JPH0776190B2 - 液晶化合物および液晶組成物 - Google Patents
液晶化合物および液晶組成物Info
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Landscapes
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Description
有用な液晶化合物およびこの液晶化合物を含有する液晶
組成物に関する。
性液晶を用いる表示方式が盛んに研究されている。この
方式は強誘電性を示すカイラルスメクチックC相等のカ
イラルスメクチック相を利用する方法である。実際に利
用される強誘電性液晶表示素子に使用される強誘電性液
晶には多くの特性が要求されるが、それらを満たすには
現在のところ、一つの化合物では応じられず、いくつか
の液晶化合物および必要によりいくつかの非液晶化合物
を混合して得られる強誘電性液晶組成物を使用する必要
がある。
は、複数のカイラルスメクチックC相を示す強誘電性液
晶化合物を主成分として混合する方法と、複数の非カイ
ラルなスメクチックC相を示す液晶化合物にカイラルな
化合物一種以上を添加する方法がある。従来、これらの
方法に用いられるスメクチックC相あるいはカイラルス
メクチックC相を示す液晶化合物としては、5−アルキ
ル−2−(4−アルコキシフェニル)ピリミジン等のフ
ェニルピリミジン系の液晶化合物等が知られている。
は誘電率異方性が正のため、強誘電性液晶組成物の成分
として用いた場合、ACスタビライズ法と呼ばれる液晶
表示素子の駆動法を用いてもメモリー性の向上が図れな
いという問題があった。
駆動法に適したスメクチック相を示す液晶化合物につい
て鋭意検討を行った結果、従来とは構造の異なった新規
な液晶化合物を見いだし、本発明に到達した。すなわち
本発明は、下記一般式
ルキル基(ただし、このアルキル基は、光学活性な基で
も良く、かつ基中の1個以上の水素原子がフッ素原子、
塩素原子、アルキルオキシ基、トリフルオロメチル基ま
たはシアノ基で置換されていても良い。)であり、X
は、直接結合、-O-または-C≡C-であり、Yは、-C≡C-
または-CH2CH2-であり、Aは、−Ph−、−X1−、−
X2−、−X3−、−X4−、−X5−、−Ph−X4−ま
たは−X1−Ph−を表す(ただし、上記において、−
Ph−は1〜4個のフッ素原子または1〜2個の、塩素
原子、臭素原子、シアノ基もしくはニトロ基で置換され
ていても良い1,4-フェニレン基を、−X1−、−X
2−、−X3−、−X4−、−X5−はこの順序で下記化8
〜化12を各々表す。
ある。)。〕で示される液晶化合物;並びに、複数の化
合物からなり、この液晶化合物を少なくとも一種含有す
ることを特徴とする液晶組成物である。
る炭素数1〜18のアルキル基(ただし、このアルキル
基は、光学活性な基でも良く、かつ基中の1個以上の水
素原子がフッ素原子、塩素原子、アルキルオキシ基、ト
リフルオロメチル基またはシアノ基で置換されていても
良い。)としては(イ)直鎖アルキル基、(ロ)分岐ア
ルキル基、(ハ)F(フッ素原子)で置換されたアルキ
ル基、(ニ)Cl(塩素原子)で置換されたアルキル
基、(ホ)アルキルオキシ基で置換されたアルキル基、
(ヘ)光学活性なアルキル基、(ト)F(フッ素原子)
で置換された光学活性なアルキル基、(チ)Cl(塩素
原子)で置換された光学活性なアルキル基、(リ)アル
キルオキシ基で置換された光学活性なアルキル基、
(ヌ)トリフルオロメチル基で置換された光学活性なア
ルキル基、(ル)シアノ基で置換された光学活性なアル
キル基などが挙げられる。
しては、欧州特許0 385 692号明細書記載のア
ルキル基(R、R’)のうち、炭素数1〜18のものが
挙げられる。
で、且つ光学活性なもの:1-トリフルオロメチルブチ
ル基、1-トリフルオロメチルペンチル基、1-トリフル
オロメチルヘキシル基、1-トリフルオロメチルヘプチ
ル基、1-トリフルオロメチルオクチル基、1-トリフル
オロメチルノニル基、1-トリフルオロメチルデシル
基、1-トリフルオロメチルウンデシル基、1-トリフル
オロメチルドデシル基、1-トリフルオロメチル-2-メ
トキシエチル基、1-トリフルオロメチル-2-エトキシ
エチル基、1-トリフルオロメチル-2-プロピルオキシ
エチル基、1-トリフルオロメチル-2- ブチルオキシエ
チル基、1-トリフルオロメチル-2-ペンチルオキシエ
チル基、1-トリフルオロメチル-2-ヘキシルオキシエ
チル基、1-トリフルオロメチル-2- イソプロピルオキ
シエチル基、1-トリフルオロメチル-2- (1’-メチ
ルプロピルオキシ)エチル基、1-トリフルオロメチル-
2- (1’-メチルブチルオキシ)エチル基、1-トリフ
ルオロメチル-2- (1’-メチルペンチルオキシ)エチ
ル基、1-トリフルオロメチル-2- (1’-メチルヘキ
シルオキシ)エチル基、1-トリフルオロメチル-2-
(1’-メチルヘプチルオキシ)エチル基、1-トリフル
オロメチル-2- (2’-メチルブチルオキシ)エチル
基、1-トリフルオロメチル-3-メトキシプロピル基、
1-トリフルオロメチル-3-エトキシプロピル基、1-ト
リフルオロメチル-3-プロピルオキシプロピル基、1-
トリフルオロメチル-3- ブチルオキシプロピル基、1-
トリフルオロメチル-3- ペンチルオキシプロピル基、
1-トリフルオロメチル-3-ヘキシルオキシプロピル
基、1-トリフルオロメチル-3- イソプロピルオキシプ
ロピル基、1-トリフルオロメチル-3- (1’-メチル
プロピルオキシ)プロピル基、1-トリフルオロメチル-
3- (1’-メチルブチルオキシ)プロピル基、1-トリ
フルオロメチル-3- (1’-メチルペンチルオキシ)プ
ロピル基、1-トリフルオロメチル-3- (1’-メチル
ヘキシルオキシ)プロピル基、1-トリフルオロメチル-
3- (1’-メチルヘプチルオキシ)プロピル基、1-ト
リフルオロメチル-3- (2’-メチルブチルオキシ)プ
ロピル基、1-トリフルオロメチル-4-メトキシブチル
基、1-トリフルオロメチル-4-エトキシブチル基、1-
