JPH077208B2 - ドライフィルムフォトレジスト - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、ドライフィルムフォトレジストに関する。更
に詳しくは、アルカリ水溶液による現像性、剥膜性に優
れ、かつテント膜の強度に優れたドライフィルムフォト
レジストに関する。

「従来の技術」 印刷回路板の作成方法の一つにドライフィルムフォトレ
ジスト（以下、DFRと称する）を用いる方法が知られて
いる。このDFRに関しては、特公昭45−25231号明細書に
記載されており、更に詳細な使用方法は、例えばW.S.De
Forest著「Photoresist」Mc Grew−Hill New York（19
75）163−212頁に記載されている。

DFRの主要な使用目的は、テンティング法によるスルー
ホールの保護である。この方法は、現像、エッチング工
程においてスルーホール部を光硬化した感光性樹脂組成
物層、いわゆるテント膜により覆うものである。このテ
ント膜には現像、エッチング工程において膜の破れ、浮
き等の欠陥が発生しないことが極めて重要である。しか
しながら、これらの工程においては、現像液、エッチン
グ液等が高圧でスプレーされるため、従来のDFRにおい
てはしばしばテント膜の破れが発生しており、この様な
欠陥が発生しない力学的物性を有するDFRの開発が求め
られていた。

このDFRには現像、剥膜に有機溶剤を用いるものと、ア
ルカリ水溶液を用いるものがあるが、近年環境衛生、防
爆の面からアルカリ水溶液を用いるものへの移行が進め
られて来ている。ところがアルカリ水溶液を用いた場合
には、有機溶剤を用いる場合に比べてテント膜の破れが
発生し易いという問題があった。

ところで、DFRは一般的に高分子結合剤、付加重合性不
飽和化合物（以下、モノマーと称する）、光重合開始剤
を必須成分として含有している。これらの内、上記の力
学的物性に対しては高分子結合剤及びモノマーが影響を
及ぼすが、特にモノマーの影響が支配的であり、従来各
種のモノマーが提案されている。

DFRに用いられるモノマーの具体例としては、ポリオー
ルのアクリル酸もしくはメタクリル酸エステル類、即ち
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
グリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ドデカエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラデカエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート等、あるいはポリアミンより得られるアク
リルアミド又はメタクリルアミド類、すなわちメチレン
ビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）ア
クリルアミド、ｍ−キシリレンビス（メタ）アクリルア
ミド等、あるいはウレタン基を含有する化合物、すなわ
ちジ−（２−メタクリロキシエチル）−2,4−トリレン
ジウレタン、ジ−（２−アクリロキシエチル）ヘキサメ
チレンジウレタン等、又はポリオールとジイソシアネー
トとをあらかじめ反応させて得られる末端イソシアネー
ト化合物に更にβ−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートを反応せしめることで得られる（メタ）アクリル
ウレタンオリゴマー、例えば、2,4−トリレンジイソシ
アネートを４モルとエチレングリコールを３モルとの反
応生成物に１モルのβ−ヒドロキシエチルアクリレート
を反応させて得られるオリゴマー等、あるいはビスフェ
ノールＡから変性誘導されたアクリル酸もしくはメタク
リル酸エステル類、即ちビスフェノールＡ−エピクロル
ヒドリン系エポキシ樹脂プレポリマーとアクリル酸ある
いはメタクリル酸との反応生成物、ビスフェノールＡの
アルキレンオキシド付加体あるいはその水素添加物のア
クリル酸もしくはメタクリル酸エステル等、あるいは芳
香族多価カルボン酸のエステル類、即ち下記の構造式
（II）〜（IV）で示される化合物等が挙げられる。

また、ウレタン基を含有するモノマーを用いたドライフ
ィルムフォトレジストとしては、特公昭56−17654（ア
ルカリ現像型）、特開昭59−204837、同61−77844等に
開示されている。

しかしながら、これらのモノマーを用いた場合、テン
ト膜の強度が不十分であるか、現像に有機溶剤を用い
る場合には十分なテント膜の強度を有しているが、アル
カリ水溶液を用いる場合には膜強度が不十分となるか、
あるいはテント膜の強度は十分であっても、DFRとし
て使用する上で必要な他の性能が不十分である、即ち、
耐現像液性、耐エッチング液性を向上させた結果現像性
や、特に剥膜性が低下する、という大きな欠点があっ
た。

