JPH077119B2 - 物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネル - Google Patents
物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネルInfo
- Publication number
- JPH077119B2 JPH077119B2 JP62293575A JP29357587A JPH077119B2 JP H077119 B2 JPH077119 B2 JP H077119B2 JP 62293575 A JP62293575 A JP 62293575A JP 29357587 A JP29357587 A JP 29357587A JP H077119 B2 JPH077119 B2 JP H077119B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- conversion panel
- refractive index
- protective layer
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。
Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。
いられている。
このＸ線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に代
って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法が
工夫されている。
って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法が
工夫されている。
この方法は、被写体を透過した放射線（一般にＸ線）を
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が
上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光と
して放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法で
ある。
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が
上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光と
して放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法で
ある。
具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及び特開昭5
5−12144号には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は赤外線
を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示されてい
る。
5−12144号には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は赤外線
を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示されてい
る。
この方法は、支持体上に輝尽性蛍光体層（以後輝尽層と
略称）を形成した放射線画像変換パネル（以後変換パネ
ルと略称）を使用するもので、この変換パネルの輝尽層
に被写体を透過した放射線を当てて被写体部の放射線透
過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形
成し、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査するこ
とによって各部の蓄積された放射線エネルギーを放射さ
せてこれを光に変換し、この光の強弱による光信号によ
り画像を得るものである。
略称）を形成した放射線画像変換パネル（以後変換パネ
ルと略称）を使用するもので、この変換パネルの輝尽層
に被写体を透過した放射線を当てて被写体部の放射線透
過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形
成し、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査するこ
とによって各部の蓄積された放射線エネルギーを放射さ
せてこれを光に変換し、この光の強弱による光信号によ
り画像を得るものである。
この最終的な画像はハードコピィとして再生してもよい
し、CRT上に再生してもよい。
し、CRT上に再生してもよい。
この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。
そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。
従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。
この保護層は、たとえば特開昭59−42500号に記述され
ているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布し
て形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護
層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。
ているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布し
て形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護
層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。
一般的には有機高分子から成る薄い保護層が用いられて
いる。薄い保護層は変換パネルの鮮鋭性をほとんど低下
させないという利点がある。
いる。薄い保護層は変換パネルの鮮鋭性をほとんど低下
させないという利点がある。
輝尽層を有する変換パネルの鮮鋭性と保護層厚みの関係
を空間周波数1lp/mm及び2lp/mmのMTF（変調伝達関数）
を用いて第１表に示す。
を空間周波数1lp/mm及び2lp/mmのMTF（変調伝達関数）
を用いて第１表に示す。
表に示すように保護層が厚いほど鮮鋭性が低下する。こ
の原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表面での
反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽層へ再
