JPH0785973A

JPH0785973A - 有機薄膜ｅｌ素子

Info

Publication number: JPH0785973A
Application number: JP5231380A
Authority: JP
Inventors: Yuichi Ito; 祐一伊藤; Mitsunori Sugihara; 光律杉原; Hisaya Sato; 壽彌佐藤
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1993-09-17
Filing date: 1993-09-17
Publication date: 1995-03-31
Anticipated expiration: 2014-01-20
Also published as: JP2848207B2

Abstract

(57)【要約】【目的】耐熱性、耐溶剤性、機械的強度の高い有機薄膜
層を有する有機薄膜ＥＬ素子を提供すること。【構成】エポキシ基を有する化合物を含む組成物を重合
および架橋した有機薄膜層を有することを特徴とした有
機薄膜ＥＬ素子。【効果】３次元架橋構造であるので不融、不溶となり、
基板温度が上がる封止等のプロセスやスピンコート法に
よる多層膜形成も適用しやすくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、有機薄膜のエレクトロ
ルミネセンス（以下単にＥＬという）現象を利用した有
機薄膜ＥＬ素子に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】イーストマン・コダック社のＣ．Ｗ．Ｔ
ａｎｇらにより開発された有機薄膜ＥＬ素子は、特開昭
５９−１９４３９３号公報、特開昭６３−２６４６９２
号公報、特開昭６３−２９５６９５号公報、アプライド
・フィジックス・レター第５１巻第１２号第９１３頁
（１９８７年）、およびジャーナル・オブ・アプライド
フィジックス第６５巻第９号第３６１０頁（１９８９
年）等によれば、一般的には陽極、有機正孔注入輸送
層、有機発光層、陰極の順に構成され、以下のように作
られている。

【０００３】図１に示すように、まず、ガラスや樹脂フ
ィルム等の透明絶縁性の基板（１）上に、蒸着又はスパ
ッタリング法等でインジウムとスズの複合酸化物（以下
ＩＴＯという）の透明導電性被膜の陽極（２）が形成さ
れる。次に有機正孔注入輸送層（３）として銅フタロシ
アニン（以下ＣｕＰｃと略す）、あるいは（化１）で示
される化合物：

【０００４】

【化１】

【０００５】１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノ
フェニル）シクロヘキサン（融点１８１．４℃〜１８
２．４℃）、あるいは（化２）で示される化合物：

【０００６】

【化２】

【０００７】Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル
−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（融点１
２０℃）等のテトラアリールジアミンを、０．１μｍ程
度以下の厚さに単層または積層して蒸着して形成する。

【０００８】次に有機正孔注入輸送層（３）上にトリス
（８−キノリノール）アルミニウム（以下Ａｌｑ₃と略
す）等の有機蛍光体を０．１μｍ程度以下の厚さで蒸着
し、有機発光層（４）を形成する。最後に、その上に陰
極（５）としてＭｇ：Ａｇ，Ａｇ：Ｅｕ，Ｍｇ：Ｃｕ，
Ｍｇ：Ｉｎ，Ｍｇ：Ｓｎ等の合金を共蒸着法により２０
０ｎｍ程度蒸着している。

【０００９】また、安達らは有機発光層と陰極（５）の
間に、有機電子注入輸送層（６）を設け、図２に示した
素子を作製した。アプライド・フィズィックス・レター
第５７巻第６号第５３１頁（１９９０年）によると、そ
の素子は、ＩＴＯの陽極上に有機正孔注入輸送層（３）
としてＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メ
チルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジ
アミン〔融点１５９〜１６３℃、ガラス転移温度６７℃
（窒素下、１０℃／分の昇温速度でＤＳＣで測定）；以
下ＴＰＤと略す〕、有機発光層（４）として１−〔４−
Ｎ，Ｎ−ビス（ｐ−メトキシフェニル）アミノスチリ
ル〕ナフタレン、有機電子注入輸送層（６）として２−
（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール（以下、単にＢＰ
ＢＤという）、陰極（５）としてＭｇとＡｇの合金を順
に積層している。

