JPH0777026B2 - ２値情報信号を記録する方法及びその装置 - Google Patents
２値情報信号を記録する方法及びその装置Info
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、その光学的性質が加熱により変化する情報層
を有する光学的に読み取り可能な記録担体に２値情報信
号を記録する方法であって、前記情報信号が光学的性質
が変化した記録領域と光学的性質が変化していない非記
録領域とからなる情報パターンにより表示され、前記記
録領域が前記情報層に放射線ビームを集束させるシステ
ムとその情報層とを互いに相対的に移動させることによ
って得られ、連続しかつ重なって１個の細長いマークを
構成する一連の記録用マークが、一連の分離された放射
線パルスによりエネルギーを照射してターゲット領域を
加熱する事により形成される、２値情報信号の記録方法
に関する。
を有する光学的に読み取り可能な記録担体に２値情報信
号を記録する方法であって、前記情報信号が光学的性質
が変化した記録領域と光学的性質が変化していない非記
録領域とからなる情報パターンにより表示され、前記記
録領域が前記情報層に放射線ビームを集束させるシステ
ムとその情報層とを互いに相対的に移動させることによ
って得られ、連続しかつ重なって１個の細長いマークを
構成する一連の記録用マークが、一連の分離された放射
線パルスによりエネルギーを照射してターゲット領域を
加熱する事により形成される、２値情報信号の記録方法
に関する。
このような方法と装置は、本出願人の出願に係る特開昭
58−182134号公報により既知である。この既知の方法と
装置に於いては、一つ一つの記録用マークはエネルギー
が一定の１個の放射線パルスによって形成される。この
放射線エネルギーを用いることによって、情報層には本
質的に一定寸法の記録用マークが形成されることにな
る。この方法は、記録用マークの位置で情報層が放射線
エネルギーの照射により除去されるアブラティブ（abla
tive）記録法に最適である。しかしながら、放射線エネ
ルギーによりそのターゲット領域の温度が瞬間的にしか
上昇せず、記録用マークの位置の情報層が除去されない
場合には、記録用マークの位置の物質の光学的性質が変
化し、記録用マークの寸法が一定にならなくなる。この
例としては、情報層が加熱によって結晶構造に変化する
非晶質構造を有している場合があげられる。記録用マー
クの寸法がこのように変化すると、情報パターンの読み
出しによって得られる読み出し信号が歪むこのになる。
58−182134号公報により既知である。この既知の方法と
装置に於いては、一つ一つの記録用マークはエネルギー
が一定の１個の放射線パルスによって形成される。この
放射線エネルギーを用いることによって、情報層には本
質的に一定寸法の記録用マークが形成されることにな
る。この方法は、記録用マークの位置で情報層が放射線
エネルギーの照射により除去されるアブラティブ（abla
tive）記録法に最適である。しかしながら、放射線エネ
ルギーによりそのターゲット領域の温度が瞬間的にしか
上昇せず、記録用マークの位置の情報層が除去されない
場合には、記録用マークの位置の物質の光学的性質が変
化し、記録用マークの寸法が一定にならなくなる。この
例としては、情報層が加熱によって結晶構造に変化する
非晶質構造を有している場合があげられる。記録用マー
クの寸法がこのように変化すると、情報パターンの読み
出しによって得られる読み出し信号が歪むこのになる。
本発明の目的は、最初のパラグラフで述べたタイプの記
録方法と装置を提供することにあり、これにより読み出
される出力信号の歪の発生が少ない情報パターンを有す
る記録担体が得られる。
録方法と装置を提供することにあり、これにより読み出
される出力信号の歪の発生が少ない情報パターンを有す
る記録担体が得られる。
その方法に関して、この目的を達成するために前記一連
の記録用マーク内の中の記録用マークの各々を形成する
放射線エネルギーは前記一連の記録用マーク内の中のそ
の記録用マークの位置に応じて決められる。
の記録用マーク内の中の記録用マークの各々を形成する
放射線エネルギーは前記一連の記録用マーク内の中のそ
の記録用マークの位置に応じて決められる。
その装置に関しては、その制御部を、連続した制御信号
の群の中の制御信号の位置に基づいてタイプの異なった
制御信号を発生させる信号発生手段と、エネルギー量が
制御信号のタイプに依存する放射線を放出する放射線源
から構成することによりその目的を達成した。
の群の中の制御信号の位置に基づいてタイプの異なった
制御信号を発生させる信号発生手段と、エネルギー量が
制御信号のタイプに依存する放射線を放出する放射線源
から構成することによりその目的を達成した。
この発明は、連続する記録用マークからなる１個の群の
内の１個の記録用マークを記録する時、加熱されるべき
ターゲット領域は、前記一連の記録用マーク内の内の先
行する記録用マークが記録される間の放射エネルギーの
照射によりすでに加熱されていると言う事実に基づいて
いる。各記録用マークを記録する間に照射される放射線
のエネルギーを調整し、対応する記録用マークの位置に
応じて、ターゲット領域にこの照射エネルギーによって
温度上昇を発生させることによって、先行する記録用マ
ークの形成の際に照射された放射線エネルギーの温度の
影響を単純に補償することができる。この結果、記録用
マークの寸法は、ターゲット領域で達する温度に依存す
るにしても本質的には一定となる。このようにして、読
み出し信号の歪を最小にすることができる。
内の１個の記録用マークを記録する時、加熱されるべき
ターゲット領域は、前記一連の記録用マーク内の内の先
行する記録用マークが記録される間の放射エネルギーの
照射によりすでに加熱されていると言う事実に基づいて
いる。各記録用マークを記録する間に照射される放射線
のエネルギーを調整し、対応する記録用マークの位置に
応じて、ターゲット領域にこの照射エネルギーによって
温度上昇を発生させることによって、先行する記録用マ
ークの形成の際に照射された放射線エネルギーの温度の
影響を単純に補償することができる。この結果、記録用
マークの寸法は、ターゲット領域で達する温度に依存す
るにしても本質的には一定となる。このようにして、読
み出し信号の歪を最小にすることができる。
実際上、次の方法により上述した温度の影響を受け入れ
可能な程度に補償することが可能である事が判った。そ
の方法とは前記一連の記録用マーク内の第１番目の記録
用マークを形成する放射エネルギーを第一の既定の方法
によって決め、第２番目以降の記録用マークを形成する
放射線エネルギーを第二の既定の方法によって決めるも
のである。放射線パルスの形で放射線エネルギーを照射
するという特に単純な方法に於いては、記録用マスクの
形成に必要な放射線エネルギーを照射するための放射線
のパルスの数は群の中の記録用マークの位置に依存す
る。
可能な程度に補償することが可能である事が判った。そ
の方法とは前記一連の記録用マーク内の第１番目の記録
用マークを形成する放射エネルギーを第一の既定の方法
によって決め、第２番目以降の記録用マークを形成する
放射線エネルギーを第二の既定の方法によって決めるも
のである。放射線パルスの形で放射線エネルギーを照射
するという特に単純な方法に於いては、記録用マスクの
形成に必要な放射線エネルギーを照射するための放射線
のパルスの数は群の中の記録用マークの位置に依存す
る。
さらに、その方法の特徴は前記一連の記録用マーク内の
第１番目の記録用マークが、既定時間間隔経過後に書き
込み放射線パルスが続く少なくとも１個の予備加熱放射
線パルスにより形成され、情報層に記録用マークを形成
する書き込み放射線パルスと予備加熱放射線パルスのエ
ネルギー量が、書き込み放射線パルスにより形成される
記録用マークが占める領域外の光学的性質を変化させな
いように決められていることにある。この方法に於いて
は、予備加熱放射線パルスは主に記録用マークが形成さ
れるターゲット領域の温度を上昇させるために用いられ
る。このことは、書き込み放射線パルスによって照射さ
れる放射線エネルギーの量を制限することができるとい
う利点をもたらす。
第１番目の記録用マークが、既定時間間隔経過後に書き
込み放射線パルスが続く少なくとも１個の予備加熱放射
線パルスにより形成され、情報層に記録用マークを形成
する書き込み放射線パルスと予備加熱放射線パルスのエ
ネルギー量が、書き込み放射線パルスにより形成される
記録用マークが占める領域外の光学的性質を変化させな
いように決められていることにある。この方法に於いて
は、予備加熱放射線パルスは主に記録用マークが形成さ
