JPH0775667B2 - 液体処理槽 - Google Patents
液体処理槽Info
- Publication number
- JPH0775667B2 JPH0775667B2 JP2250042A JP25004290A JPH0775667B2 JP H0775667 B2 JPH0775667 B2 JP H0775667B2 JP 2250042 A JP2250042 A JP 2250042A JP 25004290 A JP25004290 A JP 25004290A JP H0775667 B2 JPH0775667 B2 JP H0775667B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- tank
- flow
- processing tank
- uniform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体処理槽に係り、特に槽内の流れを一様に
保つことのできる液体処理槽に関する。
保つことのできる液体処理槽に関する。
従来、純水や薬液を用いて液中で洗浄・エッチング・成
膜などのプロセス処理を行なう湿式処理装置に用いられ
る処理槽は矩形形状が多く、槽内の流れは非定常・非一
様流れになっていた。
膜などのプロセス処理を行なう湿式処理装置に用いられ
る処理槽は矩形形状が多く、槽内の流れは非定常・非一
様流れになっていた。
プロセス内容によっては槽内流れがむしろ乱れていた方
が好ましい場合もあるが均質な膜質を要求するメッキや
成膜では一様流れの液中で処理を行なう方が好ましい場
合もある。
が好ましい場合もあるが均質な膜質を要求するメッキや
成膜では一様流れの液中で処理を行なう方が好ましい場
合もある。
従来の処理槽内の流れのパターンを第4図及び第5図に
示す。第4図(a)、第5図(a)は斜視図であり、第
4図(b)、第5図(b)は断面図であり、第4図は処
理槽に液流入管を直接設置したもので、第5図は処理槽
に多孔管を図のように設置したものである。いずれの場
合も流れの均一性を考慮していないため槽内には大きな
渦が生じている。
示す。第4図(a)、第5図(a)は斜視図であり、第
4図(b)、第5図(b)は断面図であり、第4図は処
理槽に液流入管を直接設置したもので、第5図は処理槽
に多孔管を図のように設置したものである。いずれの場
合も流れの均一性を考慮していないため槽内には大きな
渦が生じている。
この場合渦の中心近傍では処理液が同じ箇所を回り続け
るため液の入れ替り時間が遅くなる。
るため液の入れ替り時間が遅くなる。
また、入口より流入した新鮮な液(処理前)の一部は流
路の早い箇所を通って有効に利用されないまま処理槽外
へ流出してしまうため、処理液と処理製品との会合チャ
ンスを増やしたいプロセスでは好ましくない。例えば製
品に不均一な結果を生じることになる。
路の早い箇所を通って有効に利用されないまま処理槽外
へ流出してしまうため、処理液と処理製品との会合チャ
ンスを増やしたいプロセスでは好ましくない。例えば製
品に不均一な結果を生じることになる。
また、第6図(a)に示すように処理槽に単にテーパ形
状を設けて、流れを一様にしようとしても、第6図
(b)に示すように、流入口より流入する液体の流れに
より、長手流入方向に渦が発生してしまう。
状を設けて、流れを一様にしようとしても、第6図
(b)に示すように、流入口より流入する液体の流れに
より、長手流入方向に渦が発生してしまう。
上記のように、従来技術においては、槽内の流れを一様
に保ち、均一でむらのない処理を行なうことは困難であ
った。
に保ち、均一でむらのない処理を行なうことは困難であ
った。
そこで、本発明では、上記のような欠点を解決し、槽内
の流れが一様になる液体処理槽を提供することを目的と
する。
の流れが一様になる液体処理槽を提供することを目的と
する。
上記目的を達成するために、本発明では、槽底部に液体
流入口を、槽頂部に液体流入口を有する液体処理槽にお
いて、槽下部を下に行くほど狭いテーパ形状として、そ
の最下部全面に多孔板あるいは多孔管を有する液体流入
口を設けると共に、前記テーパ形状部全体に液の流れと
平行な整流板を複数設置したことを特徴とする液体処理
槽としたものである。
流入口を、槽頂部に液体流入口を有する液体処理槽にお
いて、槽下部を下に行くほど狭いテーパ形状として、そ
の最下部全面に多孔板あるいは多孔管を有する液体流入
口を設けると共に、前記テーパ形状部全体に液の流れと
平行な整流板を複数設置したことを特徴とする液体処理
槽としたものである。
本発明において、槽下部をテーパ形状として、最下部全
面に多孔板あるいは多孔管を有する流入口を設けたこと
により、処理槽の長手方向に一様に液体を流入でき、ま
た、テーパ形状部全体に液の流れと平行な整流板を複数
設置したことにより、テーパ形状のテーパ及び整流板に
沿って液体が上昇するため同じ処理液が一つの箇所に停
滞したり、新鮮な液が一部だけに供給されることはなく
なり、均一でムラのない処理が可能となる。
面に多孔板あるいは多孔管を有する流入口を設けたこと
により、処理槽の長手方向に一様に液体を流入でき、ま
た、テーパ形状部全体に液の流れと平行な整流板を複数
設置したことにより、テーパ形状のテーパ及び整流板に
沿って液体が上昇するため同じ処理液が一つの箇所に停
滞したり、新鮮な液が一部だけに供給されることはなく
なり、均一でムラのない処理が可能となる。
以下、本発明を図面を用いて具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例1 第1図は、液体流入口に多孔板を用い、テーパ形状部に
整流板を設けた液体処理槽を示し、第1図(a)は斜視
図、第1図(b)は側面図、第1図(c)は正面図であ
り、本発明の一実施例である。
整流板を設けた液体処理槽を示し、第1図(a)は斜視
図、第1図(b)は側面図、第1図(c)は正面図であ
り、本発明の一実施例である。
第1図において、1は液体処理槽で、2はテーパ部、3
は液体流入口を示し、4は多孔板であり、6は整流板を
示す。
は液体流入口を示し、4は多孔板であり、6は整流板を
