JPH0773419A - 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド - Google Patents
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0773419A JPH0773419A JP5218310A JP21831093A JPH0773419A JP H0773419 A JPH0773419 A JP H0773419A JP 5218310 A JP5218310 A JP 5218310A JP 21831093 A JP21831093 A JP 21831093A JP H0773419 A JPH0773419 A JP H0773419A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- magnetic
- magnetic shield
- shield layer
- lead
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 MRヘッド製造時・使用時のMR素子等と下
部磁気シールド層等間の静電気放電を防止して、歩留り
を向上させることができ生産性に優れるとともに、安定
使用することができ信頼性に優れたMRヘッドの提供。 【構成】 基板1と、基板1上に積層される絶縁層3
と、絶縁層3中に形成されるMR素子4と、MR素子4
の両端部に電気的に接続されてMR素子4へセンス電流
を流すための2つのリード部と、MR素子4の上下に絶
縁層3を介して形成される2つの磁気シールド層と、磁
性体からなり磁気ギャップ10が磁気記録媒体と対向す
る面に露出するように形成される磁気コア9,15と、
を備えたMRヘッドであって、2つの磁気シールド層,
磁気コア9,15の内少なくともいずれか1を2つのリ
ード部の内いずれか1と接触させて形成される接触部
B,C,Dを備えた構成を有している。
部磁気シールド層等間の静電気放電を防止して、歩留り
を向上させることができ生産性に優れるとともに、安定
使用することができ信頼性に優れたMRヘッドの提供。 【構成】 基板1と、基板1上に積層される絶縁層3
と、絶縁層3中に形成されるMR素子4と、MR素子4
の両端部に電気的に接続されてMR素子4へセンス電流
を流すための2つのリード部と、MR素子4の上下に絶
縁層3を介して形成される2つの磁気シールド層と、磁
性体からなり磁気ギャップ10が磁気記録媒体と対向す
る面に露出するように形成される磁気コア9,15と、
を備えたMRヘッドであって、2つの磁気シールド層,
磁気コア9,15の内少なくともいずれか1を2つのリ
ード部の内いずれか1と接触させて形成される接触部
B,C,Dを備えた構成を有している。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録装置等に用いら
れる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド(以下MRヘッドと
略す)に関するものである。
れる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド(以下MRヘッドと
略す)に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ハードディスク等の磁気記録装置
の小型化・大容量化を目的として、磁気記録媒体の速度
によらずデータの再生を行うことができるMRヘッドが
種々開発されている。
の小型化・大容量化を目的として、磁気記録媒体の速度
によらずデータの再生を行うことができるMRヘッドが
種々開発されている。
【0003】以下に従来のMRヘッドについて説明す
る。図8(a)は従来のMRヘッドの構成を示す要部平
面透視図、図8(b)は従来のMRヘッドの構成を示す
要部側面透視図である。1はMn−Zn,Al2 O3 /
TiC等のセラミックスよりなる基板、2はSiO2 ,
Al2 O3 等の酸化物等からなり基板1上に積層される
下地絶縁層、3は下地絶縁層2上に積層される絶縁層、
4は絶縁層3中に形成されて磁気記録媒体(図示せず)
からの入力磁界を検出する磁気抵抗効果素子(以下MR
素子と略す)、4aはMR素子4が磁気記録媒体(図示
せず)との対向面に露出した部分を示すMR素子露出
部、5は絶縁層3中に形成されてMR素子4へセンス電
流を流すためのリード層、5aはリード層5を構成しM
R素子4の片端部と電気的に接続される第1のリード
部、5a′は第1のリード部5aが磁気記録媒体(図示
せず)との対向面に露出した部分を示す第1のリード部
露出部、5bはリード層5を構成しMR素子4の他端部
と電気的に接続される第2のリード部、5b′は第1の
リード部露出部5a′と同様な第2のリード部露出部、
6はMR素子4の下方に絶縁層3を介して形成される下
部磁気シールド層、6aは下部磁気シールド層6が磁気
記録媒体(図示せず)との対向面に露出した部分を示す
下部磁気シールド層露出部、7はMR素子4の上方に絶
縁層3を介して形成される上部磁気シールド層、7aは
下部磁気シールド層露出部6aと同様な上部磁気シール
ド層露出部、8,9は一端部が磁気ギャップ10を介し
て対向し他端部が一体に結合された磁気コア、8a,9
aは磁気コア8,9が磁気記録媒体(図示せず)との対
向面に露出する部分を示す磁気コア露出部、11は磁気
コア8,9からなり磁気記録媒体(図示せず)にデータ
を記録するための記録コア、12は記録コア11を囲繞
して入力される電気信号を磁気に変換する導体コイル、
Aは従来のMRヘッドの磁気記録媒体(図示せず)との
対向面を示す磁気記録媒体対向面、HはMRヘッドの高
さ方向である。ここで、MR素子4は、MR薄膜と、こ
のMR薄膜と非磁性層を介して対向する軟磁性膜等から
なっている。
る。図8(a)は従来のMRヘッドの構成を示す要部平
面透視図、図8(b)は従来のMRヘッドの構成を示す
要部側面透視図である。1はMn−Zn,Al2 O3 /
TiC等のセラミックスよりなる基板、2はSiO2 ,
Al2 O3 等の酸化物等からなり基板1上に積層される
下地絶縁層、3は下地絶縁層2上に積層される絶縁層、
4は絶縁層3中に形成されて磁気記録媒体(図示せず)
からの入力磁界を検出する磁気抵抗効果素子(以下MR
素子と略す)、4aはMR素子4が磁気記録媒体(図示
せず)との対向面に露出した部分を示すMR素子露出
部、5は絶縁層3中に形成されてMR素子4へセンス電
流を流すためのリード層、5aはリード層5を構成しM
R素子4の片端部と電気的に接続される第1のリード
部、5a′は第1のリード部5aが磁気記録媒体(図示
せず)との対向面に露出した部分を示す第1のリード部
露出部、5bはリード層5を構成しMR素子4の他端部
と電気的に接続される第2のリード部、5b′は第1の
リード部露出部5a′と同様な第2のリード部露出部、
6はMR素子4の下方に絶縁層3を介して形成される下
部磁気シールド層、6aは下部磁気シールド層6が磁気
記録媒体(図示せず)との対向面に露出した部分を示す
下部磁気シールド層露出部、7はMR素子4の上方に絶
縁層3を介して形成される上部磁気シールド層、7aは
下部磁気シールド層露出部6aと同様な上部磁気シール
ド層露出部、8,9は一端部が磁気ギャップ10を介し
て対向し他端部が一体に結合された磁気コア、8a,9
aは磁気コア8,9が磁気記録媒体(図示せず)との対
向面に露出する部分を示す磁気コア露出部、11は磁気
コア8,9からなり磁気記録媒体(図示せず)にデータ
を記録するための記録コア、12は記録コア11を囲繞
して入力される電気信号を磁気に変換する導体コイル、
Aは従来のMRヘッドの磁気記録媒体(図示せず)との
対向面を示す磁気記録媒体対向面、HはMRヘッドの高
さ方向である。ここで、MR素子4は、MR薄膜と、こ
のMR薄膜と非磁性層を介して対向する軟磁性膜等から
なっている。
【0004】以上のように構成された従来のMRヘッド
について、以下その製造方法を説明する。初めに、Al
2 O3 /TiC等から基板1を作製する。次に、この基
板1を、予め接地された治具(図示せず)に固定する。
次に、基板1上に、下地絶縁層2,絶縁層3,下部磁気
シールド層6等を順次積層する。次に、第1のリード部
5a,第2のリード部5bに形成された電極部(図示せ
ず)に、これらに電流を流すためのリードワイヤ(図示
せず)を接続し、このリードワイヤ(図示せず)を接地
して、図8(a)に示すような従来のMRヘッドを作製
する。
について、以下その製造方法を説明する。初めに、Al
2 O3 /TiC等から基板1を作製する。次に、この基
板1を、予め接地された治具(図示せず)に固定する。
次に、基板1上に、下地絶縁層2,絶縁層3,下部磁気
シールド層6等を順次積層する。次に、第1のリード部
5a,第2のリード部5bに形成された電極部(図示せ
ず)に、これらに電流を流すためのリードワイヤ(図示
せず)を接続し、このリードワイヤ(図示せず)を接地
して、図8(a)に示すような従来のMRヘッドを作製
する。
【0005】以上のように製造される従来のMRヘッド
について、以下その動作を説明する。初めに、MR素子
4に、第1のリード部5a,第2のリード部5bから一
定のセンス電流を流すとともに、高さ方向Hにバイアス
磁界を印加する。一般には、バイアス方式として、軟磁
性薄膜を用いるSAL方式が用いられる。次に、MR素
子露出部4aと対向する磁気記録媒体(図示せず)に磁
束として記録されている情報を、MR素子4が自己の抵
抗値を変化させて正確に感知する。従来のMRヘッド
は、この抵抗値の変化を、第1のリード部5a,第2の
リード部5b間の電圧変化として再生信号を出力するこ
とで、磁気記録媒体(図示せず)上の情報を再生してい
る。
について、以下その動作を説明する。初めに、MR素子
4に、第1のリード部5a,第2のリード部5bから一
定のセンス電流を流すとともに、高さ方向Hにバイアス
磁界を印加する。一般には、バイアス方式として、軟磁
性薄膜を用いるSAL方式が用いられる。次に、MR素
子露出部4aと対向する磁気記録媒体(図示せず)に磁
束として記録されている情報を、MR素子4が自己の抵
抗値を変化させて正確に感知する。従来のMRヘッド
は、この抵抗値の変化を、第1のリード部5a,第2の
リード部5b間の電圧変化として再生信号を出力するこ
とで、磁気記録媒体(図示せず)上の情報を再生してい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、絶縁層3の電気抵抗が極めて高く、MR素
子・リード部と、下部磁気シールド層6と、上部磁気シ
ールド層7と、磁気コア8,9とが各々絶縁されてお
り、MRヘッド製造時に、これらが他の物体との摩擦、
工程中の浮遊電荷等によって帯電してゆく。ところが、
MRヘッド製造時にMR素子・リード部がリードワイヤ
(図示せず)を介して接地されるために、MR素子・リ
ード部と、下部磁気シールド層6,上部磁気シールド層
7,磁気コア8,9との間に電位差が生じ、一種のコン
デンサが形成される。そして、下部磁気シールド層6等
が更に帯電し、電位差が上昇して、これがあるしきい値
を越えると、下部磁気シールド層6等に帯電していた静
