JPH0786373A - 基板の姿勢変換装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 大型の矩形もしくは正方形の基板を汚染度の
低いカセットレスで、かつ生産効率の高いバッチ式で行
うウエット処理技術を提供する。 【構成】 前工程からキャリアカセットに収容されて搬
入される矩形もしくは正方形の基板ＳＢを、キャリアカ
セットから取り出してカセットレスで搬送処理するに際
し、姿勢変換装置２により、基板ＳＢの隣接する直交２
辺ＳＢａ，ＳＢｂが傾斜下辺となるように姿勢変換する
ことにより、基板搬送装置５，７が、これら２つの傾斜
下辺ＳＢａ，ＳＢｂを吊持状に支持搬送することを可能
にする。これにより、簡単な構成で、矩形または正方形
の大型基板ＳＢをカセットレスでなおかつバッチ式に処
理することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は基板の姿勢変換装置に
関し、さらに詳細には、液晶表示装置用ガラス基板、レ
チクル用あるいはフォトマスク用ガラス基板等の矩形も
しく正方形の薄板状基板をカセットレスでウェット処理
する基板ウェット処理装置において、基板の搬入位置ま
たは搬出位置に備えられ、基板を搬入・搬出姿勢と処理
姿勢との間で姿勢変換する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】家庭用薄形テレビやラップトップパソコ
ン等の画像表示に液晶表示装置が用いられていることは
知られている。液晶表示装置は電力消費が少ない、薄形
で場所をとらない等の理由から、壁掛けテレビやデスク
トップパソコン等への需要も高まり、それに伴い液晶表
示装置用ガラス基板も年々大型化される傾向にある。

【０００３】ところで、これらガラス基板（以下、基板
と称する）や半導体ウェハ（以下、ウェハと称する）の
ウェット処理技術には、基板等を搬送用のキャリアカセ
ットに複数枚収容し一括して処理するカセットタイプの
ものと、基板等を基板搬送装置で直接保持して処理する
カセットレスタイプのものとがあり、さらにカセットレ
スタイプのものには、保持する基板等の枚数が一枚の枚
葉式のものと、複数枚のバッチ式のものとがある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近時は、洗浄効率を高
めるとともに洗浄液の汚染を防止するためおよび生産効
率を上げるために、ウェハの場合は、カセットレスでバ
ッチ式のウエット処理が一般的になりつつあるが、一
方、基板の場合は、キャリアカセットを用いたバッチ式
か、カセットレスタイプの枚葉式かに限られており、ウ
ェハのような処理方法は採用されていなかった。

【０００５】すなわち、ウェハの場合、その形状寸法は
現在８インチのもので直径約２００ｍｍの円形であり、
まだ基板搬送装置で直接チャッキング保持しやすい。こ
れに対して、基板の場合、その形状寸法は、上述したよ
うに年々大型化されて、近時では４００×５００ｍｍの
大型矩形であることから、ウェハに比べて非常にチャッ
キングし難くしかも重いため、カセットレスでバッチ式
のウエット処理は不可能とされていた。

【０００６】しかしながら、上記キャリアカセットを用
いたウェット処理においては、上記基板の大型化に伴い
キャリアカセットも大型化しており、何槽もの薬液槽を
経てウエット処理する間に、キャリアカセット内に薬液
がかなり付着して残っているため薬液の持ち出しが多く
て、薬液を繰り返し補充しなければならなく不経済であ
った。

【０００７】また、キャリアカセットを用いて長い間何
回も薬液処理していると、経時的にキャリアカセットに
薬液が染み込んでおり、今度はそれが洗浄用純水中に染
み出して、洗浄用純水を汚染する等処理工程に悪影響を
与えてしまう。さらに、このような悪影響を未然に防止
するためには、キャリアカセットを比較的短い周期で廃
棄・交換しなければならないところ、キャリアカセット
は高価であるため、ランニングコストの大幅増大を招い
て非常に不経済であった。

【０００８】一方、カセットレスタイプの枚葉式ウェッ
ト処理においては、ローダ装置によりキャリアカセット
から基板を一枚ずつ抜き出し、ゴムベルトにより水平状
態で搬送し、その間薬液シャワーをかけて処理する方式
のものや、特開昭６４−３７０１６号に開示されている
ように、Ｌ字形あるいはＶ字形の基板保持具に一枚の基
板を保持し、この基板保持具を搬送手段で搬送処理する
方式のものがあるが、いずれのものにおいても次のよう
な問題があった。

【０００９】つまり、前者においては、ゴムベルトと基
板との接触により汚染が発生し、十分なウエット処理効
果が得られないばかりか、平面積の大きい基板を水平に
移動するため、装置の大型化を招いていた。また、後者
においては、上述したキャリアカセットの場合と同様、
基板保持具による薬液の持ち出しや、薬液の染み込み、
染み出しによる汚染の問題や、基板をＬ字形あるいはＶ
字形の基板保持具によって支えるため、基板の対角線が
水平状態に近くなり、したがって保持治具が大きくなり
装置の大型化を招くとともに、枚葉式のため生産効率が
悪い等の問題があった。

【００１０】本発明はかかる従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、基板の被処理面
が垂直にされかつその下辺が水平からわずかに傾斜する
姿勢で基板を支持することにより、大型の基板を汚染度
の低いカセットレスで、なおかつ生産効率の高いバッチ
式でウエット処理する装置において、基板をその搬入・
搬出姿勢と処理姿勢との間で姿勢変換する姿勢変換装置
の提供にある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の姿勢変換装置は、矩形もしくは正方形の基
板をカセットレスでウェット処理するに際して、基板搬
送処理装置が、上記基板をその隣接する２辺を傾斜下辺
となるよう傾斜した状態で、これら両傾斜２辺を吊持ち
支持する処理姿勢をとる基板ウェット処理装置に備えら
れるものであって、上記基板を同一姿勢で複数枚まとめ
て収容する基板保持部と、この基板保持部に収容された
基板が上記処理姿勢になるように基板保持部を回動操作
する回動部とを備えてなり、上記基板保持部は、上記各
基板の周縁部表裏面を開閉可能にチャッキング支持する
複数のチャック爪を有するチャック手段を備え、このチ
ャック手段のチャック爪は、上記基板の出入動作時にお
いて開放状態にあるとともに、上記基板保持部の回動操
作時において閉止状態にあるように駆動制御されること
を特徴とする。