示す。
第1図では、多孔板を図のように配置することにより、
渦発生を少なくすることが可能となった。また、このよ
うに、整流板を設けることにより、より一様に液体は槽
内を流れ均一化することができた。
渦発生を少なくすることが可能となった。また、このよ
うに、整流板を設けることにより、より一様に液体は槽
内を流れ均一化することができた。
更に、多孔板内の穴形を流入方向に変化させることによ
り、さらに均一化することが可能である。
り、さらに均一化することが可能である。
第2図に多孔板4の斜視図を示し、第3図に多孔管5の
斜視図を示す。第1図において、多孔板4に代えて多孔
管5を用いても上記と同様の結果を示す。
斜視図を示す。第1図において、多孔板4に代えて多孔
管5を用いても上記と同様の結果を示す。
本発明の液体処理槽により、槽内の流れを一様に保つこ
とができ、均質な膜質の要求されるメッキや成膜におい
て均一でむらのない処理を行なうことができる。
とができ、均質な膜質の要求されるメッキや成膜におい
て均一でむらのない処理を行なうことができる。
第1図(a)は、本発明の多孔板と整流板を用いた液体
処理槽の斜視図、第1図(b)は第1図(a)の側面
図、第1図(c)は第1図(a)の正面図であり、第2
図は多孔板の斜視図であり、第3図は多孔管の斜視図で
あり、第4図(a)、第5図(a)は従来の処理槽の斜
視図で、第4図(b)、第5図(b)は同断面図であ
り、第6図(a)はテーパ部をもつ処理槽の側面図、第
6図(b)は同正面図である。 1……液体処理槽、2……テーパ部、3……液体流入
口、4……多孔板、5……多孔管、6……整流板
処理槽の斜視図、第1図(b)は第1図(a)の側面
図、第1図(c)は第1図(a)の正面図であり、第2
図は多孔板の斜視図であり、第3図は多孔管の斜視図で
あり、第4図(a)、第5図(a)は従来の処理槽の斜
視図で、第4図(b)、第5図(b)は同断面図であ
り、第6図(a)はテーパ部をもつ処理槽の側面図、第
6図(b)は同正面図である。 1……液体処理槽、2……テーパ部、3……液体流入
口、4……多孔板、5……多孔管、6……整流板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 正典 神奈川県藤沢市本藤沢4丁目2番1号 株 式会社荏原総合研究所内 (56)参考文献 実開 昭60−186024(JP,U) 実開 昭51−1551(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】槽底部に液体流入口を、槽頂部に液体流出
口を有する液体処理槽において、槽下部を下に行くほど
狭いテーパ形状としてその最下部全面に多孔板あるいは
多孔管を有する液体流入口を設けると共に、前記テーパ
形状部全体に液の流れと平行な整流板を複数設置したこ
とを特徴とする液体処理槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2250042A JPH0775667B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 液体処理槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2250042A JPH0775667B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 液体処理槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04131134A JPH04131134A (ja) | 1992-05-01 |
| JPH0775667B2 true JPH0775667B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=17201959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2250042A Expired - Fee Related JPH0775667B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 液体処理槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0775667B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5404437B2 (ja) | 2010-01-13 | 2014-01-29 | 株式会社東芝 | 安全出力装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS511551U (ja) * | 1974-06-21 | 1976-01-08 | ||
| JPS60186024U (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-10 | 三井造船株式会社 | 液が満たされている容器への等分散給液装置 |
| JPS6415114A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Taro Hayashi | Gas-liquid contacting device |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP2250042A patent/JPH0775667B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04131134A (ja) | 1992-05-01 |
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Legal Events
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| R250 | Receipt of annual fees |
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