入射することが挙げられる。保護層が厚いほど反射散乱
光はより遠くまで到達し、対象画素外の画素の情報を混
入させる。
の原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表面での
反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽層へ再
入射することが挙げられる。保護層が厚いほど反射散乱
光はより遠くまで到達し、対象画素外の画素の情報を混
入させる。
Ｘ線撮影に用いる一般型の増感紙−フィルム系におい
て、1lp/mmの場合のMTFは約65％、2lp/mmの場合は約35
％を示すので、変換パネルに於ても前記増感紙−フィル
ム系の数値より劣ることは好ましくなく、従って保護層
の厚さは10μｍ以下が望ましい。
て、1lp/mmの場合のMTFは約65％、2lp/mmの場合は約35
％を示すので、変換パネルに於ても前記増感紙−フィル
ム系の数値より劣ることは好ましくなく、従って保護層
の厚さは10μｍ以下が望ましい。
しかしながら、常用される有機高分子から成る薄い保護
層はある程度の水分及び／または湿気に対し透過性であ
り、輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放
射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの
蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の
画質のばらつき及び／または劣化をもたらしていた。
層はある程度の水分及び／または湿気に対し透過性であ
り、輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放
射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの
蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の
画質のばらつき及び／または劣化をもたらしていた。
例えば、厚さ10μｍのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（以下単に「PET」と略記する）の透湿度は約60（g
/m2・24hr）であり、１日に単位面積当り60gもの水分を
透過する。膜厚10μｍのOPP（延伸ポリプロピレン）で
は約15（g/m2・24hr）である。保護層の透湿度としては
１（g/m2・24hr）以下であることが好ましく、これを実
現するためには、PETが約600μｍ以上、OPPで約150μｍ
以上の厚さが必要となる。
ルム（以下単に「PET」と略記する）の透湿度は約60（g
/m2・24hr）であり、１日に単位面積当り60gもの水分を
透過する。膜厚10μｍのOPP（延伸ポリプロピレン）で
は約15（g/m2・24hr）である。保護層の透湿度としては
１（g/m2・24hr）以下であることが好ましく、これを実
現するためには、PETが約600μｍ以上、OPPで約150μｍ
以上の厚さが必要となる。
また、前述のような薄い保護層を有する従来の変換パネ
ルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じたり、また薄い保護層では耐衝撃性が不充
分なため輝尽層中に亀裂、折れを生じ易く、得られる放
射線画像の画質が繰返し使用回数の増大とともに劣化す
る欠点がある。一方保護層を厚くすれば、薄いための欠
陥は消去できるが、前述のように鮮鋭性が低下する。こ
の相反する事象を越えて、鮮鋭性を損うことなく防湿
性、強度、耐衝撃性の面からの改良が望まれていた。
ルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じたり、また薄い保護層では耐衝撃性が不充
分なため輝尽層中に亀裂、折れを生じ易く、得られる放
射線画像の画質が繰返し使用回数の増大とともに劣化す
る欠点がある。一方保護層を厚くすれば、薄いための欠
陥は消去できるが、前述のように鮮鋭性が低下する。こ
の相反する事象を越えて、鮮鋭性を損うことなく防湿
性、強度、耐衝撃性の面からの改良が望まれていた。
輝尽性蛍光体を用いた変換パネルにおける前記要求に沿
い、本発明の目的は画像の鮮鋭性を損うことなく輝尽層
を外部からの化学的刺激、特に水分に対して十分保護す
ることができ、輝尽層の高感度、高鮮鋭性及び高粒状性
を長期間にわたり維持し、良好な状態で使用することが
可能である耐久性及び耐用性の高い変換パネルを提供す
ることにある。
い、本発明の目的は画像の鮮鋭性を損うことなく輝尽層
を外部からの化学的刺激、特に水分に対して十分保護す
ることができ、輝尽層の高感度、高鮮鋭性及び高粒状性
を長期間にわたり維持し、良好な状態で使用することが
可能である耐久性及び耐用性の高い変換パネルを提供す
ることにある。
また本発明の他の目的は、画像の鮮鋭性を損うことなく
前記輝尽層を外部からの物理的刺激に対して十分保護す
ることにより長期及び繰返し使用に対する耐久性及び耐
用性を向上させた変換パネルを提供することにある。
前記輝尽層を外部からの物理的刺激に対して十分保護す
ることにより長期及び繰返し使用に対する耐久性及び耐
用性を向上させた変換パネルを提供することにある。
前記本発明の目的は、支持体上に輝尽性蛍光体層と保護
層を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍
光体層と保護層の間に少くとも２層の中間層を設け保護
層よりも低屈折率の第１中間層、表１中間層と輝尽性蛍
光体層との間に、第１中間層よりも高屈折率の第２中間
層を設け、更に該第２中間層は吸湿性が高いことを特徴
とする放射線画像変換パネルによって達成される。
層を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍
光体層と保護層の間に少くとも２層の中間層を設け保護
層よりも低屈折率の第１中間層、表１中間層と輝尽性蛍
光体層との間に、第１中間層よりも高屈折率の第２中間
層を設け、更に該第２中間層は吸湿性が高いことを特徴
とする放射線画像変換パネルによって達成される。
以下、本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明の変換パネルの断面を模式的に表したも
のであり、１は保護層、２は第１中間層、３は第２中間
層、４は輝尽層、５は支持体である。
のであり、１は保護層、２は第１中間層、３は第２中間
層、４は輝尽層、５は支持体である。
以後、第１中間層を低屈折率層、第２中間層を高屈折率
層と呼ぶことがある。本発明では、前記の如く保護層と
輝尽層間に介在する媒体に屈折率の大小と光路に関する
