JPH0774684B2 - 真空蒸気発生装置 - Google Patents
真空蒸気発生装置Info
- Publication number
- JPH0774684B2 JPH0774684B2 JP62176818A JP17681887A JPH0774684B2 JP H0774684 B2 JPH0774684 B2 JP H0774684B2 JP 62176818 A JP62176818 A JP 62176818A JP 17681887 A JP17681887 A JP 17681887A JP H0774684 B2 JPH0774684 B2 JP H0774684B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は被加熱物を100℃以下程度の温度で安全且つ効
率的に加熱処理するための真空蒸気を供給する真空蒸気
発生装置に関する。
率的に加熱処理するための真空蒸気を供給する真空蒸気
発生装置に関する。
各種工場においては、加熱処理が広く一般に行なわれて
いるが、かかる加熱処理は被加熱物を100℃以上の高温
で加熱することが多く、ボイラーからの蒸気を直接利用
した、全体として加圧系の加熱装置を用いて行なわれて
いた。
いるが、かかる加熱処理は被加熱物を100℃以上の高温
で加熱することが多く、ボイラーからの蒸気を直接利用
した、全体として加圧系の加熱装置を用いて行なわれて
いた。
一方化学工場や食品工場においては、製品の品質維持や
生産性の関係で、被加熱物を100℃以下の比較的低温で
加熱しなければならない場合がある。
生産性の関係で、被加熱物を100℃以下の比較的低温で
加熱しなければならない場合がある。
従来技術 本出願人は特願昭61−271491号にて100℃以下の温度の
蒸気で加熱することのできる真空蒸気発生装置を開発し
た。
蒸気で加熱することのできる真空蒸気発生装置を開発し
た。
その装置を第２図及び第３図に示す。第２図はエゼクタ
ー式真空ポンプの概略図である。タンク１とポンプ２を
温度センサー10を取り付けた吸込み管３と吐出管４でそ
れぞれ接続する。吐出管４にはエゼクター部５を設け、
吸引口６を形成する。タンク１には冷却水配管７が接続
され、電動弁８を設け温度センサー10と連動させる。吐
出管４とエゼクター部５の間に圧送用電動弁９が設けら
れ、タンク１に内蔵した電極棒11と連動させる。
ー式真空ポンプの概略図である。タンク１とポンプ２を
温度センサー10を取り付けた吸込み管３と吐出管４でそ
れぞれ接続する。吐出管４にはエゼクター部５を設け、
吸引口６を形成する。タンク１には冷却水配管７が接続
され、電動弁８を設け温度センサー10と連動させる。吐
出管４とエゼクター部５の間に圧送用電動弁９が設けら
れ、タンク１に内蔵した電極棒11と連動させる。
タンク１内の流体は吸込み管３からポンプ２に吸引され
吐出管４及びエゼクター部５へ圧送され、再びタンク１
内へ戻り循環する。この時エゼクター部５ではその中を
流れる流体の温度に対する飽和圧力が発生する。従って
吸込み管３に設けられた温度センサー10を任意に設定す
ることにより、電動弁８が開閉して冷却水がタンク内に
入り所望の流体温度を保ち、結果設定温度に対する飽和
圧力がエゼクター部５で発生する。故に温度センサー10
を調整することにより任意の真空度を得ることができ
る。
吐出管４及びエゼクター部５へ圧送され、再びタンク１
内へ戻り循環する。この時エゼクター部５ではその中を
流れる流体の温度に対する飽和圧力が発生する。従って
吸込み管３に設けられた温度センサー10を任意に設定す
ることにより、電動弁８が開閉して冷却水がタンク内に
入り所望の流体温度を保ち、結果設定温度に対する飽和
圧力がエゼクター部５で発生する。故に温度センサー10
を調整することにより任意の真空度を得ることができ
る。
エゼクター部５で発生した真空域により、吸引口６から
復水や蒸気等の流体を吸引しタンク１へ圧送する。タン
ク１内の液位が高水位になれば、電極棒11が検出し圧送
用電動弁９が開弁して流体を遠方へ圧送する。そして所
定の低水位になれば電動弁９は閉弁する。