トリフルオロメチル-4-プロピルオキシブチル基、1-
トリフルオロメチル-4- ブチルオキシブチル基、1-ト
リフルオロメチル-4- ペンチルオキシブチル基、1-ト
リフルオロメチル-4-ヘキシルオキシブチル基、1-ト
リフルオロメチル-4- イソプロピルオキシブチル基、
1-トリフルオロメチル-4- (1’-メチルプロピルオ
キシ)ブチル基、1-トリフルオロメチル-4- (1’-
メチルブチルオキシ)ブチル基、1-トリフルオロメチ
ル-4- (1’-メチルペンチルオキシ)ブチル基、1-
トリフルオロメチル-4- (1’-メチルヘキシルオキ
シ)ブチル基、1-トリフルオロメチル-4- (1’-メ
チルヘプチルオキシ)ブチル基、1-トリフルオロメチ
ル-4- (2’-メチルブチルオキシ)ブチル基など、が
挙げられる。
つ光学活性なもの:1-シアノブチル基、1-シアノペン
チル基、1-シアノヘキシル基、1-シアノヘプチル基、
1-シアノオクチル基、1-シアノノニル基、1-シアノ
デシル基、1-シアノウンデシル基、1-シアノドデシル
基など、が挙げられる。
ち好ましいものは、炭素数1〜14のアルキル基であ
る。
-または-C≡C-である。Yは、-C≡C-または-CH2CH2-で
ある。Aは、好ましくは、1〜4個のフッ素原子で置換
されていても良い1,4−フェニレン基、−X1−、−
X2−、−X3−、−X4−、−X5−、−Ph−X4−お
よび−X1−Ph−である。
しては、下記[1]〜[9]の各々の場合、該当する表
1〜表16に示すような基を有する化合物が挙げられ
る。[1]Aが-Ph-でYが-C≡C-の場合:表1に示す
ような基を有する化合物。
合:表2、表3、表4に示すような基を有する化合物。
合:表5、表6に示すような基を有する化合物。
合:表7、表8に示すような基を有する化合物。
合:表9、表10に示すような基を有する 化合物。
の場合:表11、表12に示すような基を有する化合
物。
-の場合:表13に示すような基を有する化合物。
の場合:表14に示すような基を有する化合物。
-の場合:表15、表16に示すような基を有する化合
物。
基などを表す(ただし、以下の基において、C*は光学
活性な不斉炭素原子を表す)。MET;CH3- ETY;C2H5- PRO;n-C3H7- BUT;n-C4H9- PEN;n-C5H11- HEX;n-C6H13- HEP;n-C7H15- OCT;n-C8H17- NON;n-C9H19- DEC;n-C10H21- −;直接結合を表す。
次の(I)の場合は化13もしくは化14、(II)の場
合は化17、(III)の場合は化18、(IV)の場合は
化21、(V)の場合は化24、(VI)の場合は化2
8、(VII)の場合は化29、(VIII)の場合は化31
の各工程を経て合成できる〔下記式中、R1、R2および
Xは一般式(1)の場合と同一である〕。 (I)Aが-X4-で、Yが-C≡C-の場合。
に、氷冷下でハロゲンを作用させることにより得た一般
式(2)の化合物と、ハロゲン化剤(例えばハロゲン化
アルキル)を、ジメチルスルホキシド中、水酸化ナトリ
ウムを加えて反応させることにより、一般式(3)の化
合物を得ることが出来る。一般式(3)の化合物を、3
-メチル-1-ブチン-3-オールとトリエチルアミン中、
不活性ガス雰囲気下0価または2価のパラジウム触媒を
用いて反応させ、一般式(4)の化合物とした後、無水
トルエン中、粉末の水酸化ナトリウムを作用させること
により、一般式(5)の化合物を得ることが出来る。一
般式(5)の化合物と、一般式(6)の化合物をトリエ
チルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2価の
パラジウム触媒を用いて反応させることにより、本発明
の化合物である一般式 (1a)の化合物を得ることが
出来る。あるいは、次の工程を経て合成することも出来
る。
メチル-1-ブチン-3-オールとトリエチルアミン中、不
活性ガス雰囲気下、0価または2価のパラジウム触媒を
用いて反応させて一般式(7)の化合物とした後、無水
トルエン中、粉末の水酸化ナトリウムを作用させること
により、一般式(8)の化合物を得ることが出来る。一
般式(8)の化合物と一般式(3)の化合物をトリエチ
ルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2価のパ
ラジウム触媒を用いて反応させることにより、本発明の
化合物である一般式(1a)の化合物を得ることが出来
る。また上記化合物(1a)の原料である一般式(6)
の化合物は、例えば次の(I)-1の場合は化15、
(I)-2の場合は化16の各工程を経て合成できる。 (I)-1 Xが直接結合の場合。
(10)の化合物を、トリエチルアミン中、不活性ガス
雰囲気下、0価または2価のパラジウム触媒を用いて反
応させて、一般式(11)の化合物とした後、エタノー
ル中、5%パラジウムカーボンを触媒に用いて水素添加
および還元することにより一般式(12)の化合物を得
ることが出来る。一般式(12)の化合物を亜硝酸ナト
リウムでジアゾ化した後、アルカリ金属のヨウ化物を作
用させることにより、一般式(6’)の化合物を得るこ
とが出来る。 (I)-2 Xが-O-の場合。
燥ジメチルホルムアミド中、アルコールのアルカリ金属
を作用させることにより、一般式(6”)の化合物を得
ることが出来る。 (II)Aが-Ph-で、Yが-C≡C-の場合。
リエチルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2
価のパラジウム触媒を用いて反応させることにより、本
発明の化合物である一般式(1b)の化合物を得ること
が出来る。 (III)Aが-X3-で、Yが-C≡C-の場合。
リエチルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2
価のパラジウム触媒を用いて反応させることにより、本
発明の化合物である一般式(1c)の化合物を得ること
が出来る。また、上記化合物(1c)の原料である一般
式(14)の化合物は、例えば次の(III)-1の場合は