前後関係を与えることにより、保護層を厚くても鮮鋭性
の低下を小さくする効果を与えることができる。
層と呼ぶことがある。本発明では、前記の如く保護層と
輝尽層間に介在する媒体に屈折率の大小と光路に関する
前後関係を与えることにより、保護層を厚くても鮮鋭性
の低下を小さくする効果を与えることができる。
特開昭62−63929号では像蓄積層の前にフィルタ手段を
備えることにより、像蓄積層に吸収される励起光を多く
して読取感度の増加を企てた像記録読取装置が開示され
ている。本発明では前記発明とは技術的思想を異にし、
画像の鮮鋭性を損うことなく、耐久性及び耐用性にすぐ
れた変換パネルを提供することを目的としている。
備えることにより、像蓄積層に吸収される励起光を多く
して読取感度の増加を企てた像記録読取装置が開示され
ている。本発明では前記発明とは技術的思想を異にし、
画像の鮮鋭性を損うことなく、耐久性及び耐用性にすぐ
れた変換パネルを提供することを目的としている。
以下に各構成要件についてさらに詳しく説明する。
本発明の保護層としては、透光性が良くシート状に形成
できるものを用いることができる。例えば石英、硼珪酸
ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、PET、OP
P、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子が挙げられる。
できるものを用いることができる。例えば石英、硼珪酸
ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、PET、OP
P、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子が挙げられる。
本発明の保護層は単一層であってもよいし多層でもよ
く、材質の異なる２種類以上の層からなっていてもよ
い。例えば、２層以上の有機高分子膜を複合したフィル
ムを用いることができる。このような複合高分子フィル
ムの製法としては、ドライラミネート、押出ラミネート
または共押出コーティングラミネートなどの方法があげ
られる。２層以上の保護層の組合せとしては有機高分子
同志に限られるものではなく、板ガラス同志や板ガラス
と有機高分子層などが挙げられる。例えば、板ガラスと
高分子層とを組合せる方法としては、保護層用塗布液を
板ガラス上に直塗布して形成するか、あるいは予め別途
形成した高分子保護層を板ガラス上に接着する方法があ
げられる。なお、２層以上の保護層は互いに密着状態に
あってもよいし離れていてもよい。
く、材質の異なる２種類以上の層からなっていてもよ
い。例えば、２層以上の有機高分子膜を複合したフィル
ムを用いることができる。このような複合高分子フィル
ムの製法としては、ドライラミネート、押出ラミネート
または共押出コーティングラミネートなどの方法があげ
られる。２層以上の保護層の組合せとしては有機高分子
同志に限られるものではなく、板ガラス同志や板ガラス
と有機高分子層などが挙げられる。例えば、板ガラスと
高分子層とを組合せる方法としては、保護層用塗布液を
板ガラス上に直塗布して形成するか、あるいは予め別途
形成した高分子保護層を板ガラス上に接着する方法があ
げられる。なお、２層以上の保護層は互いに密着状態に
あってもよいし離れていてもよい。
本発明の保護層の厚さは、実用上は10μｍから3mmまで
である。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには保護層
の厚さは100μｍ以上が好ましく、特に500μｍ以上の保
護層を設けた場合、耐久性，耐用性にすぐれた変換パネ
ルが得られて、いっそう好ましい。
である。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには保護層
の厚さは100μｍ以上が好ましく、特に500μｍ以上の保
護層を設けた場合、耐久性，耐用性にすぐれた変換パネ
ルが得られて、いっそう好ましい。
また、保護層として板ガラスを用いた場合には、極めて
耐湿性にすぐれており特に好ましい。
耐湿性にすぐれており特に好ましい。
保護層は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するた
めに、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望まし
く、透過率は80％以上が好ましい。例えば石英ガラス、
硼珪酸ガラスなどが挙げられる。硼珪酸ガラスは330nm
〜2.6μｍの波長範囲で80％以上の透過率を示し、石英
ガラスではさらに短波長においても高い透過率を示す。
めに、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望まし
く、透過率は80％以上が好ましい。例えば石英ガラス、
硼珪酸ガラスなどが挙げられる。硼珪酸ガラスは330nm
〜2.6μｍの波長範囲で80％以上の透過率を示し、石英
ガラスではさらに短波長においても高い透過率を示す。
また、保護層の表面にMgF2などの反射防止層を設ける
と、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過するとと
もに鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。保
護層の屈折率は特に規定しないが、実用的に用い得る材
質では1.4から2.0の間にあるものが多い。
と、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過するとと
もに鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。保
護層の屈折率は特に規定しないが、実用的に用い得る材
質では1.4から2.0の間にあるものが多い。
本発明の低屈折率層は、保護層よりも屈折率の低い材質
からなる。例えば第２表に示す物質を用いることがで
き、気相堆積法で形成された薄膜の状態で用いるのが好
ましい。あるいは、第３表に示す液体層を用いることも
できる。また、本発明の低屈折率層として、空気、窒
素、アルゴンなどの気体層や真空層など屈折率が実質的
に１である層を用いると、鮮鋭性の低下を防止する効果
が高く特に好ましい。
からなる。例えば第２表に示す物質を用いることがで
き、気相堆積法で形成された薄膜の状態で用いるのが好
ましい。あるいは、第３表に示す液体層を用いることも
できる。また、本発明の低屈折率層として、空気、窒
素、アルゴンなどの気体層や真空層など屈折率が実質的
に１である層を用いると、鮮鋭性の低下を防止する効果
が高く特に好ましい。
本発明の低屈折率層の厚さは0.05μｍから3mmまでが実
用的である。
用的である。
本発明における高屈折率層は低屈折率層よりも屈折率の
