル信号EN
に接続した第2のNMOS N02と、一端を前記入出
力端子7に他端を前記第2のNMOS N02にゲ−ト
端子を第6のPMOS P6のゲ−ト端子とデ−タ信号
Dにそれぞれ接続した第3のNMOS N03と、一端
を前記インバ−タ8の出力端子に他端を前記第1のPM
OS P1のゲ−ト端子にゲ−ト端子を前記入出力端子
7に基板Nウエルを第2の電源Vcc2にそれぞれ接続
した第3のPMOS P3とから構成される。
【0058】以下、本第2実施例に係る出力回路13の
動作について説明する。
【0059】まず、入出力バッファ回路が出力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0060】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブル信号
ENを”H”レベルにする。その結果、PMOS P1
とPMOS P6のゲ−ト端子にはGNDレベルが印加
されるので、PMOS P1とPMOS P6はオンす
る。また、NMOS N02はオンするがNMOSN0
3はオフする。この結果、入出力端子7は”H”レベル
になる。なお。この際、PMOS P2とP3はオフ状
態となり動作に無関係である。
【0061】一方、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”H”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、NMOS
N02とN03のゲ−ト端子にはVcc1レベルが印
加されるので、NMOS N02とN03はオンする。
また、PMOS P1はオンするが、PMOS P6は
オフする。この結果、入出力端子7は”L”レベルにな
る。この際、PMOSP2はオフ状態であり、動作に無
関係である。
【0062】次に、入出力バッファ回路が入力バッファ
として動作する場合について説明する。この時、イネ−
ブル信号ENを”L”レベルにする。その結果、インバ
−タ8の出力端子はVcc1レベルになる。
【0063】入出力端子7に”L”レベルが入力される
場合、PMOS P3の働きによって、PMOS P1
のゲ−ト端子はVcc1レベルになり、PMOS P1
は完全にオフする。また、NMOS N02のゲ−ト端
子はGNDレベルになっているので、NMOS N02
はオフしている。したがい、出力はハイインピ−ダンス
状態となる。
【0064】一方、入出力端子7に”H”レベルが入力
される場合、そのレベルがVcc1+|Vtp|を越え
ると、そのレベルがオンとなるPMOS P2を介して
PMOS P1のゲ−ト端子に伝わる。ここで、Vtp
はPMOS P2のしきい値電圧である。したがい、P
MOS P1は完全にオフしている。よって、入出力端
子7からPMOS P6,P1を介して、電源Vcc1
へのリ−クパスが遮断される。その際、PMOS P1
のゲ−ト電位が、インバ−タの出力電位Vcc1より高
くなるが、NMOS N01によって分離されているの
で問題ない。また、NMOS N02のゲ−ト電位はG
NDレベルであり、NMOS N02はオフしている。
したがい、出力回路はハイインピ−ダンス状態である。
また、PMOS P1,P2,P3の基板であるNウエ
ルを電源Vcc2に接続しているので、入出力端子7に
電源Vcc2と同電位の信号が入力してもドレインとN
ウエルが順バイアスされることはない。
【0065】以上のように、本第2実施例によっても、
プロセス工程を増加することなく、自身の電源電圧(V
cc1)より高い電源電圧(Vcc2)レベルで信号を
入出力するデバイスとの間で信号の入出力を行うことの
できるCMOSタイプの入出力バッファ回路を提供する
ことができる。
【0066】以下、入出力バッファ回路100の第3の
実施例について説明する。
【0067】本第3実施例に係る入出力バッファ回路
も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回路
と、入出力コントロ−ル回路11と出力回路13のみが
異なるので、その他の部分の説明を省略し、この部分の
みを説明する。
【0068】図4に、本第3実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13の
構成を抜き出して示す。
【0069】図示するように、本第3実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、イネ−ブル信号ENとデ−
タ信号Dを受け第1の電源Vcc1で駆動される2入力
NAND9とイネ−ブル信号ENを反転するインバ−タ
8とより構成される。また、出力回路13は、第1の電
源Vcc1と入出力端子7の間に挿入されN型の基板ウ
エルを第2の電源Vcc2に接続した第1のPMOS
P1と第6のPMOSP6と、一端を前記第1のPMO
S P1のゲ−ト端子に他端を前記インバ−タ8の出力
端子にゲ−ト端子を第1の電源Vcc1にそれぞれ接続
した第1のNMOS N01と、一端を前記第1のPM
OS P1のゲ−ト端子に他端を前記入出力端子7にゲ
−ト端子を第1の電源Vcc1に基板Nウエルを第2の
電源Vcc2にそれぞれ接続した第2のPMOS P2
と、一端を接地電位端子にゲ−ト端子をイネ−ブル信号
ENに接続した第2のNMOS N02と、一端を前記
入出力端子7に他端を前記第2のNMOS N02の他
端にゲ−ト端子を前記2入力NAND9の出力端子とP
MOS P6のゲ−ト端子にそれぞれ接続した第3のN
MOS N03とから構成される。
【0070】以下、本第3実施例に係る出力回路の動作
について説明する。
【0071】まず、入出力バッファ回路が、出力バッフ
ァとして動作する場合について説明する。
【0072】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dとイネ−ブル信号ENを”H”レベル
にする。その結果、インバ−タ8と2入力NAND9の
出力端子がGNDレベルになる。したがい、PMOS
P1,P6とNMOS N03のゲ−ト端子にはGND
レベルが印加されるので、PMOS P1,P6はオン
し、NMOS N03はオフする。この結果、入出力端
子7は”H”レベルになる。この際、PMOS P2は
オフ状態であり動作に無関係である。
【0073】一方、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、2入力N
AND9の出力端子がVcc1レベルになる。したが
い、PMOS P6、NMOSN02、N03のゲ−ト
端子にはVcc1レベルが印加される。この結果、、P
MOS P6はオフし、NMOS N02,N03はオ
ンするので、入出力端子7は”L”レベルになる。PM
OS P6が完全にオフとなるので、NMOSN01の
しきい値電圧を小さくするとか、PMOS P1のしき
い値電圧の絶対値を大きくする等のプロセス上の工夫を
しなくても、リ−ク電流を防ぐことができる。なお、こ
の際、PMOS P2はオフ状態であり、動作に無関係
である。 次に、入出力バッファ回路が入力バッファ動
作する場合について説明する。
【0074】この場合、イネ−ブル信号ENを”L”レ
ベルにする。その結果、インバ−タ8と2入力NAND
9の出力端子はVcc1レベルになる。
【0075】そして、入出力端子7に”L”レベルが入
力される場合、PMOS P6のゲ−ト端子はVcc1
レベルであり、PMOS P6は完全にオフしている。
また、NMOS N02のゲ−ト端子はGNDレベルに
なっているので、NMOSN02はオフしている。した
がい、出力回路はハイインピ−ダンス状態となる。
【0076】一方、入出力端子7に”H”レベルが入力
される場合、そのレベルがVcc1+|Vtp|を越え
ると、そのレベルがオンとなるPMOS P2を介して
PMOS P1のゲ−ト端子に伝わる。ここで、Vtp
はPMOS P2のしきい値電圧である。したがい、P
MOS P1は完全にオフしている。よって、入出力端
子7からPMOS P6、P1を介して、電源Vcc1
へのリ−クパスが遮断される。その際、PMOS P1
のゲ−ト電位が、インバ−タ8の出力電位Vcc1より
高くなるが、NMOS N01によって分離されている
ので問題ない。また、NMOS N02のゲ−ト電位は
GNDレベルであり、NMOS N02はオフしてい
る。したがい、出力回路はハイインピ−ダンス状態であ
る。また、PMOS P1,P2,P6の基板であるN
ウエルを電源Vcc2に接続しているので、入出力端子
7に電源Vcc2と同電位の信号が入力してもドレイン
とNウエルが順バイアスされることはない。
【0077】以上にように本第3実施例によっても、プ
ロセス工程を増加することなく、自身の電源電圧(Vc
