JPH0786258A - 反応検出装置 - Google Patents
反応検出装置Info
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- JPH0786258A JPH0786258A JP25501193A JP25501193A JPH0786258A JP H0786258 A JPH0786258 A JP H0786258A JP 25501193 A JP25501193 A JP 25501193A JP 25501193 A JP25501193 A JP 25501193A JP H0786258 A JPH0786258 A JP H0786258A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明はクリーニング寿命が長く、稼働率が高
い反応検出装置を実現する。 【構成】反応室２に設けられている透明部材でなる窓８
の内側に、開口部１１を有するシヤツタ手段６を設け
る。反応室２内部の反応を観察するときだけ、シヤツタ
手段６の開口部１１を窓８と対向する位置に移動させて
反応室２内部の反応を観察できるようにする。反応室２
内部の反応を観察するとき以外は、シヤツタ手段６の開
口部１１以外の部分で窓８の全面を覆う。これにより、
きれいな状態にある窓を介して発光スペクトルの発光強
度を観察できるので安定した終点判定を行うことができ
ると共に、反応室２をクリーニングする回数を格段的に
低減することができる。
い反応検出装置を実現する。 【構成】反応室２に設けられている透明部材でなる窓８
の内側に、開口部１１を有するシヤツタ手段６を設け
る。反応室２内部の反応を観察するときだけ、シヤツタ
手段６の開口部１１を窓８と対向する位置に移動させて
反応室２内部の反応を観察できるようにする。反応室２
内部の反応を観察するとき以外は、シヤツタ手段６の開
口部１１以外の部分で窓８の全面を覆う。これにより、
きれいな状態にある窓を介して発光スペクトルの発光強
度を観察できるので安定した終点判定を行うことができ
ると共に、反応室２をクリーニングする回数を格段的に
低減することができる。
Description
【０００１】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題（図６及び図７） 課題を解決するための手段（図１） 作用（図１） 実施例（図１〜図５） 発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は反応検出装置に関し、例
えば反応性イオンエツチング（ＲＩＥ：reactive ion e
tching）装置におけるエツチング終点の検出装置に適用
して好適なものである。
えば反応性イオンエツチング（ＲＩＥ：reactive ion e
tching）装置におけるエツチング終点の検出装置に適用
して好適なものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、エツチングの終点を光学的に検出
する方法として、プラズマの発光強度を終点判定装置
（ＥＰＤ：end point detector）と呼ばれる装置でモニ
タすることによりエツチングの終点を判定する方法があ
る。すなわち、プラズマでエツチングしたときには固有
の光が発生し、この光が検出できなくなつた時点をエツ
チングの終了点として判定する方法である。
する方法として、プラズマの発光強度を終点判定装置
（ＥＰＤ：end point detector）と呼ばれる装置でモニ
タすることによりエツチングの終点を判定する方法があ
る。すなわち、プラズマでエツチングしたときには固有
の光が発生し、この光が検出できなくなつた時点をエツ
チングの終了点として判定する方法である。
【０００４】これを、図６及び図７に示す枚葉式エツチ
ング装置及びバツチ式エツチング装置を例に説明する。
これらの装置ではまずＳｉ０2 膜が形成されたウエハを
所定の場所に配置する。次にこのＳｉ０2 膜に向けてフ
ツ素系のガス、例えばＳＦ6、ＣＦ4 又はＣＨＦ3 等を
流し、発生されるＳｉＦガスによつて酸化膜をエツチン
グする。このときＳｉＦの発光スペクトルの発光強度を
石英ガラスを介して終点判定装置で常時モニタし、Ｓｉ
Ｆの発光スペクトルが検出されなくなつた時点、すなわ
ちＳｉ０2 膜がなくなつた時点をエツチングが終了した
時点と判定している。
