JPH0780977A - ハニカム構造体、その成形方法及び成形用の口金 - Google Patents
ハニカム構造体、その成形方法及び成形用の口金Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
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- B28B3/20—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor wherein the material is extruded
- B28B3/26—Extrusion dies
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 触媒装置としてそのまま用いた場合に、触媒
の活性低下を引き起こしたり、あるいは、孔の表面に活
性成分を付着させて触媒装置として用いる場合に、付着
している活性成分が剥離することで、触媒性能の低下な
どを引き起こすことのないハニカム構造体、このハニカ
ム構造体の成形方法及びこのハニカム構造体の成形用の
口金を提供する。 【構成】 ハニカム構造体成形用の口金１には原料をハ
ニカム構造に成形する成形流路３と、この成形流路３に
原料を供給する原料供給流路２とを備えている。成形流
路３の出口付近は成形流路３の他の部分より粗面化した
粗面８を形成している。この粗面８は比較的細かな筋状
の凹凸であり、この筋の方向は成形流路３の流路方向で
ある。この口金１で成形されるハニカム構造体の孔の表
面には溝状の凹凸が形成される。
の活性低下を引き起こしたり、あるいは、孔の表面に活
性成分を付着させて触媒装置として用いる場合に、付着
している活性成分が剥離することで、触媒性能の低下な
どを引き起こすことのないハニカム構造体、このハニカ
ム構造体の成形方法及びこのハニカム構造体の成形用の
口金を提供する。 【構成】 ハニカム構造体成形用の口金１には原料をハ
ニカム構造に成形する成形流路３と、この成形流路３に
原料を供給する原料供給流路２とを備えている。成形流
路３の出口付近は成形流路３の他の部分より粗面化した
粗面８を形成している。この粗面８は比較的細かな筋状
の凹凸であり、この筋の方向は成形流路３の流路方向で
ある。この口金１で成形されるハニカム構造体の孔の表
面には溝状の凹凸が形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、押出しが可能で可塑性
を備えた原料を押出し成形などして製造され、例えば窒
素酸化物除去のための脱硝装置などに用いるハニカム構
造体、ハニカム構造体の成形方法及びハニカム構造体の
成形用の口金に関する。
を備えた原料を押出し成形などして製造され、例えば窒
素酸化物除去のための脱硝装置などに用いるハニカム構
造体、ハニカム構造体の成形方法及びハニカム構造体の
成形用の口金に関する。
【０００２】
【従来の技術】火力発電用ボイラや各種工場より排出さ
れる窒素酸化物を除去するいわゆる脱硝装置には、一般
に窒素酸化物をアンモニアによって還元する方法が採ら
れている。この還元方法には反応を促進させるチタニア
系の脱硝触媒が用いられ、粒状、板状、格子構造状など
に成形され、この形状は窒素酸化物を除去せんとするガ
スの性状によって使いわけられている。これらの中でも
ハニカム構造の脱硝触媒は触媒材をハニカム構造に成形
してそのまま用いるか、セラミックをハニカム構造に成
形した後に活性成分をウオッシュコートなどして付着さ
せたものであり、ガスが流通する複数の通路が貫通して
いて、ガス焚きのようなクリーンガスを対象とした場合
に、目づまりの心配がないことから狭ピッチ形状が使
え、触媒体積がコンパクトになるという特徴があり、脱
硝装置への利用の拡大が予想されている。なお、ここで
いうハニカム構造とは、軸方向に複数の孔が貫通し、こ
の孔の径方向断面形状が矩形、円形など任意の幾何学形
状を有するものをいう。
れる窒素酸化物を除去するいわゆる脱硝装置には、一般
に窒素酸化物をアンモニアによって還元する方法が採ら
れている。この還元方法には反応を促進させるチタニア