c1)より高い電源電圧(Vcc2)レベルで信号を入
出力するデバイスとの間で入出力を行うことができるC
MOSタイプの入出力バッファ回路を提供することがで
きる。
【0078】以下、入出力バッファ回路100の第4の
実施例を説明する。
【0079】本第4実施例は、バイポ−ラトランジスタ
とMOSトランジスタを同一基板上に成形したバイCM
OSタイプの半導体集積回路装置の入出力バッファに関
するものである。また、本第4実施例に係る入出力バッ
ファ回路には、前記第1〜3実施例と異なり、電源電圧
としてVcc1のみが供給される。
【0080】本第4実施例に係る入出力バッファ回路
も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回路
と、出力回路13のみが異なるので、その他の部分の説
明を省略し、この部分のみを説明する。
【0081】図5に、本第4実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13の
構成を抜き出して示す。
【0082】図示するように、本第4実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、第1の電源Vcc1で駆動
される2入力NAND3と2入力NOR4とインバ−タ
5から構成される。また、出力回路13は、第1の電源
Vcc1と入出力端子7の間に挿入されたNPNバイポ
−ラトランジスタ(以下、単に「NPN」と記す)Q1
と、一端を第1の電源Vcc1に他端を前記NPN Q
1のベ−ス端子にゲ−ト端子を前記入出力コントロ−ル
回路11の2入力NAND3の出力端子に基板Nウエル
を第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した第7のPMO
S P7と、一端をNPN Q1のベ−ス端子に他端を
接地電位端子にゲ−ト端子を前記入出力コントロ−ル回
路11の2入力NAND3の出力端子にそれぞれ接続し
た第6のNMOS N06と、一端を接地電位端子にゲ
−ト端子を前記入出力コントロ−ル回路11の2入力N
OR回路4の出力端子に接続した第2のNMOS N0
2と、一端を前記入出力端子7に他端を前記第2のNM
OS N02にゲ−ト端子を第1の電源Vcc1にそれ
ぞれ接続した第3のNMOS N03とから構成され
る。
【0083】以下、本第4実施例に係る入出力回路の動
作について説明する。
【0084】まず、入出力バッファ回路が出力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0085】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dとイネ−ブル信号ENを”H”レベル
にする。その結果、入出力コントロ−ル回路11によっ
て、2入力NAND3と2入力NOR4の出力端子がG
NDレベルになる。したがい、PMOS P7とNMO
S N06,N02のゲ−ト端子にはGNDレベルが印
加されるので、PMOS P2はオンし、NMOS N
06はオフし、NPNQ1はオンする。また、NMOS
N02はオフする。この結果、入出力端子7は”H”
レベルになる。
【0086】一方、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、入出力コ
ントロ−ル回路11によって、2入力NAND3と2入
力NOR4の出力端子がVcc1レベルになる。したが
い、PMOS P7とNMOS N06、N02のゲ−
ト端子にはVcc1レベルが印加されるので、PMOS
P7はオフし、NMOS N06はオンし、NPN
Q1はオフする。また、NMOS N02はオンする。
この結果、入出力端子7は”L”レベルになる。
【0087】次に、入出力バッファ回路が入力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0088】この場合は、イネ−ブル信号ENを”L”
レベルにする。その結果、入出力コントロ−ル回路11
によって、2入力NAND3の出力端子はVcc1レベ
ルになり、2入力NOR4の出力端子はGNDレベルに
なる。
【0089】そして、入出力端子7に”L”レベルが入
力される場合、2入力NAND3の働きによって、PM
OS P7とNMOS N06のゲ−ト端子はVcc1
レベルになり、NPN Q1は完全にオフする。また、
NMOS N02のゲ−ト端子はGNDレベルになって
いるので、NMOS N02はオフしている。したが
い、出力回路13の出力はハイインピ−ダンス状態とな
る。
【0090】一方、入出力端子7に”H”レベルが入力
される場合も、ベ−ス電位がGND電位になっているN
PN Q1は完全にオフしている。また、NMOS N
02のゲ−ト電位はGNDレベルであり、NMOS N
02はオフしている。したがい、出力回路13の出力は
ハイインピ−ダンス状態となる。
【0091】以上のように、本第4実施例によれば、N
PNバイポ−ラトランジスタを用いることにより、リ−
ク電流を生じることなく、単一電源で、自身の電源電圧
(Vcc1)より高い電源電圧(Vcc2)レベルで信
号を入出力するデバイスとの間で入出力を行うことので
きるバイポ−ラ CMOS複合の入出力バッファ回路を
得ることができる。また、半導体基板としてN型を用い
ると、バイポ−ラトランジスタの形成として、N型基板
をコレクタに、Pウエルをベ−スに、N拡散層領域をエ
ミッタとすることができるので、プロセス工程を増加す
る必要はない。
【0092】以下、入出力バッファ回路の第5の実施例
について説明する。
【0093】本第5実施例も、バイポ−ラトランジスタ
とMOSトランジスタを同一基板上に成形したバイCM
OSタイプの半導体集積回路装置の入出力バッファに関
するものであり、また、電源電圧としてVcc1のみが
供給される。
【0094】さて、本第5実施例に係る入出力バッファ
回路も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回
路と、入出力コントロ−ル回路11と出力回路13のみ
が異なるので、その他の部分の説明を省略し、この部分
のみを説明する。
【0095】図6に、本第5実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13の
構成を抜き出して示す。
【0096】図示するように、本第5実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、イネ−ブル信号ENを反転
する第1の電源Vcc1で駆動されるインバ−タ8のみ
で構成される。また、出力回路13は、第1の電源Vc
c1と入出力端子7の間に挿入されたNPN Q1と、
一端を第1の電源Vcc1に他端を第9のPMOSP9
の一端にゲ−ト端子を前記インバ−タ8の出力端子に基
板Nウエルを第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した第
8のPMOS P8と、一端を前記第8のPMOS P
8の他端に他端を前記NPN Q1のベ−ス端子にゲ−
ト端子をデ−タ信号Dに基板Nウエルを第1の電源Vc
c1にそれぞれ接続した第9のPMOS P9と、一端
を接地電位端子にゲ−ト端子をイネ−ブル信号ENに接
続した第2のNMOS N02と、一端を前記入出力端
子7に他端を前記第2のNMOS N02にゲ−ト端子
を前記デ−タ信号Dにそれぞれ接続した第3のNMOS
N03と、一端を前記NPN Q1のベ−ス端子に他端
を接地電位端子にゲ−ト端子を前記デ−タ信号Dにそれ
ぞれ接続した第7のNMOS N07と、一端を前記N
PN Q1のベ−ス端子に他端を接地電位端子にゲ−ト
端子を前記インバ−タ8の出力端子にそれぞれ接続した
第8のNMOS N08とから構成される。
【0097】以下、本第5実施例に係る出力回路の動作
について説明する。
【0098】まず、入出力バッファ回路が出力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0099】まず、入出力端子7に”H”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、PMOS
P8、P9とNMOS N07,N08のゲ−ト端子
にはGNDレベルが印加されるので、PMOS P8と
PMOS P9はオンし、NMOS N07,N08は
オフする。したがい、NPN Q1はオンする。また、
NMOS N02はオンするがNMOS N03はオフ
する。この結果入出力端子7は”H”レベルになる。