ング装置及びバツチ式エツチング装置を例に説明する。
これらの装置ではまずＳｉ０2 膜が形成されたウエハを
所定の場所に配置する。次にこのＳｉ０2 膜に向けてフ
ツ素系のガス、例えばＳＦ6、ＣＦ4 又はＣＨＦ3 等を
流し、発生されるＳｉＦガスによつて酸化膜をエツチン
グする。このときＳｉＦの発光スペクトルの発光強度を
石英ガラスを介して終点判定装置で常時モニタし、Ｓｉ
Ｆの発光スペクトルが検出されなくなつた時点、すなわ
ちＳｉ０2 膜がなくなつた時点をエツチングが終了した
時点と判定している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところがＳｉ０2 膜の
エツチングが進行するに従つてマスクに使用しているレ
ジストもエツチングされるので、エツチング処理を重ね
るごとに石英ガラスでなるチヤンバの内側全面にレジス
ト化合物等の反応生成物が付着して汚れる。この結果、
石英ガラスを透過する発光スペクトルの発光強度が低下
し、発光スペクトルを正確に検出できなくなるのでエツ
チングの終点を誤つて検出してしまうおそれが生ずる。
エツチングが進行するに従つてマスクに使用しているレ
ジストもエツチングされるので、エツチング処理を重ね
るごとに石英ガラスでなるチヤンバの内側全面にレジス
ト化合物等の反応生成物が付着して汚れる。この結果、
石英ガラスを透過する発光スペクトルの発光強度が低下
し、発光スペクトルを正確に検出できなくなるのでエツ
チングの終点を誤つて検出してしまうおそれが生ずる。
【０００６】このため現在では、チヤンバを大気に開放
してチヤンバ内を定期的にクリーニングしている。ここ
でクリーニングの頻度は、枚葉式装置でもバツチ式装置
でもウエハを約 500枚から1000枚位エツチングするとク
リーニングしなければならない。逆にチヤンバがある程
度汚れても、終点判定装置の感度を高めれば光を検出す
ることができるが、小さなノイズに反応したり、外の類
似した光に反応して誤検出するおそれがある。
してチヤンバ内を定期的にクリーニングしている。ここ
でクリーニングの頻度は、枚葉式装置でもバツチ式装置
でもウエハを約 500枚から1000枚位エツチングするとク
リーニングしなければならない。逆にチヤンバがある程
度汚れても、終点判定装置の感度を高めれば光を検出す
ることができるが、小さなノイズに反応したり、外の類
似した光に反応して誤検出するおそれがある。
【０００７】従つてこのような方法では、チヤンバ内を
クリーニングするたびに装置を停止する必要があるので
連続して作業ができず、またチヤンバ内をクリーニング
してから再度使用できる状態にするまでに約12時間から
24時間必要になり、稼働率がかなり低下するという問題
があつた。
クリーニングするたびに装置を停止する必要があるので
連続して作業ができず、またチヤンバ内をクリーニング
してから再度使用できる状態にするまでに約12時間から
24時間必要になり、稼働率がかなり低下するという問題
があつた。
【０００８】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、クリーニング寿命が長く、稼働率が高い反応検出装
置を提案しようとするものである。
で、クリーニング寿命が長く、稼働率が高い反応検出装
置を提案しようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、反応室２に設けられている透明部
材の窓８を介して内部の反応を外部より観察する反応検
出装置１において、窓８の内側に設置され、反応室２内
部の反応を観察するとき以外は窓８の全面を覆い、反応
室２内部の反応を観察するときは窓８の対向位置から退
避して反応室２内部を観察できるようにするシヤツタ手
段６を設けるようにする。
め本発明においては、反応室２に設けられている透明部
材の窓８を介して内部の反応を外部より観察する反応検
出装置１において、窓８の内側に設置され、反応室２内
部の反応を観察するとき以外は窓８の全面を覆い、反応
室２内部の反応を観察するときは窓８の対向位置から退
避して反応室２内部を観察できるようにするシヤツタ手
段６を設けるようにする。
【００１０】また本発明においては、反応室２に設けら
れている透明部材の窓１３を介して内部の反応を外部よ
り観察する反応検出装置１において、窓１３の内壁に反
応物が付着するのを防止する透明な膜状部材１４と、窓
１３の内側周辺に配置され、透明な膜状部材１４を供給