系の脱硝触媒が用いられ、粒状、板状、格子構造状など
に成形され、この形状は窒素酸化物を除去せんとするガ
スの性状によって使いわけられている。これらの中でも
ハニカム構造の脱硝触媒は触媒材をハニカム構造に成形
してそのまま用いるか、セラミックをハニカム構造に成
形した後に活性成分をウオッシュコートなどして付着さ
せたものであり、ガスが流通する複数の通路が貫通して
いて、ガス焚きのようなクリーンガスを対象とした場合
に、目づまりの心配がないことから狭ピッチ形状が使
え、触媒体積がコンパクトになるという特徴があり、脱
硝装置への利用の拡大が予想されている。なお、ここで
いうハニカム構造とは、軸方向に複数の孔が貫通し、こ
の孔の径方向断面形状が矩形、円形など任意の幾何学形
状を有するものをいう。
【０００３】例えば上述のような触媒装置として用いる
ハニカム構造体の成形は、原料となるペーストなどを口
金から押出すことによって行われている。図４〜６は従
来のハニカム構造体の成形用口金の一例を示すものであ
り、図４は口金の断面図、図５は口金の正面図、図６は
口金の背面図である。このハニカム構造体成形用の口金
１１は原料が流通する複数の流路を備え、この流路はそ
の流路方向に２層の流路に分けられる。この２層の流路
とは、口金１１の流路の上流側を占め、図示しない押出
機から供給された原料ペーストなどを個々の流路に分割
送給するための原料供給流路２と、この原料供給流路２
に接続されて口金１１の流路の下流側を占め、原料供給
流路２から送り込まれた原料をハニカム構造に成形する
ための成形流路３である。また、実際の成形作業時に
は、ハニカム構造の触媒の最外周リブを形成するため、
図４に示すように口金１１に外枠４を嵌合して使用され
る。５は口金上流端、６は口金下流端である。
ハニカム構造体の成形は、原料となるペーストなどを口
金から押出すことによって行われている。図４〜６は従
来のハニカム構造体の成形用口金の一例を示すものであ
り、図４は口金の断面図、図５は口金の正面図、図６は
口金の背面図である。このハニカム構造体成形用の口金
１１は原料が流通する複数の流路を備え、この流路はそ
の流路方向に２層の流路に分けられる。この２層の流路
とは、口金１１の流路の上流側を占め、図示しない押出
機から供給された原料ペーストなどを個々の流路に分割
送給するための原料供給流路２と、この原料供給流路２
に接続されて口金１１の流路の下流側を占め、原料供給
流路２から送り込まれた原料をハニカム構造に成形する
ための成形流路３である。また、実際の成形作業時に
は、ハニカム構造の触媒の最外周リブを形成するため、
図４に示すように口金１１に外枠４を嵌合して使用され
る。５は口金上流端、６は口金下流端である。
【０００４】図７は口金１１の単位流路の斜視図であ
る。単位流路７は、原料供給流路２と成形流路３とから
なり、口金１は単位流路７が複数個並列に連結したもの
である。押出成形時に、原料供給流路２内に供給される
原料ペーストは、口金上流端５で一旦分割され、個々の
原料供給流路２内に流入して、その平行部を通過する。
原料供給流路２を通過した原料ペーストは、原料供給流
路２の下流端に接続した十字形断面をなす成形流路３へ
流入する。原料供給流路２と成形流路３との境界部にお
いて原料供給流路２の断面積Ｓ1と成形流路３の断面積
Ｓ2は、Ｓ1＞Ｓ2の関係にあるため、十字形の成形流路
３に流入した原料ペーストは、成形流路３の流路軸に対
して横方向の単位流路７が合流する流路合流面８に向か
って広がる。このため、この原料ペーストは、十字形の
成形流路３を通過する間に流路合流面８で互いに圧着
し、成形流路３で原料ペーストがハニカム構造に成形さ
れ、ハニカム構造体として下流側端部６から連続的に排
出される。
る。単位流路７は、原料供給流路２と成形流路３とから
なり、口金１は単位流路７が複数個並列に連結したもの
である。押出成形時に、原料供給流路２内に供給される
原料ペーストは、口金上流端５で一旦分割され、個々の
原料供給流路２内に流入して、その平行部を通過する。
原料供給流路２を通過した原料ペーストは、原料供給流
路２の下流端に接続した十字形断面をなす成形流路３へ
流入する。原料供給流路２と成形流路３との境界部にお