電荷が、空気中を介しMR素子4等に瞬時に移動して、
いわゆる静電気放電が生じてしまい、MR素子4,下部
磁気シールド層6等が重大なダメージを受けMRヘッド
の諸特性を著しく悪化させ、歩留りが低下して生産性に
欠けるという問題点を有していた。またMRヘッド使用
時にも、CSS動作・記録再生動作の際に、MRヘッド
と磁気記録媒体とが接触・摩擦・衝突等することによっ
て、下部磁気シールド層6等が帯電し、同様に静電気放
電が生じてしまい、MRヘッドの諸特性を著しく悪化さ
せてMRヘッドを安定使用することができず信頼性に欠
けるという問題点を有していた。また、下地絶縁層2の
電気抵抗が極めて高く、基板1と、下部磁気シールド層
6,MR素子・リード部,上部磁気シールド層7,磁気
コア8,9とが絶縁されており、これらが同様に帯電し
てゆくとともに、基板1が治具等を介して接地されてい
るために、基板1と下部磁気シールド層6等との間に電
位差が生じ、一種のコンデンサが形成される。そのた
め、MRヘッド製造時・使用時に下部磁気シールド層6
等が更に帯電して、この電位差があるしきい値を越える
と、下部磁気シールド層6等に帯電していた静電荷が静
電気放電によって基板1へと移動し、基板1,下部磁気
シールド層6等が重大なダメージを受け、MRヘッドの
諸特性を著しく悪化させて、歩留りが低下して生産性に
欠けるとともに、MRヘッド使用時にこれを安定使用す
ることができず信頼性に欠けるという問題点を有してい
た。また、MRヘッド使用時に、電気抵抗体であるMR
素子4にセンス電流を流すため、MR素子4にジュール
熱が発生するが、このMR素子4の上下が熱伝導性の低
い絶縁層3で保護されており、MR素子4の両端部に薄
く熱容量の小さいリード部が接続されただけであるため
に、この熱をMR素子4から効率よく放熱させることが
できず、MR素子4の温度が上昇して、MR素子4のバ
イアス効果の低下や、MR素子4のインピーダンスの上
昇が生じ、MRヘッドの電気特性が劣化して信頼性に欠
けるという問題点を有していた。更に、万一MR素子4
に規定のセンス電流を大きく上回る過電流が流れた場合
に、MR素子4からの放熱効率が低いために、MR素子
4の温度及び電気抵抗値が急上昇して、いわゆる熱暴走
を起こし、MR素子4が溶断する等してMRヘッドが破
壊されて信頼性に欠けるという問題点を有していた。
の構成では、絶縁層3の電気抵抗が極めて高く、MR素
子・リード部と、下部磁気シールド層6と、上部磁気シ
ールド層7と、磁気コア8,9とが各々絶縁されてお
り、MRヘッド製造時に、これらが他の物体との摩擦、
工程中の浮遊電荷等によって帯電してゆく。ところが、
MRヘッド製造時にMR素子・リード部がリードワイヤ
(図示せず)を介して接地されるために、MR素子・リ
ード部と、下部磁気シールド層6,上部磁気シールド層
7,磁気コア8,9との間に電位差が生じ、一種のコン
デンサが形成される。そして、下部磁気シールド層6等
が更に帯電し、電位差が上昇して、これがあるしきい値
を越えると、下部磁気シールド層6等に帯電していた静
電荷が、空気中を介しMR素子4等に瞬時に移動して、
いわゆる静電気放電が生じてしまい、MR素子4,下部
磁気シールド層6等が重大なダメージを受けMRヘッド
の諸特性を著しく悪化させ、歩留りが低下して生産性に
欠けるという問題点を有していた。またMRヘッド使用
時にも、CSS動作・記録再生動作の際に、MRヘッド
と磁気記録媒体とが接触・摩擦・衝突等することによっ
て、下部磁気シールド層6等が帯電し、同様に静電気放
電が生じてしまい、MRヘッドの諸特性を著しく悪化さ
せてMRヘッドを安定使用することができず信頼性に欠
けるという問題点を有していた。また、下地絶縁層2の
電気抵抗が極めて高く、基板1と、下部磁気シールド層
6,MR素子・リード部,上部磁気シールド層7,磁気
コア8,9とが絶縁されており、これらが同様に帯電し
てゆくとともに、基板1が治具等を介して接地されてい
るために、基板1と下部磁気シールド層6等との間に電
位差が生じ、一種のコンデンサが形成される。そのた
め、MRヘッド製造時・使用時に下部磁気シールド層6
等が更に帯電して、この電位差があるしきい値を越える
と、下部磁気シールド層6等に帯電していた静電荷が静
電気放電によって基板1へと移動し、基板1,下部磁気
シールド層6等が重大なダメージを受け、MRヘッドの
諸特性を著しく悪化させて、歩留りが低下して生産性に
欠けるとともに、MRヘッド使用時にこれを安定使用す
ることができず信頼性に欠けるという問題点を有してい
た。また、MRヘッド使用時に、電気抵抗体であるMR
素子4にセンス電流を流すため、MR素子4にジュール
熱が発生するが、このMR素子4の上下が熱伝導性の低
い絶縁層3で保護されており、MR素子4の両端部に薄
く熱容量の小さいリード部が接続されただけであるため
に、この熱をMR素子4から効率よく放熱させることが
できず、MR素子4の温度が上昇して、MR素子4のバ
イアス効果の低下や、MR素子4のインピーダンスの上
昇が生じ、MRヘッドの電気特性が劣化して信頼性に欠
けるという問題点を有していた。更に、万一MR素子4
に規定のセンス電流を大きく上回る過電流が流れた場合
に、MR素子4からの放熱効率が低いために、MR素子
4の温度及び電気抵抗値が急上昇して、いわゆる熱暴走
を起こし、MR素子4が溶断する等してMRヘッドが破
壊されて信頼性に欠けるという問題点を有していた。
【0007】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、MRヘッド製造時・使用時のMR素子等と下部磁気
シールド層等及び基板と下部磁気シールド層等間の静電
気放電を防止して、MRヘッドの歩留りを向上させるこ
とができ生産性に優れるとともに、MRヘッドを安定使
用することができ信頼性に優れ、MR素子からの放熱較
率を改善してMRヘッドの電気特性を向上させることが
できるとともに、万一MR素子に過電流が流れた場合で
あってもMRヘッドの破壊を防止できる信頼性に優れた
MRヘッドを提供することを目的とする。
で、MRヘッド製造時・使用時のMR素子等と下部磁気
シールド層等及び基板と下部磁気シールド層等間の静電
気放電を防止して、MRヘッドの歩留りを向上させるこ
とができ生産性に優れるとともに、MRヘッドを安定使
用することができ信頼性に優れ、MR素子からの放熱較
率を改善してMRヘッドの電気特性を向上させることが
できるとともに、万一MR素子に過電流が流れた場合で
あってもMRヘッドの破壊を防止できる信頼性に優れた
MRヘッドを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の請求項1に記載されたMRヘッドは、基板
と、基板上に積層される絶縁層と、絶縁層中に形成され
るMR素子と、MR素子の両端部に電気的に接続されて
MR素子へセンス電流を流すための2つのリード部と、
MR素子の上下に絶縁層を介して形成される磁気シール
ド層と、を有し磁気記録媒体と対向する面に露出するよ
うに形成されて磁気記録媒体のデータを再生するための
再生ヘッドと、磁性体からなり磁気ギャップ部が磁気記
録媒体と対向する面に露出するように形成される磁気コ
アを有し磁気記録媒体へデータを記録するための記録ヘ
ッドと、を備えた磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドであっ
て、2つの磁気シールド層,磁気コアの内少なくともい
ずれか1を2つのリード部の内いずれか1と接触させて
形成される接触部を備えた構成を有しており、請求項2
に記載されたMRヘッドは、請求項1において、磁気シ
ールド層,磁気コアの内少なくともいずれか1と接触さ
せた一方のリード部と、一方のリード部と接触されてい
ない磁気シールド層,磁気コアの内少なくともいずれか
1と接触させた他方のリード部と、磁気シールド層又は
磁気コアと電気的に接続されて2つのリード部へセンス
電流を流すための2つの電極部と、を備えた構成を有し
ており、請求項3に記載されたMRヘッドは、請求項1
または2の内いずれか1において、磁気コア,2つの磁
気シールド層の内少なくともいずれか1を磁気記録媒体
と対向しない面に露出させて形成される露出部と、所定
の電気抵抗を有する材料からなり磁気記録媒体と対向し
ない面に形成されて露出部と基板とを接触させるコーテ
ィング膜と、を備えた構成を有しており、請求項4に記
載されたMRヘッドは、請求項1または2の内いずれか
1において、所定の抵抗を有する材料よりなり基板上に
形成される電気接続層と、磁気コア,2つの磁気シール
ドの内少なくともいずれか1と電気接続層とを電気的に
導通させて形成される導通部と、を備えた構成を有して
いる。
に本発明の請求項1に記載されたMRヘッドは、基板
と、基板上に積層される絶縁層と、絶縁層中に形成され
るMR素子と、MR素子の両端部に電気的に接続されて
MR素子へセンス電流を流すための2つのリード部と、
MR素子の上下に絶縁層を介して形成される磁気シール
ド層と、を有し磁気記録媒体と対向する面に露出するよ
うに形成されて磁気記録媒体のデータを再生するための
再生ヘッドと、磁性体からなり磁気ギャップ部が磁気記
録媒体と対向する面に露出するように形成される磁気コ
アを有し磁気記録媒体へデータを記録するための記録ヘ
ッドと、を備えた磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドであっ
て、2つの磁気シールド層,磁気コアの内少なくともい
ずれか1を2つのリード部の内いずれか1と接触させて
形成される接触部を備えた構成を有しており、請求項2
に記載されたMRヘッドは、請求項1において、磁気シ
ールド層,磁気コアの内少なくともいずれか1と接触さ
せた一方のリード部と、一方のリード部と接触されてい
ない磁気シールド層,磁気コアの内少なくともいずれか
1と接触させた他方のリード部と、磁気シールド層又は
磁気コアと電気的に接続されて2つのリード部へセンス
電流を流すための2つの電極部と、を備えた構成を有し
ており、請求項3に記載されたMRヘッドは、請求項1
または2の内いずれか1において、磁気コア,2つの磁
気シールド層の内少なくともいずれか1を磁気記録媒体
と対向しない面に露出させて形成される露出部と、所定
の電気抵抗を有する材料からなり磁気記録媒体と対向し
ない面に形成されて露出部と基板とを接触させるコーテ
ィング膜と、を備えた構成を有しており、請求項4に記
載されたMRヘッドは、請求項1または2の内いずれか
1において、所定の抵抗を有する材料よりなり基板上に
形成される電気接続層と、磁気コア,2つの磁気シール
ドの内少なくともいずれか1と電気接続層とを電気的に
導通させて形成される導通部と、を備えた構成を有して
いる。
【0009】ここで、接触部の位置をMR素子に近く
し、接触部の広さを広くすると、MRヘッドの放熱効率
を向上させることができ信頼性の面から好ましい。ま
た、コーティング膜の材質及び、導通部の材質として
は、非磁性材料であり、かつ、非絶縁体である半導体系
材料,炭素系化合物等が好適に用いられる。
し、接触部の広さを広くすると、MRヘッドの放熱効率
を向上させることができ信頼性の面から好ましい。ま
た、コーティング膜の材質及び、導通部の材質として
