JPH0786548A - Image sensor - Google Patents
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- JPH0786548A JPH0786548A JP5177501A JP17750193A JPH0786548A JP H0786548 A JPH0786548 A JP H0786548A JP 5177501 A JP5177501 A JP 5177501A JP 17750193 A JP17750193 A JP 17750193A JP H0786548 A JPH0786548 A JP H0786548A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 出力信号に含まれるオフセット電圧のばらつ
きが小さく安定した出力信号を得ることのできるイメ−
ジセンサを提供する。
【構成】 フォトダイオ−ドPの近傍に配置された転送
用トランジスタTTのドレインとリセットトランジスタ
TRのゲ−トとの間には補正用容量CA が設けられ、フ
ォトダイオ−ドPから離れて配置された隣接する転送用
トランジスタTTのドレインとリセットトランジスタT
Rのゲ−トとの間における静電容量と比して不足する分
が補償される一方、フォトダイオ−ドPから離れて配置
された転送用トランジスタTTのソ−トとゲ−トとの間
には補正用容量CB が設けられ、フォトダイオ−ドPの
近傍に配置された隣接する転送用トランジスタTTのソ
−ス・ゲ−ト間の静電容量に比して不足する分が補償さ
れ、画素毎に出力信号が異なるようなことがなくなる。
(57) [Abstract] [Purpose] An image that can obtain a stable output signal with a small variation in the offset voltage included in the output signal.
Providing a sensor. A correction capacitor CA is provided between the drain of a transfer transistor TT arranged near the photodiode P and the gate of a reset transistor TR, and is arranged apart from the photodiode P. Of the adjacent transfer transistor TT and the reset transistor T
The shortage of the capacitance between the gate and the gate of R is compensated, while the source and the gate of the transfer transistor TT arranged apart from the photodiode P are provided. A correction capacitor CB is provided between them, and the amount of shortage is compensated for as compared with the capacitance between the source and gate of the adjacent transfer transistor TT arranged near the photodiode P. Therefore, the output signal does not differ for each pixel.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、ファクシミリ
や電子式複写機等の画像読取装置に用いられるイメ−ジ
センサに係り、特に、オフセットレベルの改善を図った
イメ−ジセンサに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image sensor used in an image reading apparatus such as a facsimile or an electronic copying machine, and more particularly to an image sensor having an improved offset level.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種のイメ−ジセンサとして
は、例えば、特開平2−265362号公報に示される
ように、複数の受光素子を直線状に配置していわゆる1
次元の受光素子アレイを構成する一方、数個の受光素子
を1ブロックとして、受光素子アレイを複数のブロック
からなるようにし、原稿からの反射光の受光量に対応し
て各受光素子に発生した電荷を、ブロック毎に読み出す
ように各受光素子に読み出し用のトランジスタを直列接
続すると共に、受光素子の残留電荷をリセットするため
のリセット用のトランジスタを受光素子の出力側に接続
してなるものが、既に公知・周知となっている。2. Description of the Related Art Conventionally, as an image sensor of this type, a so-called 1 is constructed by arranging a plurality of light receiving elements in a straight line as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-265362.
While forming a three-dimensional light receiving element array, several light receiving elements are set as one block, and the light receiving element array is made up of a plurality of blocks, and the light receiving elements are generated in each light receiving element according to the amount of reflected light from the document. One in which a readout transistor is connected in series to each light receiving element so that the charge is read out for each block, and a reset transistor for resetting the residual charge of the light receiving element is connected to the output side of the light receiving element. , Already known and well known.
【0003】図5には、上述のような従来のイメ−ジセ
ンサの一回路例が、図6にはこのイメ−ジセンサの動作
を説明するためのタイミングチャ−トが、それぞれ示さ
れており、以下、同図を参照しつつこのイメ−ジセンサ
について概括的に説明する。このイメ−ジセンサにおい
ては、イメ−ジセンサが原稿からの反射光を受光し、そ
の受光量に対応した信号を出力する状態のいわゆる明状
態にある場合、先ず、前回のリセットパルスΦGRの出
力後(図示せず)から今回の転送パルスΦGT(図6
(a)参照)が転送用トランジスタTTに印加されるま
での間、フォトダイオ−ドPには、受光量に応じた電荷
が発生している状態(電荷蓄積期間)にあり、転送用ト
ランジスタTTのドレイン電位は、後述する暗状態に比
して比較的急速に上昇してゆく(図6(c)参照)。そ
して、転送パルスΦGTが転送用トランジスタTTのゲ
−トに印加されると同時に、同トランジスタTTのドレ
イン電圧は、転送パルスΦGTの立ち上がりに同期して
電圧ΔV1 だけ急峻に立ち上がる。この電圧ΔV1 は、
フィ−ドスル−量(或いはフィ−ドスル−電圧)と称さ
れ、この種の回路において良く知れれているところのい
わゆるフィ−ドスル−現象によるものである。FIG. 5 shows a circuit example of the conventional image sensor as described above, and FIG. 6 shows a timing chart for explaining the operation of the image sensor. Hereinafter, the image sensor will be generally described with reference to FIG. In this image sensor, when the image sensor receives the reflected light from the document and outputs a signal corresponding to the received light amount, in the so-called bright state, first, after the previous reset pulse ΦGR is output ( From the transfer pulse ΦGT (not shown) (see FIG. 6).