いて原料供給流路２の断面積Ｓ1と成形流路３の断面積
Ｓ2は、Ｓ1＞Ｓ2の関係にあるため、十字形の成形流路
３に流入した原料ペーストは、成形流路３の流路軸に対
して横方向の単位流路７が合流する流路合流面８に向か
って広がる。このため、この原料ペーストは、十字形の
成形流路３を通過する間に流路合流面８で互いに圧着
し、成形流路３で原料ペーストがハニカム構造に成形さ
れ、ハニカム構造体として下流側端部６から連続的に排
出される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
成形される従来のハニカム構造体成形用の口金１１にお
いては、原料ペースト塊をハニカム構造に成形すること
はできても、得られたハニカム構造体の性能の向上に関
しては配慮がなされていない。すなわち、従来の口金構
造によると、押出された成形品の表面は、成形流路３の
壁面を滑って押出される間に大きなせん断応力が加えら
れ、原料ペースト粒子の再配列が生じ、成形品の壁部の
内部と比べるとかなり緻密質なものとなる。この現象は
リブの薄いハニカム構造体ほど顕著となる。このように
ハニカム構造体の表面が緻密化すると触媒装置としての
性能面で悪影響をもたらす。
成形される従来のハニカム構造体成形用の口金１１にお
いては、原料ペースト塊をハニカム構造に成形すること
はできても、得られたハニカム構造体の性能の向上に関
しては配慮がなされていない。すなわち、従来の口金構
造によると、押出された成形品の表面は、成形流路３の
壁面を滑って押出される間に大きなせん断応力が加えら
れ、原料ペースト粒子の再配列が生じ、成形品の壁部の
内部と比べるとかなり緻密質なものとなる。この現象は
リブの薄いハニカム構造体ほど顕著となる。このように
ハニカム構造体の表面が緻密化すると触媒装置としての
性能面で悪影響をもたらす。
【０００６】すなわち、触媒材をハニカム構造に成形し
てそのまま触媒装置として用いる場合は、その触媒装置
による処理対象たるガスなどが触媒装置内に拡散するの
を阻害することになり、活性低下を引き起こしてしま
う。
てそのまま触媒装置として用いる場合は、その触媒装置
による処理対象たるガスなどが触媒装置内に拡散するの
を阻害することになり、活性低下を引き起こしてしま
う。
【０００７】また、セラミックをハニカム構造に成形し
その表面に活性成分をウォッシュコートなどして付着さ
せて製作される触媒装置についても、ハニカム構造のセ
ラミックの表面が滑らかな場合は活性成分の付着層が触
媒装置としての使用時に剥離し易くなり、触媒性能の低
下をもたらす。さらにこの活性成分の剥離に関しては、
処理対象となるガスなどの流れの下流側に食品がある脱
臭触媒のような場合や、ガスタービンの燃焼器に触媒を
用いるような場合には、絶対に避けなければならない。
その表面に活性成分をウォッシュコートなどして付着さ
せて製作される触媒装置についても、ハニカム構造のセ
ラミックの表面が滑らかな場合は活性成分の付着層が触
媒装置としての使用時に剥離し易くなり、触媒性能の低
下をもたらす。さらにこの活性成分の剥離に関しては、
処理対象となるガスなどの流れの下流側に食品がある脱
臭触媒のような場合や、ガスタービンの燃焼器に触媒を
用いるような場合には、絶対に避けなければならない。
【０００８】本発明は、触媒装置としてそのまま用いた
場合に、触媒の活性低下を引き起こしたり、あるいは、
孔の表面に活性成分を付着させて触媒装置として用いる
場合に、付着している活性成分が剥離することで、触媒
性能の低下などを引き起こすことのないハニカム構造
体、このハニカム構造体の成形方法及びこのハニカム構
造体の成形用の口金を提供することを目的とする。
場合に、触媒の活性低下を引き起こしたり、あるいは、
孔の表面に活性成分を付着させて触媒装置として用いる
場合に、付着している活性成分が剥離することで、触媒
性能の低下などを引き起こすことのないハニカム構造
体、このハニカム構造体の成形方法及びこのハニカム構
造体の成形用の口金を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明は、原料を口金から押し出して成形され複数の