高い物質からなる。例えばPETなどの有機高分子フィル
ムを用いてもよいし、反射防止膜などに使用される蒸着
物質を用いてもよい。蒸着物質としては例えば第４表の
ようなものが可能である。
高い物質からなる。例えばPETなどの有機高分子フィル
ムを用いてもよいし、反射防止膜などに使用される蒸着
物質を用いてもよい。蒸着物質としては例えば第４表の
ようなものが可能である。
第４表 物 質 屈折率 Al2O3 1.62 Sb2O3 2.04 CeO2 2.42 CeF3 1.63 La2O3 1.95 LaF3 1.59 PbF3 1.75 NdF3 1.60 Pr6O11 1.92 SiO 2.0 SIO2 1.46 TiO2 2.2〜2.7 ThO2 1.8 ThF4 1.52 ZnS 2.35 ZrO2 2.1 更に加えて高屈折率層として吸湿性の高い物質を用いる
とよりいっそうの高耐湿性を付与することができる。こ
こで、吸湿性とは平衡吸湿率のことである。
とよりいっそうの高耐湿性を付与することができる。こ
こで、吸湿性とは平衡吸湿率のことである。
第１図における高屈折率層３に吸湿性の高い物質を用い
ると保護層１と低屈折層２を透過した水分及び／または
変換パネル側縁部より透過した水分を高屈折率層が吸着
保持し、輝尽層への水分の到達を防ぐ機能を果たす。あ
るいは、変換パネル製造時に輝尽層に吸着していた水分
を高吸湿性の第２中間層が奪取り輝尽層をより乾燥させ
る機能も果たす。したがって前述のように比較的厚く透
湿度の低い保護層を用いなおかつ高屈折率層（第２中間
層）に高吸湿性の物質を用いることにより、すぐれた耐
湿性を有する変換パネルを製造することができる。第２
中間層の平衡吸湿率は高いほど好ましい。第２中間層の
気温25℃相対湿度65％における平衡吸湿率は実用的には
１％以上であり、２％以上が好ましく、５％以上のもの
は特に好ましい。吸湿性の高い第２中間層用の材料とし
ては、例えば、有機高分子材料の中から選ぶことができ
る。比較的吸湿性の高い有機高分子としては、例えば、
ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリグリ
シン、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジアセテー
ト、セルローストリアセテート、ナイロン４、ナイロン
６、ナイロン12、ナイロン66、ポリ酢酸ビニル、ポリメ
チルアリルアルコールなどが好ましい。尚、吸湿性の高
い第２中間層の材料は有機高分子に限るのもではなく、
平衡吸湿性の高いものであればなんでもよい。
ると保護層１と低屈折層２を透過した水分及び／または
変換パネル側縁部より透過した水分を高屈折率層が吸着
保持し、輝尽層への水分の到達を防ぐ機能を果たす。あ
るいは、変換パネル製造時に輝尽層に吸着していた水分
を高吸湿性の第２中間層が奪取り輝尽層をより乾燥させ
る機能も果たす。したがって前述のように比較的厚く透
湿度の低い保護層を用いなおかつ高屈折率層（第２中間
層）に高吸湿性の物質を用いることにより、すぐれた耐
湿性を有する変換パネルを製造することができる。第２
中間層の平衡吸湿率は高いほど好ましい。第２中間層の
気温25℃相対湿度65％における平衡吸湿率は実用的には
１％以上であり、２％以上が好ましく、５％以上のもの
は特に好ましい。吸湿性の高い第２中間層用の材料とし
ては、例えば、有機高分子材料の中から選ぶことができ
る。比較的吸湿性の高い有機高分子としては、例えば、
ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリグリ
シン、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジアセテー
ト、セルローストリアセテート、ナイロン４、ナイロン
６、ナイロン12、ナイロン66、ポリ酢酸ビニル、ポリメ
チルアリルアルコールなどが好ましい。尚、吸湿性の高
い第２中間層の材料は有機高分子に限るのもではなく、
平衡吸湿性の高いものであればなんでもよい。
本発明に係る高屈折率層の厚さは、30nmから500μｍま
でが実用的であるが、鮮鋭性の低下を小さくする効果を
高めるためには50μｍ以下が好ましく、10μｍ以下なら
ばいっそう好ましい。
でが実用的であるが、鮮鋭性の低下を小さくする効果を
高めるためには50μｍ以下が好ましく、10μｍ以下なら
ばいっそう好ましい。
高屈折率層は、輝尽層と密着状態にあってもよいし離れ
ていてもよい。高屈折率層と輝尽層を密着させるために
は接着剤を用いるのが１つの方法であるが、その場合、
接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率または高屈折率層の屈
折率に近いことが好ましい。
ていてもよい。高屈折率層と輝尽層を密着させるために
は接着剤を用いるのが１つの方法であるが、その場合、
接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率または高屈折率層の屈
折率に近いことが好ましい。
本発明において低屈折率層として、気体層や真空層を設
ける場合には、例えば第２図のように変換パネルの側縁
部にスペーサ６を設けて、一定の厚みを保つ方法があ
る。また第３図のように、保護層と高屈折率層の間にス
ペーサ材７を散布することにより、気体層または真空層
を設けてもよい。スペーサ材としては、例えば液晶パネ
ルのスペーサ材として用いられている直径数μｍの微細
ガラスファイバ片を用いることができる。
ける場合には、例えば第２図のように変換パネルの側縁
部にスペーサ６を設けて、一定の厚みを保つ方法があ
る。また第３図のように、保護層と高屈折率層の間にス
ペーサ材７を散布することにより、気体層または真空層
を設けてもよい。スペーサ材としては、例えば液晶パネ
ルのスペーサ材として用いられている直径数μｍの微細
ガラスファイバ片を用いることができる。
本発明において用いる輝尽性蛍光体は、最初の光もしく
は高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱的、
機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）によ
り、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対
応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面から
好ましくは500nm以上の輝尽励起光によって輝尽発光を
示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例えば特
開昭48−80487号に記載されているBaSO4:AX、特開昭48
−80489号に記載されているSrSO4:AX、特開昭53−39277