復水や蒸気等の流体を吸引しタンク１へ圧送する。タン
ク１内の液位が高水位になれば、電極棒11が検出し圧送
用電動弁９が開弁して流体を遠方へ圧送する。そして所
定の低水位になれば電動弁９は閉弁する。
第３図は上記エゼクター式真空ポンプを用いた真空蒸気
発生装置である。間接加熱容器21の一次側に減圧弁22
と、二次側にエゼクター式真空ポンプ20を接続して系を
減圧する。減圧弁22は特殊な減圧弁であり、間接加熱容
器21内の圧力が設定圧力より低くなれば、今まで閉弁し
ていた弁が開弁を始め一次側の蒸気を加熱容器21内へ供
給し、所望値になれば再び閉弁方向に作用して蒸気の供
給量を押えるものである。構造的には従来の減圧弁の圧
力設定ばねは圧縮作用状態で使用しているが、本減圧弁
は引張り状態で作用させるものである。
発生装置である。間接加熱容器21の一次側に減圧弁22
と、二次側にエゼクター式真空ポンプ20を接続して系を
減圧する。減圧弁22は特殊な減圧弁であり、間接加熱容
器21内の圧力が設定圧力より低くなれば、今まで閉弁し
ていた弁が開弁を始め一次側の蒸気を加熱容器21内へ供
給し、所望値になれば再び閉弁方向に作用して蒸気の供
給量を押えるものである。構造的には従来の減圧弁の圧
力設定ばねは圧縮作用状態で使用しているが、本減圧弁
は引張り状態で作用させるものである。
前述した様に真空ポンプ20は任意の真空度に設定するこ
とが出来るので、加熱容器21内圧力の所望値つまり減圧
弁22の設定値と同一にしておけば、加熱容器21内を過度
の真空度にすることがなく一定圧力に保つ。従って減圧
弁22から余分な蒸気を供給しなくて済むものである。
とが出来るので、加熱容器21内圧力の所望値つまり減圧
弁22の設定値と同一にしておけば、加熱容器21内を過度
の真空度にすることがなく一定圧力に保つ。従って減圧
弁22から余分な蒸気を供給しなくて済むものである。
本発明が解決しようとする問題点 上記従来の真空蒸気発生装置は、被加熱物すなわち負荷
の量の変動により、被加熱物の温度が一定せずバラツク
問題があった。これはエゼクター式真空ポンプで吸引さ
れながら、減圧弁から供給される蒸気の量、つまり圧力
（又はその圧力に対する飽和温度）が一定でも、負荷の
量の変化により被加熱物の温度も変化してしまうためで
ある。減圧弁の二次側圧力の変化分は、所定範囲内なら
減圧弁自体の自力調整機能により機械的に減圧弁口を開
閉して、修正されるのであるが限界があり、従って負荷
及び外気の変化等により被加熱物の温度にバラツキを生
じるのである。
の量の変動により、被加熱物の温度が一定せずバラツク
問題があった。これはエゼクター式真空ポンプで吸引さ
れながら、減圧弁から供給される蒸気の量、つまり圧力
（又はその圧力に対する飽和温度）が一定でも、負荷の
量の変化により被加熱物の温度も変化してしまうためで
ある。減圧弁の二次側圧力の変化分は、所定範囲内なら
減圧弁自体の自力調整機能により機械的に減圧弁口を開
閉して、修正されるのであるが限界があり、従って負荷
及び外気の変化等により被加熱物の温度にバラツキを生
じるのである。
従って本発明の技術的課題は、負荷変動があっても常時
安定した蒸気を供給して、被加熱物の温度を所定値に維
持することのできる真空蒸気発生装置を得ることにあ
る。
安定した蒸気を供給して、被加熱物の温度を所定値に維
持することのできる真空蒸気発生装置を得ることにあ
る。
問題点を解決する為の手段 上記の技術的課題を解決するために講じた本発明の技術
的手段は、間接加熱容器の一次側にアクチュエーターを
有する自動調節弁を設け、二次側にエゼクターを接続
し、該エゼクターとタンクとポンプでエゼクター式真空
ポンプを形成したものにおいて、間接加熱容器内を通過
する被加熱物としての負荷の温度を検出する温度検出器
を取付け、該温度検出器を調節計を介して上記自動調節
弁のアクチュエーターと接続すると共に、自動調節弁と
間接加熱容器の間に二次側ドレンを噴霧する減温器を配
置したものである。ここで自動調節弁とは二次側圧力を
大気圧より低い所定真空圧力に維持することのできる調
節弁である。
的手段は、間接加熱容器の一次側にアクチュエーターを