孔を有するハニカム構造体において、前記孔の表面には
比較的細かな凹凸を形成したことを特徴とするハニカム
構造体である。
の本発明は、原料を口金から押し出して成形され複数の
孔を有するハニカム構造体において、前記孔の表面には
比較的細かな凹凸を形成したことを特徴とするハニカム
構造体である。
【００１０】また、原料を口金から押し出して複数の孔
を有するハニカム構造に成形する工程を含むハニカム構
造体の成形方法において、前記工程の後又はこの工程と
同時に前記成形後又は成形中の前記ハニカム構造体の前
記孔の表面に比較的細かな凹凸を形成する工程を含むこ
とを特徴とするハニカム構造体の成形方法も本発明とす
る。
を有するハニカム構造に成形する工程を含むハニカム構
造体の成形方法において、前記工程の後又はこの工程と
同時に前記成形後又は成形中の前記ハニカム構造体の前
記孔の表面に比較的細かな凹凸を形成する工程を含むこ
とを特徴とするハニカム構造体の成形方法も本発明とす
る。
【００１１】さらに、複数の孔を有するハニカム構造体
を成形する成形流路と、この成形流路に前記ハニカム構
造体の原料を供給する原料供給流路とを備えたハニカム
構造体成形用の口金において、前記成形流路により成形
される前記ハニカム構造体の前記孔の表面に比較的細か
な凹凸を形成する装置を備えたことを特徴とするハニカ
ム構造体成形用の口金も本発明とする。
を成形する成形流路と、この成形流路に前記ハニカム構
造体の原料を供給する原料供給流路とを備えたハニカム
構造体成形用の口金において、前記成形流路により成形
される前記ハニカム構造体の前記孔の表面に比較的細か
な凹凸を形成する装置を備えたことを特徴とするハニカ
ム構造体成形用の口金も本発明とする。
【００１２】
【作用】本発明のハニカム構造体を用いれば、原料を成
形して得られるハニカム構造体をそのまま触媒装置とし
て用いる場合に、触媒の活性低下を招くことがない。こ
れは、孔の表面に凹凸を形成したことによる処理対象と
なるガスなどとの接触面積の拡大や、この凹凸形成時に
ハニカム構造の孔の表面の緻密層が削り取られたことな
どによるものと考えられる。また、このハニカム構造体
表面に活性成分を付着させて触媒装置とする場合にも、
ハニカム構造の孔の表面には比較的細かな凹凸を形成し
たため、活性成分が剥離しにくく、活性成分剥離による
触媒性能の低下を招くことがない。さらに、この場合、
触媒装置が処理対象となるガスなどの流れの下流側に食
品がある脱臭触媒装置のような場合や、ガスタービンの
燃焼器に用いる触媒装置のような場合にも活性成分剥離
による不都合は生じない。
形して得られるハニカム構造体をそのまま触媒装置とし
て用いる場合に、触媒の活性低下を招くことがない。こ
れは、孔の表面に凹凸を形成したことによる処理対象と
なるガスなどとの接触面積の拡大や、この凹凸形成時に
ハニカム構造の孔の表面の緻密層が削り取られたことな
どによるものと考えられる。また、このハニカム構造体
表面に活性成分を付着させて触媒装置とする場合にも、
ハニカム構造の孔の表面には比較的細かな凹凸を形成し
たため、活性成分が剥離しにくく、活性成分剥離による
触媒性能の低下を招くことがない。さらに、この場合、
触媒装置が処理対象となるガスなどの流れの下流側に食
品がある脱臭触媒装置のような場合や、ガスタービンの
燃焼器に用いる触媒装置のような場合にも活性成分剥離
による不都合は生じない。
【００１３】本発明のハニカム構造体は本発明のハニカ
ム構造体の成形方法やハニカム構造体成形用の口金によ
り製造することができる。
ム構造体の成形方法やハニカム構造体成形用の口金によ
り製造することができる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１は本発明の一実施例であるハニカム構造体
成形用の口金の断面図であり、図２はこのハニカム構造
体成形用の口金の断面鳥瞰図である。図１、２のハニカ
ム構造体成形用の口金１に付した符号で図４〜７と同一
符号の部材は、図４〜７を参照して説明したハニカム構
造体成形用の口金１１と同様の部材であり、説明を省略
する。本実施例の口金１においては、成形流路３の出口
付近を成形流路３の他の部分より粗面化した粗面８を形