号のLi2B4O7:Cu,Ag等、特開昭54−47883号のLi2O・（B2
O2）x:Cu及びLi2O・（B2O2）x:Cu,Ag等、米国特許3,85
9,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:Eu,Sm及び（Z
n,Cd）S:Mn,Xで表される蛍光体が挙げられる。
は高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱的、
機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）によ
り、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対
応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面から
好ましくは500nm以上の輝尽励起光によって輝尽発光を
示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例えば特
開昭48−80487号に記載されているBaSO4:AX、特開昭48
−80489号に記載されているSrSO4:AX、特開昭53−39277
号のLi2B4O7:Cu,Ag等、特開昭54−47883号のLi2O・（B2
O2）x:Cu及びLi2O・（B2O2）x:Cu,Ag等、米国特許3,85
9,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:Eu,Sm及び（Z
n,Cd）S:Mn,Xで表される蛍光体が挙げられる。
また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍
光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで表されるアルミン酸バリ
ウム蛍光体、及び一般式ＭIIＯ・xSiO2:Aで表されるア
ルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特
開昭55−12143号に記載されている一般式 （Ba1−ｘ−yMgxCay）FX:eEu2+ で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載さている一般式 LnOX:xA で表され蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている
一般式 （Ba1−xMIIｘ）FX:yA で表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe,yA で表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 ＭIIFX・xA:yLn で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、（Zn,Cd）S:A、ZnS:A,X及
びCdS:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載
されている下記いづれかの一般式 xM3（PO4）２・NX2:yA M3（PO4）2:yA で表される蛍光体、下記いづれかの一般式 nReX3・mAX′2:xEu nReX3・mAX′2:xEu,ySm で表される蛍光体、及び下記一般式 ＭＩＸ・aMIIＸ′２・bMIIIＸ″3:cA で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着，スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。
光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで表されるアルミン酸バリ
ウム蛍光体、及び一般式ＭIIＯ・xSiO2:Aで表されるア
ルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特
開昭55−12143号に記載されている一般式 （Ba1−ｘ−yMgxCay）FX:eEu2+ で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載さている一般式 LnOX:xA で表され蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている
一般式 （Ba1−xMIIｘ）FX:yA で表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe,yA で表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 ＭIIFX・xA:yLn で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、（Zn,Cd）S:A、ZnS:A,X及
びCdS:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載
されている下記いづれかの一般式 xM3（PO4）２・NX2:yA M3（PO4）2:yA で表される蛍光体、下記いづれかの一般式 nReX3・mAX′2:xEu nReX3・mAX′2:xEu,ySm で表される蛍光体、及び下記一般式 ＭＩＸ・aMIIＸ′２・bMIIIＸ″3:cA で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着，スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。
しかし、本発明に係る変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。
光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。
本発明の変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくとも
一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る輝
尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含ま
れる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なっていて
もよい。
一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る輝
尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含ま