れるターゲット領域の温度を上昇させるために用いられ
る。このことは、書き込み放射線パルスによって照射さ
れる放射線エネルギーの量を制限することができるとい
う利点をもたらす。
情報層の材料に光学的性質上の変化を与えることによっ
て記録用マークを形成する最初のパラグラフで定義した
方法に於ける記録用マークの寸法は、同様のアブラティ
ブ記録方法により形成される記録用マークの寸法より通
常小さい。この結果、光学的性質が変更された記録用マ
ークにより得られる情報パターンは、すでにアブラティ
ブ記録法に対して確立されている規格に適合しない。本
発明の他の目的は、この欠点を改善する本発明に対応し
た方法の実施例を提供することにある。
て記録用マークを形成する最初のパラグラフで定義した
方法に於ける記録用マークの寸法は、同様のアブラティ
ブ記録方法により形成される記録用マークの寸法より通
常小さい。この結果、光学的性質が変更された記録用マ
ークにより得られる情報パターンは、すでにアブラティ
ブ記録法に対して確立されている規格に適合しない。本
発明の他の目的は、この欠点を改善する本発明に対応し
た方法の実施例を提供することにある。
この目的は、次のような方法で達成される。それは、情
報信号をビットセルによって構成し、第１論理値が連続
するビットセルの数を常に少なくとも２以上の整数であ
るｎとし書込領域を２以上の整数であるｍ個のビットセ
ルからなるとしたとき、本質的に等間隔なｍ−ｎ＋１個
の時点からなる列の各時点で放射線パルスを照射するこ
とにより記録用マークを形成して書き込み領域を得、こ
の際、当該時点の列の第１番目の時点より既定時間前の
時点に於いて、拡大放射線パルスを発生させて拡大され
た記録用マークを形成し、その拡大された記録用マーク
が時点列の第１番目の時点の記録用マークと重なるよう
にし、二つの重なった記録用マークの大きさをｎビット
セルの長さに対応させるものである。
報信号をビットセルによって構成し、第１論理値が連続
するビットセルの数を常に少なくとも２以上の整数であ
るｎとし書込領域を２以上の整数であるｍ個のビットセ
ルからなるとしたとき、本質的に等間隔なｍ−ｎ＋１個
の時点からなる列の各時点で放射線パルスを照射するこ
とにより記録用マークを形成して書き込み領域を得、こ
の際、当該時点の列の第１番目の時点より既定時間前の
時点に於いて、拡大放射線パルスを発生させて拡大され
た記録用マークを形成し、その拡大された記録用マーク
が時点列の第１番目の時点の記録用マークと重なるよう
にし、二つの重なった記録用マークの大きさをｎビット
セルの長さに対応させるものである。
装置の実施例の特徴は、信号発生手段が各群の第１番目
の制御信号には第一のタイプの制御信号を発生させ、そ
して、各群の各第２番目以降の制御信号には第二のタイ
プの制御信号を発生させるように構成されている点であ
る。この実施例は、２種類のタイプの制御信号を発生さ
せれば足りるので非常に好ましい。その簡易さという理
由で好ましいこの装置の他の実施例、つまり制御パルス
の形で制御信号を発生させる制御部が設けられていて、
制御パルス１個毎に放射線源が放射線パルスを発生させ
る実施例に於いては、制御信号の各タイプに対応した制
御パルスの数が制御信号からなる前記一連の記録用マー
ク内に於ける制御信号の位置によって決められる制御信
号を信号発生手段が発生させる点に特徴がある。
の制御信号には第一のタイプの制御信号を発生させ、そ
して、各群の各第２番目以降の制御信号には第二のタイ
プの制御信号を発生させるように構成されている点であ
る。この実施例は、２種類のタイプの制御信号を発生さ
せれば足りるので非常に好ましい。その簡易さという理
由で好ましいこの装置の他の実施例、つまり制御パルス
の形で制御信号を発生させる制御部が設けられていて、
制御パルス１個毎に放射線源が放射線パルスを発生させ
る実施例に於いては、制御信号の各タイプに対応した制
御パルスの数が制御信号からなる前記一連の記録用マー
ク内に於ける制御信号の位置によって決められる制御信
号を信号発生手段が発生させる点に特徴がある。
制御部がビットセルの長さに対応した長さを有する連続
する時間間隔からなる１個の群から時間間隔を選択し、
選択された時間間隔の各々に於いて制御パルスからなる
制御信号を発生させ、放射線源に制御パルス１個毎に応
じて１個の放射線パルスを発生させるように構成されて
いる別の装置の実施例の特徴は、選択された間隔内の時
点が連続的に選択された時間間隔からなる各群に於ける
選択された間隔の位置に対応するような制御信号を信号
発生手段が発生させる点にある。この実施例によると加
熱により光学的性質が変更できる情報層に情報パターン
を記録することが可能となり、またアブラティブ記録法
に対する通常の規格とも適合するパターンを得ることが
できる。
する時間間隔からなる１個の群から時間間隔を選択し、
選択された時間間隔の各々に於いて制御パルスからなる
制御信号を発生させ、放射線源に制御パルス１個毎に応
じて１個の放射線パルスを発生させるように構成されて
いる別の装置の実施例の特徴は、選択された間隔内の時
点が連続的に選択された時間間隔からなる各群に於ける
選択された間隔の位置に対応するような制御信号を信号
発生手段が発生させる点にある。この実施例によると加
熱により光学的性質が変更できる情報層に情報パターン
を記録することが可能となり、またアブラティブ記録法
に対する通常の規格とも適合するパターンを得ることが
できる。
この発明の実施例が、第１〜16図を例にして、さらに詳
細に説明される。
細に説明される。
第1a図は、情報層２を備えた透明記録担体１を示し、そ
の情報層の光学的性質は加熱とその後の情報層２の冷却
によって変更することができる。このような情報層２
は、例えば加熱によって情報層を部分的に溶解させ続い
てその層を急速に冷却させることによって結晶構造を変
える非晶質構造の材料からなる。そのような材料として
は、例えばTe,Se及びSbの合金があげられる。そのよう
な材料を研究したものとして、G.Bouwhuis,J.Braat,A.H
uyser,J.Pasman,G.van Rosmalen及びK.Schouhamer Immi
nk著“光学ディスクシステムの原理"Adam Hilger Ltd.,
Bristol 1985年発行の第219〜225頁があげられる。さら
に、第1a図は光学システム３を示し、このシステムによ
って例えばレーザービームの様な放射線源から発生した
放射線ビーム４が、情報層２に（0.9μ程度の大きさ
の）微小な放射線スポットを形成するように集束され
る。この放射線源が、情報層に光学的性質の変化が生じ
るのに十分な加熱エネルギーを有する放射線パルスＰを
発生させる。
の情報層の光学的性質は加熱とその後の情報層２の冷却
によって変更することができる。このような情報層２
は、例えば加熱によって情報層を部分的に溶解させ続い
てその層を急速に冷却させることによって結晶構造を変
える非晶質構造の材料からなる。そのような材料として
は、例えばTe,Se及びSbの合金があげられる。そのよう
な材料を研究したものとして、G.Bouwhuis,J.Braat,A.H
uyser,J.Pasman,G.van Rosmalen及びK.Schouhamer Immi
nk著“光学ディスクシステムの原理"Adam Hilger Ltd.,
Bristol 1985年発行の第219〜225頁があげられる。さら
に、第1a図は光学システム３を示し、このシステムによ
って例えばレーザービームの様な放射線源から発生した
放射線ビーム４が、情報層２に（0.9μ程度の大きさ
の）微小な放射線スポットを形成するように集束され
る。この放射線源が、情報層に光学的性質の変化が生じ
るのに十分な加熱エネルギーを有する放射線パルスＰを
発生させる。
第1b図は、上述の方法を用いた放射線パルスによって、
記録用マーク５が形成された情報層２の平面図を示す。
記録用マーク５が形成された情報層２の平面図を示す。
第1c図は、放射線パルスＰにより加熱された直後の情報
層２の線ｌに沿った温度Trの分布Ｔを示す。線６は光学
的性質が変化するための最低の記録レベルTsを示す。放
射線パルスＰによって印加される熱は、記録用マーク５
の周辺領域に広がるので記録用マーク５の位置の温度は
低下し記録用マークの周辺領域の温度は上昇する。放射
線パルスが照射された後の連続する２個の時点での情報
層内の温度分布が、第1c図のTaとTbで示されている。
層２の線ｌに沿った温度Trの分布Ｔを示す。線６は光学
的性質が変化するための最低の記録レベルTsを示す。放
射線パルスＰによって印加される熱は、記録用マーク５
の周辺領域に広がるので記録用マーク５の位置の温度は
