JPH0786407A - 集積回路の多層配線方法 - Google Patents

集積回路の多層配線方法

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JPH0786407A
JPH0786407A JP22477393A JP22477393A JPH0786407A JP H0786407 A JPH0786407 A JP H0786407A JP 22477393 A JP22477393 A JP 22477393A JP 22477393 A JP22477393 A JP 22477393A JP H0786407 A JPH0786407 A JP H0786407A
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JP
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wiring
integrated circuit
layer
layers
multilayer
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JP22477393A
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Shinpei Miura
信平 三浦
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 多層配線を行う集積回路において、各配線層
を有効に使用することにより、集積回路のレイアウトに
おける配線効率を向上させ、且つ配線距離の短い集積回
路の多層配線方法を提供することを目的とする。 【構成】 m層(mは3以上の正整数)の配線層L1,
L2,及びL3を備える集積回路の多層配線方法におい
て、m層の配線層L1,L2,及びL3のメインの配線
方向は、異なるn種(nは3≦n≦mの正整数)の配線
方向R1,R2,及びR3であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は集積回路のチップレイア
ウト方法に係り、特に、多層配線を行う集積回路におい
て、各配線層を有効に使用することにより集積回路のレ
イアウトにおける配線効率を向上させた、また配線距離
を短くし得る集積回路の多層配線方法に関する。
【0002】近年のLSIは、高集積化に伴うチップの
大規模化により、配線層の多層化が進んでいる。そのた
め、配線層の多層化に伴う効率的な配線手法を確立させ
る必要がある。
【0003】
【従来の技術】従来の半導体集積回路においては、垂直
に交差する縦横の2方向をメイン配線方向としてレイア
ウトが行われている。ここで、メイン配線方向というの
は、基本的に各配線層に対して決められる配線方向のこ
とを言い、各配線層の配線方向は完全に1方向ではな
く、部分的には(配線が混雑している部分等では)異な
る方向にも配線がなされるのが一般的である。
【0004】例えば3層配線の場合には、図5(a)及
び(b)に示すように、第1層目L11と第2層目L1
2が垂直に交差するような配線方向R11及びR12を
メインの配線方向とし、更に、第2層目L12と第3層
目L13が垂直に交差するような配線方向R12及びR
11をメインの配線方向としていた。結果として、第1
層目L11と第3層目L13が同じ方向をメインの配線
方向R11とすることとなる。このような場合に、第1
層目L11及び第2層目L12を基本的な配線に使用し
て、第3層目L13を混雑している部分について補助的
に使用することが多かった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、従来の多層配
線を行う集積回路では、各配線層、特に第3層目以降の
配線層における配線は、該配線層を有効に使用しておら
ず、レイアウトの配線効率が悪いという問題があった。
【0006】本発明は、上記問題点を解決するもので、
多層配線を行う集積回路において、各配線層を有効に使
用することにより、集積回路のレイアウトにおける配線
効率を向上させ、且つ配線距離の短い集積回路の多層配
線方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第1の特徴の集積回路の多層配線方法は、
図1に示す如く、m層(mは3以上の正整数)の配線層
L1,L2,及びL3を備える集積回路の多層配線方法
において、前記m層の配線層L1,L2,及びL3のメ
インの配線方向は、異なるn種(nは3≦n≦mの正整
数)の配線方向R1,R2,及びR3である。
【0008】また、本発明の第2の特徴の集積回路の多
層配線方法は、請求項1に記載の集積回路の多層配線方
法において、前記n種の配線方向R1,R2,及びR3
は、お互いに等角度で交差する。
【0009】また、本発明の第3の特徴の集積回路の多
層配線方法は、請求項1または2に記載の集積回路の多
層配線方法において、前記集積回路は、論理セルを備え
るゲートアレイ、スタンダードセル等の集積回路であ
る。
【0010】更に、本発明の第4の特徴の集積回路の多
層配線方法は、請求項3に記載の集積回路の多層配線方
法において、前記集積回路の多層配線方法は、前記論理
セルまたは前記論理セルの端子をグリッドと見做し、該
グリッド間の間隔が等しいアイソメトリック・グリッド
を用いて行われる。
【0011】
【作用】本発明の第1及び第2の特徴の集積回路の多層
配線方法では、図1に示す如く、m層(mは3以上の正
整数であり、図1ではm=3)の配線層L1,L2,及
びL3を備える集積回路の多層配線方法において、前記