【００１２】ここに、チャッキング支持とは、基板の出
し入れが可能な程度の隙間を有する状態も含み、以下本
明細書中において同様とする。

【００１３】

【作用】本発明においては、矩形または正方形の基板を
ウエット処理するに際し、基板の隣接する２辺が傾斜下
辺となるように姿勢変換することにより、基板搬送装置
がこれら２つの傾斜下辺を吊持状に保持することを可能
として、特に大型の矩形または正方形の基板をカセット
レスでなおかつバッチ式に処理することが可能となる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳
細に説明する。

【００１５】実施例１ 本発明に係る基板ウエット処理装置を図１〜図３に示
し、この基板ウエット処理装置は、複数枚（本例におい
ては２０枚）の基板ＳＢ，ＳＢ，… をカセットレスで
一括して行うバッチ式のものであって、図２に示すよう
に、基板搬入部Ｌ、搬入側移載部Ａ、ウエット処理部
Ｂ、搬出側移載部Ｃ、基板搬出部Ｕ、カセット搬送部Ｄ
および制御装置Ｅを主要部として備えてなり、上記搬入
側移載部Ａと搬出側移載部Ｃに本発明の姿勢変換装置２
が配されている。以下、各構成部ごとに順次説明する。

【００１６】Ｉ．基板搬入部Ｌ：基板搬入部Ｌは、基板
ＳＢ，ＳＢ，…が前工程から搬入される部位で、ウエッ
ト処理部Ｂの搬入側に配置され、タクト送り機構（図示
省略）を備える。前工程から搬入されてくる基板入りキ
ャリアカセットＣＣは、上記タクト送り機構により矢符
(1) の方向へ所定間隔をもってタクト送りされる。この
際基板ＳＢは水平状態（倒伏状態）に保持されている。

【００１７】II．移載部Ａ，Ｃ：搬入側および搬出側移
載部Ａ，Ｃは、それぞれ移載ロボット１と姿勢変換装置
２を備えてなる。

【００１８】移載ロボット１は、キャリアカセットＣＣ
の基板ＳＢを姿勢変換装置２に移し替えるもので、図４
に示すように、基板ＳＢをハンドリングする移替えハン
ド１ａを備える。この移替えハンド１ａは、ロボット本
体１ｂの上側に、支軸１ｃを介して昇降可能かつ回転可
能に設けられるとともに、ロボット本体１ｂ内部の駆動
源（図示省略）に連係されている。移替えハンド１ａの
先端部には、基板ＳＢを吸着チャッキングする吸引プレ
ート１ｄを備えており、この吸引プレート１ｄは図示し
ない真空ポンプ等の負圧源に連通されている。

【００１９】そして、吸引プレート１ｄは、キャリアカ
セットＣＣに収容されている基板ＳＢ，ＳＢ，…を一枚
ずつ水平状態で抜き取り、水平方向へ所定角度（図示例
においては１７５°）だけ回転させた後、水平保持状態
にある姿勢変換装置２に挿入して移し替える（矢符(2)
参照）。この場合、移替えハンド１ａは基板ＳＢを１枚
移し替えるたびに垂直方向（上方向または下方向）へ１
ピッチ分だけ昇降動作してから、上記と同様の動作を順
次繰り返して、２０枚の基板ＳＢ，ＳＢ，…すべてをキ
ャリアカセットＣＣから姿勢変換装置２へ移し替えるよ
うに駆動制御される。

【００２０】姿勢変換装置２は、具体的には図４〜図６
に示すように、基板ＳＢを収容保持する基板保持部２Ａ
と、この基板保持部２Ａを回動操作する回動部２Ｂとを
主要部として構成されている。

【００２１】基板保持部２Ａは上記基板ＳＢを同一姿勢
で複数枚まとめて収容するもので、保持部本体２０１と
開閉部２０２とからなり、後述するように、支軸２４
０，２４１を介して回動部２Ｂに上下方向へ回動可能に
装着されている。

【００２２】上記保持部本体２０１は、各基板ＳＢの隣
接する２辺ＳＢａ，ＳＢｂを保持するもので、その内周
部にチャック部（チャック手段）２０５を備えてなる。

【００２３】このチャック部２０５は、上記各基板ＳＢ
の周縁部つまり上記２辺ＳＢａ，ＳＢｂ縁部の表裏面を
開閉可能にチャッキング支持する複数のチャック爪Ｍ，
Ｍ，…を有し、これらチャック爪Ｍ，Ｍ，…は、保持部
本体２０１の内周に沿って配設された固定側チャック部
材２０６と可動側チャック部材２０７とから構成されて
いる。

【００２４】固定側チャック部材２０６は、図５および
図６に示すように、上記保持部本体２０１の内周に基板
配列方向へ延びて固設されるとともに、その内側部に、
基板保持溝Ｍ₁ が上下方向つまり上記基板配列方向へ、
同一の基板配列ピッチをもって複数形成されている。各
基板保持溝Ｍ₁ は、図７に示すような側面形状を有し、
その幅寸法が基板ＳＢの厚さ寸法よりも幅広に設定され
ている。なお、図７において、２１０および２１１はそ
れぞれ、上記保持部本体２０１を構成するフレームプレ
ートおよび補強プレートを、また２１２は固定側チャッ
ク部材２０６の取付け用スペーサを示している。

【００２５】可動側チャック部材２０７は、図５および
図６に示すように、上記保持部本体２０１の内周におい
て固定側チャック部材２０６に隣接して、かつこの固定
側チャック部材２０６と平行につまり基板配列方向へ延
びて設けられている。また、可動側チャック部材２０７
の内側にも、基板保持溝Ｍ₂ が上下方向（基板配列方
向）へ、同一の基板配列ピッチをもって複数形成されて
いる。各基板保持溝Ｍ₂は、図８に示すような側面形状
を有し、その幅寸法が上記基板保持溝Ｍ₁ 同様、基板Ｓ
Ｂの厚さ寸法よりも幅広に設定されている。