は、非磁性材料であり、かつ、非絶縁体である半導体系
材料,炭素系化合物等が好適に用いられる。
【0010】
【作用】この構成によって、下部磁気シールド層,上部
磁気シールド層,磁気コアを2つのリード部の内いずれ
か1と接触させたことにより、下部磁気シールド等と2
つのリード部・MR素子が電気的に導通し、MRヘッド
製造時・使用時に下部磁気シールド等に帯電した静電荷
が、接地された2つのリード部へと漏洩するために、下
部シールド層等とリード部等との間の静電気放電を防止
でき、MRヘッドの歩留りを向上させることができると
ともに、MRヘッドを安定使用することができる。更
に、下部磁気シールド層等が極めて大きな熱容量を有し
ているために、MR素子で発生したジュール熱を接触部
を介して下部磁気シールド層等へ速やかに伝導させて、
放熱するために、放熱効率を著しく向上させて、MR素
子の温度上昇を防止してMRヘッドの電気特性を向上さ
せることができる。更に、万一MRヘッドに過電流が流
れた場合であっても、放熱効率が著しく高いために、M
R素子の溶断等のMRヘッドの破壊を防止することがで
きる。また、下部磁気シールド層等を、コーティング
膜,導通部を介して基板と接続したことによって、同様
に下部磁気シールド層等と基板との間の静電気放電を防
止でき、MRヘッドの歩留りを向上させることができる
とともに、MRヘッドを安定使用することができる。加
えて、コーティング膜,導通部が所定の抵抗値を有する
ことにより、放電の発生を防止することができる。ま
た、2つのリード部を下部磁気シールド層,上部シール
ド層,磁気コアの内別異のものに各々接触させ、下部磁
気シールド等の内リード部が接触しているものに、この
リード部にセンス電流を流すための2つの電極部を備え
たことにより、この下部磁気シールド等の断面積が薄い
リード部よりも極めて大きく、MRヘッドのセンス電流
に対する抵抗値を減少させるために、MRヘッドのイン
ピーダンスによるノイズを減少させて、データを正確に
再生することができる。
磁気シールド層,磁気コアを2つのリード部の内いずれ
か1と接触させたことにより、下部磁気シールド等と2
つのリード部・MR素子が電気的に導通し、MRヘッド
製造時・使用時に下部磁気シールド等に帯電した静電荷
が、接地された2つのリード部へと漏洩するために、下
部シールド層等とリード部等との間の静電気放電を防止
でき、MRヘッドの歩留りを向上させることができると
ともに、MRヘッドを安定使用することができる。更
に、下部磁気シールド層等が極めて大きな熱容量を有し
ているために、MR素子で発生したジュール熱を接触部
を介して下部磁気シールド層等へ速やかに伝導させて、
放熱するために、放熱効率を著しく向上させて、MR素
子の温度上昇を防止してMRヘッドの電気特性を向上さ
せることができる。更に、万一MRヘッドに過電流が流
れた場合であっても、放熱効率が著しく高いために、M
R素子の溶断等のMRヘッドの破壊を防止することがで
きる。また、下部磁気シールド層等を、コーティング
膜,導通部を介して基板と接続したことによって、同様
に下部磁気シールド層等と基板との間の静電気放電を防
止でき、MRヘッドの歩留りを向上させることができる
とともに、MRヘッドを安定使用することができる。加
えて、コーティング膜,導通部が所定の抵抗値を有する
ことにより、放電の発生を防止することができる。ま
た、2つのリード部を下部磁気シールド層,上部シール
ド層,磁気コアの内別異のものに各々接触させ、下部磁
気シールド等の内リード部が接触しているものに、この
リード部にセンス電流を流すための2つの電極部を備え
たことにより、この下部磁気シールド等の断面積が薄い
リード部よりも極めて大きく、MRヘッドのセンス電流
に対する抵抗値を減少させるために、MRヘッドのイン
ピーダンスによるノイズを減少させて、データを正確に
再生することができる。
【0011】
(実施例1)以下本発明の第1の実施例におけるMRヘ
ッドについて、図面を参照しながら説明する。図1
(a)は本発明の第1の実施例におけるMRヘッドの要
部平面透視図であり、図1(b)は本発明の第1の実施
例におけるMRヘッドの要部側面透視図である。1は基
板、2は下地絶縁層、3は絶縁層、4はMR素子、4a
はMR素子露出部、6は下部磁気シールド層、6aは下
部磁気シールド層露出部、9は磁気コア、9aは磁気コ
ア露出部、10は磁気ギャップ、12は導体コイル、A
は磁気記録媒体対向面であり、これらは従来例と同様な
もので同一の符号を付し説明を省略する。13はMR素
子4にセンス電流を流すためのリード層、13aはリー
ド層13を構成しMR素子4の片端部と電気的に接続さ
れる第1のリード部、13a′は第1のリード部13a
が磁気記録媒体対向面Aに露出した部分を示す第1のリ
ード部露出部、13bはリード層13を構成しMR素子
4の他端部と電気的に接続されるとともに接触部Bによ
って下部磁気シールド層6と接触するように形成された
第2のリード部、13b′は第1のリード部露出部13
a′と同様な第2のリード部露出部、14はMR素子
4,リード層13の上部に絶縁層3を介して積層される
とともに接触部Cによって第1のリード部13aと接触
するように形成された上部磁気シールド層、14aは上
部磁気シールド層14が磁気記録媒体対向面Aに露出す
る部分を示す上部磁気シールド層露出部、15は上部磁
気シールド層14上に絶縁層3を介して積層されるとと
もに接触部Dによって第1のリード部13aと接触する
ように形成された磁気コア、15aは磁気コア15が磁
気記録媒体対向面Aに露出した部分を示す磁気コア露出
部、16は磁気コア9,15からなり磁気記録媒体(図
示せず)へデータを記録するための記録コア、EはMR
ヘッドの側面、HはMRヘッドの高さ方向である。
ッドについて、図面を参照しながら説明する。図1
(a)は本発明の第1の実施例におけるMRヘッドの要
部平面透視図であり、図1(b)は本発明の第1の実施
例におけるMRヘッドの要部側面透視図である。1は基
板、2は下地絶縁層、3は絶縁層、4はMR素子、4a
はMR素子露出部、6は下部磁気シールド層、6aは下
部磁気シールド層露出部、9は磁気コア、9aは磁気コ
ア露出部、10は磁気ギャップ、12は導体コイル、A
は磁気記録媒体対向面であり、これらは従来例と同様な
もので同一の符号を付し説明を省略する。13はMR素
子4にセンス電流を流すためのリード層、13aはリー
ド層13を構成しMR素子4の片端部と電気的に接続さ
れる第1のリード部、13a′は第1のリード部13a
が磁気記録媒体対向面Aに露出した部分を示す第1のリ
ード部露出部、13bはリード層13を構成しMR素子
4の他端部と電気的に接続されるとともに接触部Bによ
って下部磁気シールド層6と接触するように形成された
第2のリード部、13b′は第1のリード部露出部13
a′と同様な第2のリード部露出部、14はMR素子
4,リード層13の上部に絶縁層3を介して積層される
とともに接触部Cによって第1のリード部13aと接触
するように形成された上部磁気シールド層、14aは上
部磁気シールド層14が磁気記録媒体対向面Aに露出す
る部分を示す上部磁気シールド層露出部、15は上部磁
気シールド層14上に絶縁層3を介して積層されるとと
もに接触部Dによって第1のリード部13aと接触する
ように形成された磁気コア、15aは磁気コア15が磁
気記録媒体対向面Aに露出した部分を示す磁気コア露出
部、16は磁気コア9,15からなり磁気記録媒体(図
示せず)へデータを記録するための記録コア、EはMR
ヘッドの側面、HはMRヘッドの高さ方向である。
【0012】以上のように構成された本発明の第1の実
施例におけるMRヘッドについて、以下その製造方法を
説明する。初めに、Al2O3/TiC等から基板1を作
製し、これを予め接地された治具(図示せず)に直接あ
るいはサスペンション(図示せず)を介して固定する。
次に、この基板1上に、下地絶縁層2,絶縁層3,下部
磁気シールド層6を順次積層する。次に、下部磁気シー
ルド層6上にMR素子4,リード層13,磁気コア9,
15,導体コイル12等を順次積層する。ここで、下部
磁気シールド層6,リード層13,磁気コア9,15を
接触部B,C,Dを介して接触させる。また、この際
に、下部磁気シールド層6等が工程中の浮遊電荷等によ
り帯電していく。次に、リード層13と電気的に接続さ
れてMRヘッドの側面Eに露出するように形成された電
極部(図示せず)にリードワイヤ(図示せず)を接続す
る。次に、リードワイヤ(図示せず)を接地する。ここ
で、下部磁気シールド層6等が接触部B,C,Dを介し
てリード層13と電気的に接触しているために、下部磁
気シールド層6等に帯電している静電荷は、接触部B,
C,D,リード層13,リードワイヤ(図示せず)を介
して速やかに接地側に漏洩して、リード層13,MR素
子4と、下部磁気シールド層6,上部磁気シールド層1
4,磁気コア9,15との間の静電気放電を防止するこ
とができ、歩留りを向上させることができる。
施例におけるMRヘッドについて、以下その製造方法を
説明する。初めに、Al2O3/TiC等から基板1を作
製し、これを予め接地された治具(図示せず)に直接あ
るいはサスペンション(図示せず)を介して固定する。
次に、この基板1上に、下地絶縁層2,絶縁層3,下部
磁気シールド層6を順次積層する。次に、下部磁気シー
ルド層6上にMR素子4,リード層13,磁気コア9,
15,導体コイル12等を順次積層する。ここで、下部
磁気シールド層6,リード層13,磁気コア9,15を
接触部B,C,Dを介して接触させる。また、この際
に、下部磁気シールド層6等が工程中の浮遊電荷等によ
り帯電していく。次に、リード層13と電気的に接続さ
れてMRヘッドの側面Eに露出するように形成された電
極部(図示せず)にリードワイヤ(図示せず)を接続す
る。次に、リードワイヤ(図示せず)を接地する。ここ
で、下部磁気シールド層6等が接触部B,C,Dを介し
てリード層13と電気的に接触しているために、下部磁
気シールド層6等に帯電している静電荷は、接触部B,
C,D,リード層13,リードワイヤ(図示せず)を介
して速やかに接地側に漏洩して、リード層13,MR素
子4と、下部磁気シールド層6,上部磁気シールド層1
4,磁気コア9,15との間の静電気放電を防止するこ
とができ、歩留りを向上させることができる。
【0013】以上のように製造されるMRヘッドについ
て、以下その動作を説明する。MRヘッドを用いて記録
・再生動作,CSS動作を行うと、MRヘッドと磁気記
録媒体(図示せず)とが接触・摩擦・衝突等することに
よって、下部磁気シールド層6等が帯電する。しかし、
下部磁気シールド層6等が接触部B等を介して電気的に
接触しているために、下部磁気シールド層6等に帯電し
た電荷が接触部B等,リード層13,リードワイヤ(図
示せず)を介して速やかに接地側に漏洩して、リード層
13,MR素子4と、下部磁気シールド層6,上部磁気
シールド層14,磁気コア9,15との間の静電気放電
を防止することができる。また、MRヘッドによる記録
・再生動作時には、センス電流がリード層13から電気
抵抗体であるMR素子4へ流されて、ジュール熱が発生
する。しかし、リード層13に、熱伝導率がリード層1