【００１０】以上のように作られた素子は、透明電極側
を陽極として２０〜３０Ｖ以下の直流低電圧を印加する
ことにより発光層に正孔と電子が注入され、その再結合
により発光し１０００ｃｄ／ｍ²程度の輝度が得られ
る。しかし、上記で示した正孔注入輸送材料は、ＣｕＰ
ｃは耐熱性ではあるが可視光線波長領域の吸収が大き
く、また結晶性であるために蒸着膜が凸凹になり、Ｃｕ
Ｐｃのみを有機正孔注入輸送材料として用いた素子はＥ
Ｌ発光の取り出し効率が低く、素子が電気短絡しやすく
なる問題があった。

【００１１】（化１）（化２）で示した化合物およびＴ
ＰＤは、非晶質で平滑な蒸着膜が得られ、可視波長領域
での吸収もないが、融点およびガラス転移温度が低いた
め、素子作成プロセスや素子駆動時の発熱により、発光
層と混合してしまったり、時間が経つにつれて膜が結晶
化し凸凹になる問題があった。例えば５０ｎｍ程度の薄
膜にしてＴＰＤとＡｌｑ₃層を積層した場合に於いては
９５℃程度の温度で両層が混合してしまった。

【００１２】また、スピンコート法等の有機溶剤を用い
た塗布法で有機正孔注入輸送層を多層化する場合や、有
機正孔注入輸送層上に有機発光層を形成する場合、また
は有機発光層上に有機電子注入輸送層を形成する場合に
おいて、従来の３次元的に架橋していない低分子からな
る有機材料層が下地になる場合には、その上に塗布され
る層材料の溶液に使われている有機溶剤により溶かされ
てしまう場合が多かった。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】以上で述べたような従
来の低分子からなる有機薄膜ＥＬ材料は耐熱性が低い、
３次元架橋していないので有機溶剤に溶け出す。また、
耐熱性が高い低分子の有機正孔注入輸送材料としてはＣ
ｕＰｃやキナクリドン等が知られているが、透光性が低
く結晶性であるといった問題があった。

【００１４】本発明では、以上の課題を解決した３次元
架橋可能な高い耐熱性と耐溶剤性を備えた層を有する有
機薄膜ＥＬ素子を抵供することを目的としてなされたも
のである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題に鑑
みてなされたものであって、少なくとも有機発光層を含
む１層以上の有機薄膜層が介在して構成される有機薄膜
ＥＬ素子において、電極間の少なくとも１層以上の有機
薄膜層、具体的には有機正孔注入輸送層、または有機発
光層、有機電子注入輸送層のどれか１つ以上が、エポキ
シ基を有し、かつ正孔注入輸送、または発光、または電
子注入輸送機能を有する化合物を含む組成物を重合およ
び架橋した層よりなることを特徴とする有機薄膜ＥＬ素
子である。

【００１６】以下に本発明の有機薄膜ＥＬ素子を模式的
に示す図１から図３までに基いて説明する。図１は、本
発明における有機薄膜ＥＬ素子を、基板（１）上に陽極
（２）、有機正孔注入輸送層（３）、有機発光層
（４）、陰極（５）、封止層（７）の順に構成し、ガラ
ス板（８）を接着性樹脂（９）にて接着して密封した場
合の例であり、本発明におけるエポキシ基を有する化合
物を含む組成物を重合および架橋した層は、有機正孔注
入輸送層（３）または有機発光層（４）のどちらか、ま
たは両方に用いることができる。また、有機正孔注入輸
送層材料と有機発光層材料を混合するか、陽極から十分
に正孔注入可能な有機発光層材料を用いれば、有機薄膜
層を１層のみとすることも可能である。

【００１７】図３で示される素子は、陽極からの正孔注
入効率を高めるため、または発光層との界面において励
起電子のとじ込め効率を上げるために正孔注入輸送層を
第１正孔注入輸送層（１０）と第２正孔注入輸送層（１
１）との２層から構成されている場合の例である。

【００１８】本発明におけるエポキシ基を有する化合物
を含む組成物を重合および架橋した層は、第１、または
第２正孔注入輸送層のどちらか、または両方の層に用い
ることもできる。さらに正孔注入輸送層は３層以上にす
ることも可能である。さらに、図２に示すように有機発
光層（４）と陰極（５）間に有機発光層との界面で正孔
の流れを阻止する電子注入輸送層（６）を設け、基板
（１）上に陽極（２）、有機正孔注入輸送層（３）、有
機発光層（４）、有機電子注入輸送層（６）、陰極
（５）、封止層（７）の順に構成することもできるし、
同様の構成を基板上に陰極から逆の順に構成してもよ
い。