低下し記録用マークの周辺領域の温度は上昇する。放射
線パルスが照射された後の連続する２個の時点での情報
層内の温度分布が、第1c図のTaとTbで示されている。
第2a図は、論理値“0"又は“1"を有する連続ビットセル
からなるデジタル情報信号の１個のビット群を示す。こ
こに示された信号は、論理値“1"を有するビットセルの
数が少なくとも３個になるようにエンコードされてい
る。このようなコーディングの例として、オランダ国特
許出願第8,004,028号に記載されているEFM法（Eight−t
o−Fourteen Modulation）があげられる。そしてこれ
は、コンパクト ディスク ディジタル オーディオシ
ステムに於いて光学読み取り可能なディスクにディジタ
ル オーディオ情報を記録する変調方法として使用され
ている。特開昭58−182134号公報に示されているよう
に、論理値“1"が３個連続するビットセルからなる１個
の群が１個の記録用マーク５で示されるように、EFM変
調された情報信号は、記録用マーク５からなる情報パタ
ーンを情報層２に形成することによって記録される（第
2c図参照）。論理値“1"のビットセルのさらに長い群
は、記録用マーク５を複数個重ねた領域により表示され
る。この様な記録用マークのパターンは、記録担体１を
光学システム３に対し矢印７の方向に移動させ（第1a図
参照）、一連の連続する時間間隔の内から選択された各
時間間隔に於いて、一連の放射線パルスＰによって、記
録レベルTs以上の温度に情報層を局部的に加熱して記録
用マーク５を形成することにより得られる。第2b図で
は、放射線パルスＰはP1,…,P6と標記されている。その
数字は一連の連続した放射線パルスＰ内の各放射線パル
スの順番を示している。一連の放射線パルス内の第２番
目以降のパルスP2,…,P6に対しては、次の記録用マーク
５が形成される領域での温度は、すでに放射線パルスが
照射されているので周囲温度Toを越えているであろう。
これらの温度上昇は、第2d図にTO1,TO2,TO3,TO5と記載
されている。これらのレベルは少しずつ上昇している。
からなるデジタル情報信号の１個のビット群を示す。こ
こに示された信号は、論理値“1"を有するビットセルの
数が少なくとも３個になるようにエンコードされてい
る。このようなコーディングの例として、オランダ国特
許出願第8,004,028号に記載されているEFM法（Eight−t
o−Fourteen Modulation）があげられる。そしてこれ
は、コンパクト ディスク ディジタル オーディオシ
ステムに於いて光学読み取り可能なディスクにディジタ
ル オーディオ情報を記録する変調方法として使用され
ている。特開昭58−182134号公報に示されているよう
に、論理値“1"が３個連続するビットセルからなる１個
の群が１個の記録用マーク５で示されるように、EFM変
調された情報信号は、記録用マーク５からなる情報パタ
ーンを情報層２に形成することによって記録される（第
2c図参照）。論理値“1"のビットセルのさらに長い群
は、記録用マーク５を複数個重ねた領域により表示され
る。この様な記録用マークのパターンは、記録担体１を
光学システム３に対し矢印７の方向に移動させ（第1a図
参照）、一連の連続する時間間隔の内から選択された各
時間間隔に於いて、一連の放射線パルスＰによって、記
録レベルTs以上の温度に情報層を局部的に加熱して記録
用マーク５を形成することにより得られる。第2b図で
は、放射線パルスＰはP1,…,P6と標記されている。その
数字は一連の連続した放射線パルスＰ内の各放射線パル
スの順番を示している。一連の放射線パルス内の第２番
目以降のパルスP2,…,P6に対しては、次の記録用マーク
５が形成される領域での温度は、すでに放射線パルスが
照射されているので周囲温度Toを越えているであろう。
これらの温度上昇は、第2d図にTO1,TO2,TO3,TO5と記載
されている。これらのレベルは少しずつ上昇している。
本発明の方法に於いては、一連の放射線パルス内の各放
射線パルスのエネルギー量Ｅは、１個の放射線パルスＰ
により生じる情報体中の温度上昇と前記一連の記録用マ
ーク内の内の以前の放射線パルスにより既に発生してい
る温度との合計が常に一定となる条件を考慮して、前記
一連の記録用マーク内の内の位置によって決められる。
情報層の温度分布は、第2d図中T1,…,T6で示されてい
る。数字はこの場合も対応する放射線パルスの順序の番
号を示している。このようにして得られた記録用マーク
５が第2c図に示されている。
射線パルスのエネルギー量Ｅは、１個の放射線パルスＰ
により生じる情報体中の温度上昇と前記一連の記録用マ
ーク内の内の以前の放射線パルスにより既に発生してい
る温度との合計が常に一定となる条件を考慮して、前記
一連の記録用マーク内の内の位置によって決められる。
情報層の温度分布は、第2d図中T1,…,T6で示されてい
る。数字はこの場合も対応する放射線パルスの順序の番
号を示している。このようにして得られた記録用マーク
５が第2c図に示されている。
第2e−ｇ図は、各放射線パルスＰのエネルギー量が同じ
である場合の記録用マークの大きさと記録担体の温度変
化T1,T2,…,T5を示す。この例に於ては記録用マーク５
の径が一定でないため、記録用マークの形成中の温度は
全ての記録用マーク５で同一ではなくなる。このように
大きさの異なる記録用マークからなる情報パターンを読
み出すと、読みだし信号は歪んでしまう。その場合には
記録用マーク５により反射される放射線の量が各記録用
マークで異なることになる。
である場合の記録用マークの大きさと記録担体の温度変
化T1,T2,…,T5を示す。この例に於ては記録用マーク５
の径が一定でないため、記録用マークの形成中の温度は
全ての記録用マーク５で同一ではなくなる。このように
大きさの異なる記録用マークからなる情報パターンを読
み出すと、読みだし信号は歪んでしまう。その場合には
記録用マーク５により反射される放射線の量が各記録用
マークで異なることになる。
第3a図は本発明の他の方法を示す。この実施例の場合、
一連の放射線パルス内の第１番目の放射線パルスのエネ
ルギー値はE1である。第２番目以降の各放射線パルスの
エネルギーは E1より小さいE2である。第3a図は、連続
して選択された５個の時間間隔τ1,…，τ５からなる一
連の放射線パルスP1,…,P5を示す。放射線パルスP1,…,
P5を照射した直後の情報層２に於けるパルスに対応した
温度分布T1,…,T5が第3b図に示されていて、その記録用
マークに対応する大きさは第3c図に示されている。第３
図から明らかなように、記録用マーク５の大きさは互い
に完全に等しくはない。しかしながら、記録用マークの
大きさの差は小さいので、これらの記録用マークにより
形成された情報パターンが読み出される時発生する読出
し信号の歪みは、無視することができる。
一連の放射線パルス内の第１番目の放射線パルスのエネ
ルギー値はE1である。第２番目以降の各放射線パルスの
エネルギーは E1より小さいE2である。第3a図は、連続
して選択された５個の時間間隔τ1,…，τ５からなる一
連の放射線パルスP1,…,P5を示す。放射線パルスP1,…,
P5を照射した直後の情報層２に於けるパルスに対応した
温度分布T1,…,T5が第3b図に示されていて、その記録用
マークに対応する大きさは第3c図に示されている。第３
図から明らかなように、記録用マーク５の大きさは互い
に完全に等しくはない。しかしながら、記録用マークの
大きさの差は小さいので、これらの記録用マークにより
形成された情報パターンが読み出される時発生する読出
し信号の歪みは、無視することができる。
以上述べてきた本発明の実施例では、選択された種々の
時間間隔内で照射される放射線エネルギーの量の差は、
エネルギー量の異なった放射線パルスＰを使用すること
によって得られる。エネルギー量の差は、例えば、照射
時間を一定にして強度を変えた放射線パルスの照射によ
って得られるし、また、強度を一定にし照射時間を変え
た放射線パルスによっても得ることができる。この２種
の方法のうち後者がその簡易性の故に好ましい。
時間間隔内で照射される放射線エネルギーの量の差は、
エネルギー量の異なった放射線パルスＰを使用すること
によって得られる。エネルギー量の差は、例えば、照射
時間を一定にして強度を変えた放射線パルスの照射によ
って得られるし、また、強度を一定にし照射時間を変え
た放射線パルスによっても得ることができる。この２種
の方法のうち後者がその簡易性の故に好ましい。
第４図は、選択された時間間隔τ中に照射される放射線
エネルギーの量を本発明の他の方法を使用して変化させ
る方法を示している。この方法によると放射線エネルギ