【0100】次に、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”H”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、NMOS
N02とN03のゲ−ト端子にはVcc1レベルが印
加されるので、NMOS N02とN03はオンする。
また、PMOS P8はオンするが、PMOS P9は
オフし、NMOS N07はオンする。したがい、NP
N Q1はオフする。この結果入出力端子7は”L”レ
ベルになる。
【0101】次に、入出力バッファ回路が入力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0102】この場合は、イネ−ブル信号ENを”L”
レベルにする。その結果、PMOSP8とNMOS N
08のゲ−ト端子はVcc1レベルになり、NMOS
N02のゲ−ト端子はGNDレベルになる。
【0103】入出力端子7に”L”レベルが入力される
場合、NPN Q1のベ−ス電位はGNDレベルである
ので、NPN Q1は完全にオフしている。また、NM
OSN02のゲ−ト端子はGNDレベルになっているの
で、NMOS N02はオフしている。したがい、出力
回路13の出力はハイインピ−ダンス状態となる。
【0104】一方、入出力端子7に”H”レベルが入力
される場合も、NPN Q1は完全にオフしている。ま
た、NMOS N02のゲ−ト電位はGNDレベルであ
り、NMOS N02はオフしている。したがい、出力
回路13の出力はハイインピ−ダンス状態となる。
【0105】以上のように、本第5実施例によっても、
前記第4実施例と同様に、NPNバイポ−ラトランジス
タを用いることにより、自身の電源電圧(Vcc1)よ
り高い電源電圧(Vcc2)レベルで信号を入出力する
デバイスとインタフェ−スすることができるバイポ−ラ
CMOS複合の入出力バッファ回路を得ることがで
き、単一電源で動作させることができる。その際、半導
体基板としてN型を用いると、バイポ−ラトランジスタ
の形成として、N型基板をコレクタに、Pウエルをベ−
スに、N拡散層領域をエミッタとすることができるの
で、プロセス工程を増加する必要はない。
【0106】以下、入出力バッファ回路の第6の実施例
について説明する。
【0107】本第6実施例も、バイポ−ラトランジスタ
とMOSトランジスタを同一基板上に成形したバイCM
OSタイプの半導体集積回路装置の入出力バッファに関
するものである。ただし、本第6実施例に係る入出力バ
ッファ回路には、電源電圧としてVcc1とVcc2が
供給される。
【0108】さて、本第6実施例に係る入出力バッファ
回路も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回
路と、入出力コントロ−ル回路11と出力回路13のみ
が異なるので、その他の部分の説明を省略し、この部分
のみを説明する。
【0109】図7に、本第6実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13の
構成を抜き出して示す。
【0110】図示するように、本第6実施例では、入出
力回路11は、イネ−ブル信号ENを反転する第1の電
源Vcc1で駆動されるインバ−タ8のみから構成され
る。また、出力回路13は、第1の電源Vcc1と入出
力端子7の間に挿入されたNPN Q1と、一端を第1
の電源Vcc1に基板Nウエルを第2の電源Vcc2に
接続した第8のPMOS P8と、一端を前記第8のP
MOS P8の他端に他端を前記NPN Q1のベ−ス
端子にゲ−ト端子をデ−タ信号Dに基板Nウエルを第2
の電源Vcc2にそれぞれ接続した第9のPMOS P
9と、一端を接地電位端子にゲ−ト端子をイネ−ブル信
号ENに接続した第2のNMOS N02と、一端を前
記入出力端子7に他端を前記第2のNMOS N02に
ゲ−ト端子をデ−タ信号Dにそれぞれ接続した第3のN
MOS N03と,一端を前記第8のPMOS P8の
ゲ−ト端子に他端を前記インバ−タ8の出力端子にゲ−
ト端子を第1の電源Vcc1にそれぞれ接続した第1の
NMOS N01と、一端を前記第8のPMOS P8
のゲ−ト端子に他端を前記入出力端子7にゲ−ト端子を
第1の電源Vcc1に基板Nウエルを第2の電源Vcc
2にそれぞれ接続した第2のPMOS P2と、一端を
前記インバ−タの出力端子に他端を前記PMOS P8
のゲ−ト端子にゲ−ト端子を前記入出力端子7に基板N
ウエルを第2の電源Vcc2にそれぞれ接続した第3の
PMOS P3と、一端を接地電位端子にゲ−ト端子を
イネ−ブル信号ENに接続した第10のNMOS N1
0と、一端を前記NPN Q1のベ−ス端子に他端を前
記第10のNMOS N10の他端にゲ−ト端子をデ−
タ信号Dにそれぞれ接続した第9のNMOS N09
と、NPN Q1のベ−ス端子とエミッタ端子間に挿入
されゲ−ト端子を前記インバ−タ8の出力端子に接続し
た第11のNMOS N11と、NPN Q1のベ−ス
端子とエミッタ端子間に挿入されゲ−ト端子をイネ−ブ
ル信号ENに基板Nウエルを第2の電源Vcc2にそれ
ぞれ接続した第10のPMOS P10とから構成され
る。
【0111】以下、本第6実施例に係る出力回路13の
動作について説明する。
【0112】まず、入出力バッファ回路が出力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0113】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブル信号
ENを”H”レベルにする。その結果、インバ−タ8の
出力端子がGNDレベルになる。したがい、PMOS
P8,P9とNMOS N09、N11のゲ−ト端子に
はGNDレベルが印加されるので、PMOS P8,P
9はオンし、NMOS N09,N11はオフする。P
MOS P10のゲ−ト端子にはVcc1レベルが印加
されるのでPMOS P10はオフする。この結果NP
N Q1がオンする。また、NMOS N03のゲ−ト
端子にはGNDレベルが印加されるので、NMOS N
03はオフである。したがい、入出力端子7は”H”レ
ベルになる。この際、PMOS P2、P3はオフ状態
であり動作に無関係である。
【0114】一方、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”H”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、インバ−
タ8の出力端子がGNDレベルになる。したがい、PM
OS P9,NMOS N09,N10のゲ−ト端子に
はVcc1レベルが印加される。この結果、PMOSP
9はオフし、NMOS N09,N10はオンするの
で、NPN Q1がオフする。また、NMOS N0
2,N03のゲ−ト端子にはVcc1レベルが印加され
るので、NMOS N02,N03はオンする。したが
い、入出力端子7は”L”レベルになる。この際、PM
OS P2、P3,P10,NMOS N11はオフ状
態であり、動作に無関係である。
【0115】次に、入出力バッファ回路が入力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0116】この場合は、イネ−ブル信号ENを”L”
レベルにする。その結果、インバ−タ8の出力端子はV
cc1レベルになる。
【0117】入出力端子7に”L”レベルが入力される
場合、PMOS P3の働きによって、PMOS P8
のゲ−ト端子はVcc1レベルであり、PMOS P8
は完全にオフしている。また、NPN Q1のベ−ス、
エミッタ間に挿入しているNMOS N11とPMOS
P10がオンし、ベ−ス、エミッタ間が短絡されるの
で、NPN Q1はオフする。また、NMOS N0
2、N10のゲ−ト端子はGNDレベルになっているの
で、NMOS N02,N10はオフしている。したが
い、出力回路13の出力はハイインピ−ダンス状態とな
る。
【0118】一方、入出力端子7に”H”レベルが入力
される場合、そのレベルがVcc1+|Vtp|を越え
ると、そのレベルがオンとなるPMOS P2を介して
PMOS P8のゲ−ト端子に伝わる。ここで、Vtp
はPMOS P2のしきい値電圧である。したがい、P
MOS P8は完全にオフする。よって、入出力端子7
からPMOS P10、NMOS N11,PMOS
P9、P8を介して、電源Vcc1へのリ−クパスが遮
断される。その際、PMOS P8のゲ−ト電位が、イ
ンバ−タ8の出力電位Vcc1より高くなるが、NMO
S N01によって分離されているので問題ない。ま
た、NMOS N02、N10のゲ−ト電位はGNDレ
ベルであり、NMOS N02、N10はオフしてい
る。更に、NPN Q1はオフしている。したがい、出
力回路13の出力はハイインピ−ダンス状態となる。ま