れる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なっていて
もよい。
本発明の輝尽層は塗布方法、気相成長方法のいづれによ
ってもよい。
ってもよい。
本発明のパネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネ
ルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合10μｍ〜1000μｍ
の範囲、さらに好ましくは20μｍ〜800μｍの範囲から
選ばれるのが好ましく、結着剤を含有する場合で20μｍ
〜1000μｍの範囲、さらに好ましくは50μｍ〜500μｍ
の範囲から選ばれるのが好ましい。
ルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合10μｍ〜1000μｍ
の範囲、さらに好ましくは20μｍ〜800μｍの範囲から
選ばれるのが好ましく、結着剤を含有する場合で20μｍ
〜1000μｍの範囲、さらに好ましくは50μｍ〜500μｍ
の範囲から選ばれるのが好ましい。
本発明の変換パネルの支持体としては各種高分子材料、
ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。
ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。
高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムがあげられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまたは金
属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シートまた
は金属板があげられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどがあげられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などがあげられ
る。
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムがあげられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまたは金
属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シートまた
は金属板があげられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどがあげられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などがあげられ
る。
また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材料等によ
って異なるが、一般的には80μｍ〜2000μｍであり、取
り扱い上の点が、さらに好ましくは80μｍ〜1000μｍで
ある。
って異なるが、一般的には80μｍ〜2000μｍであり、取
り扱い上の点が、さらに好ましくは80μｍ〜1000μｍで
ある。
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。
さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。
本発明の変換パネルは、よりいっそうの耐湿性を得るた
めには、保護層と支持体の側縁部を封止することが望ま
しい。封止の方法としては例えばガラス融着や接着剤を
用いる方法があげられる。接着剤としては、例えばエポ
キシ樹脂系接着剤などがあげられる。尚接着剤は透湿度
の低いものが好ましい。
めには、保護層と支持体の側縁部を封止することが望ま
しい。封止の方法としては例えばガラス融着や接着剤を
用いる方法があげられる。接着剤としては、例えばエポ
キシ樹脂系接着剤などがあげられる。尚接着剤は透湿度
の低いものが好ましい。
また本発明に係る保護層は特願昭61−220492号に述られ
ているように支持体と輝尽層からなる変換パネル母体を
高分子フィルムよりなる保護袋に収納し側縁部をシール
した形態でもよい。この場合低屈折率層は予め輝尽層表
面に形成するか保護袋の輝尽層に対峙する面に形成して
おくことができる。低屈折率層に気体層、真空層を用い
る場合には保護袋の輝尽層に対峙する部分に剛性をもた
せスペーサを輝尽層間に介在させればよい。
ているように支持体と輝尽層からなる変換パネル母体を
高分子フィルムよりなる保護袋に収納し側縁部をシール
した形態でもよい。この場合低屈折率層は予め輝尽層表
面に形成するか保護袋の輝尽層に対峙する面に形成して
おくことができる。低屈折率層に気体層、真空層を用い
る場合には保護袋の輝尽層に対峙する部分に剛性をもた
せスペーサを輝尽層間に介在させればよい。
前記シール方法としては、ヒートシール法、高周波シー
ル法、超音波シール法などが好ましいが、接着剤を用い
た圧着もしくは熱圧する方法を用いてもよい。
ル法、超音波シール法などが好ましいが、接着剤を用い
た圧着もしくは熱圧する方法を用いてもよい。
本発明の変換パネルにおいて、保護層は支持体の役割を
兼ねることもできる。その場合には、本発明でいう支持
体は実質的に輝尽層を支持する能力を有しなくてもよ
い。
兼ねることもできる。その場合には、本発明でいう支持
体は実質的に輝尽層を支持する能力を有しなくてもよ
い。
本発明の変換パネルは第４図に概略的に示される放射線
画像変換方法に用いられる。
画像変換方法に用いられる。
すなわち、第４図において、41は放射線発生装置、42は
被写体、43は本発明に係る変換パネル、44は輝尽励起光
源、45は該変換パネルより放射された輝尽蛍光を検出す
る光電変換装置、46は45で検出された信号を画像として
再生する装置、47は再生された画像を表示する装置、48
は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し、輝尽蛍光のみを透
過させるフィルタである。尚45以降は43からの光情報を
何らかの形で画像として再生できるものであればよく、
上記に限定されるものではない。
被写体、43は本発明に係る変換パネル、44は輝尽励起光
源、45は該変換パネルより放射された輝尽蛍光を検出す
る光電変換装置、46は45で検出された信号を画像として
再生する装置、47は再生された画像を表示する装置、48
は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し、輝尽蛍光のみを透
過させるフィルタである。尚45以降は43からの光情報を
何らかの形で画像として再生できるものであればよく、