(See (a)) is applied to the transfer transistor TT, the photodiode P is in a state where charges corresponding to the amount of received light are generated (charge accumulation period), and the transfer transistor TT The drain potential of the drain voltage rises relatively rapidly as compared with the dark state described later (see FIG. 6C). Then, at the same time that the transfer pulse ΦGT is applied to the gate of the transfer transistor TT, the drain voltage of the transistor TT sharply rises by the voltage ΔV1 in synchronization with the rising of the transfer pulse ΦGT. This voltage ΔV1 is
This is called the feedthrough amount (or feedthrough voltage) and is due to the so-called feedthrough phenomenon which is well known in this type of circuit.
【0004】この後、ドレインとソ−スとが同電位とな
るまで、ドレイン電位は指数関数的に減少してゆき、転
送パルスΦGTの立ち下がりに同期してドレイン電位も
フィ−ドスル−電圧分だけ急峻に降下し、フォトトラン
ジスタPの残留電荷量によって定まる一定の電圧に落ち
着く(図6(c)参照)。一方、転送用トランジスタT
Tのソ−ス電位は、転送パルスΦGTの立ち上がりと共
に除々に上昇し、転送パルスΦGTの立ち下がり時にフ
ィ−ドスル−電圧ΔV3 だけ急峻に降下する。この後、
読出用IC30の内部に設けられたリセット用トランジ
スタ(図示せず)が導通状態となることによりソ−ス電
位は一旦GND電位へ降下する(図6(d)参照)。そ
の後、転送用トランジスタTTのソ−ス電圧は、読出用
IC30のリセット用トランジスタが非導通状態となる
ことに起因して生じるフィ−ドスル−電圧ΔV5 だけ先
のGND電位から上昇し、この電圧ΔV5 が出力信号の
基準電圧となる。After that, the drain potential decreases exponentially until the drain and the source have the same potential, and the drain potential also corresponds to the feedthrough voltage in synchronization with the fall of the transfer pulse ΦGT. Then, the voltage drops abruptly and settles down to a constant voltage determined by the residual charge amount of the phototransistor P (see FIG. 6C). On the other hand, the transfer transistor T
The source potential of T gradually rises as the transfer pulse .PHI.GT rises, and sharply drops by the feedthrough voltage .DELTA.V3 when the transfer pulse .PHI.GT falls. After this,
When the reset transistor (not shown) provided inside the read IC 30 becomes conductive, the source potential temporarily drops to the GND potential (see FIG. 6D). After that, the source voltage of the transfer transistor TT rises from the previous GND potential by the feedthrough voltage .DELTA.V5 generated due to the reset transistor of the read IC 30 becoming non-conductive, and this voltage .DELTA.V5. Is the reference voltage of the output signal.
【0005】すなわち、明状態におけるイメ−ジセンサ
の出力電圧は、イメ−ジセンサの暗状態における出力電
圧が完全に零であるとの前提の下で、もし先の電圧ΔV
5 が生ずることがないとすると、転送パルスΦGTが立
ち下がった後において、フィ−ドスル−電圧ΔV3 を考
慮した転送用トランジスタTTのソ−ス電位Vs1である
ところ、先の電圧ΔV5 が生じているので、イメ−ジセ
ンサの出力電圧はVs1−ΔV5 と、いわゆるオフセット
電圧を含むものとなる。しかし、実際には後述するよう
に暗状態においても、出力が完全に零となることがない
ので、この暗状態における出力電圧、すなわち、オフセ
ット電圧をVOFとすると、結局、明状態における出力値
は、Vs1−ΔV5 からオフセット電圧VOFを差し引いた
値となる。That is, the output voltage of the image sensor in the bright state is the voltage ΔV if the output voltage of the image sensor in the dark state is completely zero.
5 does not occur, the previous voltage ΔV5 is generated when the source potential Vs1 of the transfer transistor TT in consideration of the feedthrough voltage ΔV3 is taken after the transfer pulse ΦGT falls. Therefore, the output voltage of the image sensor includes Vs1-ΔV5 and so-called offset voltage. However, in reality, as will be described later, the output does not completely become zero even in the dark state. Therefore, if the output voltage in this dark state, that is, the offset voltage is VOF, the output value in the bright state is eventually , Vs1-ΔV5 minus the offset voltage VOF.