【００２６】上記可動側チャック部材２０７の具体的な
取付け構造は、図８に示すように、上記フレームプレー
ト２１０に、支持体２１５が取付け用スペーサ２１６を
介して取り付けられ、この支持体２１５に、可動側チャ
ック部材２０７の案内ロッド２１７が、リニアボールベ
アリング２１８を介して上下方向（基板配列方向）へ移
動可能に支持されている。

【００２７】また、上記支持体２１５の下端には、エア
シリンダ（駆動部）２１９が下向きに設けられており、
そのピストンロッド２１９ａが連結ブラケット２２０を
介して上記可動側チャック部材２０７の下端に連結され
ている。そして、ピストンロッド２１９ａの突出退入動
作により、可動側チャック部材２０７は上下方向つまり
基板配列方向へ往復移動可能とされている。

【００２８】これに関連して、上記フレームプレート２
１０の上端には、図９に示すような位置検出センサ２２
１，２２２が上下に二つ設けられており、これらが可動
側チャック部材２０７のセンシングプレート２２３をそ
れぞれ検出して、可動側チャック部材２０７の往復動ス
トローク（図８の実線位置と二点鎖線位置との距離）を
規定するように上記エアシリンダ２１９を駆動制御す
る。

【００２９】上記両チャック部材２０６，２０７，…
は、図１０に示すように、相互に対応して配列されてお
り、これら両者の基板保持溝Ｍ₁ ，Ｍ₂ ，…の対応する
組が上記各チャック爪Ｍを構成している。

【００３０】すなわち、基板ＳＢ，ＳＢ，…の出入動作
時においては、可動側チャック部材２０７の基板保持溝
Ｍ₂ がストローク上昇位置（図８の実線位置）にある。
これにより、両基板保持溝Ｍ₁ ，Ｍ₂ は、図１０(a) に
示すように、その下面２２５，２２６がいずれも同一高
さ位置にあって、チャック爪Ｍは開放状態にあり、基板
ＳＢの周縁は基板保持溝Ｍ₁ ，Ｍ₂ の下面２２５，２２
６に載置支持される。この場合、固定側チャック部材２
０６の基板保持溝Ｍ₁ の底面２２７は、図示のような傾
斜面とされており、後述するように、基板ＳＢ周縁の位
置決め部として機能する。

【００３１】一方、基板保持部２Ａの回動操作時におい
ては、可動側チャック部材２０７の基板保持溝Ｍ₂ がス
トローク下降位置（図８の二点鎖線位置）にある。これ
により、両基板保持溝Ｍ₁ ，Ｍ₂ ，…は、図１０(b) に
示すように、基板保持溝Ｍ₂の上面２２８が基板保持溝
Ｍ₁ の下面２２５に対して接近して、チャック爪Ｍが閉
止状態にあり、基板ＳＢの周縁は上記下面２２５と上面
２２８の最底部でチャッキング支持される。この場合、
チャック爪Ｍの最底部におけるチャッキング幅は、基板
ＳＢの周縁を挟持状にまたは小さな隙間をもって支持す
るように設定ており、これによりチャック爪Ｍに対する
基板ＳＢの出し入れが可能とされている。

【００３２】また、これらチャック部２０５のチャック
爪Ｍ，Ｍ，…の支持面は、図４に示すように、フレーム
プレート２１０の内周面（側面２１０ａ，底面２１０
ｂ）に対して、それぞれ傾斜して延びる直線状断面輪郭
を有している。これにより、これらチャック爪Ｍ，Ｍ，
…に保持される各基板ＳＢは、基板保持部２Ａの回動軸
線に直交する直線、つまりフレームプレート２１０の側
面２１０ａに平行な線に対して若干傾斜した状態（本例
では５°傾斜）で保持される。

【００３３】この結果、後述するように、基板保持部２
Ａが、基板ＳＢの被処理面が垂直状態（垂直保持状態位
置）になるよう姿勢変換されたとき（図５の二点鎖線Ｇ
参照）、その隣接する直交２辺ＳＢａ，ＳＢｂが傾斜下
辺となる処理姿勢が得られる（図１１参照）。

【００３４】上記開閉部２０２は、上記基板ＳＢの他の
１辺ＳＢｃを開放可能に保持するもので、上記固定側チ
ャック部材２０６と同一構造の開閉チャック部材２３０
を主要部として備えてなり、この開閉チャック部材２３
０が上記保持部本体２０１に対して開閉可能に設けられ
ている。

【００３５】上記開閉チャック部材２３０は、上下一対
の保持プレート２３１，２３１の先端に取付け固定され
ており、これら両保持プレート２３１，２３１の基端
は、連結プレート２３２を介して一対のスライドシャフ
ト２３３，２３３の先端に固定されている。

【００３６】これらスライドシャフト２３３，２３３
は、上記フレームプレート２１０に固設された一対のス
ライドガイド２３４，２３４に、矢符（９）方向へ案内
支持されている。これに関連して、上記連結プレート２
３２の先端部が二又状とされて、上記フレームプレート
２１０の凹部２３５，２３５に交差状に挿通されてお
り、矢符（９）方向への移動が許容されている（図４お
よび図６参照）。

【００３７】また、上記スライドガイド２３４，２３４
間のフレームプレート２１０上には、エアシリンダ２３
６が取付けられており、そのピストンロッドが上記連結
プレート２３２に連結されている（図示省略）。

【００３８】そして、このエアシリンダ２３６のピスト
ンロッドの突出退入動作により、上記開閉チャック部材
２３０が駆動して（矢符(9) 方向）、保持部本体２０１
のチャック部２０５に保持される各基板ＳＢの他の一辺
ＳＢｃを保持あるいは開放する。なお、開閉チャック部
材２３０の支持面は、上記チャック部２０５のチャック
爪Ｍ，Ｍ，…の支持面と同様、各基板ＳＢを前記傾斜状
態で保持するように形成されている。

【００３９】回動部２Ｂは、基板保持部２Ａに収容され
た基板ＳＢ，ＳＢ，…が上記処理姿勢になるように基板
保持部２Ａを回動操作するもので、図５および図６に示
すように、基板保持部２Ａを回動する回動軸２４１と、
この回動軸２４１を回転駆動する駆動部２４２と、保持
手段２Ａの回動範囲を規定する位置決め部２４３とを主
要部として備えてなる。