有する自動調節弁を設け、二次側にエゼクターを接続
し、該エゼクターとタンクとポンプでエゼクター式真空
ポンプを形成したものにおいて、間接加熱容器内を通過
する被加熱物としての負荷の温度を検出する温度検出器
を取付け、該温度検出器を調節計を介して上記自動調節
弁のアクチュエーターと接続すると共に、自動調節弁と
間接加熱容器の間に二次側ドレンを噴霧する減温器を配
置したものである。ここで自動調節弁とは二次側圧力を
大気圧より低い所定真空圧力に維持することのできる調
節弁である。
作用 エゼクター式真空ポンプのノズル部で作り得る圧力は、
ノズルを通過する流体の温度に対する飽和圧力となる。
従って通過する流体の温度を制御することにより、任意
の圧力を発生させることができる。
ノズルを通過する流体の温度に対する飽和圧力となる。
従って通過する流体の温度を制御することにより、任意
の圧力を発生させることができる。
エゼクター式真空ポンプにより任意の圧力に設定して系
を吸引すると、間接加熱容器内圧力がポンプの設定圧力
になるまで吸引を続ける。自動調節弁の設定圧力を真空
ポンプの設定圧力とほぼ同一に設定することにより、弁
の二次側の圧力が未だ高圧の時には閉弁しており、設定
圧力以下になれば開弁して蒸気を加熱容器内に供給す
る。
を吸引すると、間接加熱容器内圧力がポンプの設定圧力
になるまで吸引を続ける。自動調節弁の設定圧力を真空
ポンプの設定圧力とほぼ同一に設定することにより、弁
の二次側の圧力が未だ高圧の時には閉弁しており、設定
圧力以下になれば開弁して蒸気を加熱容器内に供給す
る。
温度検出器により被加熱物の温度が検出され、負荷の量
の変動等により被加熱物の温度に変化が、生じれば、そ
の信号を調節計を介して自動調節弁のアクチュエーター
へ送り所望温度になるまで調節弁の弁口を開閉させて蒸
気供給量を調節する。
の変動等により被加熱物の温度に変化が、生じれば、そ
の信号を調節計を介して自動調節弁のアクチュエーター
へ送り所望温度になるまで調節弁の弁口を開閉させて蒸
気供給量を調節する。
発明の効果 本発明によれば負荷の変動あるいは外気の変化等にも拘
らず完全自動化にて真空蒸気を必要量供給して被加熱物
の温度を一定に維持することができる。
らず完全自動化にて真空蒸気を必要量供給して被加熱物
の温度を一定に維持することができる。
正確な温度調節は温度検出器と自動調節弁で行うことが
でき、エゼクター式真空ポンプ自体で冷却水の供給を調
節することによる正確な温度設定しなくてよい。
でき、エゼクター式真空ポンプ自体で冷却水の供給を調
節することによる正確な温度設定しなくてよい。
又、本発明の装置によれば特に被加熱物の設定温度が大
気温度の常温に近いほど効果がある。それは従来の装置
であれば被加熱物の温度が過上昇し、下げたい場合は自
然放熱に任せるしかなかったが、本装置によれば自動調
節弁で供給蒸気を強制的に絞りこんでしまうのでその対
応が非常に早いものとなるのである。
気温度の常温に近いほど効果がある。それは従来の装置
であれば被加熱物の温度が過上昇し、下げたい場合は自
然放熱に任せるしかなかったが、本装置によれば自動調
節弁で供給蒸気を強制的に絞りこんでしまうのでその対
応が非常に早いものとなるのである。
実施例 上記の技術的手段の具体例を示す実施例を説明する（第
１図参照）。
１図参照）。
第２図及び３図と対応する部材には同一参照番号を付
し、エゼクター式真空ポンプの構造は第２図と同一なの
で詳細な説明は省略する。
し、エゼクター式真空ポンプの構造は第２図と同一なの
で詳細な説明は省略する。
本実施例では自動調節弁として従来技術にて説明した真
空減圧弁の圧力設定ばねを調節する為の調整手段に、そ
れを操作するアクチュエーター45を取り付けた自動調整
真空減圧弁44を採用している。減圧弁44と間接加熱容器
21の間にヘッダー30を配置し、その側面に減温器31を取
り付けて、真空ポンプ20の吐出側配管から分岐した配管
32で途中に弁35を設けて連絡する。又、ヘッダー30の底
部から配管を取り出し、スチームトラップ33を設けて、
その二次側を真空ポンプ20の吸込口に配管34で接続す