化19、(III)-2の場合は化20の各工程を経て合成
できる。 (III)-1 Xが直接結合の場合。
を、エタノール中、二酸化白金を触媒に用いて水素添加
することにより2-ブロモ-5-アミノピリジンを得るこ
とが出来る。2-ブロモ-5-アミノピリジンを亜硝酸ナ
トリウムでジアゾ化した後、アルカリ金属のヨウ化物を
作用させることにより、2-ブロモ-5-ヨードピリジン
を得ることが出来る。2-ブロモ-5-ヨードピリジンと
一般式(10)の化合物を、トリエチルアミン中、不活
性ガス雰囲気下、0価または2価のパラジウム触媒を用
いて反応させて、一般式(15)の化合物とした後、エ
タノール中、二酸化白金を触媒に用いて水素添加するこ
とにより一般式(14’)の化合物を得ることが出来
る。 (III)-2 Xが-O-の場合。
冷下でヨウ化ナトリウムと次亜塩素酸ナトリウム水溶液
を加えることにより、2-ヨード-5-ヒドロキシピリジ
ンを得ることが出来る。2-ヨード-5-ヒドロキシピリ
ジンをアルキル化剤(例えばハロゲン化アルキル)でア
ルキル化することにより、一般式(14”)の化合物を
得ることが出来る。 (IV)Aが-X2-で、Yが-C≡C-の場合。
リエチルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2
価のパラジウム触媒を用いて反応させることにより、本
発明の化合物である一般式(1d)の化合物を得ること
が出来る。また、上記化合物(1d)の原料である一般
式(16)の化合物は、例えば次の(IV)-1の場合は
化22、(IV)-2の場合は化23の各工程を経て合成
できる。 (IV)-1 Xが直接結合の場合。
一般式(10)の化合物を、トリエチルアミン中、不活
性ガス雰囲気下0価または2価のパラジウム触媒を用い
て反応させて、一般式(17)の化合物とした後、エタ
ノール中、5%パラジウムカーボンを触媒に用いて水素
添加することにより一般式(18)の化合物を得ること
が出来る。一般式(18)の化合物と3-メチル-ブチン
-3-オールを、トリエチルアミン中、不活性ガス雰囲気
下、0価または2価のパラジウム触媒を用いて反応させ
て一般式(19)の化合物とした後、無水トルエン中、
粉末の水酸化ナトリウムを作用させることにより、一般
式(16’)の化合物を得ることが出来る。 (IV)-2 Xが-O-の場合。
に、乾燥ジメチルホルムアミド中、アルコールのアルカ
リ金属を作用させることにより、一般式(20)の化合
物を得ることが出来る。一般式(20)の化合物と3-
メチル-1-ブチン-3-オールを、トリエチルアミン中、
不活性ガス雰囲気下、0価または2価のパラジウム触媒
を用いて反応させて一般式(21)の化合物とした後、
無水トルエン中、粉末の水酸化ナトリウムを作用させる
ことにより、一般式(16”)の化合物を得ることが出
来る。
合。
リエチルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2
価のパラジウム触媒を用いて化合物(5)と反応させる
ことにより、本発明の化合物である一般式(1e )の化
合物を得ることが出来る。また、上記化合物(1e )の
原料である一般式(22)の化合物は、例えば次の化2
5の工程を経て合成できる。
活性ガス雰囲気下、0価または2価のパラジウムあるい
はニッケル触媒を用いて2,5−ハロゲノピリジン(例
えば2,5−ジブロモピリジン)と反応させることによ
り、一般式(22)の化合物を得ることが出来る。ま
た、上記一般式(22)の化合物の原料である一般式
(23)の化合物は、例えば次の(V)-1の場合は化2
6、(V)-2の場合は化27の各工程を経て合成でき
る。 (V)-1 Xが直接結合の場合。
式(10)の化合物を、トリエチルアミン中、不活性ガ
ス雰囲気下、0価または2価のパラジウム触媒を用いて
反応させ、一般式(25)の化合物とした後、エタノー
ル中、二酸化白金を触媒に用いて水素添加することによ
り一般式(26)の化合物を得ることが出来る。一般式
(26)の化合物に金属マグネシウムを作用させること
により、一般式(23’)の化合物を得ることが出来
る。 (V)-2 Xが-O-の場合。
メチルスルホキシド中、水酸化ナトリウム水溶液と、ハ
ロゲン化アルキル(例えば1-ヘキシルブロマイド)を
加えることにより、一般式(28)の化合物を得ること
が出来る。一般式(28)の化合物に、金属マグネシウ
ムを作用させることにより、一般式(23”)の化合物
を得ることが出来る。 (VI) Aが-Ph-X4-で、Yが-CH2CH2-の場合。
e)の化合物を、触媒にパラジウムカーボンを用いて水
素添加することにより、本発明の化合物である一般式
(1f)の化合物を得ることが出来る。 (VII)Aが-X1-Ph- で、Yが-C≡C- の場合。
リエチルアミン中、不活性ガス雰囲気下、0価または2
価のパラジウム触媒を用いて一般式(5)の化合物と反
応させることにより、本発明の化合物である一般式(1
g)の化合物を得ることが出来る。また、上記化合物
(1g)の原料である一般式(29)の化合物は、例え
ば次の化30の工程を経て合成できる。
冷下でトリフルオロメタンスルホン酸無水物を滴下し、
ピリジン中で反応させることにより、一般式(29)の
化合物を得ることが出来る。 (VIII)Aが-X1-Ph-で、Yが-CH2CH2-の場合。
g)の化合物を、触媒にパラジウムカーボンを用いて水
素添加することにより、本発明の化合物である一般式
(1h)の化合物を得ることが出来る。
はR2が光学活性な基である場合はカイラルスメクチッ
クC相を示し、光学活性でない場合はスメクチックC相
を示す。液晶は一般に二種以上の多成分から成る液晶組
成物として用いられ、本発明の液晶化合物も液晶組成物
の成分として利用することができる。本発明の液晶組成
物は、複数の化合物の混合物からなり、本発明の液晶化
合物を少なくとも一種含有するものである。本発明の液
晶組成物としては、例えば、スメクチックC相を示す本
発明の液晶組成物〔1〕および、カイラルスメクチック
C相を示す本発明の液晶組成物〔2〕が挙げられる。本
発明の液晶組成物〔1〕は、スメクチックC相を示す本