ーは、エネルギーの量が一定の照射される単位放射線パ
ルスの数によって制御される。第4a図は、連続して選択
された一連の時間間隔τの内の第１番目の選択時間間隔
τに於ける放射線エネルギーの照射状況を示す。この選
択時間間隔τに於いて、放射線エネルギーは各々が強度
ISと照射時間△τを有する放射線パルスＰ′とＰによっ
て得られる。
エネルギーの量を本発明の他の方法を使用して変化させ
る方法を示している。この方法によると放射線エネルギ
ーは、エネルギーの量が一定の照射される単位放射線パ
ルスの数によって制御される。第4a図は、連続して選択
された一連の時間間隔τの内の第１番目の選択時間間隔
τに於ける放射線エネルギーの照射状況を示す。この選
択時間間隔τに於いて、放射線エネルギーは各々が強度
ISと照射時間△τを有する放射線パルスＰ′とＰによっ
て得られる。
第4b図は、連続して選択された一連の時間間隔τの内の
第２番目及びそれ以降に選択された時間間隔τに対応す
る放射線エネルギーの照射状況を示す。この放射線エネ
ルギーは、この場合、１個の単位放射線パルスＰのみに
よって得られる。
第２番目及びそれ以降に選択された時間間隔τに対応す
る放射線エネルギーの照射状況を示す。この放射線エネ
ルギーは、この場合、１個の単位放射線パルスＰのみに
よって得られる。
第５図は、９個の連続して選択された一連の時間間隔τ
1,…，τ９内で単位放射線パルスを使用した上記の方法
によって、単位放射線パルスＰ′,P1,…,P9からなる放
射線エネルギーを照射した直後の情報層の温度分布
Ｔ′,T1,…,T9を示している。第５図から明らかなよう
に、予備加熱パルスP1′は、このパルスによって生じる
温度上昇によって情報層の温度が記録レベルTS以上にな
らないように制御される。それ故、この第１番目の単位
放射線パルスは情報層２の光学的性質に何ら変化を生じ
させない。このことは、一連の記録用マークの内の第１
番目の記録用マーク５が必要以上に大きくならないので
好ましいことである。比較のために、予備加熱パルスを
使用しない従来技術に従って放射線エネルギーを照射し
た場合の温度分布T1,…,T9を第6a図及び第6b図に示す。
第６図から明らかなように、情報層の温度変化及び記録
用マークの大きさの変化は予備加熱パルスP1′が照射さ
れないと大きくなる。アブラティブ記録方法によりEFM
信号を記録するには通常0.9μの放射線ビームが使用さ
れる。この直径のビームを使用すると記録用マークの大
きさは1.1μとなる。この記録用マークの大きさ1.1μは
論理値“1"のビットセル３個からなる１個の群の大きさ
に相当する。論理値“1"のビットセルが４個以上ある群
に対しては、先行する記録用マークに重ねて次の記録用
マークを0.3μずつずらして情報パターンを延長させ
る。記録用マークと延長部分の大きさのこのような比に
よって、情報パターンを読み出す際の読み出し信号の最
適なデューティサイクルが決まる。
1,…，τ９内で単位放射線パルスを使用した上記の方法
によって、単位放射線パルスＰ′,P1,…,P9からなる放
射線エネルギーを照射した直後の情報層の温度分布
Ｔ′,T1,…,T9を示している。第５図から明らかなよう
に、予備加熱パルスP1′は、このパルスによって生じる
温度上昇によって情報層の温度が記録レベルTS以上にな
らないように制御される。それ故、この第１番目の単位
放射線パルスは情報層２の光学的性質に何ら変化を生じ
させない。このことは、一連の記録用マークの内の第１
番目の記録用マーク５が必要以上に大きくならないので
好ましいことである。比較のために、予備加熱パルスを
使用しない従来技術に従って放射線エネルギーを照射し
た場合の温度分布T1,…,T9を第6a図及び第6b図に示す。
第６図から明らかなように、情報層の温度変化及び記録
用マークの大きさの変化は予備加熱パルスP1′が照射さ
れないと大きくなる。アブラティブ記録方法によりEFM
信号を記録するには通常0.9μの放射線ビームが使用さ
れる。この直径のビームを使用すると記録用マークの大
きさは1.1μとなる。この記録用マークの大きさ1.1μは
論理値“1"のビットセル３個からなる１個の群の大きさ
に相当する。論理値“1"のビットセルが４個以上ある群
に対しては、先行する記録用マークに重ねて次の記録用
マークを0.3μずつずらして情報パターンを延長させ
る。記録用マークと延長部分の大きさのこのような比に
よって、情報パターンを読み出す際の読み出し信号の最
適なデューティサイクルが決まる。
光学的性質が可変の情報層を有する記録担体にEFM信号
を記録する場合、その記録用マークの最適直径は、同一
直径の放射線ビームを用いてアブラティブ記録法によっ
て得たマークの直径よりも小さいことがしばしば見出さ
れている。もしそのような記録担体に記録するのに使用
する放射線ビームの直径をアブラティブ記録法のそれと
同じにするならば（標準化の点からは望ましいことであ
る）、２種類の記録方法により得られる記録用マークの
直径は等しくならなくなる。つまり、これら２種類の記
録方法により得られる情報パターンの大きさは等しくな
らない。
を記録する場合、その記録用マークの最適直径は、同一
直径の放射線ビームを用いてアブラティブ記録法によっ
て得たマークの直径よりも小さいことがしばしば見出さ
れている。もしそのような記録担体に記録するのに使用
する放射線ビームの直径をアブラティブ記録法のそれと
同じにするならば（標準化の点からは望ましいことであ
る）、２種類の記録方法により得られる記録用マークの
直径は等しくならなくなる。つまり、これら２種類の記
録方法により得られる情報パターンの大きさは等しくな
らない。
これ以後、アブラティブ記録法に於いて使用されるもの
と同じ径の放射線ビームを用いて、EFM信号のアブラテ
ィブ記録法に関して上述した規格にその大きさが適合す
る情報パターンを得ることができる本発明の方法を説明
する。この方法によると、ほとんど完全に互いに重なる
２個の記録用マークが、その全長がアブラティブ記録法
に於ける最適記録用マークの直径に対応した状態で、連
続した一連の選択時間間隔τの内の第１番目の時間間隔
τ内に形成される。
と同じ径の放射線ビームを用いて、EFM信号のアブラテ
ィブ記録法に関して上述した規格にその大きさが適合す
る情報パターンを得ることができる本発明の方法を説明
する。この方法によると、ほとんど完全に互いに重なる
２個の記録用マークが、その全長がアブラティブ記録法
に於ける最適記録用マークの直径に対応した状態で、連
続した一連の選択時間間隔τの内の第１番目の時間間隔
τ内に形成される。
第7a図は、２個の重なる記録用マークを第１番目の選択
時間間隔τ内に形成するための放射線エネルギーの照射
方法を示している。この方法では、放射線エネルギー
は、予備加熱用としてのＰ′、書き込みパルス用として
のＰとＰ″という等量のエネルギーを持つ３種類の放射
線パルスP,P′,P″により与えられる。
時間間隔τ内に形成するための放射線エネルギーの照射
方法を示している。この方法では、放射線エネルギー
は、予備加熱用としてのＰ′、書き込みパルス用として
のＰとＰ″という等量のエネルギーを持つ３種類の放射
線パルスP,P′,P″により与えられる。
第7b図は、連続して選択された一連の時間間隔τの内の
第２番目以降の時間間隔τに於ける放射線エネルギーの
照射方法を示している。この時、その放射線エネルギー
は１個の単位放射線パルスのみによって情報層２に与え
られる。
第２番目以降の時間間隔τに於ける放射線エネルギーの
照射方法を示している。この時、その放射線エネルギー
は１個の単位放射線パルスのみによって情報層２に与え
られる。
第8a図は、９個の連続して選択された時間間隔τ1,…，
τ９内に発生する単位放射線パルスP1′,P1″及びP1,
…,P9を示す。そしてこの場合の放射線エネルギーは第
７図に示した方法により照射される。
τ９内に発生する単位放射線パルスP1′,P1″及びP1,
…,P9を示す。そしてこの場合の放射線エネルギーは第
７図に示した方法により照射される。
第8b図は、放射線パルスＰ′,P″,P1,…,P9を照射した
直後の情報層２における温度分布Ｔ′,T″,T1,…,T9を
示す。
直後の情報層２における温度分布Ｔ′,T″,T1,…,T9を
示す。
第8c図中、一連の記録用マーク内の第１番目の選択時間
間隔中に形成されてその光学的性質が変更された領域が
参照番号10で示される。この領域10は、放射線パルス
P1″とP1により形成された２個の重なった記録用マーク
５からなり、第8c図の斜線部で示される。
間隔中に形成されてその光学的性質が変更された領域が
参照番号10で示される。この領域10は、放射線パルス