【0006】続いて、リセットパルスΦGRがリセット
トランジスタTRのゲ−トに印加されて、リセットトラ
ンジスタTRの導通によりフォトダイオ−ドPの残留電
荷が一掃されると、転送用トランジスタTTのドレイン
電圧はGND電位となり、その後リセットパルスΦGR
の立ち下がりと共に、再びGND電位から負の電位へ下
降することとなる(図6(c)参照)。そして、この
後、フォトダイオ−ドPは、再び電荷蓄積状態となる
が、この電荷蓄積状態が暗状態(外部からの光の入射が
ない状態)であるとすると、転送用トランジスタTTの
ドレイン電位は、フォトダイオ−ドPの暗電流により上
述の負電位から除々(明状態における電荷蓄積状態に比
して緩慢な電圧変化)に上昇してゆき、適宜な時間経過
後に転送パルスΦGTが転送用トランジスタTTのゲ−
トに印加されることによって、転送パルスΦGTの立ち
上がりと共に、ドレイン電位はフィ−ドスル−電圧ΔV
2 だけ急峻に立ち上り(図6(c)参照)、以下、電圧
レベルの違いはあるが、先に説明した明状態におけると
同様なタイミングで電位変化が生じることとなる。転送
用トランジスタTTのソ−ス電位についても全く同様で
ある。ここで、暗状態におけるイメ−ジセンサの出力信
号は理想的には零であるが、実際には多少の電圧が発生
する。この電圧はオフセット電圧と称され、図6に示さ
れた例においてその大きさVOFは、VOF=Vs2−ΔV5
となる。Then, when a reset pulse ΦGR is applied to the gate of the reset transistor TR and the residual charge of the photodiode P is cleared by conduction of the reset transistor TR, the drain voltage of the transfer transistor TT changes. It becomes GND potential, and then reset pulse ΦGR
With the falling edge of, the potential drops from the GND potential to the negative potential again (see FIG. 6C). Then, after this, the photodiode P returns to the charge storage state again, but if this charge storage state is the dark state (the state where no light is incident from the outside), the drain potential of the transfer transistor TT is set. Is gradually increased from the above-mentioned negative potential by the dark current of the photodiode P (a voltage change which is slower than the charge accumulation state in the bright state), and the transfer pulse ΦGT is transferred after an appropriate time. Gate of transistor TT
When the transfer pulse ΦGT rises, the drain potential changes to the feedthrough voltage ΔV.
A sharp rise of 2 (see FIG. 6C) causes a potential change to occur at the same timing as in the bright state described above, although there are differences in voltage level. The same applies to the source potential of the transfer transistor TT. Here, the output signal of the image sensor in the dark state is ideally zero, but in reality, some voltage is generated. This voltage is called an offset voltage, and in the example shown in FIG. 6, its magnitude VOF is VOF = Vs2−ΔV5
Becomes
【0007】ところで、上述したフィ−ドスル−量を定
める最大の要因となるものとしては、転送用トランジス
タTT及びリセットトランジスタTRにおける、ゲ−ト
・ソ−ス間の容量CGS、ゲ−ト・ドレイン間の容量CGD
及びゲ−ト電圧の振幅が挙げられるが、特に、容量CG
S,CGDは、転送用トランジスタTT及びリセットトラ
ンジスタTRの配置構造に大きく影響を受けるものであ
る。一方、上述のいわゆるラインイメ−ジセンサにおい
て、比較的解像度が低いものにあっては、フォトダイオ
−ドP、リセットトランジスタTR及び転送用トランジ
スタTTの物理的配置は、図5の等価回路におけると同
様に、略同一の直線上に配設されるが、高解像度のイメ
−ジセンサを構成する場合には、隣接するフォトダイオ
−ドPの間隔を極力小さくしなければならない。そのた
め、比較的平面的拡がりのあるリセットトランジスタT
R及び転送用トランジスタTTは、低解像度のイメ−ジ
センサの配置構造と同様にしようとすると、隣接するリ
セットトランジスタTR及び転送用トランジスタTT同
士を一部重ね合わせなければならなくなる。このため、
実際には、各リセットトランジスタTRと転送用トラン
ジスタTRとを、いわゆる千鳥状に配置する構造が採ら
れる。By the way, the most important factor for determining the feedthrough amount is the gate-source capacitance CGS and the gate-drain in the transfer transistor TT and the reset transistor TR. Capacity between CGD
And the amplitude of the gate voltage, but especially the capacitance CG
S and CGD are greatly affected by the arrangement structure of the transfer transistor TT and the reset transistor TR. On the other hand, in the so-called line image sensor described above, if the resolution is relatively low, the physical arrangement of the photodiode P, the reset transistor TR and the transfer transistor TT is the same as in the equivalent circuit of FIG. Although they are arranged on substantially the same straight line, when a high-resolution image sensor is constructed, the interval between adjacent photodiodes P must be made as small as possible. Therefore, the reset transistor T having a relatively planar spread
If the R and the transfer transistor TT are made to have the same arrangement structure as the low-resolution image sensor, the adjacent reset transistor TR and transfer transistor TT must be partially overlapped with each other. For this reason,
In practice, a structure is adopted in which the reset transistors TR and the transfer transistors TR are arranged in a so-called zigzag pattern.