発明の液晶化合物を少なくとも一種必須成分とし、任意
成分として他のスメクチックC相を示す液晶化合物(2
-4’-アルキルオキシフェニル-5-アルキルピリミジ
ン、2-4’-アルキルフェニル-5-アルキルオキシピリ
ミジン、2-4’-アルキルオキシオキシフェニル-5-ア
ルキルオキシピリミジン、2-p-アルキルオキシカルボ
ニルフェニル-5-アルキルピリミジン、2-4’-アルキ
ルオキシ-3’-フルオロフェニル-5-アルキルピリミジ
ン、2-4’-アルキルオキシ-2’,3’-ジフルオロフ
ェニル-5-アルキルピリミジン、2-4’-アルキルオキ
シフェニル-5-アルキルピリミジン、2-4’-アルキル
オキシ-3’-フルオロフェニル-5-アルキルピリミジン
等)、スメクチックC相またはカイラルスメクチックC
相以外のスメクチック相を示す液晶化合物およびネマチ
ック相を示す液晶化合物から選ばれる化合物を含んだ混
合物である。本発明の液晶組成物〔1〕中、本発明の液
晶化合物一種以上の含有量は通常5〜100重量%であ
る。本発明の液晶組成物〔2〕は、本発明の液晶化合物
を必須成分とし、かつ光学活性化合物を少なくとも一種
以上含有する混合物である。この光学活性化合物は、本
発明の化合物であっても、他の光学活性化合物であって
も良い。本発明の液晶組成物〔2〕としては、例えば本
発明の液晶組成物〔1〕と、カイラルスメクチックC相
を示す本発明の液晶化合物、他のカイラルスメクチック
C相を示す液晶化合物〔光学活性4-アルキルオキシ-
4’-ビフェニルカルボン酸-p’-(2-メチルブチルオ
キシカルボニル)フェニルエステル、光学活性4-n-ア
ルキルオキシ-4’-ビフェニルカルボン酸-2-メチルブ
チルエステル等〕およびその他の光学活性な化合物(特
開昭63−99032、特開昭63−190843、特
開平2−138274、特開平2−256673、特開
平2−262579、特開平2−286673、特開平
3−27374号公報等に記載の化合物)から選ばれる
光学活性な化合物とを含有し、また必要により2色性色
素(アントラキノン系色素、アゾ系色素等)を含んだ混
合物が挙げられる。
圧印加により光スイッチング現象を起こし、これを利用
した応答の速い表示素子を作製できる〔たとえば特開昭
56-107216号 公報、特開昭59-118744号公報、エヌ エー
クラーク (N.A.Clark)、エスティー ラガウォール
(S.T.Lagerwall);アプライド フィジックス レター
(Applied Physics Letter) 36,899(1980)など〕。
〜10μm、好ましくは0.5〜3μmの液晶セルに真空封入
し、両側偏光子を設置することにより光スイッチング素
子(表示素子)として使用できる。上記液晶セルは透明
電極を設け、表面を配向処理した2枚のガラス基板をス
ペーサーを挟んで貼り合わせることによって作製するこ
とができる。上記スペーサーとしては、アルミナビー
ズ、ガラスファイバー、ポリイミドフィルムなどが挙げ
られる。配向処理方法としては、通常の配向処理、例え
ばポリイミド膜、ラビング処理、SiO斜め蒸着などが適
用できる。
るが、本発明はこれに限定されない。 実施例 1 表3中No.70の化合物の製造 2,3-ジフルオロフェノール45.00gをクロロホル
ム250mlに溶かしたものに、臭素55.40gをクロロホルム
に溶かしたものを氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温
で暫く攪拌したのち、水洗し、クロロホルムを除去し
た。その後、ヘキサンで4回再結晶することにより、
2,3-ジフルオロ-4-ブロモフェノール14.30gを得
た。 2,3-ジフルオロ-4-ブロモフェノール7.00gをジ
メチルスルホキシド50mlに溶かし、水酸化ナトリウム1.
47gとn-オクチルブロマイド6.34gを加えて室温で7日
間攪拌した。反応終了後、ヘキサンで抽出し、水洗した
後、ヘキサンを除去することにより、油状の2,3-ジフ
ルオロ-4-ブロモオクチルオキシベンゼン9.45gを得
た。 2,3-ジフルオロ-4-ブロモオクチルオキシベンゼ
ン1.90gと、3-メチル-1-ブチン-3-オール0.60gをト
リエチルアミン50ml中、触媒にジクロロビストリフェニ
ルホスフィンパラジウム(II)30mg、ヨウ化銅(I)8m
gと、トリフェニルホスフィン60mgを用いて窒素雰囲気
下、12時間加熱還流した。反応終了後、トリエチルア
ミンを除去した後、ヘキサンで抽出した。ヘキサン層を
1N塩酸による洗浄、水洗したのち、ヘキサンを減圧除
去することにより油状の下記化32で示される化合物
(a)1.79gを得た。
ン100mlに溶かし、粉末の水酸化ナトリウム0.47gを加
え、1時間加熱還流した。反応終了後、トルエンを除去
し、エーテルで抽出した。水洗後、エーテルを減圧除去
することにより、油状の下記化33で示される化合物
(b)1.16gを得た。
1-オクチン3.50gをトリエチルアミン50ml中、触媒にジ
クロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)20
4mgおよび ヨウ化銅(I)51mgを用いて窒素雰囲気下、
室温で一昼夜反応させた。反応終了後、トリエチルアミ
ンを除去し、ヘキサンで抽出した。ヘキサン層を塩酸水
による洗浄、水洗を経てから、トルエンに溶かしてシリ
カゲルカラム処理した後、メタノールで再結晶すること
により、下記化合物(c)3.00gを得た。 C6H13-C≡C-X4-NO2 (c) で得た化合物3.00gを含むエタノール30mlの中へ
触媒の5%パラジウムカーボン0.50gを加えて常圧の水
素雰囲気下、室温で攪拌して水素添加および還元を行っ
た。水素の吸収が無くなるのを確認した後、ろ過により
触媒を除き、次いでエタノールを減圧で除去することに
より、油状の2-n-オクチル-5-アミノピリジン2.60g
を得た。 36%塩酸11.00gを含む水100mlの中へ2-n-オク
チル-5-アミノピリジン2.60gを加えて、5℃以下に冷
却した。その中へ、別途調製した亜硝酸ナトリウム水溶
液(亜硝酸ナトリウム0.72g、水5ml)を5℃以下で滴下