P1″とP1により形成された２個の重なった記録用マーク
５からなり、第8c図の斜線部で示される。
本発明の他の方法を第15図を参照して説明する。この方
法によると、アブラティブ記録法で通常用いられている
ビームの直径と同じ径のビームを用いて、EFM信号のア
ブラティブ記録法の当該規格に適合する大きさを有する
情報パターンを前述の感熱情報層に設けることができ
る。
法によると、アブラティブ記録法で通常用いられている
ビームの直径と同じ径のビームを用いて、EFM信号のア
ブラティブ記録法の当該規格に適合する大きさを有する
情報パターンを前述の感熱情報層に設けることができ
る。
第15a図は、４個連続している論理値“1"のビットセル
からなるEFM符号化情報を示す。この情報信号に対応す
る情報パターンは、第15b図に示された放射線パルスP1
＊＊,P1 ＊,P2 ＊及びP3 ＊により書き込むことが出来る。
対応する温度差T1 ＊＊,T1 ＊,T2 ＊及びT3 ＊が、第15c図
に示されている。放射線パルスP1 ＊及びP2 ＊により、そ
の寸法がアブラティブ記録法の最適寸法に対応した２個
の重なった記録用マーク5a及び5bが形成される。放射線
パルスP1 ＊＊は予備加熱パルスとして機能する。予備加
熱パルスP1 ＊＊により情報層の温度T1 ＊＊が記録レベル
TS以上のレベルに上昇することに注目されたい。この結
果、情報層の領域50の範囲の光学的性質が変化する。し
かしながら、図示のように、もしこの領域が小さくて完
全に記録用マーク5aに重なっている場合には、このこと
は問題とはならない。この場合領域50の光学的性質の変
化は情報層の大きさに影響を与えない。記録用マーク5
a,5b,5cにより形成されていて光学的性質が変更された
領域が論理値“1"の４個のビットセルに対応するように
するため、放射線パルスP3 ＊により記録用マーク5cが記
録用マーク5bと重なるように記録される。連続して選択
された一連の時間間隔の内の第１番目の選択時間間隔τ
１に於いては、互いに相対的にシフトされた２個の放射
線パルスをその時間間隔τ１中に固定された時点t1とt2
とで発生させ、続いて第２番目以降の選択時間間隔τ2,
τ3,…の各々に於いては、１個の放射線パルスをこれら
の各時間間隔内の固定時点t3で発生させるようにして、
連続する一連の放射線パルスP1 ＊＊,P1 ＊,P2 ＊及びP3 ＊
を得ることができる。
からなるEFM符号化情報を示す。この情報信号に対応す
る情報パターンは、第15b図に示された放射線パルスP1
＊＊,P1 ＊,P2 ＊及びP3 ＊により書き込むことが出来る。
対応する温度差T1 ＊＊,T1 ＊,T2 ＊及びT3 ＊が、第15c図
に示されている。放射線パルスP1 ＊及びP2 ＊により、そ
の寸法がアブラティブ記録法の最適寸法に対応した２個
の重なった記録用マーク5a及び5bが形成される。放射線
パルスP1 ＊＊は予備加熱パルスとして機能する。予備加
熱パルスP1 ＊＊により情報層の温度T1 ＊＊が記録レベル
TS以上のレベルに上昇することに注目されたい。この結
果、情報層の領域50の範囲の光学的性質が変化する。し
かしながら、図示のように、もしこの領域が小さくて完
全に記録用マーク5aに重なっている場合には、このこと
は問題とはならない。この場合領域50の光学的性質の変
化は情報層の大きさに影響を与えない。記録用マーク5
a,5b,5cにより形成されていて光学的性質が変更された
領域が論理値“1"の４個のビットセルに対応するように
するため、放射線パルスP3 ＊により記録用マーク5cが記
録用マーク5bと重なるように記録される。連続して選択
された一連の時間間隔の内の第１番目の選択時間間隔τ
１に於いては、互いに相対的にシフトされた２個の放射
線パルスをその時間間隔τ１中に固定された時点t1とt2
とで発生させ、続いて第２番目以降の選択時間間隔τ2,
τ3,…の各々に於いては、１個の放射線パルスをこれら
の各時間間隔内の固定時点t3で発生させるようにして、
連続する一連の放射線パルスP1 ＊＊,P1 ＊,P2 ＊及びP3 ＊
を得ることができる。
第９図は、本発明の方法を実施するための装置20の実施
例を示す。この装置はディスク形状の情報担体１を回転
させる駆動システム21からなる。光学システム３は、回
転する記録担体１の情報層２の反対側に置かれ、放射線
源22から放出された放射線ビーム４は情報層２に集束す
る。放射線源22は、放出された放射線の強度を制御部23
が発生する制御信号RSに応じて変調することが出来る。
放射線源22は、制御信号RSの論理レベルに応じてON,OFF
となる、例えば固体レーザーでも良い。他の適当な放射
線源22が第10図に示されている。この放射線源22は放射
線ビーム４を連続的に発生するレーザー25からなる。ビ
ーム４は、制御信号RSによって制御される音響−光学変
調器26を通過する。その音響−光学変調器26は制御信号
の論理レベルに応じてそのビームを変向させたりさせな
かったりする。その結果、光学システム３に到達するビ
ーム４は制御信号RSに対応していることになる。
例を示す。この装置はディスク形状の情報担体１を回転
させる駆動システム21からなる。光学システム３は、回
転する記録担体１の情報層２の反対側に置かれ、放射線
源22から放出された放射線ビーム４は情報層２に集束す
る。放射線源22は、放出された放射線の強度を制御部23
が発生する制御信号RSに応じて変調することが出来る。
放射線源22は、制御信号RSの論理レベルに応じてON,OFF
となる、例えば固体レーザーでも良い。他の適当な放射
線源22が第10図に示されている。この放射線源22は放射
線ビーム４を連続的に発生するレーザー25からなる。ビ
ーム４は、制御信号RSによって制御される音響−光学変
調器26を通過する。その音響−光学変調器26は制御信号
の論理レベルに応じてそのビームを変向させたりさせな
かったりする。その結果、光学システム３に到達するビ
ーム４は制御信号RSに対応していることになる。
第11図は、放射線22の制御信号RSを発生する制御部23の
一例を示している。情報信号Vi（第12図参照）は、論理
値“1"のビットセルの数が少なくとも３個連続する２値
化信号、例えばEFM符号化信号である。制御部23は、記
録されるべき情報信号Viを記憶するメモリ30を有する。
メモリ30は、クロック信号Cl′に同期して出力に情報信
号Viを供給する。このようなメモリの例としてはシフト
レジスタがあげられる。クロック信号Cl′の連続する期
間は、連続する当該時間間隔に対応する。クロック信号
Cl′は、３ビットカウンタ31によって、その周波数が８
倍高速であるクロック信号Clから作られる。第12図は、
時間の函数として信号Cl,Cl′及びViを示している。ク
ロック信号Clは、情報信号Viが記録されるべき領域での
記録担体１の速度に同期している。クロック信号を発生
させる方法は、本発明の範囲外であるのでここでは詳述
しない。これの参照文献には本出願人の特開昭56−1053
43号公報があげられる。この出願には、光学的に読み取
り可能な記録担体に記録する目的のための速度−同期ク
ロック信号を発生させる方法が包括的に記載されてい
る。メモリ30から供給された情報信号Viは、遅延回路32
と33、例えばクロック信号Cl′により制御された１ビッ
トシフトレジスタ、によりクロック信号Cl′の２クロッ
ク周期分遅延される。遅延された情報信号Vi′が第12図
に示されている。ANDゲート34に情報信号Viと遅延情報
信号Vi′が加えられ、記録用マークが形成されるべき選
択時間間隔を示す信号VSが出力される。
一例を示している。情報信号Vi（第12図参照）は、論理
値“1"のビットセルの数が少なくとも３個連続する２値
化信号、例えばEFM符号化信号である。制御部23は、記
録されるべき情報信号Viを記憶するメモリ30を有する。
メモリ30は、クロック信号Cl′に同期して出力に情報信
号Viを供給する。このようなメモリの例としてはシフト
レジスタがあげられる。クロック信号Cl′の連続する期
間は、連続する当該時間間隔に対応する。クロック信号
Cl′は、３ビットカウンタ31によって、その周波数が８
倍高速であるクロック信号Clから作られる。第12図は、
時間の函数として信号Cl,Cl′及びViを示している。ク
ロック信号Clは、情報信号Viが記録されるべき領域での
記録担体１の速度に同期している。クロック信号を発生
させる方法は、本発明の範囲外であるのでここでは詳述
しない。これの参照文献には本出願人の特開昭56−1053
43号公報があげられる。この出願には、光学的に読み取
り可能な記録担体に記録する目的のための速度−同期ク
ロック信号を発生させる方法が包括的に記載されてい
る。メモリ30から供給された情報信号Viは、遅延回路32
と33、例えばクロック信号Cl′により制御された１ビッ
トシフトレジスタ、によりクロック信号Cl′の２クロッ
ク周期分遅延される。遅延された情報信号Vi′が第12図
に示されている。ANDゲート34に情報信号Viと遅延情報
信号Vi′が加えられ、記録用マークが形成されるべき選
択時間間隔を示す信号VSが出力される。
クロック信号Cl′によってクロックされるフリップフロ
ップの形でメモリ35に信号VSが１単位時間間隔τの間記
憶される。インバータ回路37とANDゲート38に信号VSとV
S′が入力されて信号Vg2が出力されると、VSで表示され
た選択時間間隔の先頭は選択時間間隔τであることが示
される。ANDゲート36に信号VSとVS′が入力されて信号V
g1が発生すると、VSで表示された選択時間間隔の先頭は
選択時間間隔τであることが示される。回路39が２個の
制御信号 R1とR2を３−ビットカウンタ31のカウントに
より発生させる。信号R1は連続する選択時間間隔τから
なる１個の群の各第１番目の選択時間間隔τ内での放射
線源22に対する制御信号を示している。信号R2は、連続
する選択時間間隔τからなる各群に於ける第２番目以降
の各選択時間間隔内での放射線源22に対する制御信号を
示している。信号Vg2が、一連の選択時間間隔の内の第
１番目の時間間隔内に記録用マークが書き込まれるべき
であることが示されている場合には、制御信号R1′がAN
Dゲート40とORゲート42とによって放射線源22に伝達さ
れる。もし信号Vg1が、一連の選択時間間隔τの内の第
２番目以降の時間間隔内に記録用マークが書き込まれる
べきであるということが示されている場合には、制御信
号R2′がANDゲート41とORゲート42とによって放射線源2
2に伝達される。
ップの形でメモリ35に信号VSが１単位時間間隔τの間記
憶される。インバータ回路37とANDゲート38に信号VSとV
S′が入力されて信号Vg2が出力されると、VSで表示され
た選択時間間隔の先頭は選択時間間隔τであることが示
される。ANDゲート36に信号VSとVS′が入力されて信号V
g1が発生すると、VSで表示された選択時間間隔の先頭は
選択時間間隔τであることが示される。回路39が２個の
制御信号 R1とR2を３−ビットカウンタ31のカウントに
より発生させる。信号R1は連続する選択時間間隔τから
なる１個の群の各第１番目の選択時間間隔τ内での放射
線源22に対する制御信号を示している。信号R2は、連続
する選択時間間隔τからなる各群に於ける第２番目以降
の各選択時間間隔内での放射線源22に対する制御信号を
示している。信号Vg2が、一連の選択時間間隔の内の第
１番目の時間間隔内に記録用マークが書き込まれるべき
であることが示されている場合には、制御信号R1′がAN
Dゲート40とORゲート42とによって放射線源22に伝達さ
れる。もし信号Vg1が、一連の選択時間間隔τの内の第
２番目以降の時間間隔内に記録用マークが書き込まれる
べきであるということが示されている場合には、制御信
号R2′がANDゲート41とORゲート42とによって放射線源2
2に伝達される。
第12図に示した制御信号R1とR2は一定のデューレーショ
ンのパルスからなり、R1は各時間間隔τ内で３個の単位
パルスを発生させ、R2は各時間間隔τ内で１個の単位パ
ルスのみしか発生させない。制御信号R1とR2は、例え
ば、第13図に示した回路39によってカウンタ31のカウン
トにより作られる。この回路はカウンタ31のカウントに
応じて３個の信号S1,S2及びR2を発生するゲート回路54
からなる。
ンのパルスからなり、R1は各時間間隔τ内で３個の単位
パルスを発生させ、R2は各時間間隔τ内で１個の単位パ
ルスのみしか発生させない。制御信号R1とR2は、例え
ば、第13図に示した回路39によってカウンタ31のカウン
トにより作られる。この回路はカウンタ31のカウントに
応じて３個の信号S1,S2及びR2を発生するゲート回路54
からなる。
連続するカウントA0,…,A7,カウンタ31の出力信号Q1,Q2
及びQ3並びに出力信号S1,S2及びR2の関係が、次の表１
に示されている。
及びQ3並びに出力信号S1,S2及びR2の関係が、次の表１
に示されている。
信号S1,S2及びR2は、出力信号R1を発生させるORゲート5
1に加えられる。
1に加えられる。
第14図は、制御信号R1とR2とを発生させる回路39の他の
例を示す。この回路は、各時間間隔τに於いて制御信号
R1に応じて第一の幅の制御パルスを発生させ、各時間間
隔において制御信号R2に応じて、第一の幅より狭い第二
の幅の制御パルスを発生させる。この目的のために、こ
の回路は２個の単安定マルチバイブレータ52及び53から
構成され、カウンタ31の出力信号Q1の０−１遷移に応じ
て、マルチバイブレータ52は幅の広いパルスを、マルチ
バイブレータ53は狭いパルスを発生させる。
例を示す。この回路は、各時間間隔τに於いて制御信号
R1に応じて第一の幅の制御パルスを発生させ、各時間間
隔において制御信号R2に応じて、第一の幅より狭い第二
の幅の制御パルスを発生させる。この目的のために、こ
の回路は２個の単安定マルチバイブレータ52及び53から
構成され、カウンタ31の出力信号Q1の０−１遷移に応じ
て、マルチバイブレータ52は幅の広いパルスを、マルチ
バイブレータ53は狭いパルスを発生させる。
第16図は、第15図に示された書き込み方法を実行するた
めの装置の実施例を示し、この装置の各部分は第11図で
同じ参照番号を附した部分に対応している。第16図に於
いては、信号ViとCl′の２クロック周期分遅延された信
号Vi′の代わりに、ViとCl′の１クロック周期分遅延さ
れた信号Via′がANDゲート34に与えられる。１個の“３
ビット”マークは第８図に於いては１個の時間間隔内で
書き込まれるが、第15図の方法では２個の連続する時間
間隔内で書き込まれるので、信号Viは１個の時間間隔の
み遅延されれば良く、遅延回路33は不必要となる。第16
図の実施例に於いては、選択された時間間隔τを示す出
力信号Vsaは、論理値“1"がＳ個連続するビットセルか
らなる各群のＳ−１個の時間間隔の間“1"になる。信号
Vsaで示される一連の記録用マーク内の第１番目の選択
時間間隔の間、回路39aから出力信号R1aが放射線源22に
送られる。一連の選択時間間隔の内の第２番目以降の選
択時間間隔の間には、信号R2aが与えられる。信号R1aと
R2aは、例えば、第13図の場合と同様に、カウンタ31の
カウントから得ることができる。R1aとR2a及びカウンタ
31の出力信号Q1,Q2及びQ3の関係が次の表２に示されて
いる。
めの装置の実施例を示し、この装置の各部分は第11図で
同じ参照番号を附した部分に対応している。第16図に於
いては、信号ViとCl′の２クロック周期分遅延された信
号Vi′の代わりに、ViとCl′の１クロック周期分遅延さ
れた信号Via′がANDゲート34に与えられる。１個の“３
ビット”マークは第８図に於いては１個の時間間隔内で
書き込まれるが、第15図の方法では２個の連続する時間
間隔内で書き込まれるので、信号Viは１個の時間間隔の
み遅延されれば良く、遅延回路33は不必要となる。第16
図の実施例に於いては、選択された時間間隔τを示す出
力信号Vsaは、論理値“1"がＳ個連続するビットセルか
らなる各群のＳ−１個の時間間隔の間“1"になる。信号
Vsaで示される一連の記録用マーク内の第１番目の選択
時間間隔の間、回路39aから出力信号R1aが放射線源22に
送られる。一連の選択時間間隔の内の第２番目以降の選
択時間間隔の間には、信号R2aが与えられる。信号R1aと
R2aは、例えば、第13図の場合と同様に、カウンタ31の
カウントから得ることができる。R1aとR2a及びカウンタ
31の出力信号Q1,Q2及びQ3の関係が次の表２に示されて
いる。
第８図の書き込み方法と第15図の書き込み方法の相違
は、１個の“３ビット”マーク（第８図の10及び第15図
中の5aと5b）を書き込むのに、第８図の方法では３個の
パルスを１個の時間間隔内に発生させているが、第15図
の方法に於いては２個の連続する時間間隔内に３個のパ
ルスを発生させている点にある。第15図の第３パルスの
（この時間間隔内での）“時点”は“t3"である。この
時点は、第４パルスを発生させる“時点”と同じであ
る。第１番目の時間間隔内のt2と第２番目の時間間隔内
のt3との間の時間差は、対応するマーク5aと5bの長さが
１個の“３ビット”マークを示すように選択される。
は、１個の“３ビット”マーク（第８図の10及び第15図
中の5aと5b）を書き込むのに、第８図の方法では３個の