【００４０】回動軸２４１は、固定的に設けられた垂直
コラム２４５上に回転可能に軸支されるとともに、その
先端に上記基板保持部２Ａのフレームプレート２１０が
固設されている。上記垂直コラム２４５は、具体的に
は、装置本体に固設された支持ベース２４６上に起立状
に設けられており、その上端部に固定された軸受ブラケ
ット２４７上に、回動シャフト２４０が回転可能に軸支
されている。

【００４１】これに関連して、上記垂直コラム２４５と
対になる垂直コラム２４８が上記支持ベース２４６上に
起立状に設けられており、その上端部に前記支軸２４０
が上記回動軸２４１と同軸状に軸支されている。そし
て、この支軸２４０にも上記フレームプレート２１０が
固設され、これら両軸２４０，２４１により、基板保持
部２Ａが上下方向へ回動可能に両端支持されている。

【００４２】駆動部２４２は、回動アーム２５０とこれ
を駆動するエアシリンダ２５１とからなり、上記回動ア
ーム２５０は、その基端部が上記回動軸２４１の外端部
に連結固定されるとともに（図４参照）、その先端部が
連結棒２５２を介してエアシリンダ２５１に連結されて
いる。

【００４３】このエアシリンダ２５１は、その基端が取
付けブラケット２５３を介して垂直コラム２４５に枢支
されるとともに、ピストンロッド２５１ａが上記連結棒
２５２を介して回動アーム２５０の先端に回動可能に連
結されており、このピストンロッド２５１ａの突出退入
動作により、上記回動アーム２５０を介して、回動軸２
４１さらには基板保持部２Ａが上下方向へ回動される。

【００４４】位置決め部２４３は、水平状態位置決め部
２５５と垂直状態位置決め部２５６とからなる。水平状
態位置決め部２５５は、固定側つまり上記両垂直コラム
２４５，２４８に設けられた水平状態位置決めストッパ
２５５ａ，２５５ａと、可動側フレームプレート２１０
に設けられたストッパ部材２５５ｂ，２５５ｂとからな
り、これらが相互に当接して、基板保持部２Ａの水平保
持状態位置（図５の実線位置）が規定される。

【００４５】一方、垂直状態位置決め部２５６も、上記
と同様、上記両垂直コラム２４５，２４８に設けられた
垂直状態位置決めストッパ２５６ａ，２５６ａと、フレ
ームプレート２１０に設けられたストッパ部材２５６
ｂ，２５６ｂとからなり、これらが相互に当接して、基
板保持部２Ａの垂直保持状態位置（図５の二点鎖線Ｇ位
置）が規定される。

【００４６】なお、上記水平状態位置決めストッパ２５
５ａおよび垂直状態位置決めストッパ２５６ａのいずれ
も、ショックアブソーバとしての機能を内蔵している。

【００４７】しかして、以上のように構成された搬入側
移載部Ａにおいて、キャリアカセットＣＣに水平状態
（倒伏状態）で収容されてタクト送りされてくる基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…は、前述したように、移載ロボット１によ
り一枚ずつ抜き取られて、水平保持状態にある姿勢変換
装置２の基板保持部２Ａ内に同一姿勢で移載される。

【００４８】この場合、保持部本体２０１のチャック爪
Ｍは開放状態（図１０(a) 参照）にあるとともに、開閉
部２０２の開閉チャック部材２３０は閉じた状態（図４
参照）にある。したがって、水平状態にある基板ＳＢ
は、その自重によりある程度撓んだ状態でチャック爪Ｍ
間に挿入されることになるが、チャック爪Ｍが開放状態
にあることから、基板ＳＢはチャック爪との間で擦れる
ことなく、開閉チャック部材２３０の基板保持溝Ｍ₁ と
チャック爪Ｍ間に円滑に挿入されて、その３辺ＳＢａ，
ＳＢｂ，ＳＢｃが載置上に支持される。

【００４９】また、固定側チャック部材２０６と開閉チ
ャック部材２３０における基板保持溝Ｍ₁ の底面２２７
は、基板ＳＢ周縁つまり３辺ＳＢａ，ＳＢｂ，ＳＢｃの
位置決め部として作用し、移載ロボット１から移載され
た基板ＳＢを所定の位置に位置決め載置する。

【００５０】続いて、上記チャック爪Ｍが閉止して基板
ＳＢの２辺ＳＢａ，ＳＢｂをチャッキングした後（図１
０(b) 参照）、姿勢変換装置２の回動部２Ｂが作動し
て、水平状態にある基板保持部２Ａが起立方向へ９０°
回転して起立状態となる。これにより、基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…も、その被処理面が垂直状態（起立状態）となる
とともに、その下辺ＳＢａが水平からわずかに傾斜した
状態（本例では５°傾斜）つまり前述の処理姿勢に姿勢
変換される。

【００５１】最後に、エアシリンダ２３６が作動して、
開閉部２０２の開閉チャック部材２３０が基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…から離間し（矢符(9) 方向）、基板ＳＢ，ＳＢ，
…は、その隣接する傾斜下辺ＳＢｂ，ＳＢａのみが保持
部本体２０１のチャック爪Ｍに保持されて、この処理姿
勢のままウエット処理部Ｂの基板搬送装置５を待機する
こととなる。

【００５２】一方、搬出側移載部Ｃにおいて、ウェット
処理工程が終了した基板ＳＢ，ＳＢ，…は、基板搬送装
置７により、起立状態にある姿勢変換装置２の基板保持
部２Ａ内に移載される。この場合、開閉部２０２の開閉
チャック部材２３０は基板ＳＢ，ＳＢ，…から離間した
状態にあるとともに、保持部本体２０１のチャック爪Ｍ
は閉止状態にあり、基板ＳＢ，ＳＢ．…はチャック爪Ｍ
間に上方から挿入されて、その２辺ＳＢａ，ＳＢｂがこ
こに保持されることとなる。

【００５３】続いて、エアシリンダ２３６が作動して開
閉チャック部材２３０を閉じて、基板ＳＢ，ＳＢ，…の
３辺ＳＢａ，ＳＢｂ，ＳＢｃがチャック爪Ｍと開閉チャ
ック部材２３０により保持された後、回動部２Ｂが作動
して、起立状態にある基板保持部２Ａが倒伏方向へ９０
°回転して倒伏状態となり、基板ＳＢ，ＳＢ，…も、そ
の被処理面が水平状態に姿勢変換される。