する供給手段１５と、窓１３の内側周辺に配置され、透
明な膜状部材１４が汚れたときに当該膜状部材１４を巻
き取る巻取り手段１６とを設けるようにする。
れている透明部材の窓１３を介して内部の反応を外部よ
り観察する反応検出装置１において、窓１３の内壁に反
応物が付着するのを防止する透明な膜状部材１４と、窓
１３の内側周辺に配置され、透明な膜状部材１４を供給
する供給手段１５と、窓１３の内側周辺に配置され、透
明な膜状部材１４が汚れたときに当該膜状部材１４を巻
き取る巻取り手段１６とを設けるようにする。
【００１１】
【作用】反応室２に設けられている透明部材でなる窓８
の内側に、反応室２内部の反応を観察するときだけ窓８
と対向する位置に移動し、反応室２内部の反応を観察す
るとき以外は窓８の全面を覆うシヤツタ手段６を設け
る。これにより、汚れはシヤツタ手段６に付着するので
窓８にはほとんど付着しない。従つてきれいな状態にあ
る窓８を介して発光スペクトルの発光強度を検出するこ
とができるので終点判定を安定して行うことができると
共に、反応室２をクリーニングする回数を格段的に低減
することができる。
の内側に、反応室２内部の反応を観察するときだけ窓８
と対向する位置に移動し、反応室２内部の反応を観察す
るとき以外は窓８の全面を覆うシヤツタ手段６を設け
る。これにより、汚れはシヤツタ手段６に付着するので
窓８にはほとんど付着しない。従つてきれいな状態にあ
る窓８を介して発光スペクトルの発光強度を検出するこ
とができるので終点判定を安定して行うことができると
共に、反応室２をクリーニングする回数を格段的に低減
することができる。
【００１２】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１３】図１において、１は全体として反応検出装
置を示し、エツチング処理の終了点を発光スペクトルの
発光強度によつて判定する。反応検出装置１はチヤンバ
２及び終点判定装置（ＥＰＤ）３から構成されている。
チヤンバ２は、所定の厚さを有する合金材料（いわゆる
サス）でなる円筒形の外部カバー４と、所定の厚さを有
し、外部カバー４の内側に沿うように配置されている石
英ガラスでなる円筒形の内部カバー５との２重構造でな
る。また内部カバー５の内側に沿うように、所定の厚さ
を有する石英ガラスでなる円板状の遮蔽板６が配置され
ている。外部カバー４、内部カバー５及び遮蔽板６はそ
れぞれ所定の間隔で配置されている。
置を示し、エツチング処理の終了点を発光スペクトルの
発光強度によつて判定する。反応検出装置１はチヤンバ
２及び終点判定装置（ＥＰＤ）３から構成されている。
チヤンバ２は、所定の厚さを有する合金材料（いわゆる
サス）でなる円筒形の外部カバー４と、所定の厚さを有
し、外部カバー４の内側に沿うように配置されている石
英ガラスでなる円筒形の内部カバー５との２重構造でな
る。また内部カバー５の内側に沿うように、所定の厚さ
を有する石英ガラスでなる円板状の遮蔽板６が配置され
ている。外部カバー４、内部カバー５及び遮蔽板６はそ
れぞれ所定の間隔で配置されている。
【００１４】図１に示すように、外部カバー４には円形
の検出用窓７が設けられ、板状の石英ガラス窓８の両端
部が外部カバー４と接合してこの検出用窓７を外側から
塞いでいる。これによりチヤンバ２は密閉されチヤンバ
２内が真空状態に保持される。この石英ガラス窓８の外
側には終点判定装置３が配設され、終点判定装置３はこ
の石英ガラス窓８を透過する発光スペクトルの発光強度
をモニタする。また内部カバー５は金属汚染を防止する
ために配設されたものであり、外部カバー４と同様に検
出用窓９が設けられている。ここで図１に示すように外
部カバー４及び内部カバー５はこれらの検出用窓７及び
９と開口１１とが対向するような位置に配置されてい
る。
の検出用窓７が設けられ、板状の石英ガラス窓８の両端
部が外部カバー４と接合してこの検出用窓７を外側から
塞いでいる。これによりチヤンバ２は密閉されチヤンバ
２内が真空状態に保持される。この石英ガラス窓８の外
側には終点判定装置３が配設され、終点判定装置３はこ
の石英ガラス窓８を透過する発光スペクトルの発光強度
をモニタする。また内部カバー５は金属汚染を防止する
ために配設されたものであり、外部カバー４と同様に検
出用窓９が設けられている。ここで図１に示すように外
部カバー４及び内部カバー５はこれらの検出用窓７及び
９と開口１１とが対向するような位置に配置されてい