成したものである。この粗面８は比較的細かな筋状の凹
凸であり、この筋の方向は成形流路３の流路方向であ
る。流路方向と直角方向では成形時の圧損が大きくなる
だけで成形品の表面に凹凸を形成することができないか
らである。また粗面８が形成される領域は、成形流路３
の下流端から上流側へ向かって成形流路３の深さの１／
２以下程度とするのが望ましい。粗面８の筋が成形流路
３の底まで達していると原料ペーストが成形流路３の入
口で成形流路３にこの流路方向と直角方向に広がってい
くのが阻害され、隣接する流路３との合流圧着が不良と
なるからである。この粗面８を備えた成形流路３の加工
には、成形流路３の仕上げのときにおいて、ブローチ加
工や型堀放電加工で流路方向に筋をつけることなどが好
適である。
明する。図１は本発明の一実施例であるハニカム構造体
成形用の口金の断面図であり、図２はこのハニカム構造
体成形用の口金の断面鳥瞰図である。図１、２のハニカ
ム構造体成形用の口金１に付した符号で図４〜７と同一
符号の部材は、図４〜７を参照して説明したハニカム構
造体成形用の口金１１と同様の部材であり、説明を省略
する。本実施例の口金１においては、成形流路３の出口
付近を成形流路３の他の部分より粗面化した粗面８を形
成したものである。この粗面８は比較的細かな筋状の凹
凸であり、この筋の方向は成形流路３の流路方向であ
る。流路方向と直角方向では成形時の圧損が大きくなる
だけで成形品の表面に凹凸を形成することができないか
らである。また粗面８が形成される領域は、成形流路３
の下流端から上流側へ向かって成形流路３の深さの１／
２以下程度とするのが望ましい。粗面８の筋が成形流路
３の底まで達していると原料ペーストが成形流路３の入
口で成形流路３にこの流路方向と直角方向に広がってい
くのが阻害され、隣接する流路３との合流圧着が不良と
なるからである。この粗面８を備えた成形流路３の加工
には、成形流路３の仕上げのときにおいて、ブローチ加
工や型堀放電加工で流路方向に筋をつけることなどが好
適である。
【００１５】また、本発明の他の実施例として成形流路
３の下流側端面で粗面化するという手段も考えられる。
これは図４〜７を参照して説明した従来の口金１の下流
端にプラスト加工やセラミック溶射を行うことにより、
成形流路３のエッジ部の内側に返りを発生させ粗面化す
るものである。この場合、粗面化加工の前に成形流路３
内に充填物を入れておき、加工時に成形流路３内部にま
で無用の影響を与えないようにする必要がある。
３の下流側端面で粗面化するという手段も考えられる。
これは図４〜７を参照して説明した従来の口金１の下流
端にプラスト加工やセラミック溶射を行うことにより、
成形流路３のエッジ部の内側に返りを発生させ粗面化す
るものである。この場合、粗面化加工の前に成形流路３
内に充填物を入れておき、加工時に成形流路３内部にま
で無用の影響を与えないようにする必要がある。
【００１６】本実施例のハニカム構造体成形用の口金１
を用いれば、成形されるハニカム構造体に貫通している
ハニカム構造の孔の表面には粗面８によりこの孔の貫通
方向に伸びた溝が形成され、本発明の一実施例であるハ
ニカム構造体を製造することができる。なお、本実施例
のハニカム構造体はハニカム構造の孔の表面に比較的細
かな凹凸を形成いたものであればよく、この凹凸は孔の
貫通方向に伸びた溝である必要はない。また、この凹凸
の形成手段も上述の粗面８などの手段を用いる場合に限
定されるものではなく、この種の凹凸を形成しうるあら
ゆる手段を用いることができる。
を用いれば、成形されるハニカム構造体に貫通している
ハニカム構造の孔の表面には粗面８によりこの孔の貫通
方向に伸びた溝が形成され、本発明の一実施例であるハ
ニカム構造体を製造することができる。なお、本実施例
のハニカム構造体はハニカム構造の孔の表面に比較的細
かな凹凸を形成いたものであればよく、この凹凸は孔の
貫通方向に伸びた溝である必要はない。また、この凹凸
の形成手段も上述の粗面８などの手段を用いる場合に限
定されるものではなく、この種の凹凸を形成しうるあら
ゆる手段を用いることができる。
【００１７】つづいて本実施例の作用について説明す
る。本発明者は、上述の口金１と従来の口金１１とで同