3と同等で、熱容量がリード層13よりも極めて大きな
下部磁気シールド層6等が接触部B等を介して接触して
いるために、この熱が下部磁気シールド層6等へと速や
かに伝導し、下部磁気シールド層6等から高い効率で放
熱されるために、MRヘッドの放熱効率を著しく向上さ
せることができ、MR素子4の温度上昇を防止して、M
Rヘッドの電気特性を向上させることができる。また、
万一MRヘッドに過電流が流れた場合であっても、MR
ヘッドの放熱効率が著しく高いために、MR素子4の溶
断等の、MRヘッドの破壊を防止することができる。
て、以下その動作を説明する。MRヘッドを用いて記録
・再生動作,CSS動作を行うと、MRヘッドと磁気記
録媒体(図示せず)とが接触・摩擦・衝突等することに
よって、下部磁気シールド層6等が帯電する。しかし、
下部磁気シールド層6等が接触部B等を介して電気的に
接触しているために、下部磁気シールド層6等に帯電し
た電荷が接触部B等,リード層13,リードワイヤ(図
示せず)を介して速やかに接地側に漏洩して、リード層
13,MR素子4と、下部磁気シールド層6,上部磁気
シールド層14,磁気コア9,15との間の静電気放電
を防止することができる。また、MRヘッドによる記録
・再生動作時には、センス電流がリード層13から電気
抵抗体であるMR素子4へ流されて、ジュール熱が発生
する。しかし、リード層13に、熱伝導率がリード層1
3と同等で、熱容量がリード層13よりも極めて大きな
下部磁気シールド層6等が接触部B等を介して接触して
いるために、この熱が下部磁気シールド層6等へと速や
かに伝導し、下部磁気シールド層6等から高い効率で放
熱されるために、MRヘッドの放熱効率を著しく向上さ
せることができ、MR素子4の温度上昇を防止して、M
Rヘッドの電気特性を向上させることができる。また、
万一MRヘッドに過電流が流れた場合であっても、MR
ヘッドの放熱効率が著しく高いために、MR素子4の溶
断等の、MRヘッドの破壊を防止することができる。
【0014】以上のように本実施例によれば、下部磁気
シールド層6,上部磁気シールド層14,磁気コア9,
15を、リード層13と接触部B,C,Dを介して接触
させることによって、MRヘッド製造時に下部磁気シー
ルド層6等に帯電した電荷を速やかに接地側へ漏洩さ
せ、静電気放電を防止して歩留りを向上させることがで
きるとともに、MRヘッド使用時にも、同様に静電気放
電を防止してMRヘッドを安定使用することができる。
加えて、下部磁気シールド層6等が極めて大きな熱容量
を有しているために、MR素子4で発生したジュール熱
を接触部B等を介して下部磁気シールド層6等へ速やか
に伝導させて、放熱するために、放熱効率を著しく向上
させて、MR素子4の温度上昇を防止してMRヘッドの
電気特性を向上させることができる。更に、万一MRヘ
ッドに過電流が流れた場合であっても、放熱効率が著し
く高いために、MR素子4の溶断等のMRヘッドの破壊
を防止することができる。
シールド層6,上部磁気シールド層14,磁気コア9,
15を、リード層13と接触部B,C,Dを介して接触
させることによって、MRヘッド製造時に下部磁気シー
ルド層6等に帯電した電荷を速やかに接地側へ漏洩さ
せ、静電気放電を防止して歩留りを向上させることがで
きるとともに、MRヘッド使用時にも、同様に静電気放
電を防止してMRヘッドを安定使用することができる。
加えて、下部磁気シールド層6等が極めて大きな熱容量
を有しているために、MR素子4で発生したジュール熱
を接触部B等を介して下部磁気シールド層6等へ速やか
に伝導させて、放熱するために、放熱効率を著しく向上
させて、MR素子4の温度上昇を防止してMRヘッドの
電気特性を向上させることができる。更に、万一MRヘ
ッドに過電流が流れた場合であっても、放熱効率が著し
く高いために、MR素子4の溶断等のMRヘッドの破壊
を防止することができる。
【0015】(実施例2)以下本発明の第2の実施例に
おけるMRヘッドについて、図面を参照しながら説明す
る。図2(a)は本発明の第2の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図であり、図2(b)は本発明の第
2の実施例におけるMRヘッドの要部側面透視図であ
る。1は基板、2は下地絶縁層、3は絶縁層、4はMR
素子、4aはMR素子露出部、9,15は磁気コア、9
a,15aは磁気コア露出部、10は磁気ギャップ、1
2は導体コイル、16は記録コア、Aは磁気記録媒体対
向面、B,C,Dは接触部、Eは側面、Hは高さ方向で
あり、これらは実施例1と同様なものなので同一の符号
を付し説明を省略する。17は下地絶縁層2上に積層さ
れるとともに電極部(図示せず)が形成されてMR素子
4へセンス電流を流す回路の一部としても用いられる下
部磁気シールド層、17aは下部磁気シールド層17が
磁気記録媒体対向面Aに露出する部分を表す下部磁気シ
ールド層露出部、18は下部磁気シールド層17上に絶
縁層3を介して積層されてMR素子4にセンス電流を流
すためのリード層、18aはリード層18を構成しMR
素子4の端部と電気的に接続される第1のリード部、1
8a′は第1のリード部18aが磁気記録媒体対向面A
に露出する部分を示す第1のリード部露出部、18bは
片端部がMR素子4の端部と電気的に接続されるととも
に他端部が接触部Bを介して下部磁気シールド層17と
電気的に接続された第2のリード部、18b′は第1の
リード部露出部18a′と同様な第2のリード部露出
部、19はリード層18,MR素子4上に絶縁層3を介
して積層されるとともに電極部(図示せず)が形成され
て接触部Cを介して第1のリード部18aと電気的に接
続されてMR素子4へセンス電流を流す回路の一部とし
ても用いられる上部磁気シールド層、19aは下部磁気
シールド層露出部17aと同様な上部磁気シールド層露
出部である。
おけるMRヘッドについて、図面を参照しながら説明す
る。図2(a)は本発明の第2の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図であり、図2(b)は本発明の第
2の実施例におけるMRヘッドの要部側面透視図であ
る。1は基板、2は下地絶縁層、3は絶縁層、4はMR
素子、4aはMR素子露出部、9,15は磁気コア、9
a,15aは磁気コア露出部、10は磁気ギャップ、1
2は導体コイル、16は記録コア、Aは磁気記録媒体対
向面、B,C,Dは接触部、Eは側面、Hは高さ方向で
あり、これらは実施例1と同様なものなので同一の符号
を付し説明を省略する。17は下地絶縁層2上に積層さ
れるとともに電極部(図示せず)が形成されてMR素子
4へセンス電流を流す回路の一部としても用いられる下
部磁気シールド層、17aは下部磁気シールド層17が
磁気記録媒体対向面Aに露出する部分を表す下部磁気シ
ールド層露出部、18は下部磁気シールド層17上に絶
縁層3を介して積層されてMR素子4にセンス電流を流
すためのリード層、18aはリード層18を構成しMR
素子4の端部と電気的に接続される第1のリード部、1
8a′は第1のリード部18aが磁気記録媒体対向面A
に露出する部分を示す第1のリード部露出部、18bは
片端部がMR素子4の端部と電気的に接続されるととも
に他端部が接触部Bを介して下部磁気シールド層17と
電気的に接続された第2のリード部、18b′は第1の
リード部露出部18a′と同様な第2のリード部露出
部、19はリード層18,MR素子4上に絶縁層3を介
して積層されるとともに電極部(図示せず)が形成され
て接触部Cを介して第1のリード部18aと電気的に接
続されてMR素子4へセンス電流を流す回路の一部とし
ても用いられる上部磁気シールド層、19aは下部磁気
シールド層露出部17aと同様な上部磁気シールド層露
出部である。
【0016】以上のように構成された本発明の第2の実
施例におけるMRヘッドについて、以下その動作を説明
する。MRヘッドの記録・再生動作時には、電極部(図
示せず)からセンス電流が下部磁気シールド層17,上
部磁気シールド層19を通り接触部B,Cを介して第1
のリード部18a,第2のリード部18bからMR素子
4へ流されて、記録・再生動作を行う。この下部磁気シ
ールド層17等の断面積が第1のリード部18a等の断
面積よりも極めて大きいために、MRヘッドのセンス電
流に対する抵抗値を低下させることができ、MRヘッド
のインピーダンスによるノイズを低減させて、磁気記録
媒体(図示せず)の情報を正確に再生することができ
る。
施例におけるMRヘッドについて、以下その動作を説明
する。MRヘッドの記録・再生動作時には、電極部(図
示せず)からセンス電流が下部磁気シールド層17,上
部磁気シールド層19を通り接触部B,Cを介して第1
のリード部18a,第2のリード部18bからMR素子
4へ流されて、記録・再生動作を行う。この下部磁気シ
ールド層17等の断面積が第1のリード部18a等の断
面積よりも極めて大きいために、MRヘッドのセンス電
流に対する抵抗値を低下させることができ、MRヘッド
のインピーダンスによるノイズを低減させて、磁気記録
媒体(図示せず)の情報を正確に再生することができ
る。
【0017】以上のように本実施例によれば、下部磁気
シールド層17と第2のリード部18b,上部磁気シー
ルド層19と第1のリード部18aとをそれぞれ接触部
B,Cを介して電気的に接続し、下部磁気シールド層1
7等を通してMR素子4にセンス電流を流すことによっ
て、MRヘッドのセンス電流に対する抵抗値を減少さ
せ、ノイズの発生を防止することができる。
シールド層17と第2のリード部18b,上部磁気シー
ルド層19と第1のリード部18aとをそれぞれ接触部
B,Cを介して電気的に接続し、下部磁気シールド層1
7等を通してMR素子4にセンス電流を流すことによっ
て、MRヘッドのセンス電流に対する抵抗値を減少さ
せ、ノイズの発生を防止することができる。
【0018】尚、本実施例においては、センス電流を下
部磁気シールド層17,上部磁気シールド層19を通し
て流すようにしたが、このいずれか一方を磁気コア15
を通るように変更してもよい。
部磁気シールド層17,上部磁気シールド層19を通し
て流すようにしたが、このいずれか一方を磁気コア15
を通るように変更してもよい。
【0019】(実施例3)以下本発明の第3の実施例に
おけるMRヘッドについて、図面を参照しながら説明す
る。図3(a)は本発明の第3の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図であり、図3(b)は本発明の第
3の実施例におけるMRヘッドの要部側面透視図であ
る。1は基板、2は下地絶縁層、3は絶縁層、9は磁気
コア、9aは磁気コア露出部、10は磁気ギャップ、1
2は導体コイル、18aは第1のリード部、18a′は
第1のリード部露出部、18bは第2のリード部、18
b′は第2のリード部露出部、19は上部磁気シールド
層、19aは上部磁気シールド層露出部、Aは磁気記録
媒体対向面、B,Cは接触部、Eは側面、Hは高さ方向
であり、これらは実施例2と同様なものなので同一の符
号を付し説明を省略する。20は下地絶縁層2上に積層
されるとともに一端部をMRヘッドの磁気記録媒体対向
面A以外の面(ここでは、例としてMRヘッドの背面F