上記に限定されるものではない。
第４図に示されるように、放射線発生装置41からの放射
線は被写体42を通して変換パネル43に入射する。この入
射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、そのエネ
ルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成され
る。
線は被写体42を通して変換パネル43に入射する。この入
射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、そのエネ
ルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成され
る。
次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で励
起して輝尽発光として放出せしめる。
起して輝尽発光として放出せしめる。
放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によ
って画像として再生し画像表示装置47によって表示する
ことにより、被写体の放射線透過像を観察することがで
きる。
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によ
って画像として再生し画像表示装置47によって表示する
ことにより、被写体の放射線透過像を観察することがで
きる。
次に実施例によって本発明を説明する。
実施例 １〜４及び比較例A,B 500μｍ厚の結晶化ガラス支持体に、蒸着装置でアルカ
リハライド蛍光体（RbBr;0.0006Tl）を300μｍ蒸着し
た。
リハライド蛍光体（RbBr;0.0006Tl）を300μｍ蒸着し
た。
次いで前記輝尽層上に550μｍ厚の保護層及び低屈折率
層、高屈折率層を第５表の組合せで設けた。ただし表中
の（ ）内の数値は屈折率を示す。
層、高屈折率層を第５表の組合せで設けた。ただし表中
の（ ）内の数値は屈折率を示す。
第５表中のエバールEFFはエチレン−ビニルアルコール
共重合体の商品名（（株）クラレ製）であり、エチレン
共重合比率は32mol％である。エバールEFFの気温25℃、
相対湿度65％における平衡吸湿度は3.9％であり、PETの
それは0.2％である。
共重合体の商品名（（株）クラレ製）であり、エチレン
共重合比率は32mol％である。エバールEFFの気温25℃、
相対湿度65％における平衡吸湿度は3.9％であり、PETの
それは0.2％である。
また比較例として実施例と同様の支持体、輝尽層を用い
低屈折率層及び高屈折率層を設けることなく輝尽層に保
護層を接着剤で密着させた比較例Ａ及びＢを第６表の如
く設けた。
低屈折率層及び高屈折率層を設けることなく輝尽層に保
護層を接着剤で密着させた比較例Ａ及びＢを第６表の如
く設けた。
比較例 いずれの試料においても支持体上に蒸着した輝尽層を80
℃、10-3torrの条件で真空乾燥を１時間行った後に保護
層を設け側縁部をエポキシ系接着剤で封止した。
℃、10-3torrの条件で真空乾燥を１時間行った後に保護
層を設け側縁部をエポキシ系接着剤で封止した。
この際、実施例1,2,3,4は第２図のごとく400μｍ厚のガ
ラススペーサを設置することにより高屈折率層と保護層
との間に75μｍの空気層を設けた。
ラススペーサを設置することにより高屈折率層と保護層
との間に75μｍの空気層を設けた。
前記の試料につき、防湿性及びMTFによる鮮鋭性のチェ
ックを行った。
ックを行った。
試料1,2,3及び比較例Ｂは良好な防湿性を示し、気温40
℃、湿度90％の条件下に48時間放置しても放射線感度の
低下は全くおこらず、輝尽励起光照射を受けるまでの蓄
積エネルギーの減衰もわずかであった。また、試料１で
は他の試料に比較して放射線感度が約1.3倍高かった。
℃、湿度90％の条件下に48時間放置しても放射線感度の
低下は全くおこらず、輝尽励起光照射を受けるまでの蓄
積エネルギーの減衰もわずかであった。また、試料１で
は他の試料に比較して放射線感度が約1.3倍高かった。
試料４では多少の劣化が認められたが実用上は問題のな
い程度であった。試料Ａでは輝尽励起光照射を受けるま
での蓄積エネルギーの減衰が非常に大きく、実用上問題
となる。
い程度であった。試料Ａでは輝尽励起光照射を受けるま
での蓄積エネルギーの減衰が非常に大きく、実用上問題
となる。
第７表に各試料の空間周波数1lp/mmと2lp/mmにおけるMT
Fを示した。比較例Ｂは550μｍのガラス保護層を設けた
ことによって著しく鮮鋭性が低下しているのに対し、試
料1,2,3,4は同じ550μｍの厚い保護層を有しているにも
かかわらず、鮮鋭性の低下は少ない。
Fを示した。比較例Ｂは550μｍのガラス保護層を設けた
ことによって著しく鮮鋭性が低下しているのに対し、試
料1,2,3,4は同じ550μｍの厚い保護層を有しているにも
かかわらず、鮮鋭性の低下は少ない。
試料1,2,3,4では、薄膜の保護層を有し鮮鋭性の高い試
料Ａと同程度であり、臨床に耐える性能を示した。また
試料１では他に比べて放射線感度が高く、特に優れた性
能を示した。
料Ａと同程度であり、臨床に耐える性能を示した。また
試料１では他に比べて放射線感度が高く、特に優れた性
能を示した。
〔発明の効果〕 本発明は支持体上に輝尽性蛍光体層と少なくとも一層の
保護層を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽
性蛍光体層と保護層の間に保護層よりも低屈折率の第１
層を設け、かつ第１層と輝尽性蛍光体層との間に、第１
層よりも高屈折率で吸湿性の高い第２層を設けたことに
より鮮鋭性を損うことなく輝尽層を外部からの化学的及
び物理的刺激から十分保護し、耐久性、耐用性にすぐれ
た変換パネルを提供することができた。
保護層を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽
性蛍光体層と保護層の間に保護層よりも低屈折率の第１
層を設け、かつ第１層と輝尽性蛍光体層との間に、第１
層よりも高屈折率で吸湿性の高い第２層を設けたことに
より鮮鋭性を損うことなく輝尽層を外部からの化学的及
び物理的刺激から十分保護し、耐久性、耐用性にすぐれ
た変換パネルを提供することができた。
第１図は本発明の基本構成を表す図、第２図、第３図は
本発明の構成例を表す図である。 第４図は変換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明
図である。 １……保護膜 ２……低屈折率層（第１中間層） ３……高屈折率層（第２中間層） ４……輝尽性蛍光体層 ５……支持体
本発明の構成例を表す図である。 第４図は変換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明