【００１９】以下、さらに詳しく材料および素子の製造
方法について説明する。陽極（２）は、ガラスやプラス
チックフィルム等の透明絶縁性の基板（１）上にＩＴＯ
（仕事関数４．６〜４．８ｅＶ）や酸化亜鉛アルミニウ
ムのような透明導電性物質を真空蒸着やスパッタリング
法等で被覆した表面抵抗１０〜５０Ω／□、可視光線透
過率８０％以上の透明電極、又は金やプラチナを薄く蒸
着した半透明電極やポリアニリン、ポリピロール、ポリ
チオフェン等の高分子を被覆した半透明電極が望まし
い。

【００２０】しかし、別の場合には、陽極（２）は不透
明で、正孔注入輸送層（３）を通して有機発光層（４）
へ正孔注入しやすい仕事関数の値の大きい金、プラチ
ナ、パラジウム、ニッケル等の金属板、シリコン、ガリ
ウムリン、アモルファス炭化シリコン等の仕事関数が
４．６ｅＶ以上の半導体基板、もしくはそれらの金属や
半導体を、絶縁性の基板（１）上に被覆した陽極（２）
を用い、陰極（５）を透明電極もしくは半透明電極とす
ることもできる。陰極（５）も不透明であれば、有機発
光層（４）の少なくとも一端が透明である必要がある。

【００２１】次に本発明におけるエポキシ基を有する化
合物を含む組成物を重合および架橋した層を有機正孔注
入輸送層（３）として用いる場合の例を上げる。エポキ
シ基を有する化合物の例としては一般式（化３）〜（化
８）、および（化１１）で示される１分子中に１つ〜８
つ程度エポキシ基を有する化合物があげられるが、特に
本発明を限定するものではない。

【００２２】

【化３】

【００２３】（Ｇ₁〜Ｇ₂は、それぞれ以下に示す基か
ら独立に選ばれ、この中のＲ₁は水素、メチル基、トリ
フルオロメチル基、水酸基、メトキシ基、フッ素から選
ばれ、Ｒ₂は結合を表す連絡基、または炭素数１〜４の
メチレン鎖を表す。ｎは、１〜３の整数、ｍは置換基の
数を表す正の整数。）

【００２４】

【化４】

【００２５】

【化５】

【００２６】

【化６】

【００２７】Ｇ₁〜Ｇ₂：ｎ，ｍは（化３）と同様

【００２８】

【化７】

【００２９】Ｇ₂，ｎ，ｍは（化３）と同様

【００３０】

【化８】

【００３１】Ｇ₁，Ｇ₂，ｎ，ｍは（化３）と同様

【００３２】

【化９】

【００３３】Ｇ₂，ｎ，ｍは（化３）と同様

【００３４】（化３）で示される化合物は、水酸化ナト
リウム等の触媒と反応させることで（化１０）で示され
る直鎖状のポリエーテルが得られ、これを適当な有機触
媒に溶かかして基板上に塗布することもできる。

【００３５】

【化１０】

【００３６】ｎは１〜３の整数ｌは重合度を表わす整
数

【００３７】また、（化１１）で表せるような水酸基を
２つ持つ化合物とエピクロロヒドリン

【００３８】

【化１１】

【００３９】等の（化１２）で表わされる化合物を水酸
化ナトリウム等の触媒の存在下１：１の仕込み比で反応
させることによって（化１３）で表わされる縮合物が得
られる。

【００４０】

【化１２】

【００４１】ｎは１〜３の整数

【００４２】

【化１３】

【００４３】ｎは１〜３の整数ｌは重合度を表す整数

【００４４】（化６）〜（化９）および（化１３）で表
わされる化合物および（化１３）で表わされる化合物の
水酸基をさらにエピクロロヒドリン等と反応させた化合
物は新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」（１９８
７）（日刊工業新聞社）中で言及されているアミン系、
ポリアミノアミド系、酸および無水物系等の硬化剤から
選ばれた化合物と共に混合し、トルエン、テトラヒドロ
フラン、クロロホルム、ジオキサン、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサン等の一般
の有機溶媒に溶かすことができ、基板上にスピンコート
法、ディップコート法、ロールコート法等の方法で塗布
後、適当な条件で熱処理することにより３次元的に架橋
した耐熱性が高く、溶剤不溶性の有機正孔注入輸送層が
得られる。