パルスを１個の時間間隔内に発生させているが、第15図
の方法に於いては２個の連続する時間間隔内に３個のパ
ルスを発生させている点にある。第15図の第３パルスの
（この時間間隔内での）“時点”は“t3"である。この
時点は、第４パルスを発生させる“時点”と同じであ
る。第１番目の時間間隔内のt2と第２番目の時間間隔内
のt3との間の時間差は、対応するマーク5aと5bの長さが
１個の“３ビット”マークを示すように選択される。
第15図の方法に於いては、“時点"t1とt2でパルスを発
生させる制御信号R1aと、“時点"t3でパルスを発生させ
る制御信号R2aという２種類の制御信号のみで足りる。
生させる制御信号R1aと、“時点"t3でパルスを発生させ
る制御信号R2aという２種類の制御信号のみで足りる。
前述した制御部は、放射線源22に対し２種類の異なった
タイプの制御信号しか発生させていない。同様な方法で
もっと多くの異なったタイプの制御信号を発生させるこ
とが出来ることは明らかであろう。
タイプの制御信号しか発生させていない。同様な方法で
もっと多くの異なったタイプの制御信号を発生させるこ
とが出来ることは明らかであろう。
EFM符号化情報信号を例に本発明の説明を行った。この
様な情報信号の場合、選択された時間間隔内の記録用マ
ークの寸法は、タイプの同じ３ビットからなる１個の群
の寸法に対応している。同じタイプのもっと長いビット
群も、記録用マークを重ねて形成することにより得るこ
とができる。本発明の方法によれば、先行する時間間隔
で照射された放射線エネルギーによって生じた温度効果
を補償することができる。そのような温度効果は、又、
記録用マークの長さが３ビット以外の長さ、例えば１ビ
ットに対応する情報信号を記録する場合にも発生する。
本発明がそのような場合にも容易に適用できることは言
うまでもない。
様な情報信号の場合、選択された時間間隔内の記録用マ
ークの寸法は、タイプの同じ３ビットからなる１個の群
の寸法に対応している。同じタイプのもっと長いビット
群も、記録用マークを重ねて形成することにより得るこ
とができる。本発明の方法によれば、先行する時間間隔
で照射された放射線エネルギーによって生じた温度効果
を補償することができる。そのような温度効果は、又、
記録用マークの長さが３ビット以外の長さ、例えば１ビ
ットに対応する情報信号を記録する場合にも発生する。
本発明がそのような場合にも容易に適用できることは言
うまでもない。
本発明は、その構造が加熱によって非晶質から結晶体に
変化することが可能な材料からなる情報層について記述
された。本発明には、光学的性質が加熱により変えられ
る他の材料、例えば、熱を加えると化学反応を誘起し光
学的性質に変化をもたらすもの、又は、熱磁気記録法に
用いられる材料を用いることも可能であることはこれも
当業者にとって明らかなことであろう。これらの材料に
関しては、前述した書籍“光学ディスクシステムの原
理”の第219〜225頁を参照されたい。
変化することが可能な材料からなる情報層について記述
された。本発明には、光学的性質が加熱により変えられ
る他の材料、例えば、熱を加えると化学反応を誘起し光
学的性質に変化をもたらすもの、又は、熱磁気記録法に
用いられる材料を用いることも可能であることはこれも
当業者にとって明らかなことであろう。これらの材料に
関しては、前述した書籍“光学ディスクシステムの原
理”の第219〜225頁を参照されたい。
第１図は、光学的性質が加熱によって変更する事が可能
な材料に２値信号を記録する原理を示し、第２、３、
５、８、及び15図は、本発明による２値信号の記録方法
を示し、 第４図及び７図は、本発明の方法に従って放射線エネル
ギーを照射する例を示し、 第６図は、２値信号を記録する従来方法を示し、第９及
び16図は、本発明の記録方法を実施する装置の実施例を
示し、 第10図は、第９図に示された装置の使用に適した放射線
源の一例を示し、 第11図は、放射線源を制御するための第９図の制御部の
最適例を示し、 第12図は、第11図に示された制御部により発生する信号
を示し、第13及び14図は、第11図に示された制御部の部
分を示す。 １……透明記録体、２……情報層、３……光学システ
ム、 ４……放射線ビーム、５……記録用マーク、 ６……記録レベルTSを示す線、７……矢印、 10,50……光学的性質が変更された領域、 20……本発明の方法を実施する装置、21……駆動システ
ム、 22……放射線源、23……制御部、25……レーザー、 26……音響−光学変調器、 30,35……メモリ、31……３ビットカウンタ、 32,33……遅延回路、 34,36,38,40,41……ANDゲート、 37……インバータ回路、39……信号発生回路、 42,51……ORゲート、52,53……マルチバイブレータ、 54……ゲート回路。
な材料に２値信号を記録する原理を示し、第２、３、
５、８、及び15図は、本発明による２値信号の記録方法
を示し、 第４図及び７図は、本発明の方法に従って放射線エネル
ギーを照射する例を示し、 第６図は、２値信号を記録する従来方法を示し、第９及
び16図は、本発明の記録方法を実施する装置の実施例を
示し、 第10図は、第９図に示された装置の使用に適した放射線
源の一例を示し、 第11図は、放射線源を制御するための第９図の制御部の
最適例を示し、 第12図は、第11図に示された制御部により発生する信号
を示し、第13及び14図は、第11図に示された制御部の部
分を示す。 １……透明記録体、２……情報層、３……光学システ
ム、 ４……放射線ビーム、５……記録用マーク、 ６……記録レベルTSを示す線、７……矢印、 10,50……光学的性質が変更された領域、 20……本発明の方法を実施する装置、21……駆動システ
ム、 22……放射線源、23……制御部、25……レーザー、 26……音響−光学変調器、 30,35……メモリ、31……３ビットカウンタ、 32,33……遅延回路、 34,36,38,40,41……ANDゲート、 37……インバータ回路、39……信号発生回路、 42,51……ORゲート、52,53……マルチバイブレータ、 54……ゲート回路。
Claims (11)
- 【請求項１】その光学的性質が加熱により変化する情報
層を有する光学的に読み取り可能な記録担体に２値情報
信号を記録する方法であって、前記情報信号が光学的性
質が変化した記録領域と光学的性質が変化していない非
記録領域とからなる情報パターンにより表示され、前記
記録領域が前記情報層に放射線ビームを集束させるシス
テムと前記情報層とを互いに相対的に移動させることに
よって得られ、連続しかつ重なって１個の細長いマーク
を構成する一連の記録用マークが、一連の分離された放
射線パルスによりエネルギーを照射してターゲット領域
を加熱する事により形成される、２値情報信号の記録方
法に於いて、当該細長いマークの長さ方向を横切る方向
の寸法が実質上一定となる様に、第一番目の記録用マー
クに対して照射されるエネルギーをそれ以降の記録用マ
ークに対して照射される記録用マークのそれよりも大と
することを特徴とする光学的に読み取り可能な記録担体
に２値情報信号を記録する方法。 - 【請求項２】前記一連の記録用マークの内の第１番目の
記録用マークを形成する放射線エネルギーを第一の既定
方法により決め、第２番目以降の記録用マークを形成す
るための放射線エネルギーを第二の方法で決めることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の２値情報信
号を記録する方法。 - 【請求項３】前記記録用マークを形成するための放射線
エネルギーを与えるための放射線パルスの数が、前記一
連の記録用マーク内の記録用マークの位置に応じて決め
られることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項又は
（２）項記載の２値情報信号を記録する方法。 - 【請求項４】前記一連の記録用マーク内の第１番目の記
録用マークが、その後に書き込み放射線パルスが続く少
なくとも１個の予備加熱放射線パルスにより形成され、
記録用マークが前記書き込み放射線パルスにより前記情
報層に形成され、かつ前記予備加熱放射線パルスのエネ
ルギー量が、前記書き込み放射線パルスにより形成され
る前記記録用マークが占める領域外の光学的性質を変化
させないように決められていることを特徴とする特許請
求の範囲第（１）項又は第（２）項記載の２値情報信号
を記録する方法。 - 【請求項５】前記情報信号がビットセルからなり、第一
論理値の連続するビットセルの数が少なくとも２以上の
整数ｎであって、第一書き込み領域が、実質的に等間隔
（τ）のｍ−ｎ＋１個の時点からなる一連の時点の各時