した。滴下終了後、さらに1時間攪拌した後、ヨウ化カ
リウム水溶液(ヨウ化カリウム8.60g、水10ml)を加え
て徐々に室温に戻し、窒素の発生が無くなるまで攪拌し
た。反応終了 後、溶液に水酸化ナトリウムを加えてア
ルカリ性にし、ヘキサンで抽出した。ヘキサン層を水
洗、亜硫酸水素ナトリウム水による洗浄、水洗を経てか
らシリカゲルカラム処理することにより、油状の2-n-
オクチル-5-ヨードピリジン2.40g を得た。
32gと、で得た化合物(b)1.11gをトリエチルアミン
50ml中、触媒にジクロロビストリフェニルホスフィン
パラジウム(II)15mgとヨウ化銅(I)4mgを用いて、
窒素雰囲気下、室温で4時間攪拌した 。反応終了後、
トリエチルアミンを除去し、トルエンで抽出した。1N
塩酸で洗浄後、水洗し、シリカゲルカラムで精製した
後、エタノールで4回再結晶することにより、白色結晶
の本発明の化合物である表3中No.70の化合物0.41g
を得た。上記化合物のIRスペクトル、H-NMRスペ
クトルおよびF-NMRスペクトルをそれぞれ図1、図
2および図3に示す。
オロ-4-ブロモフェノール9.30gをジメチルスルホキシ
ド50mlに溶かし、水酸化ナトリウム1.96gとn-ノニルブ
ロマイド9.03gを加えて室温で7日間攪拌した。反応終
了後、ヘキサンで抽出し、水洗した後、ヘキサンを除去
することにより、油状の2,3-ジフルオロ-4-ブロモ-
n-ノニルオキシベンゼン13.27gを得た。 2,3-ジフルオロ-4-ブロモ-n-ノニルオキシベン
ゼン7.00gから、実施例1の〜と同様の操作を経る
ことにより、下記化34で示される化合物(d)4.18g
を得た。
りに1-ノニンを用いて実施例1の〜と同様の操作
を経て2-n-ノニル-5-ヨードピリジン3.50gを得た。 2-n-ノニル-5-ヨードピリジン2.47gとで得た
化合物(d)2.09gを、トリエチルアミン50ml中、触媒
にジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(I
I)26mgとヨウ化銅(I)7mgを用いて、窒素雰囲気下、
3時間室温で攪拌した。 反応終了後、トリエチルアミ
ンを除去し、トルエンで抽出した。1N塩酸で洗浄後、
水洗し、シリカゲルカラムで精製した後、エタノールで
4回再結晶することにより、白色結晶の本発明の化合物
である表3中No.76の化合物1.87gを得 た。上記化
合物のIRスペクトル、H-NMRスペクトルおよびF-
NMRスペクトルをそれぞれ図4、図5および図6に示
す。
mlに溶かし、ヨウ化ナトリウム5.78gと水酸化ナトリウ
ム1.54gを加え、5℃以下まで冷却した。そこへ、5%
次亜塩素酸ナトリウム水溶液90mlを3〜5℃で滴下し、
滴下終了後さらに1時間攪拌した。その後、10%チオ
硫酸ナトリウム水溶液40mlを加え、塩酸で中和した後、
エーテルで抽出した。エーテル層を水洗した後ヘキサン
で2回再結晶することにより、2,3-ジフルオロ-4-ヨ
ードフェノール6.40gを得た。 2,3-ジフルオロ-4-ヨードフェノール2.37gとn-
ヘキシルブロマイド1.51gより、実施例1のと同様の
操作を経て、2,3-ジフルオロ-4-ヨード-n-ヘキシル
オキシベンゼン2.57gを得た。 p-ヨードフェノール20.00gとn−デシルブロマイ
ド19.69gより、実施例1のと同様の操作を経て、p-
ヨード-n-デシルオキシベンゼン27.81gを得た。 p-ヨード-n-デシルオキシベンゼン27.81gと、3-
メチル-1-ブチン-3-オール7.79gをトリエチルアミン2
00ml中、触媒にジクロロビストリフェニルホスフィンパ
ラジウム(II)270mgと、ヨウ化銅(I)68mgを用いて
窒素雰囲気下、5時間室温で攪拌した。反応終了後、ト
リエチルアミンを除去した後、ヘキサンで抽出した。ヘ
キサン層を1N塩酸による洗浄、水洗したのち、ヘキサ
ンを減圧除去することにより油状の下記化35で示され
る化合物(e)20.02gを得た。
ン300mlに溶かし、粉末の水酸化ナトリウム2.79gを加
え、1時間加熱還流した。反応終了後、トルエンを除去
し、エーテルで抽出した。水洗後、エーテルを減圧除去
することにより、油状の下記化合物(f)13.08gを得
た。 C10H21-O-Ph-C≡CH (f) で得た化合物(f)2.44gと、で得た2,3-ジ
フルオロ-4-ヨード-n-ヘキシルオキシベンゼン2.57g
トリエチルアミン50ml中、触媒にジクロロビストリフェ
ニルホスフィンパラジウム(II)26mgとヨウ化銅(I)
7mgを用いて、窒素雰囲 気下、室温で10時間攪拌し
た。反応終了後、トリエチルアミンを除去し、トルエン
で抽出した。1N塩酸で洗浄後、水洗し、シリカゲルカ
ラムで精製した後、エタノールで4回再結晶することに
より、白色結晶の本発明の化合物である表1中No.1
8の化合物1.81gを得た。上記化合物のIRスペクト
ル、H-NMRスペクトルおよびF-NMRスペクトルを
それぞれ図7、図8および図9に示す。
オロ-4-ヨードフェノール5.00gと、エチルブロマイド
2.09gより、実施例1のと同様の操作を経て、2,3-
ジフルオロ-4-ヨードエトキシベンゼン4.45gを得た。 実施例1のの1-オクチンの代わりに、1-ペンチ
ンを用いて、実施例1の〜と同様の操作を経て2-
n-ペンチル-5-ヨードピリジン3.87gを得た。 実施例3ののp-ヨード-n-デシルオキシベンゼ
ンの代わりに、で得た2-n-ペンチル-5-ヨードピリ
ジン3.87gを用いて実施例3の〜と同様の操作を経
て 、油状の下記化合物(g)1.95gを得た。 C5H11-X4-C≡CH (g) で得た2,3-ジフルオロ-4-ヨードエトキシベ
ンゼン3.20gとで得た化合物(g)1.95gをトリエチル
アミン50ml中、触媒にジクロロビストリフェニルホスフ
ィンパラジウム(II)39mgとヨウ化銅(I)10mgを用い
て窒素雰囲気下、室温で8時間攪拌した。反応終了後、
トリエチルアミンを除去し、トルエンで抽出した。1N
塩酸で洗浄後、水洗し、シリカゲルカラムで精製した