た、PMOS P8,P2,P3、P9,P10の基板
であるNウエルを電源Vcc2に接続しているので、入
出力端子7に電源Vcc2と同電位の信号が入力しても
ドレインとNウエルが順バイアスされることはない。
【0119】以上のように、本第6実施例によれば、前
記第4、5実施例と同様に、NPNバイポ−ラトランジ
スタを用いることにより、自身の電源電圧(Vcc1)
より高い電源電圧(Vcc2)レベルで信号を入出力す
るデバイスとの間で信号の入出力を行うことができるバ
イポ−ラ CMOS複合の入出力バッファ回路を得るこ
とができる。また、半導体基板としてN型を用いると、
バイポ−ラトランジスタの形成として、N型基板をコレ
クタに、Pウエルをベ−スに、N拡散層領域をエミッタ
とすることができるので、プロセス工程を増加する必要
はない。
【0120】また、さらに、本第6実施例によれば、出
力回路13の出力をハイインピ−ダンス状態にする時、
NPN Q1のベ−ス、エミッタ間に逆バイアスが加わ
らないので、ベ−ス、エミッタ間の逆耐圧を小さくする
ことができる。
【0121】以下、入出力バッファ回路100の第7の
実施例について説明する。
【0122】本第7実施例に係る入出力バッファ回路1
00の出力回路13には、電源電圧Vcc2が供給され
る。また、前記第1〜6実施例とは異なり”H”レベル
として電圧Vcc2を出力する。
【0123】本第7実施例に係る入出力バッファ回路
も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回路
と、入出力コントロ−ル回路11と出力回路13のみが
異なるので、その他の部分の説明を省略し、この部分の
みを説明する。
【0124】図8に、本第7実施例に係る入出力バッフ
ァ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13の
構成を抜き出して示す。
【0125】図示するように、本第7実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、第1の電源Vcc1で駆動
される2入力NAND3と2入力NOR4とインバ−タ
5と入力端子を2入力NAND3の出力端子に接続した
第1の電源Vcc1で駆動されるインバ−タ20とから
構成される。また、出力回路13は、第2の電源Vcc
2と入出力端子7の間に挿入されN型の基板ウエルを第
2の電源Vcc2に接続したPMOS P20と、一端
を入出力端子7に他端を接地電位端子にゲ−ト端子を前
記入出力コントロ−ル回路11の2入力NOR4の出力
端子に接続したNMOS N20と、一端を第2の電源
Vcc2に他端を前記PMOS P20のゲ−ト端子に
接続した抵抗R1と、一端を前記PMOS P20のゲ
−ト端子に、他端を接地電位端子にゲ−ト端子を前記イ
ンバ−タ20の出力端子に接続したNMOS N21と
から構成される。
【0126】ここで、PMOS P20とNMOS N
20、N21は第2の電源Vcc2の下で使用可能なよ
うに、論理部200内で用いているMOSトランジスタ
よりも、ゲ−ト酸化膜の厚さを厚くしたMOSトランジ
スタである。図9には、このゲ−ト酸化膜の厚さを厚く
したようすを示している。
【0127】図中、901と902がゲ−ト酸化膜を表
しており、図中の破線は従来のゲ−ト酸化膜の厚さを示
している。
【0128】以下、本第7実施例に係る出力回路13の
動作を説明する。
【0129】まず、入出力バッファ回路100が出力バ
ッファとして動作する場合について説明する。
【0130】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dとイネ−ブル信号ENを”H”レベル
にする。その結果、入出力コントロ−ル回路11によっ
て、2入力NAND3と2入力NOR4の出力端子がG
NDレベルになる。したがい、NMOS N21のゲ−
ト端子にはVcc1レベルが印加され、NMOS N2
1はオンし、PMOS P20のゲ−ト端子の電位が下
がり、PMOS P20はオンする。また、NMOS
N20のゲ−ト端子にはGNDレベルが印加され、NM
OS N20はオフする。この結果、入出力端子7は”
H”レベルになる。
【0131】次に、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、入出力コ
ントロ−ル回路11によって、2入力NAND3と2入
力NOR4の出力端子がVcc1レベルになる。したが
い、NMOS N21のゲ−ト端子にはGNDレベルが
印加され、NMOS N21はオフし、PMOS P2
0のゲ−ト端子の電位がVcc2レベルになり、PMO
S P20は完全にオフする。また、NMOSN20の
ゲ−ト端子にはVcc1レベルが印加され、NMOS
N20はオンする。この結果、入出力端子7は”L”レ
ベルになる。この際、PMOS P20のゲ−ト端子の
電位をVcc2レベルにすることにより、PMOS P
20を完全にオフにしているので、第2の電源Vcc2
からPMOS P20を介して入出力端子7へ流れるリ
−ク電流はない。
【0132】次に、入出力バッファ回路100が入力バ
ッファとして動作する場合について説明する。
【0133】この場合、イネ−ブル信号ENを”L”レ
ベルにする。その結果、入出力コントロ−ル回路11に
よって、2入力NAND3の出力端子はVcc1レベル
になり、2入力NOR4の出力端子はGNDレベルにな
る。したがい、NMOS N21のゲ−ト端子はGND
電位となり、NMOS N21はオフし、PMOSP2
0のゲ−ト端子の電位がVcc2レベルになり、PMO
S P20は完全にオフする。また、NMOS N20
のゲ−ト端子はGND電位であるので、NMOS N2
0はオフする。したがい、入出力端子7から”H”レベ
ルが入力されても”L”レベルが入力されても出力回路
13の出力はハイインピ−ダンス状態となる。
【0134】以上のように、本第7実施例によれば、図
9に示すようにゲ−ト酸化膜厚の厚いMOSトランジス
タを導入することにより、自身の電源電圧(Vcc1)
より高い電源電圧(Vcc2)レベルで信号を入出力す
るデバイスとの間で信号の入出力を行うことができるC
MOS入出力バッファ回路を提供することができる。
【0135】以下、入出力バッファ回路の第8の実施例
について説明する。
【0136】本第8実施例に係る入出力バッファ回路1
00の出力回路13には、電源電圧Vcc1と、電源電
圧Vcc2が供給される。また、前記第7実施例と同様
に”H”レベルとして電圧Vcc2を出力する。
【0137】さて本第8実施例に係る入出力バッファ回
路も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回路
と、入出力コントロ−ル回路11と出力回路13のみが
異なるので、その他の部分の説明を省略し、この部分の
みを説明する。
【0138】図10に、本第8実施例に係る入出力バッ
ファ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13
の構成を抜き出して示す。
【0139】図示するように、本第8実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、第1の電源Vcc1で駆動
される2入力NAND3と2入力NOR4とインバ−タ
5と入力端子を2入力NAND3の出力端子に接続した
第1の電源Vcc1で駆動されるインバ−タ20とから
構成される。また、出力回路13は、第2の電源Vcc
2と入出力端子7の間に挿入されN型の基板ウエルを第
2の電源Vcc2に接続したPMOS P20と、一端
を入出力端子7に他端を接地電位端子にゲ−ト端子を前
記入出力コントロ−ル回路11の2入力NOR4の出力
端子に接続したNMOS N20と、一端を前記PMO
S P20のゲ−ト端子に他端を接地電位端子に接続し
たNMOS N21と、一端を第2の電源Vcc2に他
端を前記PMOS P20のゲ−ト端子に基板Nウエル
を第2の電源Vcc2に接続したPMOS P21と、
一端をインバ−タ20の出力端子に他端を前記PMOS
P21とNMOS N21のゲ−ト端子にゲ−ト端子を
第1の電源Vcc1に接続したNMOS N22と、一
端を第2の電源Vcc2に他端を前記PMOSP21と
NMOS N21のゲ−ト端子にゲ−ト端子を前記PM
OS P20のゲ−ト端子に基板Nウエルを第2の電源
Vcc2に接続したPMOS P22とから構成され
る。ここで、PMOS P20、P21、P22とNM
OS N20、N21は第2の電源Vcc2の下で使用
可能なようにゲ−ト酸化膜の厚さを厚くしたMOSトラ
ンジスタである。
【0140】以下、本第8実施例に係る出力回路の動作