る。参照番号46・48は負荷側（被加熱物）の出入口配管
である。
空減圧弁の圧力設定ばねを調節する為の調整手段に、そ
れを操作するアクチュエーター45を取り付けた自動調整
真空減圧弁44を採用している。減圧弁44と間接加熱容器
21の間にヘッダー30を配置し、その側面に減温器31を取
り付けて、真空ポンプ20の吐出側配管から分岐した配管
32で途中に弁35を設けて連絡する。又、ヘッダー30の底
部から配管を取り出し、スチームトラップ33を設けて、
その二次側を真空ポンプ20の吸込口に配管34で接続す
る。参照番号46・48は負荷側（被加熱物）の出入口配管
である。
間接加熱容器21には被加熱物の温度を検出する為の温度
検出器40が設けられ、その信号を調節計42を介して減圧
弁44のアクチュエーター45へ送り制御（PID制御）す
る。調節計42で所望の温度を設定し、負荷の変動による
被加熱物の温度変化があれば、その変化分つまり設定値
と実測値との差を修正すべくアクチュエーター45に、被
加熱物の温度が設定値に近付くまで動作信号を与える。
従って被加熱物の大巾な温度変化があっても減圧弁44に
よって蒸気供給量を調節するので常に一定した被加熱物
の温度を保持することができる。
検出器40が設けられ、その信号を調節計42を介して減圧
弁44のアクチュエーター45へ送り制御（PID制御）す
る。調節計42で所望の温度を設定し、負荷の変動による
被加熱物の温度変化があれば、その変化分つまり設定値
と実測値との差を修正すべくアクチュエーター45に、被
加熱物の温度が設定値に近付くまで動作信号を与える。
従って被加熱物の大巾な温度変化があっても減圧弁44に
よって蒸気供給量を調節するので常に一定した被加熱物
の温度を保持することができる。
減温器31は、間接加熱容器21に供給する蒸気を飽和温度
の蒸気とするためのもので、円筒状の本体出口側にノズ
ル（図示せず）を施したもので、ヘッダー30内はそのノ
ズルにより、真空ポンプ20からの二次側設定圧力に対す
る飽和温度のドレンが噴霧されている。
の蒸気とするためのもので、円筒状の本体出口側にノズ
ル（図示せず）を施したもので、ヘッダー30内はそのノ
ズルにより、真空ポンプ20からの二次側設定圧力に対す
る飽和温度のドレンが噴霧されている。
一般に減圧弁で減圧された蒸気は過熱蒸気となる。過熱
蒸気というのは、圧力は所定の圧力であっても温度がそ
の圧力に対する飽和温度よりも高い状態であるから、そ
の過熱蒸気に飽和温度ドレンを噴霧することにより、そ
れぞれ熱交換され過熱蒸気は温度が下がり飽和蒸気とな
る。飽和温度ドレンは間接加熱容器21からのドレンと更
には真空ポンプ20で調整されている為に、常時供給する
ことができる。
蒸気というのは、圧力は所定の圧力であっても温度がそ
の圧力に対する飽和温度よりも高い状態であるから、そ
の過熱蒸気に飽和温度ドレンを噴霧することにより、そ
れぞれ熱交換され過熱蒸気は温度が下がり飽和蒸気とな
る。飽和温度ドレンは間接加熱容器21からのドレンと更
には真空ポンプ20で調整されている為に、常時供給する
ことができる。
ここで飽和温度ドレンの代りに冷却水を用いた場合に
は、その供給量によっては過熱蒸気は飽和温度蒸気域を
越えて冷却されドレン化してしまうことがあり不経済に
なる。
は、その供給量によっては過熱蒸気は飽和温度蒸気域を
越えて冷却されドレン化してしまうことがあり不経済に
なる。
ヘッダー30で過剰に噴霧された飽和温度ドレンはスチー
ムトラップ33で配管34を通して真空ポンプ20で吸引され
る。噴霧量は過熱蒸気の量に応じて弁35で任意に調節し
することができる。
ムトラップ33で配管34を通して真空ポンプ20で吸引され
る。噴霧量は過熱蒸気の量に応じて弁35で任意に調節し
することができる。
以上のように本実施例では経済的に蒸気温度を低減し、
負荷の変動に関係なく被加熱物の温度を一定に維持する
ことができる。
負荷の変動に関係なく被加熱物の温度を一定に維持する
ことができる。
第１図は第２図に示したエゼクター式真空ポンプを用い
た本発明の真空蒸気発生装置の系統図、第２図は本発明
の装置に用いたエゼクター式真空ポンプの概略図、第３