後、メタノールで4回再結晶することにより、白色結晶
の本発明の化合物である表3中No.58の化合物1.48g
を得た。上記化合物のIRスペクトル、H-NMRスペ
クトルおよびF-NMRスペクトルをそれぞれ図10、
図11および図12に示す。
72の化合物を得た。
75の化合物を得た。
80の化合物を得た。
84の化合物を得た。
7の化合物を得た。
11の化合物を得た。
12の化合物を得た。
16の化合物を得た。
19の化合物を得た。
20の化合物を得た。
24の化合物を得た。
ール200mlの中へ触媒の二酸化白金1.00gを加えて、常圧
の水素雰囲気下、室温で攪拌して還元を行った。水素の
吸収がなくなるのを確認した後、濾過により触媒を除
き、ついでエタノールを減圧で除去することにより、2
-ブロモ-5-アミノピリジン19.34gを得た。 36%塩酸77.00gを含む水500mlの中へ2-ブロモ-
5-アミノピリジン15.34gを加えて、5℃に冷却した。
その中へ、別途調製した亜硝酸ナトリウム水溶液(亜硝
酸ナトリウム5.04g、水35ml)を5℃以下で滴下した。
滴下終了後、さらに1時間攪拌した後、ヨウ化カリウム
水溶液(ヨウ化カリウム60.00g、水70ml)を加えて徐々
に室温に戻し、窒素の発生がなくなるまで攪拌した。反
応終了後、水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性にし、
ヘキサンで抽出した。ヘキサン層を水洗、亜硫酸水素ナ
トリウムによる洗浄、水洗を経てからシリカゲルカラム
処理することにより、油状の2-ブロモ-5-ヨードピリ
ジン18.45gを得た。 2-ブロモ-5-ヨードピリジン11.20gと1-ノニン6.
36gを、トリエチルアミン100ml中、触媒にジクロロビス
トリフェニルホスフィンパラジウム(II)137mg、ヨウ
化銅(I)34mgを用いて、窒素雰囲気下、室温で7時間
攪拌した。反応終了後、ヘキサンで抽出し、水洗した
後、ヘキサンを減圧除去した。その後、シリカゲルカラ
ム処理することにより、下記化合物(h)9.98gを得
た。 C7H15-C≡C-X3-Br (h) 2-ブロモ-5-ニトロピリジンの代わりに上記で
得た化合物(h)9.98gを用いて上記と同様の操作を
行って水素添加することにより、2-ブロモ-5-n-ノニ
ルピリジン8.23gを得た。 2-ブロモ-5-n-ノニルピリジンを1.31gと実施例
2のと同様の操作を経て得た化合物(d)1.29gをト
リエチルアミン50ml中、触媒にジクロロビストリフェニ
ルホスフィンパラジウム(II)16mgとヨウ化銅(I)4m
gと、トリフェニルホスフィン24mgを用いて窒素雰囲気
下、3時間加熱還流した。反応終了後、トリエチルアミ
ンを除去し、トルエンで抽出した。1N塩酸で洗浄後、
水洗し、シリカゲルカラムで精製した後、エタノールで
4回再結晶することにより、白色結晶の本発明の化合物
である表6中No.168の化合物1.15gを得た。上記
化合物の構造を、IRスペクトル、H-NMRスペクト
ル、F-NMRスペクトルおよび元素分析により確認し
た。 IR(cm-1) 2924.0 2854.0 2216.0 1632.0 1516.0 1470.0 1307.0 1087.0 820.0 723.0 H-NMR(ppm) 0.83〜0.96(m,6H) 1.17〜1.40(m,2H) 1.40〜1.53 (m,2H) 1.53〜1.68(m,2H) 1.76〜1.90(m,2H) 2.63(t,2H) 4.06(t,2H) 6.67〜6.77(m,1H) 7.22〜7.32(m,1H) 7.44〜7.54(m,2H) 8.45(d,1H) 19F-NMR(ppm) -82.63(dd,1F) -57.21(dd,1F)
o.172の化合物を得た。
200mlに溶かし、これに水酸化ナトリウム水溶液(8.4g/
30ml)および1-ブロモヘキサン17.8gを加え、室温で4
日間攪拌した。反応混合物をヘキサンで抽出、水洗した
後、ヘキサンを除去することにより、油状のp-n-ヘキ
シルオキシヨードベンゼン31.0gを得た。 p-n-ヘキシルオキシヨードベンゼン15.0gとマグ
ネシウムより調製したグリニャール試薬のエーテル溶液
120ml、2,5-ジブロモピリジン14.0gの乾燥テトラヒ
ドロフラン溶液120mlとを、触媒にジクロロビストリフ
ェニルホスフィノブタンパラジウム357mgを用いて、窒
素雰囲気下、室温で5時間反応させた。水で反応を止
め、反応混合物を、エーテルで抽出、1N塩酸、水で順
次洗浄後、エーテルを除去した。その後メタノールから
再結晶することにより、下記化36で示される化合物
(i)8.9gを得た。
実施例1のにおいてn-オクチルブロマイドの代わり
にn-デシルブロマイドを用いるほかは実施例1の〜
と同様の操作を経て得た下記化37で示される化合物
(j)1.16gをトリエチルアミン50ml中、触媒にジクロ
ロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)16mgと
ヨウ化銅(I)4mgと、トリフェニルホスフィン24mgを
用いて窒素雰囲気下、7時間加熱還流した。反応終了
後、トリエチルアミンを除去し、トルエンで抽出した。
1N塩酸で洗浄後、水洗し、シリカゲルカラムで精製し
た後、エタノールで4回再結晶することにより、白色結
晶の本発明の化合物である表11中No.306の化合
物0.40gを得た。
ル、F-NMRスペクトルおよび元素分析により確認し
た。 H-NMR(ppm) 0.81〜0.97(m,6H) 1.18〜1.40(m,16H) 1.40〜1.54 (m,4H) 1.74〜1.88(m,4H) 3.96〜4.09(m,4H) 6.65〜 6.75(m,1H) 6.99(d,2H) 7.15〜7.25(m,1H) 7.65(d,1H) 7.82(dd,1H) 7.98(d,2H) 6.78(d,1H) 19F-NMR(ppm) -82.44(dd,1F) -57.54(dd,1F)
をエタノール40ml中、5%パラジウムカーボン100mgを
触媒として用いて、常圧の水素雰囲気下、室温で水素添