る。
【００１５】遮蔽板６は外部カバー４及び内部カバー５
を貫通して遮蔽板６に取り付けられている回転軸１０に
よつて自動的に回転するようになされている。また遮蔽
板６にも円形の開口１１が設けられている。この開口１
１は、遮蔽板６を回転させたときに検出用窓７及び９の
位置と対向するような位置に設けられている。従つて遮
蔽板６を回転させて開口１１の位置を移動させることに
より検出用窓７及び９の前方が遮蔽されるので、石英ガ
ラス窓８に汚れが付着することを防止することができ
る。すなわちエツチング中に発生するレジスト化合物等
の反応生成物は遮蔽板６だけに付着する。逆に遮蔽板６
を回転させて遮蔽板６の開口１１を検出用窓７及び９と
対向するようにすれば、汚れていない状態の石英ガラス
窓８を介していつでも発光スペクトルの発光強度をモニ
タすることができる。
を貫通して遮蔽板６に取り付けられている回転軸１０に
よつて自動的に回転するようになされている。また遮蔽
板６にも円形の開口１１が設けられている。この開口１
１は、遮蔽板６を回転させたときに検出用窓７及び９の
位置と対向するような位置に設けられている。従つて遮
蔽板６を回転させて開口１１の位置を移動させることに
より検出用窓７及び９の前方が遮蔽されるので、石英ガ
ラス窓８に汚れが付着することを防止することができ
る。すなわちエツチング中に発生するレジスト化合物等
の反応生成物は遮蔽板６だけに付着する。逆に遮蔽板６
を回転させて遮蔽板６の開口１１を検出用窓７及び９と
対向するようにすれば、汚れていない状態の石英ガラス
窓８を介していつでも発光スペクトルの発光強度をモニ
タすることができる。
【００１６】終点判定装置３は、その検出部が検出用窓
７及び９とシヤツタ手段６の開口１１と対向するような
位置に配設されるように石英ガラス窓８の外側に配設さ
れている。従つて遮蔽板６を回転させて開口１１を検出
用窓７及び９と対向する位置に移動させることにより、
終点判定装置３はこれらの検出用窓７及び９と、開口１
１と、石英ガラス窓８とを介して発光スペクトルの発光
強度をモニタし、発光スペクトルの発光強度を電圧に変
換して電圧値でエツチングの終点を判定している。
７及び９とシヤツタ手段６の開口１１と対向するような
位置に配設されるように石英ガラス窓８の外側に配設さ
れている。従つて遮蔽板６を回転させて開口１１を検出
用窓７及び９と対向する位置に移動させることにより、
終点判定装置３はこれらの検出用窓７及び９と、開口１
１と、石英ガラス窓８とを介して発光スペクトルの発光
強度をモニタし、発光スペクトルの発光強度を電圧に変
換して電圧値でエツチングの終点を判定している。
【００１７】以上の構成において、遮蔽板６を回転させ
て開口１１の位置を例えば検出用窓７及び９とは正反対
の方向に移動させることにより検出用窓７及び９の前方
を遮蔽した後、例えばＣｌ2 ガスのような塩素系ガスや
ＳＦ6 ガスのようなフツ素系ガスをチヤンバ２内でプラ
ズマ化し、エツチング処理を開始する。その後、エツチ
ング終了予定時間から一定時間前（例えばエツチングが
終了する30秒前）に遮蔽板６を回転させて開口１１を検
出用窓７及び９と対向する位置に移動させる。これによ
つて終点判定装置３は石英ガラス窓８を透過する発光ス
ペクトルの発光強度をモニタしてエツチングの終点を検
出する。
て開口１１の位置を例えば検出用窓７及び９とは正反対
の方向に移動させることにより検出用窓７及び９の前方
を遮蔽した後、例えばＣｌ2 ガスのような塩素系ガスや
ＳＦ6 ガスのようなフツ素系ガスをチヤンバ２内でプラ
ズマ化し、エツチング処理を開始する。その後、エツチ
ング終了予定時間から一定時間前（例えばエツチングが
終了する30秒前）に遮蔽板６を回転させて開口１１を検
出用窓７及び９と対向する位置に移動させる。これによ
つて終点判定装置３は石英ガラス窓８を透過する発光ス
ペクトルの発光強度をモニタしてエツチングの終点を検
出する。
【００１８】ここで重要なことは、エツチング時間中
（例えば10分間）、常に発光スペクトルをモニタする必
要はないということである。すなわち、エツチングレー
トが一定で、エツチング時間が判つていれば、エツチン
グ終了時間の一定時間前だけ発光スペクトルの発光強度
をモニタするようにすれば、石英ガラス窓８がレジスト
化合物等の反応生成物に晒される時間が必然的に短くな
るので、石英ガラス窓８の汚れも格段的に少なくなり、
従つてエツチングの終点を安定して検出することができ