このように、アルカリ水溶液で現像、剥膜を行うDFRに
おいては、テント膜の強度が十分で、かつ、現像性、剥
膜性に優れたDFRを得ることは非常に困難であった。

「本発明が解決しようとする問題点」 従って、本発明の目的は、現像、エッチング工程におけ
るテント膜の破れが無く、かつ、現像性、剥膜性が良好
なドライフィルムフォトレジストを提供することであ
る。更に、本発明の目的は現像後のレジスト形状が優れ
ており、高解像力で、しかもメッキプロセスにおいて十
分使用に耐えられるレジストを与えるドライフィルムフ
ォトレジストを提供することである。

「問題点を解決するための手段」 本発明者等は種々研究を重ねた結果、特定のモノマーを
含有する感光性樹脂組成物を用いたドライフィルムフォ
トレジストにより上記目的を達成し得ることを見いだ
し、本発明に至った。

即ち、本発明の目的は、少なくとも可撓性フィルム支持
体、感光性樹脂組成物層より成るドライフィルムフォト
レジストにおいて、該感光性樹脂組成物層が必須成分と
して、 （Ａ）アルカリ水溶液に対して可溶性又は膨潤性である
高分子結合剤 （Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示されるモノマー （ただし、式中、Ｒは水素原子もしくはメチル基、Ｘは
芳香環を含む２価の有機基、ｎは２〜20の整数である） （Ｃ）光重合開始剤 を含有することを特徴とするドライフィルムフォトレジ
ストにより達成された。

本発明に使用される一般式（Ｉ）の化合物は芳香環を含
むジイソシアネート１モルとポリエチレングリコールモ
ノ（メタ）アクリレート２モルとを常法に従って付加反
応させることにより得られる。

芳香環を含むジイソシアナートの具体例としては、ｍ−
フェニレンジイソシアナート、ｐ−フェニレンジイソシ
アナート、2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリ
レンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、
1,5−ナフチレンジイソシアナート、1,4−メシチレンジ
イソシアナート、4,4′−ビフェニレンジイソシアナー
ト、4,4′−ジイソシアナートジフェニルメタンなどが
挙げられる。これらのジイソシアナート化合物はそれぞ
れ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよ
い。

ポリエチレングリコールモノアクリレート、又はポリエ
チレングリコールモノメタクリレートの具体例として
は、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テ
トラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘ
キサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘ
プタエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オ
クタエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ノ
ナエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、デカ
エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ウンデ
カエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ドデ
カエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリ
デカエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テ
トラデカエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、ペンタデカエチレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ヘキサデカエチレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、ヘプタデカエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、オクタデカエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、ノナデカエチレングリコールモ
ノ（メタ）アクリレート、エイコサエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート等及びこれらの２種又はそれ
以上の混合物を挙げることができる。特に好ましい具体
例としては、エチレングリコールの繰り返し数が２〜40
の混合物であり、平均値としての繰り返し数が３〜20で
ある混合物のモノアクリレート又はモノメタクリレート
が挙げられ、例えば日本油脂株式会社より市販されてい
るブレンマーPE−200,PE−350等として容易に入手でき
る。

本発明の一般式（Ｉ）の化合物は単独で用いてもよい
が、更に種々の目的で他の１種以上の多官能モノマー又
はエチレン不飽和二重結合を分子内に１個含有する付加
重合性不飽和化合物（単官能モノマー）と混合して用い
ることもできる。

該多官能モノマーの具体例としては、既述の、ポリオー
ルのアクリル酸もしくはメタクリル酸エステル類、ポリ
アミンより得られるアクリルアミドもしくはメタクリル
アミド類、ウレタン基を含有する化合物、ポリオールと
ジイソシアネートとをあらかじめ反応させて得られる末
端イソシアネート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートを反応せしめることで得られる
（メタ）アクリルウレタンオリゴマー、ビスフェノール
Ａから変性誘導されたアクリル酸もしくはメタクリル酸
エステル類、構造式（II）〜（IV）で示される化合物等
が挙げられる。

該単官能モノマーの具体例としては、テトラエチレング
リコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエ
チレングリコールモノｐ−ノニルフェニルエーテルアク
リレート、、テトラプロピレングリコールモノｐ−ノニ
ルフェニルエーテルアクリレート、２−ヒドロキシ−３
−フェノキシプロピルアクリレート、フタル酸モノアク
リロキシエチルエステル、コハク酸モノアクリロキシエ
チルエステルを挙げることができる。

モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物の全重量基準
で、好ましくは約7.5〜55重量％、より好ましくは約15
〜45重量％である。

本発明のドライフィルムフォトレジストに用いる感光性
樹脂組成物において好適に用いられる高分子結合剤とし
ては、アルカリ水溶液に対して可溶性又は膨潤性を有す
るものであればよい。このような高分子結合剤の具体例
としては、特公昭46−32714号に開示されているメタク
リル酸メチル／メタクリル酸共重合体、特公昭55−3896
1号に開示されているスチレン／マレイン酸モノｎ−ブ
チルエステル共重合体、特公昭56−33413号に開示され
ているメタクリル酸エチル／アクリル酸エチル／メタク
リル酸３元共重合体、特開昭58−1142号に開示されてい
るメタクリル酸メチル／メタクリル酸／アクリル酸２−
エチルヘキシル３元共重合体あるいはメタクリル酸／メ
タクリル酸メチル／アクリル酸２−エチルヘキシル／メ
タクリル酸ｎ−ブチル４元共重合体、特願昭61−295441
号に開示されているメタクリル酸／メタクリル酸メチル
／アクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸ベンジ
ル４元共重合体等が挙げるれる。

これら高分子結合剤の含有量は感光性樹脂組成物の全重
量基準で、好ましくは約40〜80重量％、より好ましくは
約50〜70重量％である。

本発明のドライフィルムフォトレジストに用いる感光性
樹脂組成物において好適に用いられる光重合開始剤とし
ては、既述の重合性不飽和化合物の重合を開始させうる
単一の化合物、または２種以上の化合物を組み合わせた
光重合開始剤系はすべて用いることができる。好ましく
は、この光重合開始剤又は光重合開始剤系は約3000〜80
00A、好ましくは3300〜5000Aの範囲内に少なくとも約50
の分子吸光係数を有する成分を少なくとも一種含有して
いる。

光重合開始剤の好ましい具体例として、次の化合物を挙
げることができる。芳香族ケトン類、例えばベンゾフェ
ノン、4,4′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、4,4′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、
4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノ
ン、ベンジル、アントラキノン、２−tert−ブチルアン
トラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラ
キノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、フルオ
レノン、アクリドン等、ベンゾインもしくはベンゾイン
エーテル類、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体
類、例えば２−（ｏ−クロロフェニル）−4,5−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）
−4,5−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−4,5−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メト
キシフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
等、ポリハロゲン化合物、例えば四臭化炭素、フェニル
トリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチル
ケトン等、クマリン類、例えば３−（２−ベンゾフロイ
ル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾ
フロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−
ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｏ−
メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、
３−（ｐ−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチル
アミノクマリン、3,3′−カルボニルビス（5,7−ジ−ｎ
−プロポキシクマリン）、3.3′−カルボニルビス（７
−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メ
トキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチル
アミノクマリン、３−（ｐ−ジエチルアミノシンナモイ
ル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３
−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイ
ル−5,7−ジプロポキシクマリン等、アミン類例えばｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸ｎ−ブチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸フェ
ネチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミド
エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイ
ルオキシエチル、ペンタメチレンビス（ｐ−ジメチルア
ミノベンゾエート）、ｍ−ジメチルアミノ安息香酸のフ
ェネチル及びペンタメチレンエステル、ｐ−ジメチルア
ミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミ
ノベンズアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノベンジルアル
コール、エチル（ｐ−ジメチルアミノ）ベンゾイルアセ
テート、ｐ−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチル
アミノベンゾイン、N,N−ジメチル−ｐ−トルイジン、
N,N−ジエチル−ｍ−フェネチジン、トリベンジルアミ
ン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルベンジルアミン、ｐ−ブロム−N,N−ジメチルアニ
リン、トリドデシルアミン、ロイコクリスタルバイオレ
ット等、及び特開昭53−133428号、特公昭57−1819号、
同57−6096号、米国特許第3615455号に開示されている
化合物。

二種以上の組み合わせ、例えば2,4,5−トリアリールイ
ミダゾール二量体と２−メルカプトベンズオキサゾール
又はロイコクリスタルバイオレット等との組み合わせ、
米国特許第3427161号に記載の4,4′−ビス（ジメチルア
ミノ）ベンゾフェノンとベンゾフェノンまたはベンゾイ
ンメチルエーテルとの組み合わせ、米国特許第4239850
号に記載の、ベンゾイル−Ｎ−メチルナフトチアゾリン
と2,4−ビス（トリクロロメチル）−6,4−メトキシフェ
ニルトリアゾールの組み合わせ、また特開昭57−23602
号に記載のジメチルチオキサントンと−４−ジアルキル
アミノ安息香酸エステルの組み合わせが挙げられる。