加した。反応終了後、エタノールを除去し、ヘキサンで
再結晶することにより白色結晶の本発明の化合物である
表13中No.333の化合物0.20gを得た。上記化合
物の構造を、IRスペクトル、H-NMRスペクトル、
F-NMRスペクトルおよび元素分析により確認した。 IR(cm-1) 2924 2856 1607 1518 1475 1396 1247 1176 1083 824 H-NMR(ppm) 0.80〜0.98(m,6H) 1.20〜1.40(m,16H) 1.40〜1.53 (m,4H) 1.71〜1.87(m,4H) 2.82〜2.94(m,4H) 6.56 〜6.77(m,2H) 6.97(d,2H) 7.45(dd,1H) 7.55 (d,1H) 7.91(d,2H) 8.41(d,1H) 19F-NMR(ppm) -83.64(dd,1F) -66.70(dd,1F)
ン80mlに溶かし、5℃以下でトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物2.27mlを滴下し、その後室温で2日間攪拌し
た。反応終了後、トルエンで抽出し、1N塩酸で洗浄、
水洗した後、シリカゲルカラム処理し、トルエンを除去
することにより、下記化39で示される化合物(l)3.
50gを得た。
実施例1のにおいてn-オクチルブロマイドの代わり
にn-ヘプチルブロマイドを用いて実施例1の〜と
同様の操作を経て得た下記化40で示される化合物
(m)1.09gをトリエチルアミン50ml中、触媒にジクロ
ロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)38mgと
ヨウ化銅(I)9mgと、トリフェニルホスフィン76mgを
用いて窒素雰囲気下、8時間加熱還流した。反応終了
後、トリエチルアミンを除去し、トルエンで抽出した。
1N塩酸で洗浄後、水洗し、シリカゲルカラムで精製し
た後、エタノールで4回再結晶することにより、白色結
晶の本発明の化合物である表14中No.381の化合
物1.30gを得た。
-NMRスペクトル、F-NMRスペクトルおよび元素分
析により確認した。 IR(cm-1) 2928 2858 1632 1586 1504 1483 1431 1301 1212 1087 859 797 H-NMR(ppm) 0.82〜0.94(m,6H) 1.18〜1.41(m,14H) 1.41〜1.52 (m,4H) 1.58〜1.70(m,2H) 1.76〜1.88(m,2H) 2.62 (t,2H) 4.05(t,2H) 6.66〜6.75(m,1H) 7.16〜7.24 (m,1H) 7.64(d,2H) 8.41(d,2H) 8.62(s,2H) 19F-NMR(ppm) -82.59(dd,1F) -57.64(dd,1F)
リエチルアミン50ml中、触媒にジクロロビストリフェニ
ルホスフィンパラジウム(II)23mgとヨウ化銅(I)6m
gと、トリフェニルホスフィン35mgを用いて窒素雰囲気
下、5時間加熱還流した。反応終了後、トリエチルアミ
ンを除去し、トルエンで抽出した。1N塩酸で洗浄後、
水洗し、トルエンを減圧除去することにより油状の下記
化41で示される化合物(n)1.60gを得た。
実施例1の〜と同様の操作を経て得た化合物(b)
1.63gトリエチルアミン50ml中、触媒にジクロロビスト
リフェニルホスフィンパラジウム(II)16mgとヨウ化銅
(I)4mgと、トリフェニルホスフィン25gを用いて窒素
雰囲気下、8時間加熱還流した。反応終了後、トリエチ
ルアミンを除去し、トルエンで抽出した。1N塩酸で洗
浄後、水洗し、シリカゲルカラムで精製した後、メタノ
ールで2回、ヘキサンで1回再結晶することにより、白
色結晶の本発明の化合物である表4中No.100の化
合物1.11gを得た。上記化合物の構造を、IRスペクト
ル、H-NMRスペクトル、F-NMRスペクトルおよび
元素分析により確認した。 IR(cm-1) 2922 2856 2220 1632 1514 1491 1303 1094 847 814 H-NMR(ppm) 0.81〜0.95(m,6H) 1.18〜1.39(m,16H) 1.39〜1.51 (m,4H) 1.55〜1.69(m,2H) 1.75〜1.88(m,2H) 2.42 (t,2H) 4.05(t,2H) 6.65〜6.75(m,1H) 7.11〜7.21 (m,1H) 7.33(d,1H) 7.71(dd,1H) 8.66(d,1H) 19F-NMR(ppm) -82.58(dd,1F) -57.64(dd,1F)
量%を示す。)と下記化42で示す化合物(o)(相転
移温度=Cry-SC;47.8℃、SC-SA;47.9℃、SA-IS
O;51.9℃)20%よりなる組成物を調製し、相転移温
度を調べた。
示し、かつSC相の下限温度が低下するだけでなく、SC
相上限温度もそれぞれの成分より高くなった組成物が得
られた。(相転移温度=Cry-SC;40.0℃、SC-SA;5
2.5℃、SA-Nem;53.5℃、Nem-ISO;54.9℃)
シフェニル-5-n-ノニルピリミジン(相転移温度=Cr
y-SC;35.6℃、SC-SA;61.4℃、SA-ISO;73.9℃)
80%よりなる組成物を調製し、相転移温度を調べた。
その結果、ISO-Nem-SA-SCの相系列を示し、かつSC
相の下限温度が低下するだけでなく、SC相上限温度も
それぞれの成分より高くなった組成物が得られた。(相
転移温度=Cry-SC;22.2℃、SC-SA;64.0℃、SA-
Nem;67.3℃、Nem-ISO;68.7℃)
キシフェニル-5-n-ノニルピリミジン90%よりなる
組成物を調製し、相転移温度を調べた。その結果、ISO
-Nem-SA-SCの相系列を示し、かつSC相の下限温度が
低下するだけでなく、SC相上限温度もそれぞれの成分
より高くなった組成物が得られた。(相転移温度=Cry
-SC;27.0℃、SC-SA;68.0℃、SA-Nem;71.2℃、
Nem-ISO;72.6℃)
オキシフェニル-5-n-デシルピリミジン(相転移温度
=Cry-SC;40.6℃、SC-SA;69.6℃、SA-ISO;74.