m層の配線層のメインの配線方向を、それぞれ異なるn
種(nは3≦n≦mの正整数であり、図1ではn=3)
の配線方向R1,R2,及びR3とし、特に、第2の特
徴の集積回路の多層配線方法では、n種の配線方向R
1,R2,及びR3がお互いに等角度で交差するように
している。
【0012】また、m=5,n=3とした場合には、5
層の配線層L1〜L5を備える集積回路において、前記
m層の配線層のメインの配線方向を、それぞれ3種の配
線方向R1,R2,R3,R1,及びR2として配線さ
れることになる。
【0013】即ち、図1において、n種の配線方向R
1,R2,及びR3が均等の角度で交差するn層の配線
層(第1、第2、及び第3層)L1,L2,及びL3を
用いて配線を行うことにより、各配線層を有効に使用す
ることができ、集積回路のレイアウトにおける配線効率
を向上させることができる。また斜め配線が可能となる
ため、従来の配線に比べて配線距離の短いレイアウトを
実現できる。
【0014】また、本発明の第3及び第4の特徴の集積
回路の多層配線方法では、論理セルを備えるゲートアレ
イ、スタンダードセル等の集積回路に対し、レイアウト
のCADを行うシステム上で論理セルまたは論理セルの
端子をグリッドと見做し、該グリッド間の間隔が等しい
アイソメトリック・グリッドを用いて配線決定が行われ
る。
【0015】これにより、レイアウト設計の自動化が図
れると共に、各配線層を有効に使用することができ、集
積回路のレイアウトにおける配線効率を向上させること
ができる。
【0016】
【実施例】次に、本発明に係る実施例を図面に基づいて
説明する。第1実施例 図1に本発明の第1実施例に係る集積回路の多層配線方
法の概念説明図を示す。図1(a)は立体図、図1
(b)は平面図である。本実施例の集積回路は3層の配
線層を用いて配線される。集積回路としては、論理セル
を備えるゲートアレイ、スタンダードセル等の集積回路
を想定している。
【0017】同図において、L1は第1層目の配線、L
2は第2層目の配線、L3は第3層目の配線、R1は第
1層目L1のメイン配線方向、R2は第2層目L2の配
線方向、R3は第3層目L3の配線方向を、それぞれ表
す。
【0018】本実施例の集積回路の多層配線方法は、論
理セルまたは論理セルの端子をグリッドと見做し、該グ
リッド間の間隔が等しいアイソメトリック・グリッドを
用いて行われる。図2(a)は、本実施例におけるアイ
ソメトリック・グリッドを表す。各層の配線方向R1,
R2,及びR3は、お互いに等角度(60[deg ])で
交差している。
【0019】図2(b)は、ゲートアレイ、スタンダー
ドセル等の集積回路における配線例を示す。図中、Aは
論理セルであり、12個の論理セルから成るセル列Bを
5列備えた構成である。また、第1層目L1の配線方向
R1は、セル列に対して垂直方向である。
【0020】同図において、ノードM1及びノードN1
間の配線は、第1層目の配線L1〜第2層目の配線L2
〜第3層目の配線L3〜第2層目の配線L2〜第1層目
の配線L1により配線され、また、ノードM2及びノー
ドN2間の配線は、第1層目の配線L1〜第2層目の配
線L2〜第1層目の配線L1により配線されている。ま
た、ノードN1近傍のアイソメトリック・グリッド及び
配線を同図(c)に示す。
【0021】このように、本実施例による集積回路の多
層配線方法では、各層の配線方向R1,R2,及びR3
が均等の角度で交差する第1、第2、及び第3層L1,
L2,及びL3を用いて配線し、またCADシステム上
では、論理セルまたは論理セルの端子をグリッドと見做
したアイソメトリック・グリッドの構造モデルを使用し
て、配線決定を行うことにより、各配線層を有効に使用
することができ、集積回路のレイアウトにおける配線効
率を向上させることができる。
【0022】また、本実施例では斜め配線が可能となる
ため、従来の配線に比べて配線距離の短いレイアウトを
実現できる。第2実施例 図3に本発明の第2実施例に係る集積回路の多層配線方
法の説明図を示す。本実施例においても、第1実施例と
同様の(図1に示す)3層の配線層を用いて配線され
る。
【0023】図3(a)は、本実施例におけるアイソメ
トリック・グリッドを表す。第1、第2、及び第3層L
1,L2,及びL3の各層の配線方向R1,R2,及び
R3は、お互いに等角度(60[deg ])で交差してい
る。
【0024】図3(b)は、ゲートアレイ、スタンダー
ドセル等の集積回路における配線例を示す。第2層目L
2の配線方向R2は、セル列に対して同方向である。同
図において、ノードM1及びノードN1間の配線は、第
1層目の配線L1〜第2層目の配線L2〜第3層目の配
線L3により配線され、また、ノードM2及びノードN
2間の配線は、第1層目の配線L1〜第2層目の配線L
2〜第1層目の配線L1により配線されている。また、
ノードN1近傍のアイソメトリック・グリッド及び配線
を同図(c)に示す。
【0025】このように、本実施例による集積回路の多
層配線方法においても第1実施例と同様に、各配線層を
有効に使用することができ、集積回路のレイアウトにお
ける配線効率を向上させることができ、また斜め配線が
可能となることから、従来の配線に比べて配線距離の短
いレイアウトを実現できる。
【0026】尚、第1及び第2実施例において、第i層
目Liの配線方向Riのセル列に対する方向性は、上記
内容に限定されず、どのような組み合わせであっても構
わない。第3実施例 図4に本発明の第3実施例に係る集積回路の多層配線方
法の説明図を示す。
【0027】同図において、R1は第1層目L1のメイ
ン配線方向、R2は第2層目L2の配線方向、R3は第