【００４５】硬化剤としては１，４ジアミノシクロヘキ
サンや、（化１４）、（化１５）で表わされる硬化剤も
用いることもできる。

【００４６】

【化１４】

【００４７】Ｇ₁，Ｇ₂は（化３）と同様

【００４８】

【化１５】

【００４９】Ｇ₂は（化３）と同様

【００５０】分子量を上げ、耐熱性を増すためには、組
成物中のエポキシ基とアミノ基の比を２：１にすること
が望ましい。（化３）、（化５）および（化１１）はエ
ポキシ基がメチレン鎖を介して、エーテル結合により結
合しているが、エステル結合とすることも可能である。

【００５１】有機正孔注入輸送層は、本発明によるエポ
キシ基を有する化合物を含む組成物を重合および架橋し
た層を単層で用いることもできるが、仕事関数等の異な
る他のエポキシ基を有する化合物を含む組成物を重合お
よび架橋した層と図3 で示すように、積層したり、特願
平４−７２００９号、特願平４−３００８８５号中で言
及されている（化１６）等で示されるポリフォスファゼ
ンポリマーや、特願平４−７２００９号、特願平４−１
４２７９１号、特願平５−１２６７１７号中で言及され
ているポリマーや低分子の正孔輸送材料と積層したり、
混合して正孔注入輸送層とすることもできる。

【００５２】

【化１６】

【００５３】ここでＸの５９％以上は以下の基から選ば
れた基により置換されている。

【００５４】

【化１７】

【００５５】

【化１８】

【００５６】

【化１９】

【００５７】正孔注入輸送層の厚さは単層または積層で
形成する場合において、５〜１００ｎｍの厚さが望まし
い。

【００５８】また、化合物によっては正孔注入輸送層が
発光層の機能も有し、単層の有機薄膜層でＥＬ素子を形
成することができる場合もある。

【００５９】次に、正孔注入輸送層（３）上に有機発光
層（４）を形成する。本発明における例としては、（化
２０）で示されるエポキシ化合物

【００６０】

【化２０】

【００６１】（ｎは１〜３の整数、ｌ，ｍは０〜３の整
数でｌ＋ｍは中心金属Ｍの価数）

【００６２】を含む組成物を成膜後、適当な硬化剤と伴
に重合、架橋させることで有機発光層として用いること
ができるが、特にこの例に限定されるものではなく特願
平５−１２６７１７号、特願平４−３００８８５号で言
及されている有機発光層用材料の蛍光物質の中から選ん
で用いることができる。

【００６３】これらの有機発光層材料の成膜方法は真空
蒸着法、累積膜法、または適当な溶媒に溶かして塗布し
たり、樹脂バインダー中に分散させてスピンコートなど
の方法でコーティングすることにより行われる。

【００６４】有機発光層（４）の膜厚は、単層または積
層により形成する場合においても１μｍ以下であり、好
ましくは１〜１００ｎｍである。また、これらの蛍光性
ポリマーや分子にグリシジル基、イソシアナート基、ビ
ニル基、アクリル基、メタクリロイルオキシメチル基、
メタクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシエチル
基、アクリロイル基、アクリロイルオキシメチル基、ア
クリロイルオキシエチル基、シンナモイル基、スチレン
メチルオキシ基、プロピオロイル基、プロパルギル基等
の重合性、架橋性の基を導入した材料を用いて成膜後に
熱、光、放射線で重合、架橋することもできる。

【００６５】また、有機発光層（４）中の蛍光体は、発
光波長変換、発光効率向上のために、米国ラムダフィズ
ィック社またはイーストマンコダック社のレーザーダイ
カタログに記載されているクマリン系やキナクリドン
系、ペリレン系、ピラン系等の、２種類以上の蛍光体を
ドーピングするか、多種類の蛍光体の発光層を２層以上
積層してもよく、そのうちの一方は赤外域または紫外域
に蛍光を示すものであってもよい。