【0008】すなわち、図5で言えば、右端のフォトダ
イオ−ドPのリセットトランジスタTR及び転送用トラ
ンジスタTTの位置を図示された位置とすると、そのす
ぐ左隣のフォトダイオ−ドPのリセットトランジスタT
R及び転送用トランジスタTTは、同図において丁度こ
れら2つのトランジスタTR,TTの記載されている位
置の下側に配置し、さらにすぐ左隣のリセットトランジ
スタTR及び転送用トランジスタTTは、左右方向(図
5において紙面左右方向)において先に述べた右端の2
つのトランジスタTR,TTと略同一に配置するという
ように、一画素おきにリセットトランジスタTR及び転
送用トランジスタTTの上下方向(図5において紙面上
下方向)の位置を違えるように配置するものである。That is, referring to FIG. 5, assuming that the positions of the reset transistor TR and the transfer transistor TT of the photodiode P on the right end are the illustrated positions, the reset transistor of the photodiode P immediately adjacent to the left of the reset transistor TR and the transfer transistor TT. T
The R and the transfer transistor TT are arranged just below the positions where these two transistors TR and TT are shown in the figure, and the reset transistor TR and the transfer transistor TT immediately adjacent to the left side are arranged in the left-right direction ( In FIG. 5, in the left-right direction of the paper), the 2 at the right end described above
The two transistors TR and TT are arranged substantially the same as each other, and the reset transistor TR and the transfer transistor TT are arranged so that their positions in the vertical direction (vertical direction in the plane of FIG. 5) are different every other pixel.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようにリセットトランジスタTR及び転送用トランジス
タTTを千鳥状に配置すると、リセットトランジスタT
R及び転送用トランジスタTTとフォトダイオ−ドPと
を接続する信号線(フォトダイオ−ドPから出力される
電荷が伝送される配線)と、リセットトランジスタTR
及び転送用トランジスタTTのゲ−トに接続されるゲ−
ト線の長さが一画素毎に異なることとなる。ところで、
先に説明したゲ−ト・ドレイン間容量及びゲ−ト・ソ−
ス間容量は、上述の信号線とゲ−ト線とのいわゆるカッ
プリングによって殆ど定まるものであるので、一画素毎
に信号線及びゲ−ト線の長さが異なることは、ゲ−ト・
ドレイン間容量及びゲ−ト・ソ−ス間容量が一画素毎に
異なることを意味する。このため、先に説明したフィ−
ドスル−電圧が一画素毎に異なるので、結局、先のオフ
セット電圧ΔVOFが一画素毎に異なる、すなわち、イメ
−ジセンサの出力信号が一画素毎に異なることとなり、
出力信号に補正を施さなければ画像信号として用いるこ
とができないとう問題があった。However, when the reset transistors TR and the transfer transistors TT are arranged in a zigzag manner as described above, the reset transistors T are arranged.
A signal line connecting the R and the transfer transistor TT and the photodiode P (a line for transmitting the charge output from the photodiode P), and a reset transistor TR.
And a gate connected to the gate of the transfer transistor TT.
The length of the line is different for each pixel. by the way,
The gate-drain capacitance and the gate-source capacitance explained above.
Since the inter-capacitance is almost determined by the so-called coupling between the signal line and the gate line described above, the fact that the lengths of the signal line and the gate line are different for each pixel is different from the gate.
This means that the drain capacitance and the gate-source capacitance differ from pixel to pixel. For this reason,
Since the drain voltage is different for each pixel, the offset voltage ΔVOF is different for each pixel, that is, the output signal of the image sensor is different for each pixel.
There is a problem that it cannot be used as an image signal unless the output signal is corrected.
