JPH077118B2 - 低屈折率層を介した保護層を有する放射線画像変換パネル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。

〔発明の背景〕

Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。

このＸ線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に代
って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法が
工夫されている。

この方法は、被写体を透過した放射線（一般にＸ線）を
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が
上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光と
して放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法で
ある。

具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及び特開昭5
5−12144号には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は赤外線
を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示されてい
る。

この方法は、支持体上に輝尽性蛍光体層（以後輝尽層と
略称）を形成した放射線画像変換パネル（以後変換パネ
ルと略称）を使用するもので、この変換パネルの輝尽層
に被写体を透過した放射線を当てて被写体各部の放射線
透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を
形成し、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査する
ことによって各部の蓄積された放射線エネルギーを放射
させてこれを光に変換し、この光の強弱による光信号に
より画像を得るものである。

この最終的な画像はハードコピィとして再生してもよい
し、CRT上に再生してもよい。

この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。

そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。

従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。

この保護層は、たとえば特開昭59−42500号に記述され
ているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布し
て形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護
層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。

一般的には有機高分子から或る薄い保護層が用いられて
いる。薄い保護層は変換パネルの鮮鋭性をほとんど低下
させないという利点がある。

輝尽層を有する変換パネルの鮮鋭性と保護層厚みの関係
を空間周波数1lp/mm及び2lp/mmのMTF（変調伝達関係）
を用いて第１表に示す。

表に示すように保護層が厚いほど鮮鋭性が低下する。こ
の原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表面での
反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽層へ再
入射することが挙げられる。保護層が厚いほど反射散乱
光はより遠くまで到達し、対象画素外の画素の情報を混
入させる。

Ｘ線撮影に用いる一般型の増感紙−フィルム系におい
て、1lp/mmの場合のMTFは約65％、2lp/mmの場合は約35
％を示すので、変換パネルに於ても前記増感紙−フィル
ム系の数値より劣ることは好ましくなく、従って保護層
の厚さは10μｍ以下が望ましい。

しかしながら、常用される有機高分子から成る薄い保護
層はある程度の水分及び／または湿気に対し透過性であ
り、輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放
射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの
蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の
画質のばらつき及び／または劣化をもたらしていた。

例えば、厚さ10μｍのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（以下単に「PET」と略記する）の透湿度は約60％
（g/m²・24hr）であり、１日に単位面積当り60gもの水
分を透過する。膜厚10μｍのOPP（延伸ポリプロピレ
ン）では約15（g/m²・24hr）である。保護層の透湿度と
しては１（g/m²・24hr）以下であることが好ましく、こ
れを実現するためには、PETで約600μｍ以上、OPPで約1
50μｍ以上の厚さが必要となる。

また、前述のような薄い保護層を有する従来の変換パネ
ルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じたり、また薄い保護層では耐衝撃性が不充
分なため輝尽層中に亀裂、折れを生じ易く、得られる放
射線画像の画質が繰返し使用回数の増大とともに劣化す
る欠点がある。一方保護層を厚くすれば、薄いための欠
陥は消去できるが、前述のように鮮鋭性が低下する。こ
の相反する事象を越えて、鮮鋭性を損うことなく防湿
性、強度、耐衝撃性の面からの改良が望まれていた。

〔発明の目的〕

輝尽性蛍光体を用いた変換パネルにおける前記要求に沿
い、本発明の目的は画像の鮮鋭性を損うことなく輝尽層
を外部からの化学的刺激、特に水分に対して十分保護す
ることができ、輝尽層の高感度、高鮮鋭性及び高粒状性
を長期間にわたり維持し、良好な状態で使用することが
可能である耐久性及び耐用性の高い変換パネルを提供す
ることにある。

また本発明の他の目的は、画像の鮮鋭性を損うことなく
前記輝尽層を外部からの物理的刺激に対して十分保護す
ることにより長期及び繰返し使用に対する耐久性及び耐
用性を向上させた変換パネルを提供することにある。

〔発明の構成〕

前記本発明の目的は支持体上に輝尽性蛍光体層と保護層
を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光
体層と保護層の間に保護層よりも低屈折率の層を設け、
且つ前記保護層が互いに吸湿性の異なる少なくとも二層
を有することを特徴とする放射線画像変換パネルによっ
て達成される。

以下、本発明を詳細に説明する。

第１図は本発明の変換パネルの断面を模式的に表したも
のであり、１は保護層、２は低屈折率層、３は輝尽層、
４は支持体である。

以下に各構成要件についてさらに詳しく説明する。

本発明の保護層としては、透光性が良くシート状に形成
できるものを用いることができる。例えば石英、硼珪酸
ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、PET、OP
P、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子が挙げられる。