条件で脱硝率の大きさを比較する比較対象実験を行なっ
たので、以下ではその結果について説明する。用いたの
は、ピッチ３.５mm、リブ厚０.５mm、外形１５０mm角で
ある本実施例の口金１と、粗面８を形成していない点を
除き口金１と同様の構成の従来の口金１１である。本実
験ではこの口金１、１１を用いてＴｉ／Ｗ／Ｖ系のアン
モニア還元排煙脱硝触媒装置を成形し、両者の脱硝性能
を比較した。その結果は図３に示す。図３は口金１で成
形したＴｉ／Ｗ／Ｖ系のアンモニア還元排煙脱硝触媒装
置と口金１１で成形した同様の脱硝触媒装置とで比較し
た脱硝率のグラフ図である。なお、温度条件は３５０℃
である。従来の口金１１による触媒装置の孔の表面粗さ
はＲmax＝１０μｍであるのに対し、本実施例の口金１
によるものはＲmax＝１００μｍであり、見掛け面積で
整理したＡＶ＝５１ｍ／ｈで圧損はほぼ同等であるが、
図３に示すとおり、脱硝率は口金１によるほうが約４％
高いことが分かった。これは溝をハニカム構造の孔の表
面に凹凸を形成したことによる処理対象となるガスなど
との接触面積の拡大や、溝の形成時にこの孔の表面の緻
密層が削り取られたことによるものと考えられる。また
本発明者が、平滑な触媒板を用い、流れ方向にエメリ紙
で傷をつけた場合と直角方向に傷をつけた場合とを比較
してみた結果、前者の脱硝率が２〜３％程度高くなった
ことから、流体力学的なリブレットの作用がはたらき圧
損はそのままで活性が向上したものとも考えられる。な
お、本実験では、Ｒmax＝５０μｍ前後から明確に脱硝
率改善の効果が現れたが、１００μｍ前後以上になると
圧損が上昇してくるため好ましくない。したがってＴｉ
／Ｗ／Ｖ系のアンモニア還元排煙脱硝触媒装置を上述の
ようなサイズで実施する場合は、Ｒmax＝５０〜１００
μｍ程度とするのが望ましいかと思われる。
る。本発明者は、上述の口金１と従来の口金１１とで同
条件で脱硝率の大きさを比較する比較対象実験を行なっ
たので、以下ではその結果について説明する。用いたの
は、ピッチ３.５mm、リブ厚０.５mm、外形１５０mm角で
ある本実施例の口金１と、粗面８を形成していない点を
除き口金１と同様の構成の従来の口金１１である。本実
験ではこの口金１、１１を用いてＴｉ／Ｗ／Ｖ系のアン
モニア還元排煙脱硝触媒装置を成形し、両者の脱硝性能
を比較した。その結果は図３に示す。図３は口金１で成
形したＴｉ／Ｗ／Ｖ系のアンモニア還元排煙脱硝触媒装
置と口金１１で成形した同様の脱硝触媒装置とで比較し
た脱硝率のグラフ図である。なお、温度条件は３５０℃
である。従来の口金１１による触媒装置の孔の表面粗さ
はＲmax＝１０μｍであるのに対し、本実施例の口金１
によるものはＲmax＝１００μｍであり、見掛け面積で
整理したＡＶ＝５１ｍ／ｈで圧損はほぼ同等であるが、
図３に示すとおり、脱硝率は口金１によるほうが約４％
高いことが分かった。これは溝をハニカム構造の孔の表
面に凹凸を形成したことによる処理対象となるガスなど
との接触面積の拡大や、溝の形成時にこの孔の表面の緻
密層が削り取られたことによるものと考えられる。また
本発明者が、平滑な触媒板を用い、流れ方向にエメリ紙
で傷をつけた場合と直角方向に傷をつけた場合とを比較
してみた結果、前者の脱硝率が２〜３％程度高くなった
ことから、流体力学的なリブレットの作用がはたらき圧
損はそのままで活性が向上したものとも考えられる。な
お、本実験では、Ｒmax＝５０μｍ前後から明確に脱硝
率改善の効果が現れたが、１００μｍ前後以上になると
圧損が上昇してくるため好ましくない。したがってＴｉ
／Ｗ／Ｖ系のアンモニア還元排煙脱硝触媒装置を上述の
ようなサイズで実施する場合は、Ｒmax＝５０〜１００
μｍ程度とするのが望ましいかと思われる。
【００１８】一方、上記２種の口金１、１１を用い同様
にコーディェライトハニカムを成形し焼成したものに活
性アルミナスラリを含浸した乾燥焼成してその付着性を
調べた。その結果やはり本実施例のハニカム構造の方が
活性アルミナがよく付着しており、剥離しにくいことが
分かった。
にコーディェライトハニカムを成形し焼成したものに活
性アルミナスラリを含浸した乾燥焼成してその付着性を