【００５４】最後に、エアシリンダ２１９が再び作動し
て上記チャック爪Ｍを開き、水平状態にあるこれらの基
板ＳＢ，ＳＢ，…は、前述と逆に、移載ロボット１によ
り一枚ずつ抜き取られて、基板搬出部Ｕに待機する洗浄
済みの空カセットＣＣ内に水平状態のまま移載されるこ
ととなる。この場合も、水平状態にある基板ＳＢは、そ
の自重によりある程度撓んだ状態でチャック爪Ｍ間から
抜き取られることになるが、チャック爪Ｍが開放状態に
あることから、基板ＳＢはチャック爪との間で擦れるこ
となく、開閉チャック部材２３０の基板保持溝Ｍ₁ とチ
ャック爪Ｍ間から円滑に抜き取られる。

【００５５】なお、上記基板保持部２Ａのチャック部２
０５は、図１１に示すように、後述する基板搬送装置
５，７の吊持アーム１４，１５のチャッキング位置と相
互に干渉しない位置に配置されるとともに、保持溝Ｍ，
Ｍ，…の傾斜保持角度も、吊持アーム１４，１５の傾斜
保持角度に対応して設定され、姿勢変換装置２と基板搬
送装置５，７相互間における基板ＳＢ，ＳＢ，…の受渡
しが円滑に行われる構成とされている。

【００５６】III. ウエット処理部Ｂ：ウエット処理部
Ｂは、図１および図２に示すように、高清浄度雰囲気に
維持される処理室内に、２列平行に並設された一対の処
理槽列３，４と基板搬送装置５，７とを備えてなり、こ
れら両処理槽列３，４の接続部には基板搬送装置６が設
けられている。これにより、基板ＳＢ，ＳＢ，…のウエ
ット処理経路は、搬入側の処理槽列３のオペレータゾー
ンＯ側端からオペレータゾーンＯ反対側端へ進むととも
に、搬出側の処理槽列４のオペレータゾーンＯ反対側端
からオペレータゾーンＯ側端へ進むように構成されてい
る。

【００５７】搬入側の処理槽列３は、図示例において
は、複数の処理槽（図示例の場合６つの処理槽３ａ〜３
ｆ）を備えるとともに、これら処理槽３ａ〜３ｆの側部
に上記基板搬送装置５が配設されている。

【００５８】具体的には、処理槽３ａは基板搬送装置５
の吊持アーム１４，１５（後述）の洗浄槽、処理槽３ｂ
は基板ＳＢ，ＳＢ，…のエッチング処理槽、処理槽３ｃ
はいわゆるＱＤＲ（クイック・ダンプ・リンス）槽、処
理槽３ｄはＦＩＮＡＬ（ファイナル・リンス）槽、およ
び処理槽３ｅはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）乾燥
機である。また処理槽３ｆは実際には、次に詳述する搬
出側処理工程に属するもので、フォトレジスト膜を剥離
する剥離液が満たされている。

【００５９】基板搬送装置５は、搬入側移載部Ａの姿勢
変換装置２に収載された基板ＳＢ，ＳＢ，…をカセット
レスで搬送処理する構造とされている。

【００６０】基板搬送装置５は、具体的には図１に示す
ように、装置本体の内部８ａに設けられて、上記処理槽
３ａ〜３ｆの配列方向（図２の矢符(3) 方向）へ平行に
往復移動可能とされた搬送台９と、この搬送台９に上下
方向へ昇降可能に設けられた支柱１０と、この支柱１０
の上端に装着された支持装置台１１と、この支持装置台
１１から処理槽上方へ向かって延びる水平アーム１２
と、この水平アーム１２の先端に装着された基板吊持装
置１３とから構成されており、上記姿勢変換装置２から
受け取った複数枚の基板ＳＢ，ＳＢ，…を、上記処理槽
列３ａ〜３ｆ内の処理液中に順次浸漬して、これら基板
ＳＢ，ＳＢ，…表面を処理する。

【００６１】また、上述した各処理槽の構造は、処理槽
３ａ，３ｃ，３ｄが塩化ビニル樹脂等の材質からなる単
一槽であり、処理槽３ｂ，３ｅ，３ｆが石英ガラス等の
材質からなるオーバーフロー槽である。これら各槽、例
えばオーバーフロー槽である処理槽３ｅの底部には、図
１２に示すような基板保持台５０を備える。この基板保
持台５０は、基台３ｅ₁ と、この基台３ｅ₁ 上に固設さ
れた一対の基板保持部３ｅ₂ , ３ｅ₃ とからなる。

【００６２】一対の基板保持部３ｅ₂ , ３ｅ₃ は、基板
搬送装置５の吊持アーム１４，１５のチャッキング位置
（図１２の実線位置）と相互に干渉しない位置に配置さ
れており、それぞれ複数の基板保持溝Ｍ₃ およびＭ₄ を
有する。

【００６３】一方の基板保持部３ｅ₂ の各基板保持溝Ｍ
₃ は、基板ＳＢの一角つまり傾斜下辺ＳＢａとＳＢｂの
交角部分を傾斜状態に保持するように、また他方の保持
部３ｅ₃ の各基板保持溝Ｍ₄ は、基板ＳＢの一辺つまり
傾斜下辺ＳＢａを保持するように構成されている。

【００６４】また、上記基板保持溝Ｍ₃ ，Ｍ₄ の傾斜保
持角度は、後述する吊持アーム１４，１５の基板保持バ
ー１９，１９，…の相対的位置に対応して、基板ＳＢの
下辺が水平から５°程度傾斜した状態で保持されるよう
に設定されている。

【００６５】上記基板吊持装置１３の具体的構造は図１
２〜図１４に示すように、左右一対の吊持アーム１４，
１５およびこれらを開閉制御するアーム制御部１６を主
要部として備えてなる。

【００６６】一方の吊持アーム１４は、２本のアームプ
レート１７，１７と、その下端部と中央部に水平状に取
り付けられた３本の基板保持バー１９，１９，１９とを
備えてなる。また、もう一方の吊持アーム１５は、吊持
アーム１４と同様で、アームプレート２０，２０と、こ
れらアームプレート２０，２０間に橋絡状に設けられた
一本の基板保持バー１９とを備えてなる。