本発明の保護層の厚さは、実用上は10μｍから3mmまで
である。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには保護層
の厚さは100μｍ以上が好ましく、特に500μｍ以上の保
護層を設けた場合、耐久性，耐用性にすぐれた変換パネ
ルが得られて、いっそう好ましい。

また、保護層として板ガラスを用いた場合には、極めて
耐湿性にすぐれており特に好ましい。

本発明の保護層は互いに吸湿性の異なる少なくとも２つ
の層を有することにより、いっそうの耐湿性の向上を実
現することができる。

ここで「吸湿性が異なる」という表現は、保護層がA,B
の２層よりなるとすれば、前記変換パネルが通常の使用
方法において曝されうるある気温のもとでのＡ層の平衡
吸湿等温曲線が該気温のもとでのＢ層の平衡吸湿等温曲
線と一致しないということを表している。

第２図（１）に２層の保護層を有する変換パネルの構造
例を断面図として示す。1aおよび1bは保護層であり、輝
尽層に接する1aは相対的に吸湿性の大きい保護層を、そ
して最も外側の1bは相対的に吸湿性の小さい保護層を表
している。また第１図と同様に２は低屈折率層、３は輝
尽層、４は支持体である。保護層を第２図（１）のごと
き層構成にすることにより、変換パネルの耐湿性を大幅
に向上することができ、とくに好ましい。すなわち、変
換パネルの外部に存在する水あるいは水蒸気は、まず保
護層1bにより変換パネル内部への浸透を阻止される。し
かし保護層1bとして有機高分子を用いた場合には水分を
完全に遮断することは不可能であり、常にある程度の水
分透過量が存在する。その水分透過量は一般に外界と保
護層1bの内側との湿度差に比例して増大する。保護層1b
を透過した水分は保護層1aの表面に到達するが、保護層
1aはその吸湿性が大きいため、前記水分を層の1bと接す
る側の表面および層の内部において保持し、輝尽層への
水分の到達を防ぐ機能を果たす。結果として前記輝尽層
の吸水による劣化は従来の変換パネルに比べて減少す
る。

さらに、第２図（１）に示す層構造を有する複合保護層
は、保護層用材料の適切な選択により、1b→1aの方向の
透湿度が非常に小さく、かつ1a→1bの方向の透湿度が比
較的大きい性質を有する複合保護層とすることができ、
好ましい。一般に吸湿性の小さい膜は透湿係数の温度依
存性が小さく、吸湿性の大きい膜は透湿係数の温度依存
性が大きいという性質を有する。したがって保護層1bは
透湿係数の湿度依存性が小さく保護層1aは透湿係数の温
度依存性が大であるため、両者の複合系は、よく知られ
ている複合膜の透湿の二面性を示す。すなわち1bが高湿
側に接するように配した場合の透湿度は1aを高湿側にお
いた場合の透湿度より小となる。保護層用材料の適切な
組合せにより両透湿度間の差を拡大すれば、耐湿性にす
ぐれ、かつ輝尽性層が水分を吸収した場合には低湿度の
外気に曝することにより速やかに該水分を放出する変換
パネルを作製することができる。

また、保護層1bとして板ガラスを用いた場合パネル表面
からの水分の侵入は実質的には完全に遮断することが可
能である。しかしながら、保護層と支持体の側縁部から
水分が侵入することもある。その際吸湿性の高い保護層
1aは水分を吸着し輝尽層への水分の到達を阻碍する。

第２図（２）に、本発明の変換パネルの構造の別の一例
を示す。第２図（２）に示す変換パネルは、輝尽層に接
する相対的に吸湿性の小さい保護層1bとその外側の相対
的に吸湿性の大きい保護層1aとを有する。前記放射線画
像変換パネルの外界に存在する水分は吸湿性の大きい保
護層1aの表面および内部で保持され、さらに保護層1aが
保存しきれずに透過した水分は吸湿性の小さい保護層1b
により輝尽層への浸透を阻止される。保護層1bは、とく
に透湿性の小さい材料より成ることが好ましい。また、
保護層1aの外側にさらに透湿性の小さいもうひとつの保
護層を設けてもよい。