調べた。その結果やはり本実施例のハニカム構造の方が
活性アルミナがよく付着しており、剥離しにくいことが
分かった。
【００１９】
【発明の効果】本発明のハニカム構造体によれば、原料
を成形して得られるハニカム構造体をそのまま触媒装置
として用いる場合に、触媒の活性低下を招くことがな
い。また、このハニカム構造体表面に活性成分を付着さ
せて触媒装置とする場合にも、活性成分が剥離しにく
く、活性成分剥離による触媒性能の低下を招くことがな
い。さらに、この場合、触媒装置が処理対象となるガス
などの流れの下流側に食品がある脱臭触媒装置のような
場合や、ガスタービンの燃焼器に用いる触媒装置のよう
な場合にも活性成分剥離による不都合は生じない。
を成形して得られるハニカム構造体をそのまま触媒装置
として用いる場合に、触媒の活性低下を招くことがな
い。また、このハニカム構造体表面に活性成分を付着さ
せて触媒装置とする場合にも、活性成分が剥離しにく
く、活性成分剥離による触媒性能の低下を招くことがな
い。さらに、この場合、触媒装置が処理対象となるガス
などの流れの下流側に食品がある脱臭触媒装置のような
場合や、ガスタービンの燃焼器に用いる触媒装置のよう
な場合にも活性成分剥離による不都合は生じない。
【００２０】本発明のハニカム構造体の成形方法やハニ
カム構造体成形用の口金によれば、本発明のハニカム構
造体を製造することができる。
カム構造体成形用の口金によれば、本発明のハニカム構
造体を製造することができる。
【図１】本発明の一実施例であるハニカム構造体成形用
の口金の断面図である。
の口金の断面図である。
【図２】本発明の一実施例であるハニカム構造体成形用
の口金の断面鳥瞰図である。
の口金の断面鳥瞰図である。
【図３】本発明の一実施例であるハニカム構造体成形用
の口金で成形したＴｉ／Ｗ／Ｖ系のアンモニア還元排煙
脱硝触媒装置と従来の口金で成形した同様の脱硝触媒装
置とで比較した脱硝率のグラフ図である。
の口金で成形したＴｉ／Ｗ／Ｖ系のアンモニア還元排煙
脱硝触媒装置と従来の口金で成形した同様の脱硝触媒装
置とで比較した脱硝率のグラフ図である。
【図４】従来のハニカム構造体の成形用口金の断面図で
ある。
ある。
【図５】従来のハニカム構造体の成形用口金の正面図で
ある。
ある。
【図６】従来のハニカム構造体の成形用口金の背面図で
ある。
ある。
【図７】従来のハニカム構造体の成形用口金の単位流路
の斜視図である。
の斜視図である。
１、１１ ハニカム構造体成形用の口金 ２ 原料供給流路 ３ 成形流路 ４ 外枠 ５ 流路上流端 ６ 流路下流端 ７ 単位流路 ８ 粗面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｃ 47/12 8016−4Ｆ
Claims (3)
- 【請求項１】 原料を口金から押し出して成形され複数
の孔を有するハニカム構造体において、前記孔の表面に
は比較的細かな凹凸を形成したことを特徴とするハニカ
ム構造体。 - 【請求項２】 原料を口金から押し出して複数の孔を有
するハニカム構造に成形する工程を含むハニカム構造体
の成形方法において、前記工程の後又はこの工程と同時
に前記成形後又は成形中の前記ハニカム構造体の前記孔
の表面に比較的細かな凹凸を形成する工程を含むことを
特徴とするハニカム構造体の成形方法。 - 【請求項３】 複数の孔を有するハニカム構造体を成形
する成形流路と、この成形流路に前記ハニカム構造体の
原料を供給する原料供給流路とを備えたハニカム構造体
成形用の口金において、前記成形流路により成形される
前記ハニカム構造体の前記孔の表面に比較的細かな凹凸
を形成する装置を備えたことを特徴とするハニカム構造