る。
（例えば10分間）、常に発光スペクトルをモニタする必
要はないということである。すなわち、エツチングレー
トが一定で、エツチング時間が判つていれば、エツチン
グ終了時間の一定時間前だけ発光スペクトルの発光強度
をモニタするようにすれば、石英ガラス窓８がレジスト
化合物等の反応生成物に晒される時間が必然的に短くな
るので、石英ガラス窓８の汚れも格段的に少なくなり、
従つてエツチングの終点を安定して検出することができ
る。
【００１９】本発明の反応検出装置１を用いて、エツチ
ングが終了する一定時間前だけ発光スペクトルの発光強
度をモニタした場合のＥＰＤモニタ電圧の処理枚数依存
性を示す。図２から分かるように、ウエハを5000枚処理
してもＥＰＤモニタ電圧は９〔Ｖ〕〜10〔Ｖ〕と安定し
ている（エツチングの終点を安定して検出するためには
約５〔Ｖ〕の電圧が必要である）。これは、終点判定装
置３が正常に動作していることを示すものである。
ングが終了する一定時間前だけ発光スペクトルの発光強
度をモニタした場合のＥＰＤモニタ電圧の処理枚数依存
性を示す。図２から分かるように、ウエハを5000枚処理
してもＥＰＤモニタ電圧は９〔Ｖ〕〜10〔Ｖ〕と安定し
ている（エツチングの終点を安定して検出するためには
約５〔Ｖ〕の電圧が必要である）。これは、終点判定装
置３が正常に動作していることを示すものである。
【００２０】これに対して、図６及び図７に示すよう
な、エツチングの間常に円筒形の石英ガラスを介して発
光スペクトルの発光強度をモニタしなければならないよ
うな構成を有する装置を用いた場合のＥＰＤモニタ電圧
の処理枚数依存性を示す。図３から分かるように、レジ
スト化合物等の反応生成物が石英ガラス１２、１８に付
着して石英ガラス１２、１８が汚れるため、ウエハの処
理枚数が増加するに従つてＥＰＤモニタ電圧は降下し、
3000枚を越えると電圧が５〔Ｖ〕以下となつてエツチン
グの終点を安定して検出することができなくなる。
な、エツチングの間常に円筒形の石英ガラスを介して発
光スペクトルの発光強度をモニタしなければならないよ
うな構成を有する装置を用いた場合のＥＰＤモニタ電圧
の処理枚数依存性を示す。図３から分かるように、レジ
スト化合物等の反応生成物が石英ガラス１２、１８に付
着して石英ガラス１２、１８が汚れるため、ウエハの処
理枚数が増加するに従つてＥＰＤモニタ電圧は降下し、
3000枚を越えると電圧が５〔Ｖ〕以下となつてエツチン
グの終点を安定して検出することができなくなる。
【００２１】従つて本発明の反応検出装置１を使用する
と、同じ枚数を処理しても汚れが付着する程度が格段的
に低いため、エツチングの終点を安定して検出できるウ
エハの処理枚数が格段的に増加する。すなわち発光スペ
クトルの発光強度をモニタする時間を短くすればするほ
ど、石英ガラスに付着する汚れが少なくなるので、ウエ
ハを処理できる枚数も必然的に増加することになる。実
際にはダスト等の問題でウエハを１万枚〜２万枚処理す
ると装置全体をクリーニングしなければならないが、本
発明の反応検出装置１は１万枚〜２万枚までエツチング
の終点を安定して検出できるので、汚れた部分をクリー
ニングするためだけのメインテナンスは必要なくなる。
と、同じ枚数を処理しても汚れが付着する程度が格段的
に低いため、エツチングの終点を安定して検出できるウ
エハの処理枚数が格段的に増加する。すなわち発光スペ
クトルの発光強度をモニタする時間を短くすればするほ
ど、石英ガラスに付着する汚れが少なくなるので、ウエ
ハを処理できる枚数も必然的に増加することになる。実
際にはダスト等の問題でウエハを１万枚〜２万枚処理す
ると装置全体をクリーニングしなければならないが、本
発明の反応検出装置１は１万枚〜２万枚までエツチング
の終点を安定して検出できるので、汚れた部分をクリー
ニングするためだけのメインテナンスは必要なくなる。
【００２２】以上の構成によれば、発光スペクトルの発
光強度をモニタするとき以外は石英ガラス窓８にレジス
ト化合物等の反応生成物が付着しないように遮蔽板６を
回転させて検出用窓７及び９の前方を遮蔽し、発光スペ
クトルの発光強度をモニタするときだけ遮蔽板６の開口
１１が検出用窓７及び９と対向するようにしたことによ
り、きれいな状態の石英ガラス窓８を介して発光スペク
トルの発光強度をモニタすることができるのでエツチン
グの終点を安定して検出することができると共に、石英
ガラス窓８をクリーニングする回数を格段的に少なくす