本発明の変換パネルにおける保護層の構成は第２図に示
した例に限るものではない。

本発明のパネルにおいて、輝尽層の表面を被覆する二層
以上の保護層のうち少なくとも最も外側の保護層は表面
硬度の高い層であることが好ましい。表面硬度の高い保
護層を設けることにより、前記変換パネルが繰返し使用
中にパネル搬送系その他の機械部分等から受ける物理的
衝撃による傷の発生と、それに伴う放射線画像の画質の
劣化を防止することができる。

本発明における保護層として有機高分子を用いる場合、
その形成方法としては以下のような方法があげられる。

第１の方法として、特開昭59−42500号に開示されてい
るように透明性の高い高分子物質を適当な溶媒に溶解し
て調整した溶液を保護層を設置すべき面に塗布し、乾燥
させて保護層を形成する方法がある。

第２の方法として、同じく特開昭59−42500号に開示さ
れているように透明な高分子物質より成る薄膜の片面に
適当な接着剤を付与し、保護層を設置すべき面に設置す
る方法がある。

第３の方法としては、特開昭61−176900号に述べられて
いるように放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂の少な
くともいずれか一方を含有する塗布液を保護層を設置す
べき面に塗布し、特開昭61−176900号に示されたような
装置を用いて紫外線あるいは電子線などの放射線の照射
および／または加熱を施して前記塗布液を硬化させる方
法がある。

尚、本発明の変換パネルにおける少なくとも二層の保護
層群は、そのすべてが同一の形成方法により形成されて
いる必要はない。

本発明の変換パネルにおいて、保護層は前記のように互
いに吸湿性の異なる二つ以上の層の組合せより成る。前
記保護層のうち、相対的に吸湿性の小さい保護層用に用
いられる材料としては、たとえば板ガラス、ポリエチレ
ン、ポリ四弗化エチレン、ポリ三弗化−塩化エチレン、
ポリプロピレン、四弗化エチレン−六弗化プロピレン共
重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルイソブチルエ
ーテル、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニリデン
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、塩化ビニリデン−イソブチレン共重合
体、ポリスチレン或はエポキシ系、アクリル系ポリマ等
が好ましく、特に板ガラス、ポリエチレン、ポリ四弗化
エチレンが好ましい。また相対的に吸湿性の大きい保護
層用に用いられる材料としては、たとえばポリビニルア
ルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリ
アクリルアミド、ポリグリシン、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリル酸、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアミ
ン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、ナイロン４、ナイロン６、ナイロン12、ナイロン6
6、ポリ酢酸ビニル、ポリメチルアリルアルコールなど
が好ましく、特にポリビニルアルコール、エチレン−ビ
ニルアルコール共重合体が好ましい。

本発明の実施態様中とくに好ましいのは、前記吸湿性の
小さい保護層用の材料として挙げた一群の材料の中から
少なくとも一種類を選び、また前記吸湿性の大きい保護
層用の材料として挙げた一群の材料の中から少なくとも
一種類を選んで前者で外側、後者を内側すなわち輝尽層
に接する側に配置した複合保護層を有する変換パネルで
ある。

保護層は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するた
めに、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望まし
く、透過率は80％以上が好ましい。例えば石英ガラス、
硼珪酸ガラスなどが挙げられる。硼珪酸ガラスは330nm
〜2.6μｍの波長範囲で80％以上の透過率を示し、石英
ガラスではさらに短波長においても高い透過率を示す。

また、保護層の表面にMgF₂などの反射防止層を設ける
と、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過するとと
もに鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。保
護層の屈折率は特に規定しないが、実用的に用い得る材
質では1.4から2.0の間にあるものが多い。

本発明の低屈折率層は、保護層よりも屈折率の低い材質
からなり、この層が存在することにより、保護層を厚く
しても鮮鋭性の低下を小さくすることができる。例えば
第２表に示す物質を用いることができ、気相堆積法で形
成された薄膜の状態で用いるのが好ましい。あるいは、
第３表に示す液体層を用いることもできる。また、本発
明の低屈折率層として、空気、窒素、アルゴンなどの気
体層や空気層など屈折率が実質的に１である層を用いる
と、鮮鋭性の低下を防止する効果が高く特に好ましい。

本発明の低屈折率層の厚さは0.05μｍから3mmまでが実
用的である。

本発明の低屈折率層は、輝尽層に接していても離れてい
てもよい。低屈折率層と輝尽層を密着させるためには、
接着剤を用いるのが１つの方法であるが、その場合、接
着剤の屈折率は輝尽層の屈折率または低屈折率層の屈折
率に近いことが好ましい。