体成形用の口金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5230019A JPH0780977A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ハニカム構造体、その成形方法及び成形用の口金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5230019A JPH0780977A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ハニカム構造体、その成形方法及び成形用の口金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0780977A true JPH0780977A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=16901302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5230019A Pending JPH0780977A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ハニカム構造体、その成形方法及び成形用の口金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0780977A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10337479A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム型触媒及びその製造方法 |
| US6254963B1 (en) | 1998-04-16 | 2001-07-03 | Denso Corporation | Honeycomb structure and its production process |
| JP2003509250A (ja) * | 1999-09-23 | 2003-03-11 | コーニング インコーポレイテッド | 変更されたスロット押出ダイ |
| US6786713B2 (en) | 2001-04-27 | 2004-09-07 | Denso Corporation | Honeycomb structure molding die having narrow slit grooves with recesses and protrusions |
| CN104797390A (zh) * | 2012-11-27 | 2015-07-22 | 陶氏环球技术有限公司 | 用于挤压研磨可挤压材料的双材料模具和方法 |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP5230019A patent/JPH0780977A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10337479A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム型触媒及びその製造方法 |
| US6254963B1 (en) | 1998-04-16 | 2001-07-03 | Denso Corporation | Honeycomb structure and its production process |
| JP2003509250A (ja) * | 1999-09-23 | 2003-03-11 | コーニング インコーポレイテッド | 変更されたスロット押出ダイ |
| US6786713B2 (en) | 2001-04-27 | 2004-09-07 | Denso Corporation | Honeycomb structure molding die having narrow slit grooves with recesses and protrusions |
| CN104797390A (zh) * | 2012-11-27 | 2015-07-22 | 陶氏环球技术有限公司 | 用于挤压研磨可挤压材料的双材料模具和方法 |
| CN104797390B (zh) * | 2012-11-27 | 2018-05-01 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 用于挤压研磨可挤压材料的双材料模具和方法 |
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