ることができる。
光強度をモニタするとき以外は石英ガラス窓８にレジス
ト化合物等の反応生成物が付着しないように遮蔽板６を
回転させて検出用窓７及び９の前方を遮蔽し、発光スペ
クトルの発光強度をモニタするときだけ遮蔽板６の開口
１１が検出用窓７及び９と対向するようにしたことによ
り、きれいな状態の石英ガラス窓８を介して発光スペク
トルの発光強度をモニタすることができるのでエツチン
グの終点を安定して検出することができると共に、石英
ガラス窓８をクリーニングする回数を格段的に少なくす
ることができる。
【００２３】なお上述の実施例においては、内部カバー
５に窓９を設けた場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、内部カバー５が透明部材であれば窓９を設け
なくてもよい。
５に窓９を設けた場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、内部カバー５が透明部材であれば窓９を設け
なくてもよい。
【００２４】また上述の実施例においては、内部カバー
５が石英ガラスでなる場合について述べたが、本発明は
これに限らず、他の部材でもよい。
５が石英ガラスでなる場合について述べたが、本発明は
これに限らず、他の部材でもよい。
【００２５】また上述の実施例においては、シヤツタ手
段６が石英ガラスでなる場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、サス又はアルミニウム等を用いてもよ
い。
段６が石英ガラスでなる場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、サス又はアルミニウム等を用いてもよ
い。
【００２６】また上述の実施例においては、チヤンバ２
内部の反応を外部より観察するときは遮蔽板６に設けら
れている開口１１を検出用窓７及び９と対向する位置に
移動させ、チヤンバ２内部の反応を観察するとき以外は
遮蔽板６の開口１１以外の部分が検出用窓７及び９の全
面を覆うようにした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、図４に示すように透明の薄膜１４を供給し
て、この薄膜１４が汚れたら自動的に巻き取るようにし
てもよい。
内部の反応を外部より観察するときは遮蔽板６に設けら
れている開口１１を検出用窓７及び９と対向する位置に
移動させ、チヤンバ２内部の反応を観察するとき以外は
遮蔽板６の開口１１以外の部分が検出用窓７及び９の全
面を覆うようにした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、図４に示すように透明の薄膜１４を供給し
て、この薄膜１４が汚れたら自動的に巻き取るようにし
てもよい。
【００２７】すなわち円筒形の石英ガラス１２に円形の
検出用窓１３を設け、図４（Ｂ）に示すように、検出用
窓１３の内側に、透明の薄膜１４を供給する装置１５
と、汚れた薄膜１４を巻き取る巻取り装置１６とを配設
する。発光スペクトルの発光強度が低下したら、信号を
送出して薄膜１４を自動的に巻き取り、きれいな薄膜１
４を終点判定装置の検出部前方に置くようにする。これ
により常に検出用窓１３がきれいな状態で発光スペクト
ルの発光強度をモニタすることができるので、エツチン
グの終点を安定して検出することができる。
検出用窓１３を設け、図４（Ｂ）に示すように、検出用
窓１３の内側に、透明の薄膜１４を供給する装置１５
と、汚れた薄膜１４を巻き取る巻取り装置１６とを配設
する。発光スペクトルの発光強度が低下したら、信号を
送出して薄膜１４を自動的に巻き取り、きれいな薄膜１
４を終点判定装置の検出部前方に置くようにする。これ
により常に検出用窓１３がきれいな状態で発光スペクト
ルの発光強度をモニタすることができるので、エツチン
グの終点を安定して検出することができる。
【００２８】また図５に示すように、左右に移動させる
ことができる円板形状の遮蔽板１７を円筒形の石英ガラ
ス１８の内側に設け、発光スペクトルの発光強度を検出
用窓１９を介してモニタするときは、この遮蔽板１７を
（図５に点線で示す位置に）退避させる。また遮蔽板１
７を検出用窓１９の前方に配置すればレジスト化合物等
の反応生成物が検出用窓１９に付着することを防止する
ことができる。この場合、遮蔽板１７を左右に移動させ
るようにしたが上下に移動させるようにしてもよい。