について説明する。
【0141】まず、入出力バッファ回路が出力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0142】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dとイネ−ブル信号ENを”H”レベル
にする。その結果、入出力コントロ−ル回路11によっ
て、2入力NAND3と2入力NOR4の出力端子がG
NDレベルになる。したがい、PMOS P21とNM
OS N21からなるインバ−タの入力端子には、ま
ず、Vcc1−Vtnなるレベルが印加され、NMOS
N21が強くオンし、PMOS P20、P22のゲ
−ト端子の電位が下がる。ここで、VtnはNMOS
N22のしきい値電圧である。そして、PMOS P2
1とNMOS N21からなるインバ−タの入力端子は
PMOS P22によってVcc2レベルまでプルアッ
プされる。その結果、PMOS P21は完全にオフす
ると共にPMOS P20はオンする。また、NMOS
N20のゲ−ト端子にはGNDレベルが印加され、N
MOS N20はオフする。この結果、入出力端子7
は”H”レベルになる。この動作において、PMOS
P21とNMOS N21からなるインバ−タの入力端
子はVcc2レベルになるので、Vcc2電源からPM
OS P21、NMOS N21を介して接地電位端子
に流れるリ−ク電流は発生しない。また、PMOS P
21とNMOS N21からなるインバ−タの入力端子
はVcc2レベルになり、インバ−タ20の出力端子電
位より高くなるが、NMOS N22によって分離され
ているので問題ない。
【0143】一方、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、入出力コ
ントロ−ル回路11によって、2入力NAND3と2入
力NOR4の出力端子がVcc1レベルになる。したが
い、PMOS P21とNMOS N21からなるイン
バ−タの入力端子には、GNDレベルが印加され、PM
OS P20のゲ−ト端子の電位がVcc2レベルにな
る。その結果、PMOS P20は完全にオフする。ま
た、NMOS N20のゲ−ト端子にはVcc1レベル
が印加され、NMOS N20はオンする。この結果、
入出力端子7は”L”レベルになる。この際、PMOS
P20のゲ−ト端子の電位をVcc2レベルにし、P
MOSP20を完全にオフしているので、第2の電源V
cc2からPMOS P20を介して入出力端子7へ流
れるリ−ク電流はない。
【0144】次に、入出力バッファ回路が入力バッファ
として動作する場合について説明する。
【0145】この場合、イネ−ブル信号ENを”L”レ
ベルにする。その結果、入出力コントロ−ル回路11に
よって、2入力NAND3の出力端子はVcc1レベル
になり、2入力NOR4の出力端子はGNDレベルにな
る。したがい、PMOS P21とNMOS N21か
らなるインバ−タの入力端子には、GNDレベルが印加
され、PMOS P20のゲ−ト端子の電位がVcc2
レベルになる。その結果、PMOS P20は完全にオ
フする。また、NMOS N20のゲ−ト端子はGND
電位であるので、NMOS N20もオフする。したが
い、入出力端子7から”H”レベルが入力されても”
L”レベルが入力されても出力回路13の出力はハイイ
ンピ−ダンス状態となる。
【0146】以上のように、本第8実施例によれば、ゲ
−ト酸化膜厚の厚いMOSトランジスタを導入して、自
身の電源電圧(Vcc1)より高い電源電圧(Vcc
2)レベルで信号を入出力するデバイスとの間で信号の
入出力を行うことのできるリ−ク電流の発生しないCM
OSタイプの入出力バッファ回路を得ることができる。
【0147】以下、入出力バッファ回路100の第9の
実施例について説明する。
【0148】本第9実施例に係る入出力バッファ回路1
00の出力回路13には、電源電圧Vcc1とVcc2
が供給される。また、前記第7実施例と同様に”H”レ
ベルとして電圧Vcc2を出力する。
【0149】さて本第9実施例に係る入出力バッファ回
路も、先に示した第1実施例に係る入出力バッファ回路
と、出力回路13のみが異なるので、その他の部分の説
明を省略し、この部分のみを説明する。
【0150】図11に、本第9実施例に係る入出力バッ
ファ回路の入出力コントロ−ル回路11と出力回路13
の構成を抜き出して示す。
【0151】図示するように、本第8実施例では、入出
力コントロ−ル回路11は、第1の電源Vcc1で駆動
される2入力NAND3と2入力NOR4とインバ−タ
5から構成される。また、出力回路13は、第2の電源
Vcc2と入出力端子7の間に挿入されN型の基板ウエ
ルを第2の電源Vcc2に接続したPMOS P20
と、一端を入出力端子7に他端を接地電位端子にゲ−ト
端子を前記入出力コントロ−ル回路11の2入力NOR
4の出力端子に接続したNMOS N20と、一端を前
記入出力コントロ−ル回路11の2入力NAND3の出
力端子に他端を前記PMOS P20のゲ−ト端子にゲ
−ト端子を第1の電源Vcc1に接続したNMOS N
22と、一端を第2の電源Vcc2に他端を前記PMO
S P20のゲ−ト端子にゲ−ト端子を前記入出力端子
7に基板Nウエルを第2の電源Vcc2に接続したPM
OS P22とから構成される。ここで、PMOS P
20、P22とNMOS N20は第2の電源Vcc2
の下で使用可能なようにゲ−ト酸化膜の厚さを厚くした
MOSトランジスタである。
【0152】以下、本第9実施例に係る出力回路13の
動作について説明する。
【0153】まず、入出力バッファ回路100が出力バ
ッファとして動作する場合について説明する。
【0154】入出力端子7に”H”レベルを出力する場
合、デ−タ信号Dとイネ−ブル信号ENを”H”レベル
にする。その結果、入出力コントロ−ル回路11によっ
て、2入力NAND3と2入力NOR4の出力端子がG
NDレベルになる。したがい、PMOS P20とNM
OS N20のゲ−ト端子にはGNDレベルが印加さ
れ、PMOS P20はオンし、NMOS N20はオ
フする。この結果、入出力端子7は”H”レベルにな
る。
【0155】一方、入出力端子7に”L”レベルを出力
する場合、デ−タ信号Dを”L”レベルにし、イネ−ブ
ル信号ENを”H”レベルにする。その結果、入出力コ
ントロ−ル回路11によって、2入力NAND3と2入
力NOR4の出力端子がVcc1レベルになる。したが
い、PMOS P20のゲ−ト端子には、まず、Vcc
1−Vtnなるレベルが印加される。ここで、Vtnは
NMOS N22のしきい値電圧である。NMOS N
20はオンするので、入出力端子7とPMOSP22の
ゲ−ト端子の電位が下がる。そして、PMOS P20
のゲ−ト端子はPMOS P22によってVcc2レベ
ルまでプルアップされる。その結果、PMOS P20
は完全にオフする。この結果、入出力端子7は”L”レ
ベルになる。この際、PMOS P20のゲ−ト端子の
電位をVcc2レベルにし、PMOS P20を完全に
オフしているので、第2の電源Vcc2からPMOSP
20を介して入出力端子7へ流れるリ−ク電流は生じな
い。
【0156】次に、入出力バッファ回路100が入力バ
ッファとして動作する場合について説明する。
【0157】この場合は、イネ−ブル信号ENを”L”
レベルにする。その結果、入出力コントロ−ル回路11
によって、2入力NAND3の出力端子はVcc1レベ
ルになり、2入力NOR4の出力端子はGNDレベルに
なる。したがい、PMOSP20のゲ−ト端子には、ま
ず、Vcc1−Vtnなるレベルが印加される。ここ
で、VtnはNMOS N22のしきい値電圧である。
また、NMOS N20のゲ−ト端子はGND電位であ
るので、NMOS N20はオフする。
【0158】さて、入出力端子7から”L”レベルが入
力される場合、PMOS P22によって、PMOS
P20のゲ−ト端子はVcc2レベルにプルアップされ
るので、PMOS P20はオフする。また、NMOS
N20はオフしている。したがい、出力回路13の出
力はハイインピ−ダンス状態となる。
【0159】一方、入出力端子7から”H”レベルが入
力される場合、そのレベルがVcc2−|Vtp|にな
るまでは、PMOS P20のゲ−ト端子はVcc2レ
ベルにプルアップされるので、PMOS P20はオフ
している。それを越えるとPMOS P20のソ−スと
ドレインの電位はVcc2で同電位になるので、リ−ク
電流は流れない。また、NMOS N20はオフしてい
る。したがい、出力回路13の出力はハイインピ−ダン
ス状態と等価となる。ここで、Vtpは、PMOS P
22のしきい値電圧である。
【0160】以上のように、本第9実施例によれば、ゲ