図である。 １……保護膜 ２……低屈折率層（第１中間層） ３……高屈折率層（第２中間層） ４……輝尽性蛍光体層 ５……支持体
Claims (1)
- 【請求項１】支持体上に輝尽性蛍光体層と保護層を有す
る放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光体層と
保護層の間に少くとも２層の中間層を設け保護層よりも
低屈折率の第１中間層、第１中間層と輝尽性蛍光体層と
の間に、第１中間層よりも高屈折率の第２中間層を設
け、更に該第２中間層は吸湿性が高いことを特徴とする
放射線画像変換パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62293575A JPH077119B2 (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | 物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62293575A JPH077119B2 (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | 物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01134299A JPH01134299A (ja) | 1989-05-26 |
| JPH077119B2 true JPH077119B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=17796508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62293575A Expired - Lifetime JPH077119B2 (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | 物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077119B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1605472A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-14 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Radiation image conversion panel |
| JP5542790B2 (ja) | 2011-12-22 | 2014-07-09 | 株式会社東芝 | 原子炉状態監視装置およびその監視方法 |
-
1987
- 1987-11-19 JP JP62293575A patent/JPH077119B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01134299A (ja) | 1989-05-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5023461A (en) | Radiation image storage panel having low refractive index layer and protective layer | |
| JPS5917399B2 (ja) | 放射線像変換パネル | |
| JPH01267500A (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2705943B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JPH077119B2 (ja) | 物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネル | |
| JP2686530B2 (ja) | 屈折率を規制した層を有する放射線画像変換パネル | |
| JPH077118B2 (ja) | 低屈折率層を介した保護層を有する放射線画像変換パネル | |
| JP2829607B2 (ja) | 低屈折率層を差挟んだ保護層を有する放射線画像変換パネル | |
| JP2884352B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2843998B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2886165B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2942961B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2656795B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2884350B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2656797B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2677824B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2884356B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JPH03135798A (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP3162094B2 (ja) | 放射線画像変換パネルおよびその使用方法 | |
| JP3034593B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| EP0304300B1 (en) | Radiation image storage panel having low refractive index layer and protective layer | |
| JP2696525B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JP2677822B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JPH03135799A (ja) | 放射線画像変換パネル | |
| JPH07270599A (ja) | 放射線画像変換パネル |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |