JPH0778357A - 光学的情報媒体 - Google Patents
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- JPH0778357A JPH0778357A JP5223268A JP22326893A JPH0778357A JP H0778357 A JPH0778357 A JP H0778357A JP 5223268 A JP5223268 A JP 5223268A JP 22326893 A JP22326893 A JP 22326893A JP H0778357 A JPH0778357 A JP H0778357A
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- Y10T428/21—Circular sheet or circular blank
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 情報信号に対応する凹凸が形成された透明基
板１上に、反射層として少なくとも色素材料と高分子材
料よりなる色素含有層３が形成されてなる光学的情報媒
体において、上記色素含有層を構成する高分子材料とし
てシリコンワニスを用いる。 【効果】 光磁気ディスク等の低反射率媒体を対象とす
る記録再生装置によって再生を行うことが可能であると
ともに異物と多少の接触があったとしても反射層に傷，
摩耗の生じることがなく良好な再生特性が維持できる光
学的情報媒体が得られる。
板１上に、反射層として少なくとも色素材料と高分子材
料よりなる色素含有層３が形成されてなる光学的情報媒
体において、上記色素含有層を構成する高分子材料とし
てシリコンワニスを用いる。 【効果】 光磁気ディスク等の低反射率媒体を対象とす
る記録再生装置によって再生を行うことが可能であると
ともに異物と多少の接触があったとしても反射層に傷，
摩耗の生じることがなく良好な再生特性が維持できる光
学的情報媒体が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体用記録
再生装置によって記録及び／又は再生が可能な光学的情
報媒体に関する。
再生装置によって記録及び／又は再生が可能な光学的情
報媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学的情報媒体としては、コンパクトデ
ィスク（ＣＤ），レーザディスク（ＬＤ）等が既に広く
普及している。これらコンパクトディスク，レーザディ
スクは、情報信号に対応する凹凸が予め形成された基板
上に反射層と、必要に応じて保護層が設けられてなるも
のであって、予め記録された情報信号の再生のみが行わ
れる再生専用型の光ディスクである。上記反射層には、
Ａｌ，Ａｕ等の高反射率，すなわち低吸収率の材料が用
いられている。
ィスク（ＣＤ），レーザディスク（ＬＤ）等が既に広く
普及している。これらコンパクトディスク，レーザディ
スクは、情報信号に対応する凹凸が予め形成された基板
上に反射層と、必要に応じて保護層が設けられてなるも
のであって、予め記録された情報信号の再生のみが行わ
れる再生専用型の光ディスクである。上記反射層には、
Ａｌ，Ａｕ等の高反射率，すなわち低吸収率の材料が用
いられている。
【０００３】一方、近年、上記ＣＤ等と異なり情報の書
き込み，消去が可能な光学的情報媒体として光磁気ディ
スクの開発が進められている。この光磁気ディスクは、
基板上に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し且つ磁気
光学効果の大きな記録磁性層（例えばＴｂＦｅＣｏ等の
希土類−遷移金属合金非晶質薄膜）や反射層，誘電体層
を積層することにより記録部を形成してなるものであ
る。このような光磁気ディスクとしては、直径６４ｍｍ
の小径の光磁気ディスク（いわゆるミニディスク）がカ
ートリッジ内に収容された形で普及し始めている。
き込み，消去が可能な光学的情報媒体として光磁気ディ
スクの開発が進められている。この光磁気ディスクは、
基板上に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し且つ磁気
光学効果の大きな記録磁性層（例えばＴｂＦｅＣｏ等の
希土類−遷移金属合金非晶質薄膜）や反射層，誘電体層
を積層することにより記録部を形成してなるものであ
る。このような光磁気ディスクとしては、直径６４ｍｍ
の小径の光磁気ディスク（いわゆるミニディスク）がカ
ートリッジ内に収容された形で普及し始めている。
【０００４】ところで、上記再生専用型光ディスクが光
磁気ディスク用記録再生装置によっても再生が行えれ
ば、再生専用型光ディスク，光磁気ディスクシステムの
双方の普及性，実用性を高める上で好ましいと言える。
しかし、Ａｌ膜，Ａｕ膜等を反射層とする再生専用型光
ディスクでは、レーザ光に対する反射率が７０％以上と
光磁気ディスクの反射率が１５〜２５％であるのに比べ
て極めて高いため、光磁気ディスクを対象とする記録再
生装置によって信号再生することができない。
磁気ディスク用記録再生装置によっても再生が行えれ
ば、再生専用型光ディスク，光磁気ディスクシステムの
双方の普及性，実用性を高める上で好ましいと言える。
しかし、Ａｌ膜，Ａｕ膜等を反射層とする再生専用型光
ディスクでは、レーザ光に対する反射率が７０％以上と
光磁気ディスクの反射率が１５〜２５％であるのに比べ
て極めて高いため、光磁気ディスクを対象とする記録再
生装置によって信号再生することができない。
【０００５】そこで、Ａｌ膜やＡｕ膜の代わりに、色素
材料と高分子材料よりなる色素含有層を反射層として用
いる試みがなされている。例えば上記色素材料としてシ
アニン色素を用いた光ディスクは反射率が１５〜２５％
と光磁気ディスクの反射率と同程度であり、光磁気ディ
スク用記録再生装置に適用可能な再生専用型光ディスク
として期待される。
材料と高分子材料よりなる色素含有層を反射層として用
いる試みがなされている。例えば上記色素材料としてシ
アニン色素を用いた光ディスクは反射率が１５〜２５％
と光磁気ディスクの反射率と同程度であり、光磁気ディ
スク用記録再生装置に適用可能な再生専用型光ディスク
として期待される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記色
素含有層を用いる低反射率光ディスクは、その媒体構成
上、Ａｌ膜等を用いる高反射率光ディスクに施されてい
る保護膜がなく、異物との多少の接触によって色素含有
層表面に傷がついたり摩耗が生じたりする。
素含有層を用いる低反射率光ディスクは、その媒体構成
上、Ａｌ膜等を用いる高反射率光ディスクに施されてい
る保護膜がなく、異物との多少の接触によって色素含有
層表面に傷がついたり摩耗が生じたりする。
【０００７】色素含有層を反射層とする光ディスクで
は、読出し光が基板／色素含有層界面，色素含有層／空
気界面でそれぞれ反射し、多重干渉することを利用して
信号再生が行われるものであるから、このように色素含
有層に傷，摩耗が生じると、このような光の多重干渉に
乱れが生じ、信号再生に支障を来す結果となる。
は、読出し光が基板／色素含有層界面，色素含有層／空
気界面でそれぞれ反射し、多重干渉することを利用して
信号再生が行われるものであるから、このように色素含
有層に傷，摩耗が生じると、このような光の多重干渉に
乱れが生じ、信号再生に支障を来す結果となる。
【０００８】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、光磁気ディスク等の低反
射率媒体を対象とする記録再生装置によって再生を行う
ことが可能であり、且つ反射層に傷，摩耗が生じ難く、
異物と接触するようなことがあっても良好な再生特性が
維持される光学的情報媒体を提供することを目的とす
る。
鑑みて提案されたものであり、光磁気ディスク等の低反
射率媒体を対象とする記録再生装置によって再生を行う
ことが可能であり、且つ反射層に傷，摩耗が生じ難く、
異物と接触するようなことがあっても良好な再生特性が
維持される光学的情報媒体を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光学的情報媒体は、情報信号に対応する
凹凸が形成された透明基板上に、反射層として少なくと
も色素材料と高分子材料よりなる色素含有層が形成され
てなる光学的情報媒体において、上記色素含有層を構成
する高分子材料がシリコンワニスであることを特徴とす
るものである。
めに、本発明の光学的情報媒体は、情報信号に対応する
凹凸が形成された透明基板上に、反射層として少なくと
も色素材料と高分子材料よりなる色素含有層が形成され
てなる光学的情報媒体において、上記色素含有層を構成
する高分子材料がシリコンワニスであることを特徴とす
るものである。
【００１０】また、上記シリコンワニスは、ＯＨ基の比
率がＣＨ3 基に対して１８〜２５％であることを特徴と
するものである。
率がＣＨ3 基に対して１８〜２５％であることを特徴と
するものである。
【００１１】本発明が適用される光学的情報媒体は、図
１に示すように、情報信号や案内溝，番地符号ピットに
対応する凹状のピット部２ａと凸状のランド部２ｂが形
成された基板１上に、反射層として少なくとも色素材料
と高分子材料よりなる色素含有層３が形成されて成るも
のである。このような構成の光学的情報媒体では、基板
１側から照射された読出し光ＬＢが基板１／色素含有層
３界面，色素含有層３／空気界面でそれぞれ反射し、多
重干渉することを利用して信号再生が行われる。したが
って、色素含有層３の耐傷特性が低く、異物との接触に
よって色素含有層表面に傷，摩耗等の形状欠陥が生じる
と、この光の多重干渉に乱れが生じ、信号再生に支障を
来すことになる。
１に示すように、情報信号や案内溝，番地符号ピットに
対応する凹状のピット部２ａと凸状のランド部２ｂが形
成された基板１上に、反射層として少なくとも色素材料
と高分子材料よりなる色素含有層３が形成されて成るも
のである。このような構成の光学的情報媒体では、基板
１側から照射された読出し光ＬＢが基板１／色素含有層
３界面，色素含有層３／空気界面でそれぞれ反射し、多
重干渉することを利用して信号再生が行われる。したが
って、色素含有層３の耐傷特性が低く、異物との接触に
よって色素含有層表面に傷，摩耗等の形状欠陥が生じる
と、この光の多重干渉に乱れが生じ、信号再生に支障を
来すことになる。
【００１２】そこで、本発明では、色素含有層３の耐傷
特性を改善し、異物と接触するようなことがあっても良
好な再生特性が維持されるものとするために、色素含有
層３を構成する高分子材料としてシリコンワニスを用い
ることとする。
特性を改善し、異物と接触するようなことがあっても良
好な再生特性が維持されるものとするために、色素含有
層３を構成する高分子材料としてシリコンワニスを用い
ることとする。
【００１３】シリコンワニスとは、Ｒａ（ＯＨ）b Ｓｉ
Ｏ（Ｒ2 ＳｉＯ）n ＳｉＲc （ＯＨ）d （但し、ＲはＣ
Ｈ3 、ａ，ｂ，ｃ，ｄはａ＋ｂ＝３，ｃ＋ｄ＝３なる条
件を満たす整数である）の化学式で表されるものであ
る。このシリコンワニスは、通常、キシレンやトルエン
のような溶媒に溶解された状態で入手される。
Ｏ（Ｒ2 ＳｉＯ）n ＳｉＲc （ＯＨ）d （但し、ＲはＣ
Ｈ3 、ａ，ｂ，ｃ，ｄはａ＋ｂ＝３，ｃ＋ｄ＝３なる条
件を満たす整数である）の化学式で表されるものであ
る。このシリコンワニスは、通常、キシレンやトルエン
のような溶媒に溶解された状態で入手される。
【００１４】このようなシリコンワニスを用いて色素含
有層３を形成するには、溶媒に溶解された状態のシリコ
ンワニスと色素材料とを、さらに溶媒に溶解して色素含
有溶液を調製し、基板上に塗布する。そして、この塗膜
から溶媒を乾燥除去する。塗膜から溶媒を乾燥除去する
と、シリコンワニスがその官能基であるＯＨ基で縮合反
応し、溶媒に不溶な硬度の高い色素含有層３が形成され
る。このようにして形成された色素含有層３を反射層と
する光学的情報媒体では、異物との多少の接触があった
としても色素含有層３に傷，摩耗等が生じることがなく
再生特性が良好に維持されることになる。
有層３を形成するには、溶媒に溶解された状態のシリコ
ンワニスと色素材料とを、さらに溶媒に溶解して色素含
有溶液を調製し、基板上に塗布する。そして、この塗膜
から溶媒を乾燥除去する。塗膜から溶媒を乾燥除去する
と、シリコンワニスがその官能基であるＯＨ基で縮合反
応し、溶媒に不溶な硬度の高い色素含有層３が形成され
る。このようにして形成された色素含有層３を反射層と
する光学的情報媒体では、異物との多少の接触があった
としても色素含有層３に傷，摩耗等が生じることがなく
再生特性が良好に維持されることになる。
【００１５】なお、上記色素含有層３の硬度は、シリコ
ンワニスの縮合反応が高度に進行している場合程高くな
る。したがって、色素含有層３の耐傷特性をより向上さ
せるには、シリコンワニスとしては縮合反応の反応部位
となるＯＨ基が多く含有されているものを用いる方が有
利である。しかし、シリコンワニスのＯＨ基があまり多
くなると、今度は、色素含有層３の透過率が低下し、ミ
ニディスク用記録再生装置による再生が困難になる。こ
れらの兼ね合いから、シリコンワニスとしては、ＯＨ基
の比率がＣＨ3 基に対して１８〜２５％であるものを用
いることが望ましい。
ンワニスの縮合反応が高度に進行している場合程高くな
る。したがって、色素含有層３の耐傷特性をより向上さ
せるには、シリコンワニスとしては縮合反応の反応部位
となるＯＨ基が多く含有されているものを用いる方が有
利である。しかし、シリコンワニスのＯＨ基があまり多
くなると、今度は、色素含有層３の透過率が低下し、ミ
ニディスク用記録再生装置による再生が困難になる。こ
れらの兼ね合いから、シリコンワニスとしては、ＯＨ基
の比率がＣＨ3 基に対して１８〜２５％であるものを用
いることが望ましい。
【００１６】一方、シリコンワニスとともに色素含有層
３を構成する色素材料としてはシアニン色素等の有機色
素、無機色素のいずれもが使用可能である。色素含有層
３の反射率は、色素材料の種類，色素材料とシリコンワ
ニスの混合比，色素含有層の膜厚に相互に依存して変化
することから、所望の反射率に応じて適宜選択すること
が好ましい。例えば、光磁気ディスク用記録再生装置に
よって再生できるものとすべく反射率が１５〜２５％の
色素含有層３を得たい場合には、実用的な混合比範囲で
色素含有層の複素屈折率の実数部ｎを１．８４以上とし
得るものを用いると良い。複素屈折率の実数部ｎが１．
８４以上の色素含有層は、膜厚調整のみで容易に上記反
射率範囲とすることができる。たとえば、そのような有
機色素としては、化１，化２に示すシアニン色素等が挙
げられる。
３を構成する色素材料としてはシアニン色素等の有機色
素、無機色素のいずれもが使用可能である。色素含有層
３の反射率は、色素材料の種類，色素材料とシリコンワ
ニスの混合比，色素含有層の膜厚に相互に依存して変化
することから、所望の反射率に応じて適宜選択すること
が好ましい。例えば、光磁気ディスク用記録再生装置に
よって再生できるものとすべく反射率が１５〜２５％の
色素含有層３を得たい場合には、実用的な混合比範囲で
色素含有層の複素屈折率の実数部ｎを１．８４以上とし
得るものを用いると良い。複素屈折率の実数部ｎが１．
８４以上の色素含有層は、膜厚調整のみで容易に上記反
射率範囲とすることができる。たとえば、そのような有
機色素としては、化１，化２に示すシアニン色素等が挙
げられる。
【００１７】
【化１】
【００１８】
【化２】
【００１９】なお、色素含有層３には、シリコンワニ
ス，色素材料の他に、Ｔｉアルコキシド〔Ｔｉ（ＯＲ）
4 ：チタンカップリング剤〕を添加するようにしても良
い。Ｔｉアルコキシドは、シリコンワニスのＳｉ−ＯＨ
構造に対してキレート反応し、架橋性を高めるように作
用する。これにより、色素含有層の硬度がより向上す
る。このようなＴｉアルコキシドとしては、ＴＯＴ（日
本曹達社製，商品名）が好適である。
ス，色素材料の他に、Ｔｉアルコキシド〔Ｔｉ（ＯＲ）
4 ：チタンカップリング剤〕を添加するようにしても良
い。Ｔｉアルコキシドは、シリコンワニスのＳｉ−ＯＨ
構造に対してキレート反応し、架橋性を高めるように作
用する。これにより、色素含有層の硬度がより向上す
る。このようなＴｉアルコキシドとしては、ＴＯＴ（日
本曹達社製，商品名）が好適である。
【００２０】また、さらに色素含有層３には、色素材料
の光退色を防止する目的で、一重項酸素失活剤を添加す
るようにしても良い。一重項酸素失活剤としては、アミ
ン類等の電子供与性のあるもの、ニッケル錯体等の色素
の励起状態のエネルギー準位より低いエネルギー準位を
有する材料等が使用される。
の光退色を防止する目的で、一重項酸素失活剤を添加す
るようにしても良い。一重項酸素失活剤としては、アミ
ン類等の電子供与性のあるもの、ニッケル錯体等の色素
の励起状態のエネルギー準位より低いエネルギー準位を
有する材料等が使用される。
【００２１】
【作用】シリコンワニスと色素材料を溶媒に溶解してな
る色素含有溶液を、基板上に塗布し、溶媒を乾燥除去す
ると、シリコンワニスが官能基であるＯＨ基で縮合反応
し、溶媒に不溶な硬度の高い色素含有層が形成される。
このようにして形成された色素含有層を反射層とする光
学的情報媒体は、異物と接触するようなことがあっても
傷，摩耗が生じ難く、良好な再生特性が維持される。
る色素含有溶液を、基板上に塗布し、溶媒を乾燥除去す
ると、シリコンワニスが官能基であるＯＨ基で縮合反応
し、溶媒に不溶な硬度の高い色素含有層が形成される。
このようにして形成された色素含有層を反射層とする光
学的情報媒体は、異物と接触するようなことがあっても
傷，摩耗が生じ難く、良好な再生特性が維持される。
【００２２】さらに、シリコーンワニスとして、Ｓｉ−
ＯＨ構造の含有量がＳｉ−ＣＨ3 構造の含有量の１８〜
２５％であるものを用いると、耐傷特性に優れるととも
に透過率がＭＤ用記録再生装置に適応した光学的情報媒
体が獲得される。
ＯＨ構造の含有量がＳｉ−ＣＨ3 構造の含有量の１８〜
２５％であるものを用いると、耐傷特性に優れるととも
に透過率がＭＤ用記録再生装置に適応した光学的情報媒
体が獲得される。
【００２３】
【実施例】本発明の好適な実施例について実験結果に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００２４】本実施例で用いたシリコンワニスは、ＫＲ
２７１，ＫＲ２８２，ＫＲ２５５，ＫＲ３１１（いずれ
も信越シリコーン社製）の４種類である。まず、この４
種類のシリコンワニスについて、ＯＨ基のＣＨ3 基に対
する比率を調べるためにそれぞれＦＴ−ＩＲスペクトル
を測定した。その結果を図２〜図５に示す。
２７１，ＫＲ２８２，ＫＲ２５５，ＫＲ３１１（いずれ
も信越シリコーン社製）の４種類である。まず、この４
種類のシリコンワニスについて、ＯＨ基のＣＨ3 基に対
する比率を調べるためにそれぞれＦＴ−ＩＲスペクトル
を測定した。その結果を図２〜図５に示す。
【００２５】ＦＴ−ＩＲスペクトルを見ると、３６００
ｃｍ-1付近及び１２６０ｃｍ-1付近に吸収ピークが認め
られる。３６００ｃｍ-1付近に見られる吸収ピークは分
子内結合をしていない単独Ｏ−Ｈの伸縮振動に伴う吸収
であり、その強度はシリコンワニス中のＳｉ−ＯＨ構造
の含有率と相関する。また、１２６０ｃｍ-1付近に見ら
れる吸収ピークはＳｉ−ＣＨ3 の伸縮振動に伴う吸収で
あり、その強度はシリコンワニス中のＳｉ−ＣＨ3 構造
の含有率と相関する。
ｃｍ-1付近及び１２６０ｃｍ-1付近に吸収ピークが認め
られる。３６００ｃｍ-1付近に見られる吸収ピークは分
子内結合をしていない単独Ｏ−Ｈの伸縮振動に伴う吸収
であり、その強度はシリコンワニス中のＳｉ−ＯＨ構造
の含有率と相関する。また、１２６０ｃｍ-1付近に見ら
れる吸収ピークはＳｉ−ＣＨ3 の伸縮振動に伴う吸収で
あり、その強度はシリコンワニス中のＳｉ−ＣＨ3 構造
の含有率と相関する。
【００２６】したがって、３６００ｃｍ-1付近の吸収ピ
ーク強度の１２６０ｃｍ-1付近の吸収ピーク強度に対す
る比をもって、シリコンワニスにおけるＳｉ−ＯＨ構造
のＳｉ−ＣＨ3 構造に対する比率とすることができる。
そこで、各シリコンワニスについて、ＦＴ−ＩＲスペク
トルからＳｉ−ＯＨ構造のＳｉ−ＣＨ3 構造に対する比
率（Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比）を求めた。その結果
を表１に示す。
ーク強度の１２６０ｃｍ-1付近の吸収ピーク強度に対す
る比をもって、シリコンワニスにおけるＳｉ−ＯＨ構造
のＳｉ−ＣＨ3 構造に対する比率とすることができる。
そこで、各シリコンワニスについて、ＦＴ−ＩＲスペク
トルからＳｉ−ＯＨ構造のＳｉ−ＣＨ3 構造に対する比
率（Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比）を求めた。その結果
を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】以下の実験例では、このようにＳｉ−ＯＨ
構造の含有比率の異なる各種シリコンワニスを用いて光
ディスクを作製し、それぞれ耐傷特性，透過率を調査し
た。
構造の含有比率の異なる各種シリコンワニスを用いて光
ディスクを作製し、それぞれ耐傷特性，透過率を調査し
た。
【００２９】実験例１ 色素材料，高分子材料，添加剤を、色素材料：高分子材
料：添加剤＝１：１：０．２なる重量比で溶媒に溶解し
（重量比で１００）、色素含有塗料を調製した。なお、
色素材料としては化３に示すシアニン色素を、高分子材
料としてはシリコンワニス（ＫＲ２７１：信越シリコー
ン社製）を、添加剤としては化４に示す１重項酸素失活
剤（ＩＲＧ−００３：日本化薬社製）を、また溶媒に
は、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン（東京
化成工業社製）をそれぞれ用いた。
料：添加剤＝１：１：０．２なる重量比で溶媒に溶解し
（重量比で１００）、色素含有塗料を調製した。なお、
色素材料としては化３に示すシアニン色素を、高分子材
料としてはシリコンワニス（ＫＲ２７１：信越シリコー
ン社製）を、添加剤としては化４に示す１重項酸素失活
剤（ＩＲＧ−００３：日本化薬社製）を、また溶媒に
は、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン（東京
化成工業社製）をそれぞれ用いた。
【００３０】
【化３】
【００３１】
【化４】
【００３２】実験例２〜実験例４ 高分子材料として表２に示すシリコンワニスを用いるこ
と以外は実験例１と同様にして色素含有塗料を調製し
た。
と以外は実験例１と同様にして色素含有塗料を調製し
た。
【００３３】
【表２】
【００３４】このようにして実験例１〜実験例４におい
て調製された色素含有塗料を予めピット部とランド部が
形成された透明基板上にスピンコート法にて塗布，乾燥
して色素含有層を形成し、光ディスクを作製した。そし
て、ＭＤ用ディスクカートリッジに組み込んで振とう試
験及びベンコットによるこすり試験を行い、色素含有層
表面の傷の生成状況を目視によって観察した。各光ディ
スクの傷生成度の評価結果を表３に、Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ
−ＣＨ3 比と耐傷性の関係を図６に示す。
て調製された色素含有塗料を予めピット部とランド部が
形成された透明基板上にスピンコート法にて塗布，乾燥
して色素含有層を形成し、光ディスクを作製した。そし
て、ＭＤ用ディスクカートリッジに組み込んで振とう試
験及びベンコットによるこすり試験を行い、色素含有層
表面の傷の生成状況を目視によって観察した。各光ディ
スクの傷生成度の評価結果を表３に、Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ
−ＣＨ3 比と耐傷性の関係を図６に示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】表３及び図６からわかるように、実験例１
〜実験例４の色素含有塗料を用いた光ディスクはいずれ
も傷生成度が低く良好な耐傷特性を示す。特に、シリコ
ンワニスのＳｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比が１８％以上の
ものは耐傷性が５０以上と高いものとなっている。
〜実験例４の色素含有塗料を用いた光ディスクはいずれ
も傷生成度が低く良好な耐傷特性を示す。特に、シリコ
ンワニスのＳｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比が１８％以上の
ものは耐傷性が５０以上と高いものとなっている。
【００３７】このことから、色素含有層の高分子材料と
してシリコーンワニス，特にＳｉ−ＯＨ構造の含有率の
大きなシリコンワニスを用いることは、耐傷特性に優れ
た光ディスクを得る上で有効であることがわかる。
してシリコーンワニス，特にＳｉ−ＯＨ構造の含有率の
大きなシリコンワニスを用いることは、耐傷特性に優れ
た光ディスクを得る上で有効であることがわかる。
【００３８】次に、実験例１〜実験例４において調製さ
れた色素含有塗料をガラス基板上にスピンコート法にて
塗布，乾燥して色素含有層を形成し、７８０ｎｍにおけ
る透過率を自記分光光度計（日立社製，商品名Ｕ−３２
１０）を用いて測定した。各色素含有層の７８０ｎｍに
おける透過率を表４に、Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比と
７８０ｎｍにおける透過率の関係を図７に示す。
れた色素含有塗料をガラス基板上にスピンコート法にて
塗布，乾燥して色素含有層を形成し、７８０ｎｍにおけ
る透過率を自記分光光度計（日立社製，商品名Ｕ−３２
１０）を用いて測定した。各色素含有層の７８０ｎｍに
おける透過率を表４に、Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比と
７８０ｎｍにおける透過率の関係を図７に示す。
【００３９】
【表４】
【００４０】表４及び図７からわかるように、色素含有
層の透過率は、シリコンワニスのＳｉ−ＯＨ／Ｓｉ−Ｃ
Ｈ3 比が大きくなる程減少する。ここで、例えばＭＤ用
記録再生装置で再生可能であるためには、透過率が７０
％以上であることが必要であり、シリコンワニスのＳｉ
−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比が２５％以下である必要がある
ことがわかった。
層の透過率は、シリコンワニスのＳｉ−ＯＨ／Ｓｉ−Ｃ
Ｈ3 比が大きくなる程減少する。ここで、例えばＭＤ用
記録再生装置で再生可能であるためには、透過率が７０
％以上であることが必要であり、シリコンワニスのＳｉ
−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比が２５％以下である必要がある
ことがわかった。
【００４１】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、情報信号に対応する凹凸が形成された透明基板
上に、反射層として少なくとも色素材料と高分子材料よ
りなる色素含有層が形成されてなる光学的情報媒体にお
いて、上記色素含有層を構成する高分子材料としてシリ
コンワニスを用いるので、光磁気ディスク等の低反射率
媒体を対象とする記録再生装置によって再生を行うこと
が可能であるとともに異物と多少の接触があったとして
も反射層に傷，摩耗の生じることがなく良好な再生特性
が維持できる光学的情報媒体を得ることが可能である。
明では、情報信号に対応する凹凸が形成された透明基板
上に、反射層として少なくとも色素材料と高分子材料よ
りなる色素含有層が形成されてなる光学的情報媒体にお
いて、上記色素含有層を構成する高分子材料としてシリ
コンワニスを用いるので、光磁気ディスク等の低反射率
媒体を対象とする記録再生装置によって再生を行うこと
が可能であるとともに異物と多少の接触があったとして
も反射層に傷，摩耗の生じることがなく良好な再生特性
が維持できる光学的情報媒体を得ることが可能である。
【図１】本発明を適用した光学的情報媒体の一構成例を
示す要部概略断面図である。
示す要部概略断面図である。
【図２】ＫＲ２７１のＦＴ−ＩＲスペクトルを示す特性
図である。
図である。
【図３】ＫＲ２８２のＦＴ−ＩＲスペクトルを示す特性
図である。
図である。
【図４】ＫＲ２５５のＦＴ−ＩＲスペクトルを示す特性
図である。
図である。
【図５】ＫＲ３１１のＦＴ−ＩＲスペクトルを示す特性
図である。
図である。
【図６】Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比と耐傷性の関係を
示す特性図である。
示す特性図である。
【図７】Ｓｉ−ＯＨ／Ｓｉ−ＣＨ3 比と７８０ｎｍにお
ける透過率の関係を示す特性図である。
ける透過率の関係を示す特性図である。
１・・・・基板 ２ａ・・・ピット部 ２ｂ・・・ランド部 ３・・・・色素含有層
Claims (2)
- 【請求項１】 情報信号に対応する凹凸が形成された透
明基板上に、反射層として、少なくとも色素材料と高分
子材料よりなる色素含有層が形成されてなる光学的情報
媒体において、 上記色素含有層を構成する高分子材料がシリコンワニス
であることを特徴とする光学的情報媒体。 - 【請求項２】 上記シリコンワニスは、ＯＨ基の比率が
ＣＨ3 基に対して１８〜２５％であることを特徴とする
請求項１記載の光学的情報媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5223268A JPH0778357A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 光学的情報媒体 |
| US08/299,656 US5556681A (en) | 1993-09-08 | 1994-09-02 | Optical information recording medium |
| EP94113954A EP0642124B1 (en) | 1993-09-08 | 1994-09-06 | Optical information recording medium |
| KR1019940022302A KR950009585A (ko) | 1993-09-08 | 1994-09-06 | 광학적 정보매체 |
| DE69423556T DE69423556T2 (de) | 1993-09-08 | 1994-09-06 | Optisches Informationsaufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5223268A JPH0778357A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 光学的情報媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0778357A true JPH0778357A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=16795458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5223268A Withdrawn JPH0778357A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 光学的情報媒体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5556681A (ja) |
| EP (1) | EP0642124B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0778357A (ja) |
| KR (1) | KR950009585A (ja) |
| DE (1) | DE69423556T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPH05334664A (ja) * | 1992-06-02 | 1993-12-17 | Pioneer Electron Corp | 情報記録ディスクとその記録情報再生装置 |
| WO2001059780A1 (en) * | 2000-02-14 | 2001-08-16 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US7300690B2 (en) | 2001-03-29 | 2007-11-27 | General Electric Company | Radial tilt reduced media |
| US6716505B2 (en) | 2001-08-31 | 2004-04-06 | General Electric Company | Storage medium for data with improved dimensional stability |
| US7244813B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-07-17 | General Electric Company | Methods of purifying polymeric material |