ことができる円板形状の遮蔽板１７を円筒形の石英ガラ
ス１８の内側に設け、発光スペクトルの発光強度を検出
用窓１９を介してモニタするときは、この遮蔽板１７を
（図５に点線で示す位置に）退避させる。また遮蔽板１
７を検出用窓１９の前方に配置すればレジスト化合物等
の反応生成物が検出用窓１９に付着することを防止する
ことができる。この場合、遮蔽板１７を左右に移動させ
るようにしたが上下に移動させるようにしてもよい。
【００２９】また上述の実施例においては、発光スペク
トルの発光強度を円形の検出用窓を介してモニタする場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、長方形
等、発光スペクトルの発光強度をモニタできればどのよ
うな形の検出用窓でもよい。
トルの発光強度を円形の検出用窓を介してモニタする場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、長方形
等、発光スペクトルの発光強度をモニタできればどのよ
うな形の検出用窓でもよい。
【００３０】さらに上述の実施例においては、エツチン
グ装置の場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、ＣＶＤ装置やスパツタリング装置等、反応室での反
応をモニタする必要がある装置であればどのような装置
でもよい。
グ装置の場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、ＣＶＤ装置やスパツタリング装置等、反応室での反
応をモニタする必要がある装置であればどのような装置
でもよい。
【００３１】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、反応室に
設けられている透明部材でなる窓の内側に、開口部を有
するシヤツタ手段を設け、反応室内部の反応を観察する
とき以外は窓の全面を覆つてエツチング中に発生する反
応生成物が窓に付着しないようにし、反応室内部の反応
を観察するときは窓の対向位置から退避して反応室内部
を観察できるようにしたことにより、きれいな状態にあ
る窓を介して発光スペクトルの発光強度を観察できるの
でエツチングの終点を安定して検出することができると
共に、反応室をクリーニングする回数を格段的に少なく
することができる。
設けられている透明部材でなる窓の内側に、開口部を有
するシヤツタ手段を設け、反応室内部の反応を観察する
とき以外は窓の全面を覆つてエツチング中に発生する反
応生成物が窓に付着しないようにし、反応室内部の反応
を観察するときは窓の対向位置から退避して反応室内部
を観察できるようにしたことにより、きれいな状態にあ
る窓を介して発光スペクトルの発光強度を観察できるの
でエツチングの終点を安定して検出することができると
共に、反応室をクリーニングする回数を格段的に少なく
することができる。
【図１】本発明による反応検出装置の一実施例を示す略
線図である。
線図である。
【図２】本発明におけるＥＰＤモニタ電圧の処理枚数依
存性を示すグラフである。
存性を示すグラフである。
【図３】従来の技術におけるＥＰＤモニタ電圧の処理枚
数依存性を示すグラフである。
数依存性を示すグラフである。
【図４】本発明による反応検出装置の他の実施例の略線
図（Ａ）及び側面図（Ｂ）である。
図（Ａ）及び側面図（Ｂ）である。
【図５】本発明による反応検出装置の他の実施例の略線
図（Ａ）及び側面図（Ｂ）である。
図（Ａ）及び側面図（Ｂ）である。
【図６】枚葉式エツチング装置の略線図である。
【図７】バツチ式エツチング装置の略線図である。
１……反応検出装置、２……チヤンバ、３……終点判定
装置、４……外部カバー、５……内部カバー、６……遮
蔽板、７、９、１１、１３、１９……検出用窓、８……
石英ガラス窓、１０……回転軸、１２、１８……円筒形
の石英ガラス、１４……透明の薄膜、１５……薄膜供給
装置、１６……薄膜巻取り装置、１７……シヤツタ板。
装置、４……外部カバー、５……内部カバー、６……遮
蔽板、７、９、１１、１３、１９……検出用窓、８……
石英ガラス窓、１０……回転軸、１２、１８……円筒形
の石英ガラス、１４……透明の薄膜、１５……薄膜供給
装置、１６……薄膜巻取り装置、１７……シヤツタ板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｆ 4/00 Ｆ 8417−4Ｋ