【００６６】次に有機発光層（４）上に有機電子注入輸
送層（６）を積層する場合、有機電子注入輸送材料の好
ましい条件は、電子移動度が大きく、ＬＵＭＯ（最低空
被占軌導）のエネルギーレベルが有機発光層材料のＬＵ
ＭＯのエネルギーレベルと同程度から陰極材料のフェル
ミレベル（仕事関数）の間にあり、仕事関数が有機発光
層材料より大きく、成膜性が良いことがある。さらに陽
極（２）が不透明で、透明もしくは半透明の陰極（５）
から光を取り出す構成の素子においては少なくとも有機
発光層材料の蛍光波長領域において実質的に透明である
必要がある。

【００６７】本発明における電子注入輸送層は、特願平
４−３００８８５の中で言及されている材料を用いるこ
とができるが、場合によっては有機発光層材料の例にあ
げた化合物を用いることが可能である。

【００６８】有機電子注入輸送層（６）の成膜方法は、
スピンコート法等の方法で塗布、または真空蒸着法、累
積膜法等の方法により行なわれ、１〜１００ｎｍの厚さ
に成膜される。

【００６９】次に陰極（５）を有機発光層（４）または
有機電子注入輸送層（６）上に形成する。

【００７０】陰極は、電子注入を効果的に行なうために
有機発光層（４）または電子注入輸送層（６）と接する
面に低仕事関数の物質が使われ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む２成分、３成分の合金系が用いられ
る。

【００７１】特に、ＬｉやＣａを添加したＡｌは仕事関
数は３．１ｅＶ程度に低下し、発光層に電子を注入しや
すくなるとともに、Ｍｇ系の合金よりも安定であるため
に陰極として優れている。

【００７２】ＬｉやＣａを含む低仕事関数陰極を用いた
場合には、さらにその上にＬｉやＣａを含まない、Ａ
ｌ、Ｉｎ、Ａｇ等の金属層を積層し、酸化に対する保護
層としてもよい。

【００７３】陰極（５）の形成方法は、抵抗加熱方法に
より１０^-5Ｔｏｒｒオーダー以下の真空度の下で成分ご
とに別々の蒸着源から水晶振動子式膜厚計でモニターし
ながら共蒸着する。この時、０．０１〜０．３μｍ程度
の膜厚で形成されるが、電子ビーム蒸着法、イオンプレ
ーティング法や、スパッタリング法により共蒸着ではな
く、合金ターゲットを用いて成膜することもできる。

【００７４】次に素子の有機層や電極の酸化を防ぐため
に素子上に封止層（７）を形成する。封止層（７）は、
陰極（５）の形成後直ちに形成する。封止層材料の例と
しては、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＧｅＯ、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ
₃、ＴｉＯ₂、ＧｅＯ₂、ＺｎＯ、ＴｅＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ
₃、ＳｎＯ、Ｂ₂Ｏ₃等の酸化物、ＭｇＦ₂、ＬｉＦ、
ＢａＦ₂、ＡｌＦ₃、ＦｅＦ₃、ＣａＦ₂等の沸化物Ｚ
ｎＳ、ＧｅＳ、ＳｎＳ等の硫化物等のガスおよび水蒸気
バリアー性の高い無機化合物があげられるが、上記例に
限定されるものではない。これらを単体または複合して
単層、または積層して蒸着、スパッタリング法、イオン
プレーティング法等により成膜する。抵抗加熱方式で蒸
着する場合には、低温で蒸着できるＧｅＯが優れてい
る。また金属参加ぶる層はそれらを校正する金属を酸素
プラズマを通して蒸着することにより容易に形成するこ
ともできる。陰極保護のために、封止層中、または封止
層に接する面上に封止用無機化合物とＬｉ等のアルカリ
金属やＣａ等のアルカリ土類金属との混合層を設けても
よい。封止膜の密着性や緻密性を上げるために、イオン
プレーティング等のプラズマプロセスを用いることが望
ましい。

【００７５】さらに湿気の侵入を防ぐ為に市販の低吸湿
性の光硬化性接着剤、エポキシ系接着剤、シリコーン系
接着剤、架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体接着剤シー
ト等の接着性樹脂や低融点ガラスを用いて、ガラス板等
の封止板（８）の周囲または全面を接着し密封する。ガ
ラス板以外にも金属板、プラスチック板等を用いること
もできる。