−ト酸化膜厚の厚いMOSトランジスタを導入して、自
身の電源電圧(Vcc1)より高い電源電圧(Vcc
2)レベルで信号を入出力するデバイスとの間で信号を
入出力することができる、リ−ク電流の発生しないCM
OSタイプの入出力バッファ回路を得ることができる。
【0161】なお、以上の各実施例では、入力回路10
と出力回路13を共に備えた場合について説明してきた
が、各実施例において、入力回路10を省き、単に”
H”レベル出力状態、”L”レベル出力状態、ハイイン
ピ−ダンス状態をサポ−トする3ステ−トの出力バッフ
ァ回路として用いるようにしてもよい。
【0162】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、自身の電源電圧より高い電源電圧レベルで信号を入
出力するデバイスとの間で信号を入出力することのでき
る入出力バッファ回路であって、プロセス工程を増加す
ることなくリ−ク電流を排除した入出力バッファ回路を
提供することができる。
【0163】また、自身の電源電圧より高い電源電圧レ
ベルで信号を入出力するデバイスとの間で信号を入出力
することのできる入出力バッファ回路であって、より簡
便なプロセス上の工夫でリ−ク電流を排除することので
きる入出力バッファ回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に実施例に係る半導体集積回路装置の構
成を示すブロック図である。
【図2】本発明の第1実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図3】本発明の第2実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図4】本発明の第3実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図5】本発明の第4実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図6】本発明の第5実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図7】本発明の第6実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図8】本発明の第7実施例に係る入出力バッファ回路
の構成を示す回路図である。
【図9】本発明の第7実施例に係る入出力バッファ回路
で用いるゲ−ト酸化膜の厚さを厚くしたMOSトランジ
スタの構造を示した説明図である。
【図10】本発明の第8実施例に係る入出力バッファ回
路の構成を示す回路図である。
【図11】本発明の第9実施例に係る入出力バッファ回
路の構成を示す回路図である。
【図12】従来の技術に係る入出力バッファ回路の構成
を示す回路図である。
【符号の説明】
P1、P2、P3、P4 PMOSトランジスタ P5、P20、P21 PMOSトランジスタ N01、N02、N03、N04 NMOSトランジ
スタ N05、N20、N21、N22 NMOSトランジ
スタ D1、D2 ダイオ−ド Q1 NPNトランジスタ 10 入力回路 11 入出力コントロ−ル回路 12 静電破壊保護用素子 13 出力回路 100 入出力バッファ回路 200 論理回路部 1000、2000 半導体集積回路装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/092 H03K 19/003 Z (72)発明者 原 英夫 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体設計開発センタ内

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、 前記外部端子にハイレベルの信号を出力する場合にのみ
    接地電位電圧となり他の場合には前記第1の電源電圧と
    なる第1のノ−ドと、 前記外部端子にロウレベルの信号を出力する場合にのみ
    前記第1の電源電圧となり他の場合には接地電位電圧と
    なる第2のノ−ドとを備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 一端を前記第1の電源に接続し、他端を前記外部端子に
    接続し、N型の基板ウエルを第2の電源に接続した第1
    のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記外部端子に接続し、ゲ−ト端子を第
    1の電源に接続し、N型の基板ウエルを第2の電源に接
    続した第2のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端子
    を前記外部端子に接続し、N型の基板ウエルを第2の電
    源に接続した第3のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端子
    を第1の電源に接続した第1のNMOSトランジスタ
    と、 一端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−
    ドに接続した第2のNMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を前記第2のNMO
    Sトランジスタの接地電位に接続していない一端に接続
    し、ゲ−ト端子を第1の電源に接続した第3のNMOS
    トランジスタとを有することを特徴とする出力バッファ
    回路。
  2. 【請求項2】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、外部端子への出力を行
    う場合にのみ接地電位電圧となり他の場合には前記第1
    の電源電圧となる第1のノ−ドと、外部端子への出力を
    行う場合にのみ第1の電源電圧となり他の場合には接地
    電位電圧となる第2のノ−ドと、外部端子へ出力する信
    号の値に応じて接地電位電圧もしくは第1の電源電圧と
    なる第3のノ−ドとを備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 一端を第1の電源に接続し、N型の基板ウエルを第2の
    電源に接続した第1のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記外部端子に接続し、ゲ−ト端子を第
    1の電源に接続し、N型の基板ウエルを第2の電源に接
    続した第2のPMOSトランジスタと、 一端を、前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子
    に接続し、他端を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端
    子を前記外部端子に接続し、N型の基板ウエルを第2の
    電源に接続した第3のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSの第1の電源電圧と接続して
    いない一端に接続し、他端を外部端子に接続し、ゲ−ト
    端子を前記第3のノ−ドに接続し、N型の基板ウエルを
    第2の電源に接続した第4のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端子
    を第1の電源に接続した第1のNMOSトランジスタ
    と、 一端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−
    ドに接続した第2のNMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を前記第2のNMO
    Sトランジスタの接地電位電圧に接続していない一端に
    接続し、ゲ−ト端子を前記第3のノ−ドに接続した第3
    のNMOSトランジスタとを有することを特徴とする出
    力バッファ回路。
  3. 【請求項3】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、外部端子への出力を行
    う場合にのみ接地電位電圧となり他の場合には前記第1
    の電源電圧となる第1のノ−ドと、外部端子への出力を
    行う場合にのみ第1の電源電圧となり他の場合には接地
    電位電圧となる第2のノ−ドと、前記外部端子にハイレ
    ベルの信号を出力する場合にのみ接地電位電圧となり他
    の場合には前記第1の電源電圧となる第3のノ−ドとを