【００６７】上記アームプレート１７は、ステンレス鋼
材にフッ素樹脂がコーティングされてなる耐薬品性に優
れるものである。また、基板保持バー１９は、図１３に
示すように、フッ素樹脂等から形成されるとともに、そ
の外周に複数の基板保持溝１９ａ，１９ａ，…を有する
外筒１９ｂと、この外筒１９ｂの内部に封入されたステ
ンレス鋼製の心金１９ｃとから構成されている。

【００６８】吊持アーム１４，１５の上端は、それぞれ
前述の水平アーム１２に接続されたフレーム２１に揺動
可能に枢着されるとともに、アーム制御部１６に接続さ
れている。これにより、吊持アーム１４，１５は相互に
揺動されて、その閉止位置において基板ＳＢを吊持状に
チャッキング保持し、またその拡開位置において基板Ｓ
Ｂのチャッキングを解除する。

【００６９】両吊持アーム１４，１５に取り付けられた
４本の基板保持バー１９，１９，…の相対的位置は、吊
持アーム１４，１５が閉止して基板ＳＢをチャッキング
保持した時、この基板ＳＢの下辺が水平から５°程度傾
斜した状態で吊持状に保持されるように設定されてい
る。

【００７０】制御部１６は、図１３および図１４に示す
ように、吊持アーム１４または１５を枢支する揺動シャ
フト３３と、駆動手段であるエアシリンダ２６とを１セ
ットとし、両吊持アーム１４，１５を別々に駆動するた
めに２セット装着されてなる。

【００７１】上記揺動シャフト３３は、上記フレーム２
１に、ベアリング３２，３２を介して回転可能に軸支さ
れている。この揺動シャフト３３の両端部は、カバー２
８を貫通して外部へ突出され、ここに接続ブロック２
９，２９を介して吊持アーム１４または１５の上端が取
り付け固定されている。

【００７２】上記エアシリンダ２６は両ロッド型のもの
で、上記フレーム２１上にブラケット３５を介して装着
されており、このエアシリンダ２６の一方のピストンロ
ッド２６ａが、コネクティングロッド３６を介して、揺
動シャフト３３に固設された揺動レバー３４に連結され
ている。また、フレーム２１には、エアシリンダ２６の
他方のピストンロッド２６ｂを停止するためのストッパ
３７が固設されている。

【００７３】しかして、以上のように構成された基板吊
持装置１３において、吊持アーム１４，１５は、アーム
制御部１６のエアシリンダ２６，２６により、相互に揺
動されて拡縮動作され、その閉止位置において基板ＳＢ
を吊持状にチャッキング保持するとともに、拡開位置に
おいて基板ＳＢのチャッキングを解除して、基板ＳＢ，
ＳＢ，…をカセットレスで搬送処理する。

【００７４】上記搬入側処理槽列３に続く基板搬送装置
６は、搬入側処理槽列３から搬出側処理槽列４へ基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…を移送および処理する装置であって、図３
に示すように、装置本体の部位８ｂに設置されている。
この基板搬送装置６の基本構造は、上述した基板搬送装
置５とほぼ同様であり、基板吊持装置１３が、基板搬送
装置５により搬送処理される基板ＳＢ，ＳＢ，…をその
姿勢のままチャッキング保持できるように支柱１０に対
して取り付けられている。

【００７５】搬送側処理槽列４は、前述した搬入側処理
槽列３と同様、複数の処理槽を備えるとともに、これら
の処理槽の側部に、基板搬送装置７が配設されている。
図示例においては、４つの処理槽４ａ〜４ｄとＩＰＡベ
ーパー乾燥機４ｅが設けられてなる。

【００７６】具体的には、処理槽４ａは、上記搬入側に
設置された処理槽３ｆに続いて、同様な剥離処理を施す
剥離液の入った槽、処理槽４ｂはリンス槽、処理槽４ｃ
はＱＤＲ槽、処理槽４ｄはＦＩＮＡＬ槽であり、またＩ
ＰＡベーパー乾燥機は基板ＳＢ，ＳＢ，…の乾燥部とし
て機能する。

【００７７】また、上記基板搬送装置７は、図１に示す
ように装置本体の部位８ｃに設置され、前述した基板搬
送装置５とほぼ同様な基本構造であり、処理槽４ａから
基板搬出側の姿勢変換装置２までの搬送処理を行う構成
とされている。

【００７８】IV. 基板搬出部Ｕ：基板搬出部Ｕは、基板
ＳＢ，ＳＢ，…を次工程へ搬出する部位で、ウエット処
理部Ｂの搬出側に配置され、タクト送り機構（図示省
略）を備える。搬出側移載部Ｃにより洗浄処理済の基板
ＳＢ，ＳＢ，…が収容されたキャリアカセットＣＣは、
上記タクト送り機構により矢符(8) の方向へ所定間隔を
もってタクト送りされて、次工程へ搬出される。

【００７９】Ｖ．カセット搬送部Ｄ：カセット搬送部Ｄ
は、基板搬入部Ａから基板搬出部Ｃへ空カセットＣＣを
搬送する部位で、これら基板搬入部Ａと基板搬出部Ｃと
を連結している。また、このカセット搬送部Ｄは、カセ
ット搬送装置３０を備えるとともに、その移送経路(7)
の中途箇所にはカセット洗浄槽３１が設けられている。

【００８０】カセット搬送装置３０は、装置本体の部位
８ｄ（図３参照）内に矢符(7) の経路に沿って往復移動
可能に設けられ、空カセットＣＣをチャックする一対の
チャッキングアーム３０ａ，３０ａなどを備えてなる。

【００８１】VI. 制御装置Ｅ：制御装置Ｅは、前述した
図示しないタクト送り機構、移載ロボット１、姿勢変換
装置２、基板搬送装置５，６，７およびカセット搬送装
置３０などを互いに同期して駆動制御するもので、この
制御装置Ｅにより、以下のウェット処理工程が基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…の搬入時から搬出時まで全自動で行われる
こととなる。