【0010】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
で、オフセット電圧のばらつきが小さく、安定確実な出
力信号を得ることのできるイメ−ジセンサを提供するも
のである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an image sensor capable of obtaining a stable and reliable output signal with a small variation in offset voltage.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明に係
るイメ−ジセンサは、少なくとも、複数の受光素子から
なる受光素子アレイと、前記受光素子から転送された電
荷を蓄積する第1の蓄積容量と、前記複数の受光素子と
同数設けられ前記受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容
量に転送する第1のスイッチング素子と、前記複数の受
光素子と同数設けられ前記受光素子の残留電荷を放電す
る第2のスイッチング素子と、を具備するイメ−ジセン
サにおいて、前記第1のスイッチング素子から延び前記
受光素子の電荷が伝送される信号用配線と、前記第2の
スイッチング素子から延びこの第2のスイッチング素子
の動作を制御する制御信号が伝送される制御用配線との
間に補正用容量を設けてなるものである。特に、補正容
量は、信号用配線と制御用配線とを平行に対向させて形
成されてなるものが好適である。According to a first aspect of the present invention, there is provided an image sensor having a light receiving element array including at least a plurality of light receiving elements, and a first storage for storing electric charges transferred from the light receiving elements. A capacitor, a first switching element that is provided in the same number as the plurality of light receiving elements and transfers charges generated in the light receiving element to the first storage capacitor, and a residual charge of the light receiving elements that is provided in the same number as the plurality of light receiving elements. An image sensor including a second switching element for discharging the electric charge, and a signal wiring extending from the first switching element for transmitting the electric charge of the light receiving element, and an electric wire extending from the second switching element. The correction capacitor is provided between the control wiring for transmitting the control signal for controlling the operation of the second switching element and the control wiring. In particular, it is preferable that the correction capacitor is formed by allowing the signal wiring and the control wiring to face each other in parallel.
【0012】請求項3記載の発明に係るイメ−ジセンサ
は、少なくとも、複数の受光素子からなる受光素子アレ
イと、前記受光素子から転送された電荷を蓄積する第1
の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設けられ前記
受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転送する第1
のスイッチング素子と、前記複数の受光素子と同数設け
られ前記受光素子の残留電荷を放電する第2のスイッチ
ング素子と、を具備するイメ−ジセンサにおいて、前記
第1のスイッチング素子から延び前記受光素子の電荷が
伝送される信号用配線と、前記第1のスイッチング素子
から延びこの第1のスイッチング素子の動作を制御する
制御信号が伝送される制御用配線との間に補正用容量を
設けてなるものである。特に、補正容量は、信号用配線
と制御用配線とを平行に対向させて形成されてなるもの
が好適である。An image sensor according to a third aspect of the present invention includes a light receiving element array including at least a plurality of light receiving elements and a first light receiving element for accumulating charges transferred from the light receiving elements.
Storage capacitors of the same number and the same number of the light receiving elements as the plurality of light receiving elements,
Of the plurality of light receiving elements, and a second switching element which is provided in the same number as the plurality of light receiving elements and discharges the residual charges of the light receiving elements, the image sensor extending from the first switching element. A compensation capacitor is provided between a signal wiring for transmitting electric charges and a control wiring extending from the first switching element and transmitting a control signal for controlling the operation of the first switching element. Is. In particular, it is preferable that the correction capacitor is formed by allowing the signal wiring and the control wiring to face each other in parallel.
【0013】請求項5記載の発明に係るイメ−ジセンサ
は、少なくとも、複数の受光素子からなる受光素子アレ
イと、前記受光素子から転送された電荷を蓄積する第1
の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設けられ前記
受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転送する第1
のスイッチング素子と、前記複数の受光素子と同数設け
られ前記受光素子の残留電荷を放電する第2のスイッチ
ング素子と、を具備し、前記受光素子、第1のスイッチ
ング素子及び第2のスイッチング素子の配置は、前記受
光素子に接続された第1及び第2のスイッチング素子が
受光素子の近傍に配置されたものと、前記受光素子に接
続された第1及び第2のスイッチング素子が受光素子と
の間に略一組の第1及び第2のスイッチング素子を配設
し得る程度の間隔を隔てて配置されたものとが交互に隣
接配置されてなるイメ−ジセンサにおいて、受光素子の
近傍に配置された第1のスイッチング素子から延び前記
受光素子の電荷が伝送される信号用配線と、第2のスイ
ッチング素子から延びこの第2のスイッチング素子の動
作を制御する制御信号が伝送される制御用配線との間に
補正用容量を設けてなるものである。特に、補正容量
は、信号用配線と制御用配線とを平行に対向させて形成
されてなるものが好適である。An image sensor according to a fifth aspect of the present invention is a light receiving element array including at least a plurality of light receiving elements and a first light receiving element for accumulating charges transferred from the light receiving elements.
Storage capacitors of the same number and the same number of the light receiving elements as the plurality of light receiving elements, the first charge transferring the charges generated in the light receiving elements to the first storage capacitor.