    備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 一端を前記第1の電源に接続し、N型の基板ウエルを第
    2の電源に接続した第1のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を外部端子に接続し、ゲ−ト端子を第1の
    電源に接続し、N型の基板ウエルを第2の電源に接続し
    た第2のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタの第1の電源に
    接続していない一端に接続し、他端を外部端子に接続
    し、ゲ−ト端子を前記第3のノ−ドに接続し、N型の基
    板ウエルを第2の電源に接続した第3のPMOSトラン
    ジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端子
    を第1の電源に接続した第1のNMOSトランジスタ
    と、 一端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を第2のノ−ドに
    接続した第2のNMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に、他端を前記第2のNMOSトラ
    ンジスタの接地電位に接続していない一端に接続し、ゲ
    −ト端子を前記第3のノ−ドに接続した第3のNMOS
    トランジスタとを有することを特徴とする出力バッファ
    回路。
  4. 【請求項4】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、前記外部端子にハイレ
    ベルの信号を出力する場合にのみ接地電位電圧となり他
    の場合には前記第1の電源電圧となる第1のノ−ドと、
    前記外部端子にロウレベルの信号を出力する場合にのみ
    前記第1の電源電圧となり他の場合には接地電位電圧と
    なる第2のノ−ドとを備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 コレクタ端子を第1の電源に接続し、エミッタ端子を外
    部端子に接続したNPNバイポ−ラトランジスタと、 一端を第1の電源に接続し、他端を前記NPNバイポ−
    ラトランジスタのベ−ス端子に接続し、ゲ−ト端子を前
    記第1のノ−ドに接続し、N型の基板ウエルを第1の電
    源に接続したPMOSトランジスタと、 一端を前記NPNバイポ−ラトランジスタのベ−ス端子
    に接続し、他端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記
    第1のノ−ドに接続した第1のNMOSトランジスタ
    と、 一端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−
    ドに接続した第2のNMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を前記第2のNMO
    Sトランジスタの接地電位に接続していない一端に接続
    し、ゲ−ト端子を第1の電源に接続した第3のNMOS
    トランジスタとを有することを特徴とする出力バッファ
    回路。
  5. 【請求項5】第1の電源と、外部端子と、外部端子への
    出力を行う場合にのみ接地電位電圧となり他の場合には
    前記第1の電源電圧となる第1のノ−ドと、外部端子へ
    の出力を行う場合にのみ第1の電源電圧となり他の場合
    には接地電位電圧となる第2のノ−ドと、外部端子へ出
    力する信号の値に応じて接地電位電圧もしくは第1の電
    源電圧となる第3のノ−ドとを備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 コレクタ端子を第1の電源に接続し、エミッタ端子を外
    部端子に接続したNPNバイポ−ラトランジスタと、 一端を第1の電源に接続し、ゲ−ト端子を前記第1のノ
    −ドに接続し、N型の基板ウエルを第1の電源に接続し
    た第1のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタの第1の電源に
    接続していない一端に接続し、他端を前記NPNバイポ
    −ラトランジスタのベ−ス端子に接続し、ゲ−ト端子を
    前記第3のノ−ドに接続し、N型の基板ウエルを第1の
    電源に接続した第2のPMOSトランジスタと、 一端を前記NPNバイポ−ラトランジスタのベ−ス端子
    に接続し、他端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記
    第3のノ−ドに接続した第1のNMOSトランジスタ
    と、 一端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−
    ドに接続した第2のNMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を前記第2のNMO
    Sトランジスタの接地電位に接続していない一端に接続
    し、ゲ−ト端子を前記第3のノ−ドに接続した第3のN
    MOSトランジスタと、 一端を前記NPNバイポ−ラトランジスタのベ−ス端子
    に接続し、他端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記
    第1のノ−ドに接続した第4のNMOSトランジスタと
    を有することを特徴とする出力バッファ回路。
  6. 【請求項6】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、外部端子への出力を行
    う場合にのみ接地電位電圧となり他の場合には前記第1
    の電源電圧となる第1のノ−ドと、外部端子への出力を
    行う場合にのみ第1の電源電圧となり他の場合には接地
    電位電圧となる第2のノ−ドと、外部端子へ出力する信
    号の値に応じて接地電位電圧もしくは第1の電源電圧と
    なる第3のノ−ドとを備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 コレクタ端子を第1の電源に接続し、エミッタ端子を外
    部端子に接続したNPNバイポ−ラトランジスタと、 一端を第1の電源にN型の基板ウエルを第2の電源に接
    続した第1のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記外部端子に接続し、ゲ−ト端子を第
    1の電源に接続し、N型の基板ウエルを第2の電源に接
    続した第2のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に
    接続し、他端を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端子
    を前記外部端子に接続し、N型の基板ウエルを第2の電
    源に接続した第3のPMOSトランジスタと、 一端を前記第1のPMOSトランジスタの第1の電源に
    接続していない一端に接続し、他端を前記NPNバイポ
    −ラトランジスタのベ−ス端子に接続し、ゲ−ト端子を
    前記第3のノ−ドに接続し、N型の基板ウエルを第2の
    電源に接続した第4のPMOSトランジスタと、 一端を前記NPNバイポ−ラトランジスタのベ−ス端子
    に接続し、一端を外部端子に接続し、ゲ−ト端子を前記
    第2のノ−ドに接続し、N型の基板ウエルを第2の電源
    に接続した第5のPMOSトランジスタと一端を前記第
    1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に接続し、他端
    を前記第1のノ−ドに接続し、ゲ−ト端子を第1の電源
    に接続した第1のNMOSトランジスタと、 一端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を第2のノ−ドに
    接続した第2のNMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を前記第2のNMO
    Sトランジスタの接地電位に接続していない一端に接
    続、ゲ−ト端子を第3のノ−ドに接続した第3のNMO
    Sトランジスタと、 一端を前記NPNトランジスタのベ−ス端子に接続し、
    ゲ−ト端子を前記第3のノ−ドに接続した第4のNMO
    Sトランジスタと、 一端を接地電位に接続し、他端を第4のNMOSトラン