Claims (6)
- 【請求項１】反応室に設けられている透明部材の窓を介
して内部の反応を外部より観察する反応検出装置におい
て、 上記窓の内側に設置され、上記反応室内部の反応を観察
するとき以外は上記窓の全面を覆い、上記反応室内部の
反応を観察するときは上記窓の対向位置から退避して上
記反応室内部を観察できるようにするシヤツタ手段を具
えることを特徴とする反応検出装置。 - 【請求項２】反応室に設けられている透明部材の窓を介
して内部の反応を外部より観察する反応検出装置におい
て、 上記窓の内壁に反応物が付着するのを防止する透明な膜
状部材と、 上記窓の内側周辺に配置され、上記透明な膜状部材を供
給する供給手段と、 上記窓の内側周辺に配置され、上記透明な膜状部材が汚
れたときに当該膜状部材を巻き取る巻取り手段とを具え
ることを特徴とする反応検出装置。 - 【請求項３】上記シヤツタ手段は一部に開口部を有する
板状部材でなり、上記反応室内部の反応を外部より観察
するときは上記開口部が上記窓と対向する位置に移動
し、上記反応室内部の反応を観察するとき以外は上記シ
ヤツタ手段の上記開口部以外の部分が上記窓の全面を覆
うことを特徴とする請求項１に記載の反応検出装置。 - 【請求項４】上記シヤツタ手段は板状部材でなり、支点
を中心に回動し、上記反応室内部の反応を外部より観察
するときは上記シヤツタ手段が上記支点を中心に上記窓
と対向する位置から退避し、上記反応室内部の反応を観
察するとき以外は上記シヤツタ手段が上記支点を中心に
移動して上記窓の全面を覆うことを特徴とする請求項１
に記載の反応検出装置。 - 【請求項５】上記シヤツタ手段は板状部材でなり、上下
又は左右に移動し、上記反応室内部の反応を外部より観
察するときは上記シヤツタ手段が上下又は左右に移動し
て上記窓と対向する位置から退避し、上記反応室内部の
反応を観察するとき以外は上記シヤツタ手段が上下又は
左右に移動して上記窓の全面を覆うことを特徴とする請
求項１に記載の反応検出装置。 - 【請求項６】上記反応室において、ウエハをエツチング
することを特徴とする請求項１又は２に記載の反応検出
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25501193A JPH0786258A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 反応検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25501193A JPH0786258A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 反応検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0786258A true JPH0786258A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=17272961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25501193A Pending JPH0786258A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 反応検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786258A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023159242A (ja) * | 2018-01-08 | 2023-10-31 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理 |
-
1993
- 1993-09-17 JP JP25501193A patent/JPH0786258A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023159242A (ja) * | 2018-01-08 | 2023-10-31 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理 |
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