Switching element and a second switching element provided in the same number as the plurality of light receiving elements and discharging residual charges of the light receiving elements, the light receiving element, the first switching element and the second switching element. The arrangement is such that the first and second switching elements connected to the light receiving element are arranged in the vicinity of the light receiving element, and the first and second switching elements connected to the light receiving element are the light receiving element. In an image sensor in which a pair of first and second switching elements and a plurality of elements which are arranged at an interval such that they can be arranged are alternately arranged adjacent to each other, the image sensor is arranged in the vicinity of the light receiving element. A signal wiring extending from the first switching element and transmitting the electric charge of the light receiving element, and a control extending from the second switching element to control the operation of the second switching element No. is made by providing a correction capacitance between the control wiring to be transmitted. In particular, it is preferable that the correction capacitor is formed by allowing the signal wiring and the control wiring to face each other in parallel.
【0014】請求項7記載の発明に係るイメ−ジセンサ
は、少なくとも、複数の受光素子からなる受光素子アレ
イと、前記受光素子から転送された電荷を蓄積する第1
の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設けられ前記
受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転送する第1
のスイッチング素子と、前記複数の受光素子と同数設け
られ前記受光素子の残留電荷を放電する第2のスイッチ
ング素子と、を具備し、前記受光素子、第1のスイッチ
ング素子及び第2のスイッチング素子の配置は、前記受
光素子に接続された第1及び第2のスイッチング素子が
受光素子の近傍に配置されたものと、前記受光素子に接
続された第1及び第2のスイッチング素子が受光素子と
の間に略一組の第1及び第2のスイッチング素子を配設
し得る程度の間隔を隔てて配置されたものとが交互に隣
接配置されてなるイメ−ジセンサにおいて、前記第1の
スイッチング素子から延び前記受光素子の電荷が伝送さ
れる信号用配線と、前記第1のスイッチング素子から延
びこの第1のスイッチング素子の動作を制御する制御信
号が伝送される制御用配線との間に補正用容量を設けて
なるものである。特に、補正容量は、信号用配線と制御
用配線とを平行に対向させて形成されてなるものが好適
である。According to a seventh aspect of the present invention, in an image sensor, at least a light-receiving element array including a plurality of light-receiving elements and a first light-receiving element for accumulating charges transferred from the light-receiving elements.
Storage capacitors of the same number and the same number of the light receiving elements as the plurality of light receiving elements,
Switching element and a second switching element provided in the same number as the plurality of light receiving elements and discharging residual charges of the light receiving elements, the light receiving element, the first switching element and the second switching element. The arrangement is such that the first and second switching elements connected to the light receiving element are arranged in the vicinity of the light receiving element, and the first and second switching elements connected to the light receiving element are the light receiving element. An image sensor in which a pair of first and second switching elements and a pair of first and second switching elements that are spaced apart from each other are alternately arranged adjacent to each other. A signal wire extending and transmitting a charge of the light-receiving element, and a control signal extending from the first switching element and transmitting a control signal for controlling the operation of the first switching element. Those formed by providing a correction capacitance between the use wiring. In particular, it is preferable that the correction capacitor is formed by allowing the signal wiring and the control wiring to face each other in parallel.
【0015】[0015]
【作用】請求項1乃至4記載の発明に係るイメ−ジセン
サにおいては、信号用配線と制御用配線との間に補正用
容量を形成することにより、この信号用配線と制御用配
線との間においてもともと形成されている静電容量にこ
の補正用容量が付加されることとなるので、補正用容量
の付加前において不足した容量分が補われることとな
り、容量の不足に起因して出力信号が画素毎に不均一と
なるようなことがなくなる。In the image sensor according to the present invention, the correction capacitor is formed between the signal wiring and the control wiring so that the signal wiring and the control wiring are connected between the signal wiring and the control wiring. Since the correction capacitance is added to the capacitance originally formed in, the shortage of the capacitance before the addition of the correction capacitance is compensated for, and the output signal is reduced due to the shortage of capacitance. There will be no unevenness for each pixel.
【0016】請求項5及び6記載の発明に係るイメ−ジ
センサにおいては、受光素子の近傍に配置された第1の
スイッチング素子から延びる信号用配線と第2のスイッ
チング素子から延びる制御用配線との間に設けられた補
正用容量は、この受光素子の近傍に配置された第1のス
イッチング素子から延びる信号用配線と第2のスイッチ
ング素子から延びる制御用配線との間で形成される静電
容量が、隣接する第1及び第2のスイッチング素子にお
ける同様な静電容量に比して受光素子に近いことに起因
して不足する分を補うこととなり、そのため、この静電
容量の不足による隣接する画素との出力信号の不均一が
解消される。In the image sensor according to the fifth and sixth aspects of the present invention, the signal wiring extending from the first switching element and the control wiring extending from the second switching element arranged near the light receiving element are provided. The correction capacitor provided therebetween is an electrostatic capacitance formed between the signal wiring extending from the first switching element and the control wiring extending from the second switching element, which are arranged near the light receiving element. However, the shortage due to the proximity to the light receiving element is compensated for as compared with the similar capacitances in the adjacent first and second switching elements, and therefore the adjacent capacitances due to the shortage of the capacitances are caused. The non-uniformity of the output signal with the pixel is eliminated.