【００７６】

【作用】以上のように構成した有機薄膜ＥＬ素子は、有
機正孔注入輸送層（３）側を正として電源（１２）にリ
ード線（１３）で接続し、直流電圧を印加することによ
り発光するが、交流電圧を印加した場合にも正孔注入輸
送層（３）側の電極が正に電圧印加されている間は発光
する。

【００７７】本発明による有機薄膜ＥＬ素子を基板上に
２次元に配列することにより文字や画像を表示可能な薄
型ディスプレーを作ることができる。

【００７８】

【実施例】

＜実施例１＞透明絶縁性の基板（１）として厚さ１．１
ｍｍの青板ガラス板を用い、この上に１２０ｎｍのＩＴ
Ｏを被覆して陽極（２）とした。この透明導電性基板を
使用前に水洗、プラズマ洗浄により十分に洗浄後、（化
１７）で示されるジエポキシ化合物（重クロロホルム中
で測定した¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、および¹³Ｃ−ＮＭ
Ｒスペクトルをそれぞれ図４、図５に示す）と特願平４
−１４２７９１号で合成法を述べた（化２１）（化２
２）で示すジアミン硬化剤

【００７９】

【化２１】

【００８０】

【化２２】

【００８１】をモル比２：１で混合したテトラヒドロフ
ラン溶液をスピンコーティングをした後、２００℃まで
加熱し３次元硬化させ厚さ５０ｎｍの正孔注入輸送層
（３）を成膜した。この正孔注入輸送層はテトラヒドロ
フランに不溶であり、強固な基板密着性を示した。次
に、Ａｌｑ₃のクロロホルム溶液をその上面にスピンコ
ーティングをして５０ｎｍの厚さの有機発光層（４）を
形成した。

【００８２】次に、その上面に陰極（５）としてＡｌと
Ｌｉを蒸着速度比３：１で２０ｎｍ形成した後、Ａｌの
みさらに２０００Å積層した。最後に、封止層（７）と
してＬｉＦを４００ｎｍ蒸着した後に、ＧｅＯ₂を酸素
プラズマ中でＧｅＯを蒸着することにより６００ｎｍの
厚さで形成後、ガラス板（８）を光硬化性樹脂（９）で
接着し密封した。

【００８３】この素子は２０Ｖの直流電圧印加により２
３ｃｄ／ｍ²の黄緑色発光を示した。電流密度は３２ｍ
Ａ／ｃｍ²であった。

【００８４】＜実施例２＞実施例１と同様に正孔注入輸
送層を形成し第１正孔注入輸送層（１０）とした。次に
第２正孔注入輸送層（１１）としてＴＰＤを７ｎｍ蒸着
した。次に有機発光層（４）としてＡｌｑ₃を５０ｎｍ
蒸着し、以後実施例１と同様に素子を作製した。

【００８５】この素子は２０Ｖの直流電圧印加により４
８２５ｃｄ／ｍ²の黄緑色発光を示した。電流密度は３
５４ｍＡ／ｃｍ²であった。

【００８６】＜実施例３＞実施例２の素子の第２正孔注
入輸送層を除いた以外は同様に素子を作製した。この素
子は１９Ｖの直流電圧を印加すると１１２７ｃｄ／ｍ²
の黄緑色の発光を示した。電流密度は２７３ｍＡ／ｃｍ
²であった。

【００８７】

【発明の効果】本発明におけるエポキシ基を有し、かつ
正孔注入輸送、または発光、または電子注入輸送機能を
有する化合物を含む組成物を重合および架橋した層を有
機薄膜ＥＬ素子の有機層に用いることにより、機械的強
度、および耐熱性が高く有機溶剤に不溶な有機層を得る
ことができ、本発明の有機層上にスピンコート法等の溶
剤を用いた塗布法により他の膜を形成しても溶かされ混
合してしまうことがない。

【００８８】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機薄膜ＥＬ素子の一実施例を示す説
明図である。

【図２】本発明の有機薄膜ＥＬ素子の他の実施例を示す
説明図である。

【図３】本発明の有機薄膜ＥＬ素子の他の実施例を示す
説明図である。

【図４】本実施例中で示されるジポキシ化合物を重クロ
ロホルム中で測定した¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図５】本実施例中で示されるジポキシ化合物を重クロ
ロホルム中で測定した¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルである。