本発明において低屈折率層として、気体層や真空層を設
ける場合には、例えば第３図（１）のように変換パネル
の側縁部にスペーサ５を設けて、一定の厚みを保つ方法
がある。また第３図（２）のように、保護層と輝尽層の
間にスペーサ材６を散布することにより、気体層または
真空層を設けてもよい。スペーサ材としては、例えば液
晶パネルのスペーサ材として用いられている直径数μｍ
の微細ガラスファイバ片を用いることができる。

本発明において用いる輝尽性蛍光体は、最初の光もしく
は高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱的、
機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）によ
り、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対
応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面から
好ましくは500nm以上の輝尽励起光によって輝尽発光を
示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例えば特
開昭48−80487号に記載されているBaSO₄:AX、特開昭48
−80489号に記載されているSrSO₄:AX、特開昭53−39277
号のLi₂B₄O₇:Cu,Ag等、特開昭54−47883号のLi₂O・（B₂
O₂）x:Cu及びLi₂O・（B₂O₂）x:Cu,Ag等、米国特許3,85
9,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La₂O₂S:Eu,Sm及び（Z
n,Cd）S:Mn,で表される蛍光体が挙げられる。

また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍
光体、一般式BaO・xAl₂O₃:Euで表されるアルミン酸バリ
ウム蛍光体、及び一般式Ｍ^IIＯ・xSiO₂:Aで表されるア
ルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特
開昭55−12143号に記載されている一般式 （Ba₁−ｘ−yMgxCay）FX:eEu²⁺ で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている一般式 LnOX:xA で表され蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている
一般式 （Ba₁−xM^IIｘ）FX:yA で表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe,yA で表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 Ｍ^IIFX・xA:yLn で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、（Zn,Cd）S:A、S:A,ZnS:A,
X及CdS:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記
載されている下記いづれかの一般式 xM₃（PO₄）_２・NX₂:yA M₃（PO₄）₂:yA で表される蛍光体、下記いづれかの一般式 nReX₃・mAX′2:xEu nReX₃・mAX′₂:xEu,ySm で表される蛍光体、及び下記一般式 Ｍ^ＩＸ・aM^IIＸ′_２・bM^IIIＸ″₃:cA で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着，スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。

しかし、本発明に係る変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。

本発明の変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくとも
一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る輝
尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含ま
れる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なっていて
もよい。

本発明の輝尽層は塗布方法、気相成長方法のいづれによ
ってもよい。

本発明のパネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネ
ルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合10μｍ〜1000μｍ
の範囲、さらに好ましくは20μｍ〜800μｍの範囲から
選ばれるのが好ましく、結着剤を含有する場合で20μｍ
〜1000μｍの範囲、さらに好ましくは50μｍ〜500μｍ
の範囲から選ばれるのが好ましい。

本発明の変換パネルの支持体としては各種高分子材料、
ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。

高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムがあげられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまたは金
属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シートまた
は金属板があげられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどがあげられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などがあげられ
る。

また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μｍ〜2000μｍであり、取
り扱い上の点が、さらに好ましくは80μｍ〜1000μｍで
ある。

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々の独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。

さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。

本発明の変換パネルは、よりいっそうの耐湿性を得るた
めには、保護層と支持体の側縁部を封止することが望ま
しい。封止の方法としては例えばガラス融着や接着剤を
用いる方法があげられる。接着剤としては、例えばエポ
キシ樹脂系接着剤などがあげられる。尚接着剤は透湿度
の低いものが好ましい。

また本発明に係る保護層は特願昭61−220492号に述べら
れているように支持体と輝尽層からなる変換パネル母体
を高分子フィルムよりなる保護袋に収納し側縁部をシー
ルした形態でもよい。この場合低屈折率層は予め輝尽層
表面に形成するか保護袋の輝尽層に対峙する面に形成し
ておくことができる。低屈折率層に気体層、真空層を用
いる場合には保護袋の輝尽層に対峙する部分に剛性をも
たせスペーサを輝尽層間に介在させればよい。

前記シール方法としては、ヒートシール法、高周波シー
ル法、超音波シール法などが好ましいが、接着剤を用い
た圧着もしくは熱圧する方法を用いてもよい。

本発明の変換パネルにおいて、保護層は支持体の役割を
兼ねることもできる。その場合には、本発明でいう支持
体は実質的に輝尽層を支持する能力を有しなくてもよ
い。

本発明の変換パネルは第４図に概略的に示される放射線
画像変換方法に用いられる。

すなわち、第４図において、41は放射線発生装置、42は
被写体、43は本発明に係る変換パネル、44は輝尽励起光
源、45は該変換パネルより放射された輝尽蛍光を検出す
る光電変換装置、46は45で検出された信号を画像として
再生する装置、47は再生された画像を表示する装置、48
は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し、輝尽蛍光のみを透
過させるフィルタである。尚45以降は43からの光情報を
何らかの形で画像として再生できるものであればよく、
上記に限定されるものではない。