    ジスタのNPNトランジスタのベ−ス端子に接続してい
    ない一端に接続し、前記ゲ−ト端子を第2のノ−ドに接
    続した第5のNMOSトランジスタと、 一端を前記NPNトランジスタのベ−ス端子に接続し、
    他端を外部端子に接続し、ゲ−ト端子を前記第1のノ−
    ドに接続した第6のNMOSトランジスタとを有するこ
    とを特徴とする出力バッファ回路。
  7. 【請求項7】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、前記外部端子にハイレ
    ベルの信号を出力する場合にのみ前記第1の電源電圧と
    なり他の場合には接地電位電圧となる第1のノ−ドと、
    前記外部端子にロウレベルの信号を出力する場合にのみ
    前記第1の電源電圧となり他の場合には接地電位電圧と
    なる第2のノ−ドと、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 一端を第2の電源に接続し、他端を外部端子に接続し、
    N型の基板ウエルを第2の電源に接続したPMOSトラ
    ンジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を接地電位に接続
    し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−ドに接続した第1のN
    MOSトランジスタと、 一端を第2の電源に接続し、他端を前記PMOSトラン
    ジスタのゲ−ト端子に接続した抵抗と、 一端を前記PMOSトランジスタのゲ−ト端子に接続
    し、他端を接地電位にゲ−ト端子を前記第1のノ−ドに
    接続した第2のNMOSトランジスタとを有することを
    特徴とする出力バッファ回路。
  8. 【請求項8】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、前記外部端子にハイレ
    ベルの信号を出力する場合にのみ前記第1の電源電圧と
    なり他の場合には接地電位電圧となる第1のノ−ドと、
    前記外部端子にロウレベルの信号を出力する場合にのみ
    前記第1の電源電圧となり他の場合には接地電位電圧と
    なる第2のノ−ドと、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 第2の電源に一端を接続し、外部端子に他端を接続し、
    N型の基板ウエルを第2の電源に接続した第1のPMO
    Sトランジスタと、 一端を第2の電源に接続し、他端を前記第1のPMOS
    トランジスタのゲ−ト端子に接続し、N型の基板ウエル
    を第2の電源に接続した第2のPMOSトランジスタ
    と、 一端を前記第2の電源に接続し、他端を前記第2のPM
    OSトランジスタのゲ−ト端子に接続し、ゲ−ト端子を
    前記第1のPMOSトランジスタのゲ−ト端子に接続
    し、N型の基板ウエルを第2の電源に接続した第3のP
    MOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を接地電位に接続
    し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−ドに接続した第1のN
    MOSトランジスタと、 一端を前記PMOSトランジスタのゲ−ト端子に接続
    し、他端を接地電位に接続し、ゲ−ト端子を前記第2の
    PMOSトランジスタのゲ−ト端子に接続した第2のN
    MOSトランジスタと、 一端を前記第1のノ−ドに接続し、他端を前記第2のP
    MOSトランジスタのゲ−ト端子に接続し、ゲ−ト端子
    を前記第1の電源に接続した第3のNMOSトランジス
    タとを有することを特徴とする出力バッファ回路。
  9. 【請求項9】第1の電源と、第1の電源電圧より高い電
    圧の第2の電源と、外部端子と、前記外部端子にハイレ
    ベルの信号を出力する場合にのみ接地電位電圧となり他
    の場合には前記第1の電源電圧となる第1のノ−ドと、
    前記外部端子にロウレベルの信号を出力する場合にのみ
    前記第1の電源電圧となり他の場合には接地電位電圧と
    なる第2のノ−ドと、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 一端を第2の電源に接続し、他端を外部端子に接続し、
    N型の基板ウエルを第2の電源に接続した第1のPMO
    Sトランジスタと、 一端を前記第2の電源に接続し、他端を前記第1のPM
    OSトランジスタのゲ−ト端子に接続し、ゲ−ト端子を
    前記外部端子に接続し、N型の基板ウエルを第2の電源
    に接続した第2のPMOSトランジスタと、 一端を前記外部端子に接続し、他端を接地電位に接続
    し、ゲ−ト端子を前記第2のノ−ドに接続した第1のN
    MOSトランジスタと、 一端を前記第1のノ−ドに接続し、他端を前記第1のP
    MOSトランジスタのゲ−ト端子に接続し、ゲ−ト端子
    を前記第1の電源に接続した第2のNMOSトランジス
    タとを有することを特徴とする出力バッファ回路。
  10. 【請求項10】請求項1、2、3、4、5、6、7、8
    または9記載の出力バッファ回路であって、 前記外部端子に接続した静電破壊保護用素子を、さらに
    備え、 前記静電破壊保護用素子は、アノ−ドを前記外部端子に
    カソ−ドを前記第2の電源に接続した第1の一方向性導
    電性素子と、アノ−ドを接地電位にカソ−ドを前記外部
    端子に接続した第2の一方向性導電性素子とを有するこ
    とを特徴とする出力バッファ回路。
  11. 【請求項11】請求項1、4、7、8または9記載の出
    力バッファ回路であって、 前記外部端子への出力を行うか否かを制御するイネ−ブ
    ル信号と、前記外部端子へ出力する信号のレベルを制御
    するデータ信号とを入力し、入力した前記イネ−ブル信
    号とデータ信号に従って、前記第1のノ−ドと第2のノ
    −ドの電圧を制御する出力コントロ−ル回路を、さらに
    備えていることを特徴とする出力バッファ回路。
  12. 【請求項12】請求項2、3、5または6記載の出力バ
    ッファ回路であって、 前記外部端子への出力を行うか否かを制御するイネ−ブ
    ル信号と、前記外部端子へ出力する信号のレベルを制御
    するデータ信号とを入力し、入力した前記イネ−ブル信
    号とデータ信号に従って、前記第1のノ−ドと第2のノ
    −ドと第3のノ−ドの電圧を制御する出力コントロ−ル
    回路を、さらに備えていることを特徴とする出力バッフ
    ァ回路。
  13. 【請求項13】第1の電源と、外部端子と、前記第1の
    電源で駆動されるPMOSトランジスタとNMOSトラ
    ンジスタで構成されるインバ−タと、NMOSトランジ
    スタと、PMOSトランジスタとを有し、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 前記NMOSトランジスタは、一端を前記外部端子に接
    続し、他端を前記インバ−タの入力端子に接続し、ゲ−
    ト端子を前記第1の電源に接続しており、 前記PMOSトランジスタは、一端を前記第1の電源に
    接続し、他端を前記インバ−タの入力端子に接続し、ゲ
    −ト端子を前記インバ−タの出力端子に接続し、N型の
    基板ウエルを第1の電源に接続していることを特徴とす
    る入力バッファ回路。
  14. 【請求項14】請求項1、2、3、4、5、6、7、
    8、9、10、11または12記載の出力バッファ回路
    と、入力バッファ回路とを備え、 ソ−ス端子およびドレイン端子を、それぞれMOSトラ
    ンジスタの端とした場合に、 前記入力バッファ回路は、前記第1の電源で駆動される
    PMOSトランジスタとNMOSトランジスタで構成さ
    れるインバ−タと、一端を前記外部端子に接続し、他端
    を前記インバ−タの入力端子に接続し、ゲ−ト端子を前
    記第1の電源に接続したNMOSトランジスタと、一端
    を前記第1の電源に接続し、他端を前記インバ−タの入
    力端子に接続し、ゲ−ト端子を前記インバ−タの出力端
    子に接続し、N型の基板ウエルを第1の電源に接続した
    PMOSトランジスタとを有することを特徴とする入出
    力バッファ回路。
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