【符号の説明】

（１）…基板（２）…陽極（３）…正孔注入輸送層（４）…有機発光層（５）…陰極（６）…有機電子注入輸送層（７）…封止層（８）…ガラス板（９）…接着性樹脂層（１０）…第１正孔注入輸送層（１１）…第２正孔注入輸送層（１２）…電源（１３）…リード線（１４）…陰極取り出し口

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【手続補正書】

【提出日】平成６年１１月４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３５】

【化１０】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】互いに対向する電極間に、少なくとも有機
発光層を含む１層以上の有機薄膜層が介在して構成され
る有機薄膜ＥＬ素子において、該電極間に挟まれた少な
くとも１層以上の有機薄膜層が、エポキシ基を有する化
合物を含む組成物を重合および架橋した層よりなること
を特徴とする有機薄膜ＥＬ素子。
【請求項２】互いに対向する電極間に挟まれる有機薄膜
層が、単層または、多層の有機正孔注入輸送層と有機発
光層とからなる請求項１記載の有機薄膜ＥＬ素子におい
て、該正孔注入輸送層中の少なくとも１層以上の有機薄
膜層がエポキシ基を有する化合物を含む組成物を重合お
よび架橋した層よりなることを特徴とする有機薄膜ＥＬ
素子。
【請求項３】互いに対向する電極間に挟まれる有機薄膜
層が、少なくとも１層以上の有機正孔注入輸送層と有機
発光層とからなる請求項１記載の有機薄膜ＥＬ素子にお
いて、該正孔注入輸送層中の少なくとも１層以上の有機
薄膜層が、２つ以上のエポキシ基を有する化合物と２つ
以上のアミノ基を有する化合物を少なくとも含む組成物
を重合および架橋した層よりなることを特徴とする有機
薄膜ＥＬ素子。
【請求項４】請求項３記載の有機薄膜ＥＬ素子におい
て、２つ以上のエポキシ基を有する化合物と２つ以上の
アミノ基を有する化合物を少なくとも含む組成物を重合
および架橋した層が、該組成物を含む溶液を塗布後乾燥
し、さらに加熱することにより重合および架橋して形成
された層であることを特徴とする有機薄膜ＥＬ素子。
【請求項５】請求項３記載の有機薄膜ＥＬ素子におい
て、該組成物中のエポキシ基とアミノ基のモル比が２対
１である組成物を用いて作製されたことを特徴とする有
機薄膜ＥＬ素子。
【請求項６】請求項２記載の有機薄膜ＥＬ素子におい
て、有機発光層が、少なくとも１種類以上の蛍光物質を
含む溶液を有機正孔注入輸送層上に塗布後乾燥すること
により形成された層であることを特徴とする有機薄膜Ｅ
Ｌ素子。
【請求項７】請求項１記載の有機薄膜ＥＬ素子におい
て、片側の電極が可視光線波長領域において５０％以上
の光線透過率の透明電極、または半透明電極であり、対
向する他方の電極はリチウム、またはカルシウムを含む
金属合金電極であることを特徴とする有機薄膜ＥＬ素
子。
【請求項８】請求項７の有機薄膜ＥＬ素子において、リ
チウム、またはカルシウムを含む金属電極上に、リチウ
ム、またはカルシウムを含まない難腐食性金属層を設け
たことを特徴とする有機薄膜ＥＬ素子。
【請求項９】基板上に積層された請求項１記載の有機薄
膜ＥＬ素子において、発光部において基板に接していな
い電極面側上に更に金属酸化物、金属フッ化物および金
属硫化物から選ばれる少なくとも一種以上の材料からな
る１層以上の無機封止層が設けられていることを特徴と
する有機薄膜ＥＬ素子。
【請求項１０】少なくとも、一層以上の無機封止層がプ
ラズマプロセス法により積層されたものであることを特
徴とする請求項７の有機薄膜ＥＬ素子。
【請求項１１】請求項９、または１０の有機薄膜ＥＬ素
子において、無機封止層に接着性樹脂により気密性の板
または箔を接着したことを特徴とする有機薄膜ＥＬ素
子。