6℃)89%よりなる組成物を調製し、相転移温度を調
べた。その結果、ISO-Nem-SA-SCの相系列を示し、
かつSC相の下限温度が低下するだけでなく、SC相上限
温度もそれぞれの成分より高くなった組成物が得られ
た。(相転移温度=Cry-SC;38.0℃、SC-SA;70.8
℃、SA-Nem;71.6℃、Nem-ISO;72.2℃)実施例1
〜実施例21で得られた化合物の相転移温度を表17に
示す。
である。 Cry ;結晶相 SC ;スメクチックC相 SC* ;カイラルスメクチックC相 Nem ;ネマチック相 Ch ;コレステリック相 ISO ;等方性液体相 ・ ;相が存在する − ;相が存在しない ( );モノトロピック相を表す。
物またはカイラルスメクチックC液晶化合物を提供し、
またこれらのスメクチック液晶化合物は次のような顕著
な特徴を有する。 (1)液晶組成物には負の誘電率異方性が求められてい
るが、本発明のスメクチックC液晶化合物およびカイラ
ルスメクチックC液晶化合物は分子短軸方向に電子吸引
性ハロゲン原子が結合しているため、誘電率異方性が負
である。従って、本発明の液晶化合物を用いた本発明の
液晶組成物は誘電率異方性が負であるため、ACスタビ
ライズ法と呼ばれる液晶表示素子の駆動法を用いた場
合、メモリー性の向上が図れる。 (2)スメクチックC相より低温側に他のスメクチック
相がないため、混合によりスメクチックC相の温度範囲
を広げることができ、非常に有用である。(3)低粘度
である。 (4)分子が剛直なため、配向性が非常に良い。 (5)光、熱、水分に対する安定性が良い。 (6)スメクチックC相とネマチック相の間にスメクチ
ックA相がないものは、チルト角が大きく、チルト角を
調整するための成分としても非常に有用である。 (7)ISO-Nem-SCの相系列を示す本発明の液晶化合
物と、ISO-SA-SCの相系列を示す化合物を混合するこ
とにより、配向性の良いISO-Nem-SA-SCの相系列を
示す液晶組成物を得ることが出来る。 (8)ISO-Nem-SCの相系列を示す本発明の液晶化合
物と、ISO-SA-SCの相系列を示す化合物を混合するこ
とにより、その各成分のSC相上限温度よりも高いSC相
上限温度を示す液晶組成物を得ることができ、SC相の
温度範囲を広げるために非常に有用である。上記効果を
奏することから、本発明の液晶化合物は実用的な強誘電
性スメクチック液晶組成物を開発するにあたって非常に
有用な物質である。
を示す。
クトルを示す。
クトルを示す。
を示す。
クトルを示す。
クトルを示す。
を示す。
クトルを示す。
クトルを示す。
ルを示す。
ペクトルを示す。
ペクトルを示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式 【化1】 〔式中、R1、R2は、炭素数1〜18のアルキル基(た
だし、このアルキル基は、光学活性な基でも良く、かつ
基中の1個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、ア
ルキルオキシ基、トリフルオロメチル基またはシアノ基
で置換されていても良い。)であり、Xは、直接結合、
-O-または-C≡C-であり、Yは、-C≡C-または-CH2CH2-
であり、Aは、−Ph−、−X1−、−X2−、−X
3−、−X4−、−X5−、−Ph−X4−または−X1−
Ph−を表す(ただし、上記において、−Ph−は1〜
4個のフッ素原子または1〜2個の、塩素原子、臭素原
子、シアノ基もしくはニトロ基で置換されていても良い
1,4-フェニレン基を、−X1−、−X2−、−X3−、
−X4−、−X5−はこの順序で下記化2〜化6を各々表
す。 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 【化6】 また、Aが−Ph−のときは、Xは-O-である。)。〕
で示される液晶化合物。 - 【請求項2】 複数の化合物からなり、請求項1記載
の液晶化合物を少なくとも一種含有することを特徴とす
る液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4027128A JPH0776190B2 (ja) | 1991-01-19 | 1992-01-17 | 液晶化合物および液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1942591 | 1991-01-19 | ||
| JP3-19425 | 1991-10-09 | ||
| JP3-290859 | 1991-10-09 | ||
| JP29085991 | 1991-10-09 | ||
| JP4027128A JPH0776190B2 (ja) | 1991-01-19 | 1992-01-17 | 液晶化合物および液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05229980A JPH05229980A (ja) | 1993-09-07 |
| JPH0776190B2 true JPH0776190B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=27282617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4027128A Expired - Lifetime JPH0776190B2 (ja) | 1991-01-19 | 1992-01-17 | 液晶化合物および液晶組成物 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JPH0776190B2 (ja) |
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Family Cites Families (7)
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| JPS5648528U (ja) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | ||
| JPS58189131U (ja) * | 1982-06-08 | 1983-12-15 | 株式会社秋山 | サンバイザ− |
| JPS59424U (ja) * | 1982-06-23 | 1984-01-05 | 大和織ネ−ム株式会社 | サンバイザ− |
| JPS61147222U (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-11 | ||
| JPH0133610Y2 (ja) * | 1986-03-04 | 1989-10-12 |
-
1992
- 1992-01-17 JP JP4027128A patent/JPH0776190B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05229980A (ja) | 1993-09-07 |
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