| US7354990B2 (en) | 2003-08-26 | 2008-04-08 | General Electric Company | Purified polymeric materials and methods of purifying polymeric materials |
| US7041780B2 (en) | 2003-08-26 | 2006-05-09 | General Electric | Methods of preparing a polymeric material composite |
| US7256225B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-08-14 | General Electric Company | Methods of preparing a polymeric material |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6047247A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-14 | Hitachi Ltd | 記録媒体 |
| DE3716734A1 (de) * | 1987-05-19 | 1988-12-01 | Basf Ag | Optisches aufzeichnungsmedium, das eine silicium-phthalocyaninderivat enthaltende reflektorschicht aufweist |
| JP2673280B2 (ja) * | 1988-06-21 | 1997-11-05 | 共同印刷株式会社 | 光記録カード |
| GB8815235D0 (en) * | 1988-06-27 | 1988-08-03 | Plasmon Data Systems Inc | Improvements relating to optical data storage disks |
| DE68918069T2 (de) * | 1988-12-28 | 1995-04-13 | Mitsui Toatsu Chemicals | Optischer Aufzeichnungsträger. |
| US5200947A (en) * | 1989-02-03 | 1993-04-06 | Jujo Paper Co., Ltd. | Optical recording medium, optical recording method, and optical recording device used in method |
| US5271979A (en) * | 1991-05-01 | 1993-12-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium containing polymethine compound |
| JPH05128588A (ja) * | 1991-05-16 | 1993-05-25 | Canon Inc | 光記録媒体、光記録方法及び再生方法、情報書込み装置及び情報レコードの再生装置 |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP5223268A patent/JPH0778357A/ja not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-09-02 US US08/299,656 patent/US5556681A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-09-06 DE DE69423556T patent/DE69423556T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-09-06 KR KR1019940022302A patent/KR950009585A/ko not_active Withdrawn
- 1994-09-06 EP EP94113954A patent/EP0642124B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69423556D1 (de) | 2000-04-27 |
| KR950009585A (ko) | 1995-04-24 |
| US5556681A (en) | 1996-09-17 |
| EP0642124B1 (en) | 2000-03-22 |
| EP0642124A1 (en) | 1995-03-08 |
| DE69423556T2 (de) | 2000-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001128 |