【００８２】Ａ．基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬入：前工程の
終了した基板ＳＢ，ＳＢ，…は、キャリアカセットＣＣ
内に収容された状態で基板搬入部Ｌに搬入され、前述の
如く矢符(1) の経路でタクト送りされて移載位置に配置
された後、搬入側移載部ＡでキャリアカセットＣＣから
取り出されるとともに、姿勢変換される。続いて、洗浄
部Ｂの基板搬送装置５が接近して、この姿勢変換された
複数の基板ＳＢ，ＳＢ，…を一括してチャッキングし吊
持状態に保持する。

【００８３】Ｂ．基板ＳＢ，ＳＢ，…のウェット処理：
搬入側の基板搬送装置５にカセットレスで保持された基
板ＳＢ，ＳＢ，…は、各処理槽３ａ〜３ｆへの浸漬・移
載等が順次繰り返されて所定のウェット処理が施された
後、基板搬送装置６により搬出側処理槽列４の処理槽４
ａまで搬送され、今度は基板搬送装置７によりカセット
レスで保持されて、各処理槽４ｂ〜４ｅに浸漬・移載等
が順次繰り返されて所定のウェット処理が施された後、
搬出側移載部Ｃへ搬送されて（矢符(5) 参照）、姿勢変
換装置２に収載される。

【００８４】Ｃ．空カセットＣＣの搬送：搬入側移載部
Ａで空になったキャリアカセットＣＣは、このキャリア
カセットＣＣから取り出された基板ＳＢ，ＳＢ，…の洗
浄処理工程と並行して、カセット搬送装置３０により、
カセット洗浄槽３１にて洗浄処理が施された後、上記搬
出側移載部Ｃに搬送される（矢符(7) 参照）。

【００８５】Ｄ．基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬出：両洗浄槽
列３，４でのウェット処理工程が終了した基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…は、搬出側移載部Ｃにおいて、姿勢変換装置２か
ら移載ロボット１により搬入時と同じ洗浄済みの空カセ
ットＣＣに移し替えられた後（矢符(6) 参照）、図示し
ないタクト送り機構により矢符(8) の経路でタクト送り
されて、次の工程へ向けて搬出される。

【００８６】実施例２ 本実施例は図１５に示し、実施例１の姿勢変換装置２の
構成を改変したものであり、この姿勢変換装置２は、基
板ＳＢを収容保持する基板保持部２０Ａと、この基板保
持部２０Ａを上下方向へ回動操作する第一の回動部２０
Ｂと、基板保持部２０Ａを傾斜方向へ傾動操作する第二
の回動部２０Ｃ（図示省略）とを主要部として構成され
ている。

【００８７】基板保持部２０Ａは、実施例１の基板保持
部２Ａと同様の基本構造を備え、実施例１の回動部２Ｂ
と同一構成の第一の回動部２０Ｂに上下方向へ回動可能
に装着されている。

【００８８】この基板保持部２０Ａにおいて、チャック
部２０５のチャック爪Ｍ，Ｍ，…の支持面は、図示のご
とく、フレームプレート２１０の内周面（側面２１０
ａ，底面２１０ｂ）に対して、それぞれ平行に延びる直
線状断面輪郭を有している。これにより、これらチャッ
ク爪Ｍ，Ｍ，…に保持される各基板ＳＢは、基板保持部
２０Ａの回動軸線に直交する直線、つまりフレームプレ
ート２１０の側面２１０ａに平行になる状態で保持され
る。

【００８９】第二の回動部２０Ｃの具体的構成は図示し
ないが、垂直コラム２４５，２４８を支持する支持ベー
ス２４６（図５および図６参照）が、基板ＳＢの傾斜方
向、つまり上記第一の回動部２０Ｂの回転方向と直交す
る方向（図６において矢符(10)方向）において、上記垂
直保持状態位置と傾斜保持状態位置との間で傾動可能に
構成されるとともに、図示しない駆動源に連係されてい
る。そして、この駆動源により、上記支持ベース２４６
上の装置全体（第一の回動部２０Ｂおよび基板保持部２
０Ａ）が上記基板ＳＢの傾斜方向(10)へ一体で傾動され
る。

【００９０】しかして、基板ＳＢ，ＳＢ，…が、移載ロ
ボット１により、水平保持状態にある姿勢変換装置２の
基板保持部２０Ａ内に移載されると、まず第一の回動部
２０Ｂが作動して、水平保持状態にある基板保持部２０
Ａが起立方向へ９０°回転して垂直保持状態となり、基
板ＳＢ，ＳＢ，…も、その被処理面が垂直状態（起立状
態）となる。続いて、第二の回動部２０Ｃが作動して、
この垂直保持状態にある基板保持部２０Ａは、この垂直
状態のまま、第一の回動部２０Ｂと共にわずかに矢符(1
0)方向へ傾動されて（本例では５°傾動）傾斜保持状態
となる。これにより基板ＳＢ，ＳＢ，…は、その下辺Ｓ
Ｂａが水平からわずかに傾斜した処理姿勢に姿勢変換さ
れることとなる。その他の構成および作用は実施例１と
同様である。

【００９１】なお、上述した実施例はあくまでも本発明
の好適な具体例を示すものであって、本発明はこれに限
定されることなく種々設計変更可能であり、例えば、姿
勢変換装置２の具体的構造は、図示例と同様な機能を有
する限り他の構成とすることも可能であり、また、基板
ウェット処理装置を構成する他の構成装置の構造も図示
例のものに限定されることなく、目的に応じて同様の機
能を有する他の構造に変更可能である。

【００９２】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
矩形または正方形の基板をウエット処理するに際し、基
板の隣接する２辺が傾斜下辺となるように姿勢変換する
から、基板搬送装置がこれら２つの傾斜下辺を吊持状に
保持することが可能となり、簡単な構成により、大型の
基板をカセットレスでなおかつバッチ式に処理でき、こ
れにより、汚染度が低く生産効率の高いウエット処理を
実現することができる。

【００９３】さらに、基板保持部が、各基板の周縁部表
裏面を開閉可能にチャッキング支持する複数のチャック
爪を有するチャック手段を備え、このチャック手段のチ
ャック爪が、基板の出入動作時において開放状態にある
ように駆動制御されるから、特に、水平状態にある基板
はチャック爪との接触が少ない状態でチャック爪間に円
滑に挿入され、基板およびチャック爪双方の損傷を最小
限に抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１である姿勢変換装置を備える
基板ウェット処理装置の内部を示す側面断面図である。