点毎の放射線パルスによって記録用マークを形成する事
により得られる、２値情報信号を記録する方法に於い
て、前記第一書き込み領域に先行しかつそれに重なって
いる単一記録用マークからなる第二書き込み領域が、前
記重なっている記録用マークのそれ以降の記録用マーク
（5b,5c）の形成のために前記放射線パルスを発生させ
る前記実質的に等間隔の時点の間の前記時間間隔よりも
短い時間間隔で発生させる少なくとも２個の放射線パル
ス（第15図におけるｐ＊＊,p1 ＊；第８図におけるＰ′,
P″）により形成され、前記第一および第二領域がｍビ
ットセルの長さに対応する、前項の何れかの特許請求の
範囲に記載の２値情報信号を記録する方法。 - 【請求項６】その光学的性質が加熱により変化する情報
層を有する光学的に読み取り可能な記録担体上に２値情
報信号を記録する装置であって、前記情報信号が、光学
的性質が変化した記録領域と光学的性質が変化していな
い非記録領域とを有する情報パターンにより表示され、
この装置が、放射線源と、前記放射線源が発生する放射
線を前記情報層に集束させる光学システムと、前記記録
担体と前記光学システムとを互いに相対的に移動させる
駆動手段と、前記２値情報信号に基づいて制御信号を発
生させる制御手段とを備え、前記放射線源が、細長いマ
ークを構成する一連でかつ重なり合う記録用マークを得
る一連の分離された放射線パルスを発生させる、前記２
値信号を記録する装置に於いて、当該細長いマークの長
さ方向を横切る方向の寸法が実質上一定となる様に、第
一番目の記録用マークに対して照射されるエネルギーを
それ以降の記録用マークに対して照射される記録用マー
クより大となる様に、前記制御手段が、前記制御信号を
発生させることを特徴とする２値情報信号を記録する装
置。 - 【請求項７】前記制御手段が、各一連の記録用マークの
第１番目の制御信号には第一タイプの制御信号を発生さ
せ、かつ各一連の記録用マークの第２番目以降の制御信
号として第二タイプの制御信号を発生させるように構成
されていることを特徴とする特許請求の範囲第（６）項
記載の装置。 - 【請求項８】発生する制御信号の数が、前記一連の記録
用マーク内の記録用マークの位置に依存することを特徴
とする特許請求の範囲第（６）項又は第（７）項記載の
装置。 - 【請求項９】前記制御手段が、前記ビットセルの長さに
対応した長さを有する連続した一連の時間間隔から時間
間隔を選択し、かつ選択された間隔の各々に於て制御信
号を発生させる様に構成されていて、前記制御信号が制
御パルスを有し、かつ前記放射線源が１個の制御信号に
対応して１個の放射線パルスを発生させる様に構成され
ている装置に於いて、前記制御手段が、その選択された
時間間隔内での時点が連続して選択された各一連の時間
間隔内から選択された時間間隔の位置によって決まるよ
うな制御信号を発生させるように構成されていることを
特徴とするビットセルからなる２値信号を記録する特許
請求の範囲第（６）項記載の装置。 - 【請求項１０】前記装置が、前記一連の放射線パルスの
第１番目のパルスとして、当該一連の放射線パルス内の
他の放射線パルスにより形成される前記記録用マークが
占める領域以外の光学的性質を変化させないプリ加熱放
射線を発生させるように構成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第（６）、（７）、（８）又は（９）
項記載の装置。 - 【請求項１１】一連の連続する放射線パルス（ｐ）がビ
ットセルを有する２値情報信号に対応し、第一論理値の
連続するビットセルの数がｎ（少なくとも２以上の整
数）で、第一書き込み領域の形成については、一連の放
射線パルスが実質的に等間隔時間間隔でｍ−ｎ＋１個の
放射線パルスを有している、装置に於いて、前記装置
が、前記ｍ−ｎ＋１個の一連の放射線パルス（p1）に先
行して少なくとも１個の追加放射線パルス（p1＊＊）を
発生させ、前記第一領域に先行してかつそれに重なり合
っている第二領域を書込むために、前記追加パルスと前
記ｍ−ｎ＋１個の一連の放射線パルスの第１番目の放射
線パルスとの間の前記時間間隔が、前記ｍ−ｎ＋１個の
放射線パルス（p1＊,p2＊）間の前記時間間隔より小で
あり、前記第一および第二領域がｍビットセルに対応す
る様に、構成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第（６）、（７）、（８）、（９）又は（10）項記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8602718 | 1986-10-29 | ||
| NL8602718A NL8602718A (nl) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | Werkwijze voor het optekenen van een tweewaardig signaal op een optisch uitleesbare registratiedrager en een inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63153726A JPS63153726A (ja) | 1988-06-27 |
| JPH0777026B2 true JPH0777026B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=19848740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62268011A Expired - Lifetime JPH0777026B2 (ja) | 1986-10-29 | 1987-10-22 | ２値情報信号を記録する方法及びその装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4774522A (ja) |
| EP (1) | EP0266833B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0777026B2 (ja) |
| KR (1) | KR950006411B1 (ja) |
| CA (1) | CA1296425C (ja) |
| DE (1) | DE3777957D1 (ja) |
| NL (1) | NL8602718A (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0810490B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1996-01-31 | 富士通株式会社 | 光ディスク情報書込制御方法およびその装置 |
| US5087805A (en) * | 1990-07-06 | 1992-02-11 | Webcraft Technologies, Inc. | Printed and encoded mass distributable response piece and method of making the same |
| CA2020243C (en) * | 1989-06-30 | 1994-12-13 | Eiji Ohno | Optical information recording method and recording apparatus |
| US5278581A (en) * | 1990-09-17 | 1994-01-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Printer for printing and image formed of 2-dimensionally arranged pixels, and method of printing the same |
| JP2850966B2 (ja) * | 1991-08-02 | 1999-01-27 | シャープ株式会社 | 光磁気記録装置 |
| US5818805A (en) * | 1992-02-14 | 1998-10-06 | Sony Corporation | Reproducing apparatus using an information recording medium wherein multi-bit digital information is represented by a shift amount of a pit edge |
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