第４図に示されるように、放射線発生装置41からの放射
線は被写体42を通して変換パネル43に入射する。この入
射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、そのエネ
ルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成され
る。

次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で励
起して輝尽発光として放出せしめる。

放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によ
って画像として再生し画像表示装置47によって表示する
ことにより、被写体の放射線透過像を観察することがで
きる 〔実施例〕 次に実施例によって本発明を説明する。

実施例 １〜４及び比較例（１）〜（４） 500μｍ厚の結晶化ガラス支持体に、蒸着装置でアルカ
リハライド蛍光体（RbBr;0.0006Tl）を300μｍ蒸着し
た。

次いで前記輝尽層上に保護層及び低屈折率層を第４表の
組合せで設けた。ただし表中の（ ）内の数値は屈折率
を示す。

第４表中の保護層はいずれも吸湿性の異なる２層の保護
層を接着剤を用いて接着して形成したものである。

第４表中のエバールEFFはエチレン−ビニルアルコール
共重合体の商品名（（株）クラレ製）であり、エチレン
共重合比率は32mol％である。

また比較例として実施例と同様の支持体、輝尽層を用い
低屈折率層を設けることなく輝尽層に保護層を接着剤で
密着させた比較例（１），（２）及び（３）を第５表の
如く設けた。

また一層からなる保護層と低屈折率層を設けた比較例と
して（４）を作製した。

比較例 いずれの試料においても支持体上に蒸着した輝尽層を80
℃、10^-3torrの条件で真空乾燥を１時間行った後に保護
層を設け、側縁部を封止した。実施例１及び２はエバー
ルEFFを輝尽層側とし、第３図（１）のごとく400μｍ厚
のガラススペーサを設置することにより輝尽層と保護層
との間に100μｍの空気層を設け、保護層と支持体の側
縁部をエポキシ樹脂系接着剤で封止した。

実施例3,4はポリエチレンを外側とした保護袋中に輝尽
層を蒸着した支持体を収納し、真空密封した。比較例
（４）はポリエチレンの保護袋を用いて実施例3,4と同
様の方法で真空密封した。

比較例（１）、（２）、（３）は保護層を輝尽層に接着
し、保護層と支持体の側縁部をエポキシ樹脂系接着剤で
封止した。

前記の試料につき、耐湿性及びMTFによる鮮鋭性のチェ
ックを行った。

実施例1,2,3,4及び比較例（２）は良好な耐湿性を示
し、気温40℃、湿度90％の条件下に48時間放置しても放
射線感度の低下は全くおこらず、輝尽励起光照射を受け
るまでの蓄積エネルギーの減衰もわずかであった。

比較例試料（１）、（３）及び（４）では輝尽励起光照
射を受けるまでの蓄積エネルギーの減衰が非常に大き
く、実用上問題となる。

第６表に各試料の空間周波数1lp/mmと2lp/mmにおけるMT
Fを示した。比較例（２），（３）は比較的厚い保護層
を設けることによって著しく鮮鋭性が低下しているのに
対し、試料1,2,3,4及び（４）は厚い保護層を有してい
るにもかかわらず、鮮鋭性の低下は少なかった。

試料1,2,3,4は薄膜の保護層を有し鮮鋭性の高い試料
（１）と同程度以上の鮮鋭性を示すとともにすぐれた耐
湿性を示した。

〔発明の効果〕 本発明は支持体上に輝尽性蛍光体層保護層を有する放射
線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光体層と保護層
の間に保護層よりも低屈折率の層を設け、かつ保護層が
互いに吸湿性の異なる少なくとも二つの層を有すること
により鮮鋭性を損うことなく輝尽層を外部からの化学的
及び物理的刺激から十分保護し、耐久性、耐用性にすぐ
れた変換パネルを提供することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基本構成を示す図、第２図、第３図は
本発明の構成例を表す図である。 第４図は変換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明
図である。 １及び1a,1b……保護層 ２……低屈折率層 ３……輝尽性蛍光体層 ４……支持体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に輝尽性蛍光体層と保護層を有す
   る放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光体層と
   保護層の間に保護層よりも低屈折率の層を設け、かつ前
   記保護層が互いに吸湿性の異なる少なくとも二つの層を
   有することを特徴とする放射線画像変換パネル。