図は第２図に示したエゼクター式真空ポンプを用いた従
来の真空蒸気発生装置の系統図である。 1:タンク、2:ポンプ 3:吸込み管、4:吐出管 5:エゼクター部、10:温度センサー 20:真空ポンプ、21:間接加熱容器 30:ヘッダー、31:減温器 40:温度検出器、42:調節計 44:自動調整真空減圧弁 45:アクチュエーター
た本発明の真空蒸気発生装置の系統図、第２図は本発明
の装置に用いたエゼクター式真空ポンプの概略図、第３
図は第２図に示したエゼクター式真空ポンプを用いた従
来の真空蒸気発生装置の系統図である。 1:タンク、2:ポンプ 3:吸込み管、4:吐出管 5:エゼクター部、10:温度センサー 20:真空ポンプ、21:間接加熱容器 30:ヘッダー、31:減温器 40:温度検出器、42:調節計 44:自動調整真空減圧弁 45:アクチュエーター
Claims (1)
- 【請求項１】間接加熱容器の一次側にアクチュエーター
を有する自動調節弁を設け、二次側にエゼクターを接続
し、該エゼクターとタンクとポンプでエゼクター式真空
ポンプを形成したものにおいて、間接加熱容器内を通過
する被加熱物としての負荷の温度を検出する温度検出器
を取付け、該温度検出器を調節計を介して上記自動調節
弁のアクチュエーターと接続すると共に、自動調節弁と
間接加熱容器の間に二次側ドレンを噴霧する減温器を配
置したことを特徴とする真空蒸気発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62176818A JPH0774684B2 (ja) | 1987-07-14 | 1987-07-14 | 真空蒸気発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62176818A JPH0774684B2 (ja) | 1987-07-14 | 1987-07-14 | 真空蒸気発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6419202A JPS6419202A (en) | 1989-01-23 |
| JPH0774684B2 true JPH0774684B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=16020380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62176818A Expired - Fee Related JPH0774684B2 (ja) | 1987-07-14 | 1987-07-14 | 真空蒸気発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774684B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02272202A (ja) * | 1989-04-12 | 1990-11-07 | Tlv Co Ltd | 真空蒸気発生装置 |
| JP2012002405A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Tlv Co Ltd | 減圧蒸気加熱装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4095772A (en) * | 1977-05-13 | 1978-06-20 | Weber Hermann P | Casting apparatus for plastic lenses |
-
1987
- 1987-07-14 JP JP62176818A patent/JPH0774684B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6419202A (en) | 1989-01-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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