とする)から露出させて露出部Gを形成させた下部磁気
シールド層、20aは下部磁気シールド層20が磁気記
録媒体対向面Aに露出した部分を示す下部磁気シールド
層露出部、21は上部磁気シールド層19上に絶縁層3
を介して積層されるとともに一端部をMRヘッドの背面
Fから露出させて露出部Iを形成させた磁気コア、22
は磁気コア9,21からなり磁気記録媒体(図示せず)
に情報を記録するための記録コア、23は所定の抵抗値
を有する材料からなりMRヘッドの背面Fを被覆して露
出部G,Iと基板1のMRヘッドの背面Fへの露出部J
とを電気的に導通させるコーティング膜である。
おけるMRヘッドについて、図面を参照しながら説明す
る。図3(a)は本発明の第3の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図であり、図3(b)は本発明の第
3の実施例におけるMRヘッドの要部側面透視図であ
る。1は基板、2は下地絶縁層、3は絶縁層、9は磁気
コア、9aは磁気コア露出部、10は磁気ギャップ、1
2は導体コイル、18aは第1のリード部、18a′は
第1のリード部露出部、18bは第2のリード部、18
b′は第2のリード部露出部、19は上部磁気シールド
層、19aは上部磁気シールド層露出部、Aは磁気記録
媒体対向面、B,Cは接触部、Eは側面、Hは高さ方向
であり、これらは実施例2と同様なものなので同一の符
号を付し説明を省略する。20は下地絶縁層2上に積層
されるとともに一端部をMRヘッドの磁気記録媒体対向
面A以外の面(ここでは、例としてMRヘッドの背面F
とする)から露出させて露出部Gを形成させた下部磁気
シールド層、20aは下部磁気シールド層20が磁気記
録媒体対向面Aに露出した部分を示す下部磁気シールド
層露出部、21は上部磁気シールド層19上に絶縁層3
を介して積層されるとともに一端部をMRヘッドの背面
Fから露出させて露出部Iを形成させた磁気コア、22
は磁気コア9,21からなり磁気記録媒体(図示せず)
に情報を記録するための記録コア、23は所定の抵抗値
を有する材料からなりMRヘッドの背面Fを被覆して露
出部G,Iと基板1のMRヘッドの背面Fへの露出部J
とを電気的に導通させるコーティング膜である。
【0020】以上のように構成された本発明の第3の実
施例におけるMRヘッドについて、以下その製造方法を
説明する。初めに、予め接地された治具(図示せず)に
直接あるいはサスペンション(図示せず)を介して基板
1を固定する。次に、基板1上に下地絶縁層2,絶縁層
3,下部磁気シールド層20等を順次積層する。次に、
MRヘッドの背面Fにコーティング膜23を被覆して、
露出部G,I,Jを電気的に導通させる。この時、下部
磁気シールド層20,リード層18,MR素子4,上部
磁気シールド層19,磁気コア9,21の形成時等に、
下部磁気シールド層20等に侵入した電荷は、接触部
B,C,露出部G,Iを介してコーティング膜23へ移
動し、更に露出部Jを介して、接地された治具に固定さ
れている基板1へと移動する。そしてこの電荷が接地部
(図示せず)から漏洩されるために、基板1と下部磁気
シールド層20等との間の静電気放電を防止することが
できる。次に、下部磁気シールド層20と上部磁気シー
ルド層19の電極部(図示せず)にリードワイヤを接続
し、これらを接地する。ここで、基板1,下部磁気シー
ルド層20等が接触部B,C,露出部I,G及びコーテ
ィング膜23を介して電気的に導通しているために、リ
ード層18,MR素子4等と基板1,下部磁気シールド
層20等との間の静電気放電を防止することができる。
施例におけるMRヘッドについて、以下その製造方法を
説明する。初めに、予め接地された治具(図示せず)に
直接あるいはサスペンション(図示せず)を介して基板
1を固定する。次に、基板1上に下地絶縁層2,絶縁層
3,下部磁気シールド層20等を順次積層する。次に、
MRヘッドの背面Fにコーティング膜23を被覆して、
露出部G,I,Jを電気的に導通させる。この時、下部
磁気シールド層20,リード層18,MR素子4,上部
磁気シールド層19,磁気コア9,21の形成時等に、
下部磁気シールド層20等に侵入した電荷は、接触部
B,C,露出部G,Iを介してコーティング膜23へ移
動し、更に露出部Jを介して、接地された治具に固定さ
れている基板1へと移動する。そしてこの電荷が接地部
(図示せず)から漏洩されるために、基板1と下部磁気
シールド層20等との間の静電気放電を防止することが
できる。次に、下部磁気シールド層20と上部磁気シー
ルド層19の電極部(図示せず)にリードワイヤを接続
し、これらを接地する。ここで、基板1,下部磁気シー
ルド層20等が接触部B,C,露出部I,G及びコーテ
ィング膜23を介して電気的に導通しているために、リ
ード層18,MR素子4等と基板1,下部磁気シールド
層20等との間の静電気放電を防止することができる。
【0021】以上のように本実施例によれば、下部磁気
シールド層20,磁気コア21等をMRヘッドの背面F
等に露出させて露出部G,Iを形成し、これらと基板1
の露出部Jとをコーティング膜23で被覆して電気的に
導通させることで、MRヘッド製造時の基板1と下部磁
気シールド層20等との間の静電気放電を防止して、M
Rヘッドの歩留りを向上させることができ生産性に優れ
るとともに、MRヘッド使用時に同様に基板1と下部磁
気シールド層20等との間の静電気放電を防止して、M
Rヘッドを安定使用することができ信頼性を向上させる
ことができる。
シールド層20,磁気コア21等をMRヘッドの背面F
等に露出させて露出部G,Iを形成し、これらと基板1
の露出部Jとをコーティング膜23で被覆して電気的に
導通させることで、MRヘッド製造時の基板1と下部磁
気シールド層20等との間の静電気放電を防止して、M
Rヘッドの歩留りを向上させることができ生産性に優れ
るとともに、MRヘッド使用時に同様に基板1と下部磁
気シールド層20等との間の静電気放電を防止して、M
Rヘッドを安定使用することができ信頼性を向上させる
ことができる。
【0022】尚、本実施例においては、磁気コア21の
一部をMRヘッドの背面に露出させて、露出部I,J,
コーティング膜23を介して基板1と磁気コア21とを
電気的に導通させているが、磁気コア21を実施例2に
示すように第1のリード部18aと接触部Dを介して接
触させ、接触部B,D,リード層18,MR素子4,下
部磁気シールド層20,露出部G,J,コーティング膜
23を介して基板1と磁気コア21とを電気的に導通さ
せてもよい。また、MR素子4に上部磁気シールド層1
9,下部磁気シールド層20を介してセンス電流を流し
ているが、これは実施例1に示すように、リード層13
から直接センス電流を流してもよい。またコーティング
膜23,露出部G等をMRヘッドの背面Fに形成してい
るが、これは磁気記録媒体対向面A以外であれば、MR
ヘッドのどの面に形成してもよい。
一部をMRヘッドの背面に露出させて、露出部I,J,
コーティング膜23を介して基板1と磁気コア21とを
電気的に導通させているが、磁気コア21を実施例2に
示すように第1のリード部18aと接触部Dを介して接
触させ、接触部B,D,リード層18,MR素子4,下
部磁気シールド層20,露出部G,J,コーティング膜
23を介して基板1と磁気コア21とを電気的に導通さ
せてもよい。また、MR素子4に上部磁気シールド層1
9,下部磁気シールド層20を介してセンス電流を流し
ているが、これは実施例1に示すように、リード層13
から直接センス電流を流してもよい。またコーティング
膜23,露出部G等をMRヘッドの背面Fに形成してい
るが、これは磁気記録媒体対向面A以外であれば、MR
ヘッドのどの面に形成してもよい。
【0023】(実施例4)以下本発明の第4の実施例に
おけるMRヘッドについて、図面を参照しながら説明す
る。図4(a)は本発明の第4の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図であり、図4(b)は本発明の第
4の実施例におけるMRヘッドの要部側面透視図であ
る。1は基板、2は下地絶縁層、4はMR素子、4aは
MR素子露出部、9,15は磁気コア、10は磁気ギャ
ップ、12は導体コイル、16は記録コア、17は下部
磁気シールド層、17aは下部磁気シールド層露出部、
18はリード層、18aは第1のリード部、18a′は
第1のリード部露出部、18bは第2のリード部、18
b′は第2のリード部露出部、19は上部磁気シールド
層、Aは磁気記録媒体対向面、B,C,Dは接触部、E
は側面、Hは高さ方向であり、これらは実施例2と同様
なものなので同一の符号を付し説明を省略する。24は
所定の電気抵抗値を有する材料よりなり基板1上に積層
されて基板1と下部磁気シールド層17とを導通部K,
Lを介して電気的に導通させる電気接続部である。
おけるMRヘッドについて、図面を参照しながら説明す
る。図4(a)は本発明の第4の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図であり、図4(b)は本発明の第
4の実施例におけるMRヘッドの要部側面透視図であ
る。1は基板、2は下地絶縁層、4はMR素子、4aは
MR素子露出部、9,15は磁気コア、10は磁気ギャ
ップ、12は導体コイル、16は記録コア、17は下部
磁気シールド層、17aは下部磁気シールド層露出部、
18はリード層、18aは第1のリード部、18a′は
第1のリード部露出部、18bは第2のリード部、18
b′は第2のリード部露出部、19は上部磁気シールド
層、Aは磁気記録媒体対向面、B,C,Dは接触部、E
は側面、Hは高さ方向であり、これらは実施例2と同様
なものなので同一の符号を付し説明を省略する。24は
所定の電気抵抗値を有する材料よりなり基板1上に積層
されて基板1と下部磁気シールド層17とを導通部K,
Lを介して電気的に導通させる電気接続部である。
【0024】以上のように構成された本発明の第4の実
施例におけるMRヘッドについて、以下その製造方法を
説明する。初めに、基板1を、予め接地された治具(図
示せず)に直接またはサスペンション(図示せず)を介
して固定する。次に、基板1上に下地絶縁層2を積層す
る。次に、基板1の導通部K上に所定の電気抵抗値を有
する材料よりなる電気接続部24を形成する。次に、下
地絶縁層2上に、下部磁気シールド層17を導通部Lを
介して電気接続部24と電気的に導通するように積層す
る。次に、下部磁気シールド層17上に、絶縁層3を介
してリード層18等を順次積層する。ここで、下部磁気
シールド層17,リード層18等の積層時に、これらに
電荷が侵入した場合であっても、これらが接触部B,
C,D,導通部K,L,電気接続部24等を介して基板
1と電気的に導通しているために、この電荷が接触部B
等を介して基板1へと流れ、基板1の接地部(図示せ
ず)から漏洩するために、基板1と下部磁気シールド層
17等との間の静電気放電を防止することができる。次
に、下部磁気シールド層17,上部磁気シールド層19
の電極部(図示せず)にリードワイヤ(図示せず)を接
続する。次に、リードワイヤ(図示せず)を接地する。
ここで、磁気コア15等が接触部D等を介して接地され
た基板1と導通しているために、上部磁気シールド層1