【0017】請求項7及び8記載の発明に係るイメ−ジ
センサにおいては、受光素子から隔てて配置された第1
のスイッチング素子から延びる信号用配線及び制御用配
線との間との間に設けられた補正用容量は、この受光素
子から隔てて配置された第1のスイッング素子から延び
る信号用配線及び制御用配線との間で形成される静電容
量が、隣接する第1のスイッチング素子における同様な
静電容量に比して不足する分を補うこととなり、そのた
め、この静電容量の不足による隣接する画素における出
力信号の不均一が解消される。In the image sensor according to the seventh and eighth aspects of the present invention, the first sensor is arranged apart from the light receiving element.
The correction capacitance provided between the signal wiring and the control wiring extending from the switching element is the signal wiring and the control wiring extending from the first switching element that is arranged apart from the light receiving element. The electrostatic capacity formed between the adjacent first switching element and the similar electrostatic capacity in the adjacent first switching element compensates for the shortage, and therefore, in the adjacent pixel due to the shortage of the electrostatic capacity. The unevenness of the output signal is eliminated.
【0018】[0018]
【実施例】以下、図1乃至図4を参照しつつ、本発明に
係るイメ−ジセンサについて説明する。ここで、図1は
本発明に係るイメ−ジセンサの等価回路図、図2は本発
明に係るイメ−ジセンサの一画素当りの等価回路図、図
3は本発明に係るイメ−ジセンサの動作を説明するため
のタイミング図、図4は本発明に係るイメ−ジセンサの
主要部の配置構造の一実施例を示す平面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An image sensor according to the present invention will be described below with reference to FIGS. Here, FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of the image sensor according to the present invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of one pixel of the image sensor according to the present invention, and FIG. 3 shows an operation of the image sensor according to the present invention. FIG. 4 is a timing diagram for explaining, and FIG. 4 is a plan view showing an embodiment of the arrangement structure of the main part of the image sensor according to the present invention.
【0019】先ず、図1を参照しつつ本発明に係るイメ
−ジセンサの回路構成について説明する。このイメ−ジ
センサは、受光素子アレイ1と、電荷転送部2と、電荷
リセット部3と、マトリックス配線部4と、共通信号線
5と、ゲ−トパルス発生回路6と、読出用IC7と、補
正用容量CA ,CB と、を主な構成要素としてなるもの
である。受光素子アレイ1は、例えばガラス等の絶縁性
部材からなる基板(図示せず)上に、受光素子としての
フォトダイオ−ドPをN個を直線状に配設して1ブロッ
クとし、このブロックをn個直線状に設けてなるもので
ある。First, the circuit configuration of the image sensor according to the present invention will be described with reference to FIG. This image sensor includes a light-receiving element array 1, a charge transfer section 2, a charge reset section 3, a matrix wiring section 4, a common signal line 5, a gate pulse generating circuit 6, a reading IC 7, and a correction. The capacitors C A and C B are the main constituent elements. The light-receiving element array 1 is formed by arranging N photodiodes P as light-receiving elements linearly on a substrate (not shown) made of an insulating material such as glass to form one block. Is provided linearly.
【0020】受光素子アレイ1には、電荷転送部2及び
電荷リセット部3が接続されている。この電荷転送部2
は、上述のフォトダイオ−ドPと同数設けられた転送用
トランジスタTTからなるもので、転送用トランジスタ
TTのドレインがフォトダイオ−ドPのアノ−ドに接続
され、転送用トランジスタTTのソ−スは後述するマト
リックス配線部4に接続されている。尚、転送用トラン
ジスタTTには、薄膜トランジスタが用いられている。
さらに、各フォトダイオ−ドPには、電荷リセット部3
が接続されている。すなわち、この電荷リセット部3
は、フォトダイオ−ドPの数と同数設けられたリセット
トランジスタTRからなるもので、リセットトランジス
タTRのドレインがフォトダイオ−ドPのアノ−ド側に
接続される一方、ソ−ス側は接地されている。尚、リセ
ットトランジスタTRには、薄膜トランジスタが用いら
れている。A charge transfer section 2 and a charge reset section 3 are connected to the light receiving element array 1. This charge transfer unit 2
Is composed of the same number of transfer transistors TT as the above-mentioned photodiodes P, the drain of the transfer transistor TT is connected to the anode of the photodiode P, and the source of the transfer transistor TT is connected. Are connected to the matrix wiring section 4 described later. A thin film transistor is used as the transfer transistor TT.