3層目L3の配線方向、R4は第4層目L4の配線方向
を、それぞれ表す。
【0028】本実施例の集積回路の多層配線方法は、論
理セルまたは論理セルの端子をグリッドと見做し、従来
と同様の平方グリッドを用いて行われる。図4(a)
は、本実施例における平方グリッドを表す。各層の配線
方向R1,R2,R3,及びR4は、お互いに等角度
(45[deg ])で交差している。
【0029】図4(b)は、ゲートアレイ、スタンダー
ドセル等の集積回路における配線例を示す。図中、Aは
論理セルであり、12個の論理セルから成るセル列Bを
5列備えた構成である。また、第1層目L1の配線方向
R1はセル列に対して垂直方向で、第2層目L2の配線
方向R2はセル列に対して同じ方向である。
【0030】同図において、ノードM1及びノードN1
間の配線は、第1層目の配線L1〜第2層目の配線L2
〜第4層目の配線L4〜第2層目の配線L2〜第1層目
の配線L1により配線され、また、ノードM2及びノー
ドN2間の配線は、第1層目の配線L1〜第2層目の配
線L2〜第3層目L3の配線〜第2層目L2の配線〜第
1層目の配線L1により配線されている。また、ノード
N1近傍のアイソメトリック・グリッド及び配線を同図
(c)に示す。
【0031】このように、本実施例による集積回路の多
層配線方法では、各層の配線方向R1,R2,R3,及
びR4が均等の角度で交差する第1、第2、第3、及び
第4層L1,L2,L3,及びL4を用いて配線し、ま
たCADシステム上では、論理セルまたは論理セルの端
子をグリッドと見做した平方グリッドの構造モデルを使
用して、配線決定を行うことにより、各配線層を有効に
使用することができ、集積回路のレイアウトにおける配
線効率を向上させることができる。
【0032】また、本実施例では斜め配線が可能となる
ため、従来の配線に比べて配線距離の短いレイアウトを
実現できる。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
n種の配線方向が均等の角度で交差するm層の配線層を
用いて配線し、またCADシステム上では、論理セルま
たは論理セルの端子をグリッドと見做した平方グリッド
の構造モデルを使用して配線決定を行うこととしたの
で、各配線層を有効に使用することができ、集積回路の
レイアウトにおける配線効率を向上させることができ、
また斜め配線が可能となるため、従来の配線に比べて配
線距離の短いレイアウトを実現でき、結果として、集積
回路のレイアウトにおける配線効率を向上させ、且つ配
線距離の短い集積回路の多層配線方法を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る集積回路の多層配線
方法の概念説明図であり、図1(a)は立体図、図1
(b)は平面図である。
【図2】第1実施例の集積回路の多層配線方法の説明図
であり、図2(a)はアイソメトリック・グリッドの説
明図、図2(b)はゲートアレイ、スタンダードセル等
の集積回路における配線例、図2(c)はノードN1近
傍のアイソメトリック・グリッド及び配線を説明図であ
る。
【図3】本発明の第2実施例の集積回路の多層配線方法
の説明図であり、図3(a)はアイソメトリック・グリ
ッドの説明図、図3(b)は集積回路における配線例、
図3(c)はノードN1近傍のアイソメトリック・グリ
ッド及び配線を説明図である。
【図4】本発明の第3実施例の集積回路の多層配線方法
の説明図であり、図4(a)は平方グリッドの説明図、
図4(b)は集積回路における配線例、図4(c)はノ
ードN1近傍のアイソメトリック・グリッド及び配線を
説明図である。
【図5】従来の集積回路の多層配線方法の概念説明図で
あり、図5(a)は立体図、図5(b)は平面図であ
る。
【符号の説明】
L1,L2,L3,L4…第1、第2、第3、及び第4
層(目の配線) R1,R2,R3,R4…第1、第2、第3、及び第4
層の配線方向 A…論理セル B…セル列 M1,M2,N1,N2…ノード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/822 8832−4M H01L 27/04 D

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 m層(mは3以上の正整数)の配線層
    (L1,L2,及びL3)を備える集積回路の多層配線
    方法において、 前記m層の配線層(L1,L2,及びL3)のメインの
    配線方向は、異なるn種(nは3≦n≦mの正整数)の
    配線方向(R1,R2,及びR3)であることを特徴と
    する集積回路の多層配線方法。
  2. 【請求項2】 前記n種の配線方向(R1,R2,及び
    R3)は、お互いに等角度で交差することを特徴とする
    請求項1に記載の集積回路の多層配線方法。
  3. 【請求項3】 前記集積回路は、論理セルを備えるゲー
    トアレイ、スタンダードセル等の集積回路であることを
    特徴とする請求項1または2に記載の集積回路の多層配
    線方法。
  4. 【請求項4】 前記集積回路の多層配線方法は、前記論
    理セルまたは前記論理セルの端子をグリッドと見做し、
    該グリッド間の間隔が等しいアイソメトリック・グリッ
    ドを用いて行われることを特徴とする請求項3に記載の
    集積回路多層配線方法。
JP22477393A 1993-09-09 1993-09-09 集積回路の多層配線方法 Withdrawn JPH0786407A (ja)

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