9等と磁気コア15等との間の静電気放電を防止するこ
とができる。
施例におけるMRヘッドについて、以下その製造方法を
説明する。初めに、基板1を、予め接地された治具(図
示せず)に直接またはサスペンション(図示せず)を介
して固定する。次に、基板1上に下地絶縁層2を積層す
る。次に、基板1の導通部K上に所定の電気抵抗値を有
する材料よりなる電気接続部24を形成する。次に、下
地絶縁層2上に、下部磁気シールド層17を導通部Lを
介して電気接続部24と電気的に導通するように積層す
る。次に、下部磁気シールド層17上に、絶縁層3を介
してリード層18等を順次積層する。ここで、下部磁気
シールド層17,リード層18等の積層時に、これらに
電荷が侵入した場合であっても、これらが接触部B,
C,D,導通部K,L,電気接続部24等を介して基板
1と電気的に導通しているために、この電荷が接触部B
等を介して基板1へと流れ、基板1の接地部(図示せ
ず)から漏洩するために、基板1と下部磁気シールド層
17等との間の静電気放電を防止することができる。次
に、下部磁気シールド層17,上部磁気シールド層19
の電極部(図示せず)にリードワイヤ(図示せず)を接
続する。次に、リードワイヤ(図示せず)を接地する。
ここで、磁気コア15等が接触部D等を介して接地され
た基板1と導通しているために、上部磁気シールド層1
9等と磁気コア15等との間の静電気放電を防止するこ
とができる。
【0025】以上のように製造される本発明の第4の実
施例におけるMRヘッドについて、以下その動作を説明
する。MRヘッド使用時に、MRヘッドと磁気記録媒体
(図示せず)との接触等によって、下部磁気シールド層
17,上部磁気シールド層19,磁気コア9,15等に
電荷が侵入した場合であっても、これらが接触部B,
C,Dを介して電気的に導通されているとともに、導通
部K,L,電気接続部24を介して基板1と電気的に導
通されているために、侵入した電荷はこれらを介して基
板1あるいは下部磁気シールド層17,上部磁気シール
ド層19の電極部(図示せず)から漏洩して、リード層
18等と、下部磁気シールド層17等と、磁気コア15
等と、基板1との間の静電気放電を防止することができ
る。
施例におけるMRヘッドについて、以下その動作を説明
する。MRヘッド使用時に、MRヘッドと磁気記録媒体
(図示せず)との接触等によって、下部磁気シールド層
17,上部磁気シールド層19,磁気コア9,15等に
電荷が侵入した場合であっても、これらが接触部B,
C,Dを介して電気的に導通されているとともに、導通
部K,L,電気接続部24を介して基板1と電気的に導
通されているために、侵入した電荷はこれらを介して基
板1あるいは下部磁気シールド層17,上部磁気シール
ド層19の電極部(図示せず)から漏洩して、リード層
18等と、下部磁気シールド層17等と、磁気コア15
等と、基板1との間の静電気放電を防止することができ
る。
【0026】以上のように本実施例によれば、基板1と
下部磁気シールド層17とを導通部K,L、電気接続部
24を介して電気的に導通させて、更にこの下部磁気シ
ールド層17とリード層18等を接触部B,C,Dを介
して電気的に導通させることによって、MRヘッド製造
時の基板1と、下部磁気シールド層17等と、磁気コア
15等との間の静電気放電を防止してMRヘッドの歩留
りを向上させることができるとともに、MRヘッド使用
時にも同様に基板1と下部磁気シールド層17等との間
の静電気放電を防止してMRヘッドを安定使用すること
ができる。
下部磁気シールド層17とを導通部K,L、電気接続部
24を介して電気的に導通させて、更にこの下部磁気シ
ールド層17とリード層18等を接触部B,C,Dを介
して電気的に導通させることによって、MRヘッド製造
時の基板1と、下部磁気シールド層17等と、磁気コア
15等との間の静電気放電を防止してMRヘッドの歩留
りを向上させることができるとともに、MRヘッド使用
時にも同様に基板1と下部磁気シールド層17等との間
の静電気放電を防止してMRヘッドを安定使用すること
ができる。
【0027】尚、本実施例においては、MR素子4にセ
ンス電流を下部磁気シールド層17,上部磁気シールド
層19を介して流しているが、これは、実施例1に示す
ように、リード層13から直接センス電流を流してもよ
い。
ンス電流を下部磁気シールド層17,上部磁気シールド
層19を介して流しているが、これは、実施例1に示す
ように、リード層13から直接センス電流を流してもよ
い。
【0028】以上のように構成された本発明のMRヘッ
ドと、従来のMRヘッドについて性能比較試験を行っ
た。以下その結果について説明する。
ドと、従来のMRヘッドについて性能比較試験を行っ
た。以下その結果について説明する。
【0029】(実験例1)本発明の第2の実施例におけ
るMRヘッドを用いて、その製造時・動作時の静電気放
電による不良発生率を測定して、静電破壊試験を行っ
た。その結果を図5に示す。図5は静電破壊試験の結果
を示す表である。工程Aはワイヤーのボンディング及び
ワイヤーの樹脂固定を行う工程であり、工程Bはスライ
ダーの組み立てを行う工程であり、工程CはMRヘッド
の静特性評価を行う工程であり、動作AはMRヘッドと
磁気記録媒体(図示せず)との接触・浮上動作を1時間
行うものであり、動作BはMRヘッドの浮上量の測定を
行うものである。
るMRヘッドを用いて、その製造時・動作時の静電気放
電による不良発生率を測定して、静電破壊試験を行っ
た。その結果を図5に示す。図5は静電破壊試験の結果
を示す表である。工程Aはワイヤーのボンディング及び
ワイヤーの樹脂固定を行う工程であり、工程Bはスライ
ダーの組み立てを行う工程であり、工程CはMRヘッド
の静特性評価を行う工程であり、動作AはMRヘッドと
磁気記録媒体(図示せず)との接触・浮上動作を1時間
行うものであり、動作BはMRヘッドの浮上量の測定を
行うものである。
【0030】(実験例2)本発明の第3の実施例におけ
るMRヘッドを用いた他は、実験例1と同様にして静電
破壊試験を行った。その結果を図5に示す。
るMRヘッドを用いた他は、実験例1と同様にして静電
破壊試験を行った。その結果を図5に示す。
【0031】(実験例3)本発明の第4の実施例におけ
るMRヘッドを用いた他は、実験例1と同様にして静電
破壊試験を行った。その結果を図5に示す。
るMRヘッドを用いた他は、実験例1と同様にして静電
破壊試験を行った。その結果を図5に示す。
【0032】(比較例1)従来のMRヘッドを用いた他
は、実験例1と同様にして静電破壊試験を行った。その
結果を図5に示す。
は、実験例1と同様にして静電破壊試験を行った。その
結果を図5に示す。
【0033】ここで、試験時の環境を同一にするため
に、実験例1乃至3及び比較例1は同時に試験を行っ
た。また、浮遊電荷による影響を小さくするために、試
験者は人体をアースに接地して試験を行った。
に、実験例1乃至3及び比較例1は同時に試験を行っ
た。また、浮遊電荷による影響を小さくするために、試
験者は人体をアースに接地して試験を行った。
【0034】(実験例4)本発明の第2の実施例におけ
るMRヘッドを用い、MRヘッドに外部から侵入した電
荷の漏洩状態を調べるために、MRヘッドを絶縁体より
なる治具(図示せず)にサスペンション(図示せず)を
介して固定し、所定の電圧を印加して充電したコンデン
サ(図示せず)の一端をこのサスペンションに、他端を
所定の抵抗(図示せず)を介して放電用プローブ(図示
せず)にそれぞれ接続して、コンデンサ(図示せず)に
充電された電荷をこの放電用プローブ(図示せず)から
MRヘッドに給電し、その直後のMRヘッドの相対的な
表面電位を測定した。その結果を図6に示す。図6はコ
ンデンサの印加電圧とMRヘッドの相対的な表面電位と
の関係を示す図である。
るMRヘッドを用い、MRヘッドに外部から侵入した電
荷の漏洩状態を調べるために、MRヘッドを絶縁体より
なる治具(図示せず)にサスペンション(図示せず)を
介して固定し、所定の電圧を印加して充電したコンデン
サ(図示せず)の一端をこのサスペンションに、他端を
所定の抵抗(図示せず)を介して放電用プローブ(図示
せず)にそれぞれ接続して、コンデンサ(図示せず)に
充電された電荷をこの放電用プローブ(図示せず)から
MRヘッドに給電し、その直後のMRヘッドの相対的な
表面電位を測定した。その結果を図6に示す。図6はコ
ンデンサの印加電圧とMRヘッドの相対的な表面電位と
の関係を示す図である。
【0035】(実験例5)本発明の第3の実施例におけ
るMRヘッドを用いた他は、実験例4と同様にして、M
Rヘッドの相対的な表面電位を測定した。その結果を図
6に示す。
るMRヘッドを用いた他は、実験例4と同様にして、M
Rヘッドの相対的な表面電位を測定した。その結果を図
6に示す。
【0036】(実験例6)本発明の第4の実施例におけ
るMRヘッドを用いた他は、実験例4と同様にして、M
Rヘッドの相対的な表面電位を測定した。その結果を図
6に示す。
るMRヘッドを用いた他は、実験例4と同様にして、M
Rヘッドの相対的な表面電位を測定した。その結果を図
6に示す。
【0037】(比較例2)従来のMRヘッドを用いた他
は、実験例4と同様にして、MRヘッドの相対的な表面
電位を測定した。その結果を図6に示す。
は、実験例4と同様にして、MRヘッドの相対的な表面
電位を測定した。その結果を図6に示す。
【0038】(実験例7)本発明の第2の実施例におけ
るMRヘッドを用いて、入力磁界がない場合のセンス電
流と、ジュール熱による温度上昇に基づくMRヘッドの
電気抵抗値及び電気抵抗値から算出されるMRヘッドの
温度との関係を測定した。その結果を図7(a),図7
(b)に示す。図7(a)はセンス電流とMRヘッドの
電気抵抗値の関係を示すグラフであり、図7(b)はセ
ンス電流とMRヘッドの温度との関係を示すグラフであ
る。
るMRヘッドを用いて、入力磁界がない場合のセンス電
流と、ジュール熱による温度上昇に基づくMRヘッドの
電気抵抗値及び電気抵抗値から算出されるMRヘッドの
温度との関係を測定した。その結果を図7(a),図7
(b)に示す。図7(a)はセンス電流とMRヘッドの
電気抵抗値の関係を示すグラフであり、図7(b)はセ
ンス電流とMRヘッドの温度との関係を示すグラフであ
る。
【0039】(比較例3)従来のMRヘッドを用いた他
は、実験例7と同様にして、センス電流と、MRヘッド
の電気抵抗値及びMRヘッドの温度との関係を測定し
た。その結果を図7(a),図7(b)に示す。
は、実験例7と同様にして、センス電流と、MRヘッド
の電気抵抗値及びMRヘッドの温度との関係を測定し
た。その結果を図7(a),図7(b)に示す。
【0040】図5から明らかなように、比較例1は全試
験合わせて40%のMRヘッドが静電気放電によって破
壊されているのに対し、実験例1乃至3では全く破壊が
生じていないことがわかる。よって、実験例1乃至3は
比較例に対して歩留りが高く生産性が著しく優れている
とともに、安定使用ができ信頼性が著しく優れていると
いえる。また、図6から明らかなように、比較例2はコ
ンデンサの印加電圧、即ち、MRヘッドに供給された電
荷の量に応じてMRヘッドの相対的な表面電位が上昇し
ているのに対し、実験例4乃至6ではMRヘッドに電荷