【図２】同基板ウェット処理装置の内部を示す平面断面
図である。

【図３】同基板ウェット処理装置の内部を示す正面断面
図である。

【図４】同基板ウェット処理装置における姿勢変換装置
を示す平面図である。

【図５】同姿勢変換装置を示す図４の矢符Ｖ方向からの
正面図である。

【図６】同姿勢変換装置を示す図４の矢符VI方向からの
左側面図である。

【図７】同姿勢変換装置の固定側チャック部材の取付け
構造を示す側面図である。

【図８】同姿勢変換装置の可動側チャック部材の取付け
構造を示す側面図である。

【図９】同可動側チャック部材と位置検出センサとの関
係を示す平面図である。

【図１０】固定側チャック部材と可動側チャック部材か
ら構成されるチャック爪の動作を示す側面図で、図１０
(a) は開放状態を示し、図１０(b) は閉止状態を示して
いる。

【図１１】同姿勢変換装置と基板搬送装置相互間の移載
動作の説明図である。

【図１２】同基板ウェット処理装置における処理槽の内
部構造を示す側面断面図である。

【図１３】同基板ウェット処理装置における基板搬送装
置の基板吊持装置を一部断面で示す正面図である。

【図１４】同基板吊持装置のアーム制御部を示す平面断
面図である。

【図１５】本発明に係る実施例２である姿勢変換装置を
示す平面図である。

【符号の説明】

ＳＢ 基板 ＳＢａ，ＳＢｂ 基板の傾斜下辺 Ｍ チャック爪 ２ 姿勢変換装置 ２Ａ 基板保持部 ２Ｂ 回動部 ５〜７ 基板搬送装置 ２０Ａ 基板保持部 ２０Ｂ 第一の回動部 ２０Ｃ 第二の回動部 ２０１ 保持部本体 ２０２ 開閉部 ２０５ チャック部（チャック手段） ２０６ 固定側チャック部材 ２０７ 可動側チャック部材 ２１９ エアシリンダ ２３０ 開閉チャック部材 ２３６ エアシリンダ ２４１ 回動軸 ２４２ 駆動部 ２４３ 位置決め部 ２５１ エアシリンダ ２５５ 水平状態位置決め部 ２５６ 垂直状態位置決め部 ２２７ 固定側チャック部材の基板保持溝底
面（位置決め部）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｈ０１Ｌ 21/027 21/304 ３４１ Ｃ // Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 矩形もしくは正方形の基板をカセットレ
   スでウェット処理するに際して、基板搬送処理装置が、
   上記基板をその隣接する２辺を傾斜下辺となるよう傾斜
   した状態で、これら両傾斜２辺を吊持ち支持する処理姿
   勢をとる基板ウェット処理装置に備えられるものであっ
   て、 上記基板を同一姿勢で複数枚まとめて収容する基板保持
   部と、この基板保持部に収容された基板が上記処理姿勢
   になるように基板保持部を回動操作する回動部とを備え
   てなり、 上記基板保持部は、上記各基板の周縁部表裏面を開閉可
   能にチャッキング支持する複数のチャック爪を有するチ
   ャック手段を備え、 このチャック手段のチャック爪は、上記基板の出入動作
   時において開放状態にあるとともに、上記基板保持部の
   回動操作時において閉止状態にあるように駆動制御され
   ることを特徴とする基板の姿勢変換装置。
2. 【請求項２】 上記基板保持部は、上記各基板の隣接す
   る２辺を保持する保持部本体と、この保持部本体に対し
   て開閉可能で、上記基板の他の１辺を開放可能に保持す
   る開閉部とを備えてなり、少なくとも、上記保持部本体
   に上記チャック手段が設けられている請求項１に記載の
   基板の姿勢変換装置。
3. 【請求項３】 上記チャック手段は、上記各基板の厚さ
   寸法よりも幅広の基板保持溝が上記基板配列方向へ所定
   間隔をもって複数配設されてなるとともに、固定的に設
   けられた固定側チャック部材と、上記各基板の厚さ寸法
   よりも幅広の基板保持溝が上記基板配列方向へ所定間隔
   をもって複数配設されるとともに、基板配列方向へ往復
   移動可能に設けられた可動側チャック部材と、この可動
   側チャック部材を往復移動させる駆動部とを備えてな
   り、 上記各チャック爪は、上記固定側チャック部材の基板保
   持溝と可動側チャック部材の基板保持溝との対応する組
   により構成されている請求項１に記載の基板の姿勢変換
   装置。
4. 【請求項４】 上記基板保持部は、上記回動部に、水平
   保持状態位置と垂直保持状態位置との間で上下方向へ回
   動可能に支持されるとともに、上記チャック手段のチャ
   ック爪が、上記基板を上記保持手段の回動軸線に直交す
   る直線に対して若干傾斜した状態でチャッキング支持す
   るように形成されてなり、 上記基板保持部が上記垂直保持状態位置にあるとき、上
   記基板の処理姿勢が得られるように構成されている請求
   項１から３のいずれか一つに記載の基板の姿勢変換装
   置。
5. 【請求項５】 上記回動部は、上記基板保持部を水平保
   持状態位置と垂直保持状態位置との間で上下方向へ回動
   操作する第一の回動手段と、上記基板保持部を上記回動
   方向と直交する方向において上記垂直保持状態位置と傾
   斜保持状態位置との間で傾動操作する第二の回動手段と
   を備えてなり、 上記基板保持部は、上記第一の回動手段に上下方向へ回
   動可能に支持されるとともに、上記チャック手段のチャ
   ック爪が、上記基板を保持手段の回動軸線に直交する直
   線に対して平行になる状態で保持するように形成されて
   なり、 上記基板保持部が上記傾斜保持状態位置にあるとき、上
   記基板の処理姿勢が得られるように構成されている請求
   項１から３のいずれか一つに記載の基板の姿勢変換装
   置。
6. 【請求項６】 上記チャック爪の底面は、上記基板保持
   部が上記水平保持状態位置にあるとき、ここに保持され
   る基板の周縁を位置決めするように傾斜された位置決め
   部とされている請求項４または５に記載の基板の姿勢変
   換装置。