光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は感光性樹脂
組成物の総重量基準で、好ましくは約0.1〜10重量％、
より好ましくは約0.2〜６重量％である。

本発明に用いる感光性樹脂組成物は、高分子結合剤、モ
ノマー及び光重合開始剤を必須成分とするが、必要に応
じて熱重合防止剤、可塑剤、色素、変色剤、更に基体表
面への密着促進剤及びその他の助剤類を併用してもよ
く、これによって目的とするフォトレジストの写真性、
焼きだし性、膜物性等の性質を調節することができる。

熱重合防止剤は、感光性樹脂組成物の熱的な重合又は経
時的な重合を防止するために添加するもので、例えば、
ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ｔ−ブチルカ
テコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩
化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミ
ン、β−ナフトール、2,6−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレ
ゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン
酸、ｐ−トルイジン等が挙げられる。

可塑剤は、膜物性をコントロールするために添加するも
ので、例えば、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレ
ート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレート等の
フタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテ
ート、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリ
コールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフ
ェニルホスフェート等のリン酸エステル類;p−トルエン
スルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブ
チルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペー
ト、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジオ
クチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基
酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチ
ル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチ
ル、4,5−ジエポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン
酸ジオクチル等が挙げられる。

色素の例は、ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノール
フタレイン、1,3−ジフェニルトリアジン、アリザリン
レッドＳ、チモールフタレイ、メチルバイオレット2B、
キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロ
ー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、
メチルオレンジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾ
ン、2,7−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド
コンゴーレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレ
ッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオ
レット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブ
ルー＃603［オリエント化学工業（株）製］、ビクトリ
アピュアブルーBOH、スピロンブルーGN［保土ケ谷化学
工業（株）製］、ローダミンＢ、ローダミン6G等であ
る。

変色剤は、露光により可視像を与えることができるよう
に感光性樹脂組成物中に添加される。これらの具体例と
して、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルア
ニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフ
ェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、4,
4′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリン、ロイ
コクリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリー
ン、ロイコアニリン、ロイコメチルバイオレット等が挙
げられる。

密着促進剤の具体例としては、ベンズイミダゾール、ベ
ンズチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンズトリアゾ
ール等特公昭50−9177号に記載の化合物、２−メルカプ
トベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾー
ル等特開昭53−702号に記載の化合物等が挙げられる。

本発明に用いる感光性樹脂組成物は前述の各種構成成分
を溶媒中に溶解せしめ、支持体上に公知の方法により塗
布して用いられる。この場合に使用される溶媒として
は、エチレンジクロリド、モノクロルベンゼン、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチ
ルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルセロソ
ルブ、１−メトキシ−２−プロパノール、トルエン、キ
シレン等の単独、又は混合物である。

好適な支持体としてはポリアミド、ポリオレフィン、ポ
リエステル、ビニル重合体及びセルロースエステルなど
のフィルムから選ばれる３〜100μｍの厚みを持つもの
がよい。特に好適な支持体フィルムは約10〜25μｍの厚
さを持つ透明なポリエチレンテレフタレートフィルムで
ある。

感光性樹脂組成物の粘着性が大きい場合には、特に連続
塗布の際塗布層の上に保護フィルムを設けることが好ま
しい。この場合好適な保護フィルムとしてはポリオレフ
ィンが挙げられ、特に好ましいものとして20〜40μｍの
厚さのポリエチレンフィルムを挙げることができる。

本発明のドライフィルムフォトレジストは、印刷回路板
の作成用のフォトレジストとして好適であり、感光性樹
脂組成物層の厚みとしては0.1〜500μｍが好ましく、特
に好ましくは１〜200μｍの範囲である。