が供給されているにもかかわらず表面電位は一定のまま
である。よって、実験例4乃至6では、外部から侵入し
た電荷が速やかにMRヘッドから漏洩しているといえ
る。更に図7(a),図7(b)から明らかなように、
比較例3はセンス電流の増加にともなって電気抵抗及び
温度が急激に上昇しているのに対して、実験例7では電
気抵抗,温度が緩やかに上昇しているのがわかる。よっ
て、実験例7は比較例3よりも放熱効率が高いといえ
る。
験合わせて40%のMRヘッドが静電気放電によって破
壊されているのに対し、実験例1乃至3では全く破壊が
生じていないことがわかる。よって、実験例1乃至3は
比較例に対して歩留りが高く生産性が著しく優れている
とともに、安定使用ができ信頼性が著しく優れていると
いえる。また、図6から明らかなように、比較例2はコ
ンデンサの印加電圧、即ち、MRヘッドに供給された電
荷の量に応じてMRヘッドの相対的な表面電位が上昇し
ているのに対し、実験例4乃至6ではMRヘッドに電荷
が供給されているにもかかわらず表面電位は一定のまま
である。よって、実験例4乃至6では、外部から侵入し
た電荷が速やかにMRヘッドから漏洩しているといえ
る。更に図7(a),図7(b)から明らかなように、
比較例3はセンス電流の増加にともなって電気抵抗及び
温度が急激に上昇しているのに対して、実験例7では電
気抵抗,温度が緩やかに上昇しているのがわかる。よっ
て、実験例7は比較例3よりも放熱効率が高いといえ
る。
【0041】
【発明の効果】以上のように本発明は、下部磁気シール
ド層,上部磁気シールド層,磁気コアを2つのリード部
の内いずれか1と接触させたことにより、下部磁気シー
ルド層等と2つのリード部・MR素子が電気的に導通
し、MRヘッド製造時・使用時に下部磁気シールド等に
帯電した静電荷が、接地された2つのリード部へと漏洩
するために、下部シールド層等とリード部等との間の静
電気放電を防止でき、MRヘッドの歩留りを向上させる
ことができ生産性に優れるとともに、MRヘッドを安定
使用することができ信頼性に優れ、下部磁気シールド層
等が極めて大きな熱容量を有しているために、MR素子
で発生したジュール熱を接触部等を介して下部磁気シー
ルド層等へ速やかに伝導させて、放熱するために、放熱
効率を著しく向上させて、MR素子の温度上昇を防止し
てMRヘッドの電気特性を向上させることができるとと
もに、万一MRヘッドに過電流が流れた場合であって
も、放熱効率が著しく高いために、MR素子の溶断等の
MRヘッドの破壊を防止することができ信頼性に優れ、
下部磁気シールド層等を、コーティング膜,導通部を介
して基板と接続したことによって、同様に下部磁気シー
ルド層等と基板との間の静電気放電を防止でき、MRヘ
ッドの歩留りを向上させることができ生産性に優れると
ともに、MRヘッドを安定使用することができ信頼性に
優れ、コーティング膜,導通部が所定の抵抗値を有する
ことにより、放電の発生を防止することができ、2つの
リード部を下部磁気シールド層,上部シールド層,磁気
コアの内別個のものに各々接触させ、下部磁気シールド
等の内リード部が接触しているものに、このリード部に
センス電流を流すための2つの電極部を備えたことによ
り、この下部磁気シールド等の断面積が薄いリード部よ
りも極めて大きく、MRヘッドのセンス電流に対する抵
抗値を減少させるために、MRヘッドのインピーダンス
によるノイズを減少させて、データを正確に再生するこ
とができ、信頼性に優れたMRヘッドを実現できるもの
である。
ド層,上部磁気シールド層,磁気コアを2つのリード部
の内いずれか1と接触させたことにより、下部磁気シー
ルド層等と2つのリード部・MR素子が電気的に導通
し、MRヘッド製造時・使用時に下部磁気シールド等に
帯電した静電荷が、接地された2つのリード部へと漏洩
するために、下部シールド層等とリード部等との間の静
電気放電を防止でき、MRヘッドの歩留りを向上させる
ことができ生産性に優れるとともに、MRヘッドを安定
使用することができ信頼性に優れ、下部磁気シールド層
等が極めて大きな熱容量を有しているために、MR素子
で発生したジュール熱を接触部等を介して下部磁気シー
ルド層等へ速やかに伝導させて、放熱するために、放熱
効率を著しく向上させて、MR素子の温度上昇を防止し
てMRヘッドの電気特性を向上させることができるとと
もに、万一MRヘッドに過電流が流れた場合であって
も、放熱効率が著しく高いために、MR素子の溶断等の
MRヘッドの破壊を防止することができ信頼性に優れ、
下部磁気シールド層等を、コーティング膜,導通部を介
して基板と接続したことによって、同様に下部磁気シー
ルド層等と基板との間の静電気放電を防止でき、MRヘ
ッドの歩留りを向上させることができ生産性に優れると
ともに、MRヘッドを安定使用することができ信頼性に
優れ、コーティング膜,導通部が所定の抵抗値を有する
ことにより、放電の発生を防止することができ、2つの
リード部を下部磁気シールド層,上部シールド層,磁気
コアの内別個のものに各々接触させ、下部磁気シールド
等の内リード部が接触しているものに、このリード部に
センス電流を流すための2つの電極部を備えたことによ
り、この下部磁気シールド等の断面積が薄いリード部よ
りも極めて大きく、MRヘッドのセンス電流に対する抵
抗値を減少させるために、MRヘッドのインピーダンス
によるノイズを減少させて、データを正確に再生するこ
とができ、信頼性に優れたMRヘッドを実現できるもの
である。
【図1】(a)は本発明の第1の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第1の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第1の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
【図2】(a)は本発明の第2の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第2の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第2の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
【図3】(a)は本発明の第3の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第3の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第3の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
【図4】(a)は本発明の第4の実施例におけるMRヘ
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第4の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
ッドの要部平面透視図 (b)は本発明の第4の実施例におけるMRヘッドの要
部側面透視図
【図5】本発明の第2〜第4の実施例におけるMRヘッ
ドと従来のMRヘッドの静電破壊試験結果を示す図
ドと従来のMRヘッドの静電破壊試験結果を示す図
【図6】本発明の第2〜第4の実施例におけるMRヘッ
ドと従来のMRヘッドのコンデンサの印加電圧とMRヘ
ッドの相対的な表面電位との関係を示す図
ドと従来のMRヘッドのコンデンサの印加電圧とMRヘ
ッドの相対的な表面電位との関係を示す図
【図7】(a)は本発明の第2の実施例におけるMRヘ
ッドと従来のMRヘッドのセンス電流とMRヘッドの電
気抵抗値の関係を示すグラフ (b)は本発明の第2の実施例におけるMRヘッドと従
来のMRヘッドのセンス電流とMRヘッドの温度との関
係を示すグラフ
ッドと従来のMRヘッドのセンス電流とMRヘッドの電
気抵抗値の関係を示すグラフ (b)は本発明の第2の実施例におけるMRヘッドと従
来のMRヘッドのセンス電流とMRヘッドの温度との関
係を示すグラフ
【図8】(a)は従来のMRヘッドの構成を示す要部平
面透視図 (b)は従来のMRヘッドの構成を示す要部側面透視図
面透視図 (b)は従来のMRヘッドの構成を示す要部側面透視図
1 基板 2 下地絶縁層 3 絶縁層 4 MR素子 4a MR素子露出部 5 リード層 5a 第1のリード部 5a′ 第1のリード部露出部 5b 第2のリード部 5b′ 第2のリード部露出部 6 下部磁気シールド層 6a 下部磁気シールド層露出部 7 上部磁気シールド層 7a 上部磁気シールド層露出部 8,9 磁気コア 8a,9a 磁気コア露出部 10 磁気ギャップ 11 記録コア 12 導体コイル 13 リード層 13a 第1のリード部 13a′ 第1のリード部露出部 13b 第2のリード部 13b′ 第2のリード部露出部 14 上部磁気シールド層 14a 上部磁気シールド層露出部 15 磁気コア 15a 磁気コア露出部 16 記録コア 17 下部磁気シールド層 17a 下部磁気シールド層露出部 18 リード層 18a 第1のリード部 18a′ 第1のリード部露出部 18b 第2のリード部 18b′ 第2のリード部露出部 19 上部磁気シールド層 19a 上部磁気シールド層露出部 20 下部磁気シールド層 20a 下部磁気シールド層露出部 21 磁気コア 22 記録コア 23 コーティング膜 24 電気接続部 A 磁気記録媒体対向面 B,C,D 接触部 E 側面 F 背面 G,I,J 露出部 H 高さ方向 K,L 導通部
Claims (4)
- 【請求項1】基板と、前記基板上に積層される絶縁層
と、前記絶縁層中に形成される磁気抵抗効果素子と、前
記磁気抵抗効果素子の両端部に電気的に接続されて前記
磁気抵抗効果素子へセンス電流を流すための2つのリー
ド部と、前記磁気抵抗効果素子の上下に前記絶縁層を介
して形成される磁気シールド層と、を有し磁気記録媒体
と対向する面に露出するように形成されて磁気記録媒体
のデータを再生するための再生ヘッドと、磁性体からな
り磁気ギャップ部が磁気記録媒体と対向する面に露出す
るように形成される磁気コアを有し磁気記録媒体へデー
タを記録するための記録ヘッドと、を備えた磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドであって、2つの前記磁気シールド
層,前記磁気コアの少なくともいずれか1を2つの前記
リード部のいずれか1と接触させて形成される接触部を
備えたことを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項2】前記磁気シールド層,前記磁気コアの少な
くともいずれか1と接触させた一方の前記リード部と、
一方の前記リード部と接触されていない前記磁気シール
ド層,前記磁気コアの少なくともいずれか1と接触させ
た他方の前記リード部と、前記磁気シールド層又は前記
磁気コアと電気的に接続されて2つの前記リード部へセ
ンス電流を流すための2つの電極部と、を備えたことを
特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項3】前記磁気コア,2つの前記磁気シールド層
の少なくともいずれか1を前記磁気記録媒体と対向しな