該感光性樹脂組成物は、炭酸ナトリウム水溶液等の弱い
アルカリ水溶液によって現像できる。

以下に、実施例により本発明を更に詳しく説明する。

実施例１ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸２−エ
チルヘキシル／メタクリル酸ベンジル（モル比29/55/12
/4）４元共重合体の40重量％溶液 37.5g （溶媒はメチルエチルケトン/1−メトキシ−２−プロパ
ノール＝2/1（重量比）） 表−１のNo.1のモノマー 8.0g エチルミヒラーズケトン 0.04g ベンゾフェノン 1.0g トリブロモメチルフェニルスルホン 0.15g ロイコクリスタルバイオレット 0.20g マラカイトグリーン 0.013g １−フェニル−３−モルホリノメチル−1,3,4−トリア
ゾール−２−チオン 001g ｐ−トルエンスルホンアミド 0.5g 上記組成よりなる感光液を調製し、25μｍ厚みのポリエ
チレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が約50μｍに
なるように塗布し、30μｍ厚のポリエチレンフィルムを
ラミネートした。この様にして得られたDFRの現像性、
剥膜性、解像度を評価した結果を表−２に示す。

実施例２及び３ モノマーとして表−１のNo.2もしくは３の化合物を用い
る他は実施例１と同様にして、DFRを得た。このDFRの現
像性、剥膜性、解像度を評価した結果を表−２に示す。

比較例１〜４ モノマーとして表−１のNo.4〜７の化合物を用いる他は
実施例１と同様にしてDFRを得た。このDFRの現像性、剥
膜性、解像度を評価した結果を表−２に示す。

以下に、各性能の評価方法を記す。

（現像性の評価） 整面し、乾燥した銅張積層板上に、DFRをポリエチレン
フィルムを剥離しながら、感光性樹脂組成物層が銅表面
に接触するように、A24型ラミネーター（DuPont社製）
を用いて120℃でラミネートした。ステップウエッジ
（富士フイルム（株）製、△OD＝0.15）で９段がクリヤ
ーとなる露光量で、フォトマスクを通して露光した（3K
w超高圧水銀灯両面同時露光装置HMW−６−Ｎ型（オーク
（株）製）を使用）。ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離し、30℃の１重量％炭酸ナトリウム水溶液を
1.5Kg/cm²でスプレーすることにより未露光部を除去し
得る最短の時間を、最短現像時間として求めた。

（剥膜性の評価） 現像性の評価と同様にラミネート、露光をを行った後、
最短現像時間の1.5倍の時間、現像を行い、乾燥後、２
重量％水酸化カリウム水溶液に浸しレジストが剥離する
までの時間を測定した。

（解像度の評価） 剥膜性の評価と同様にラミネート、露光、現像を行い、
ライン／スペース＝1/1のパターンの内、ラインにツマ
リ、ヨレ等の異常のない最小のライン巾を求めた。

実施例４ 実施例１と同様にして調製した感光液を、25μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が約35μｍ
になるように塗布し、30μｍのポリエチレンフィルムを
ラミネートした。この様にして得られたDFRを、整面し
乾燥した２〜6mmφの穴があいた銅張積層板上に、現像
性の評価と同様にラミネートし、露光を行った。ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離し、30℃の１重量
％炭酸ナトリウム水溶液を2.0Kg/cm²で、最短時間の２
倍の時間スプレーすることにより、現像を行った。乾燥
後、45℃の35゜Ｂ塩化銅（II）水溶液を2.5Kg/cm
²で、４分間スプレーすることにより、エッチングを行
った。以上の操作でのテント膜破れの発生率は0.1％以
下であった。

実施例５及び６ モノマーとして表−１のNo.2もしくは３の化合物を用い
る他は実施例４と同様に処理を行った。テント膜破れの
発生率は、0.1％以下であった。

比較例５〜８ モノマーとして表−１のNo.4〜７の化合物を用いる他は
実施例４と同様に処理を行った。テント膜破れの発生率
は各々、100％,1.7％,100％,0.5％であった。

「発明の効果」 本発明のドライフィルムフォトレジストは特にテント膜
の強度に優れ、かつ現像性、剥膜性が良好なものであ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】可撓性フィルム支持体、感光性樹脂組成物
   層より成るドライフィルムフォトレジストにおいて、該
   感光性樹脂組成物層が必須成分として （Ａ）アルカリ水溶液に対して可溶性又は膨潤性である
   高分子結合剤 （Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される付加重合性不飽和化
   合物 （但し、式中Ｒは水素原子もしくはメチル基、Ｘは芳香
   環を含む２価の有機基、ｎは２〜20の整数である） （Ｃ）光重合開始剤 を含有することを特徴とするドライフィルムフォトレジ
   スト。
2. 【請求項２】感光性樹脂組成物層の上に保護フィルムを
   設けたことを特徴とする請求項（１）のドライフィルム
   フォトレジスト。