い面に露出させて形成される露出部と、所定の電気抵抗
を有する材料からなり前記磁気記録媒体と対向しない面
に形成されて前記露出部と前記基板とを接触させるコー
ティング膜と、を備えたことを特徴とする請求項1又は
2のいずれか1に記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項4】所定の抵抗を有する材料よりなり前記基板
上に形成される電気接続層と、前記磁気コア,2つの前
記磁気シールドの少なくともいずれか1と前記電気接続
層とを電気的に導通させて形成される導通部と、を備え
たことを特徴とする請求項1又は2のいずれか1に記載
の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5218310A JPH0773419A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5218310A JPH0773419A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0773419A true JPH0773419A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=16717846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5218310A Pending JPH0773419A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0773419A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000022612A1 (en) * | 1998-10-12 | 2000-04-20 | Fujitsu Limited | Magnetic sensor, magnetic head, magnetic encoder, and hard disk drive |
| US6160688A (en) * | 1997-12-16 | 2000-12-12 | Nec Corporation | Magneto-resistive composite head and a magnetic disk device, having grounded magnetic shielding layers |
| US6246553B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-06-12 | International Business Machines Corporation | Shielded magnetoresistive head with charge clamp |
| WO2002063614A1 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-15 | Fujitsu Limited | Thin film magnetic head, magnetic head assembly, and composite thin film magnetic head |
| US7239488B2 (en) * | 2004-03-09 | 2007-07-03 | Sae Magnetics (H.K.), Ltd. | MR sensor on an insulating substrate and method of manufacture |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP5218310A patent/JPH0773419A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6160688A (en) * | 1997-12-16 | 2000-12-12 | Nec Corporation | Magneto-resistive composite head and a magnetic disk device, having grounded magnetic shielding layers |
| WO2000022612A1 (en) * | 1998-10-12 | 2000-04-20 | Fujitsu Limited | Magnetic sensor, magnetic head, magnetic encoder, and hard disk drive |
| KR100631355B1 (ko) * | 1998-10-12 | 2006-10-09 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 자기 센서, 자기 헤드, 하드 디스크 장치, 및 디스크 어레이 장치 |
| US7199985B1 (en) | 1998-10-12 | 2007-04-03 | Fujitsu Limited | Magnetic sensor, magnetic head, magnetic encoder and hard disk device |
| US6246553B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-06-12 | International Business Machines Corporation | Shielded magnetoresistive head with charge clamp |
| WO2002063614A1 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-15 | Fujitsu Limited | Thin film magnetic head, magnetic head assembly, and composite thin film magnetic head |
| US7239488B2 (en) * | 2004-03-09 | 2007-07-03 | Sae Magnetics (H.K.), Ltd. | MR sensor on an insulating substrate and method of manufacture |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6424505B1 (en) | Method and system for providing electrostatic discharge protection for flex-on suspension, trace-suspension assembly, or cable-on suspension | |
| US6704173B1 (en) | Method and system for providing ESD protection using diodes and a grounding strip in a head gimbal assembly | |
| US6163443A (en) | Actuator having MR element protecting means | |
| KR100342729B1 (ko) | 전하 클램프를 갖는 차폐된 자기저항 헤드 | |
| US6373660B1 (en) | Method and system for providing a permanent shunt for a head gimbal assembly | |
| US6160688A (en) | Magneto-resistive composite head and a magnetic disk device, having grounded magnetic shielding layers | |
| US5777829A (en) | Method and apparatus for providing electrostatic discharge protection for an inductive coil of a magnetic transducer | |
| US7692897B2 (en) | Grounded writer core | |
| US6950280B2 (en) | Magnetic head having a heat dissipating structure | |
| JP2003151108A (ja) | 薄膜磁気ヘッドスライダならびにその製造方法 | |
| US7199982B2 (en) | Eliminating ESD exposure for read/write head with heating element | |
| US6870706B1 (en) | Method for suppressing tribocharge in the assembly of magnetic heads | |
| US6678127B2 (en) | Device and method of reducing ESD damage in thin film read heads which enables measurement of gap resistances and method of making | |
| US6671137B2 (en) | Magnetoresistive head including earth members | |
| JPH0773419A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
| JP2008059705A (ja) | 垂直通電型磁気ヘッド並びにその製造方法、ヘッドサスペンション組立体及び磁気記録装置。 | |
| US7271968B2 (en) | Head protection circuit of hard disk drive | |
| JP3186132B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
| JP2000285422A (ja) | ヘッドジンバルアッセンブリーおよびその製造方法 | |
| JP2001307309A (ja) | 磁気ヘッドおよび磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッドウエハー基板および磁気ヘッド組立体および磁気ディスク装置 | |
| US7397636B2 (en) | GMR head design that suppresses tribocharge during its assembly | |
| JP2002358608A (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH08221718A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH07210829A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0376535B2 (ja) |