Furthermore, each photodiode P has a charge reset unit 3
Are connected. That is, the charge reset unit 3
Is composed of the same number of reset transistors TR as the number of photodiodes P. The drain of the reset transistor TR is connected to the anode side of the photodiode P, while the source side is grounded. Has been done. A thin film transistor is used as the reset transistor TR.
【0021】本実施例において、転送用トランジスタT
T及びリセットトランジスタTRの薄膜トランジスタ
は、同一特性のもの用いており、そのW/Lは、8乃至
18程度が好適である。In this embodiment, the transfer transistor T
The thin film transistors of T and the reset transistor TR have the same characteristics, and the W / L thereof is preferably about 8 to 18.
【0022】マトリックス配線部4は、各ブロックで同
一の位置にある転送用薄膜トランジスタTTのソ−ス同
士を接続するもので、例えば、第1のブロックの一番目
のフォトダイオ−ドP(図1において「1st」と記さ
れたブロックの右端に位置するフォトダイオ−ド)に接
続されている転送用薄膜トランジスタTTのソ−スは、
他のブロックの一番目のフォトダイオ−ド(図1におい
て各ブロックの一番右端に位置するフォトダイオ−ド)
Pに接続されている。そして、このマトリックス配線部
4は、ブロックの数に等しいn本の共通信号線5に接続
され、この共通信号線5を介して読出用IC7に接続さ
れている。そして、各共通信号線5とア−スとの間に
は、配線容量CL がそれぞれ設けられており、転送用ト
ランジスタTTを介して転送されたフォトダイオ−ドP
からの電荷が蓄積されるようになっている。尚、本実施
例において配線容量CL としては、10乃至100pF
程度が好適な値となっている。The matrix wiring section 4 connects the sources of the transfer thin film transistors TT at the same position in each block. For example, the first photodiode P (FIG. 1) of the first block is connected. The source of the transfer thin film transistor TT connected to the photodiode located at the right end of the block labeled "1st" in FIG.
First photo diode of another block (photo diode located at the rightmost end of each block in FIG. 1)
It is connected to P. The matrix wiring section 4 is connected to n common signal lines 5 equal to the number of blocks, and is connected to the reading IC 7 via the common signal lines 5. A wiring capacitance CL is provided between each common signal line 5 and the ground, and the photodiode P transferred through the transfer transistor TT is used.
The charge from is accumulated. In this embodiment, the wiring capacitance CL is 10 to 100 pF.
The degree is a suitable value.
【0023】読出用IC7は、配線容量CL への電荷の
蓄積により生じた共通信号線5の電位を読み取って、こ
れを各フォトダイオ−ドPにより取得された画像信号と
して時系列的に選択出力するものである。ゲ−トパルス
発生回路6は、転送用トランジスタTT及びリセットト
ランジスタTRを導通状態とするためのゲ−トパルスΦ
GT,ΦGRを発生するもので、その出力段には各転送
用トランジスタTTのゲ−トが、同一のブロック内のも
の同士がまとめて接続されると共に、各リセットトラン
ジスタTRのゲ−トが転送用トランジスタTTと同様に
各ブロック毎にまとめられて接続されている。The reading IC 7 reads the potential of the common signal line 5 generated by the accumulation of electric charges in the wiring capacitance CL, and selectively outputs it as an image signal acquired by each photodiode P in time series. To do. The gate pulse generation circuit 6 has a gate pulse Φ for making the transfer transistor TT and the reset transistor TR conductive.
GT and ΦGR are generated, and the gates of the transfer transistors TT are connected together in the same block to the output stage thereof, and the gates of the reset transistors TR are transferred. Similar to the transistor TT, the blocks are collectively connected to each block.
【0024】このイメ−ジセンサにおいては、一画素お
きに転送用トランジスタTT及びリセットトランジスタ
TRが図1で言えば紙面左右方向にいわゆる千鳥状に配
置された構造となっている。すなわち、図1において右
端の転送用トランジスタTT及びリセットトランジスタ
TRの番号を1とし、以下、順に隣接する転送用トラン
ジスタTT及びリセットトランジスタTRに番号を付し
たとすると、奇数番の転送用トランジスタTT及びリセ
ットトランジスタTRがフォトダイオ−ドPの比較的近
傍に、偶数番の転送用トランジスタTT及びリセットト
ランジスタTRがフォトダイオ−ドPより離れて配置さ
れており、フォトダイオ−ドPとの間は、丁度フォトダ
イオ−ドPとの間に一組の転送用トランジスタTTとリ
セットトランジスタTRが配設できるような間隔を空け
てある(具体的配置例は後述)。In this image sensor, the transfer transistors TT and the reset transistors TR are arranged every other pixel in a so-called zigzag pattern in the lateral direction of the paper in FIG. That is, assuming that the numbers of the transfer transistor TT and the reset transistor TR at the right end in FIG. 1 are 1, and the transfer transistor TT and the reset transistor TR which are adjacent to each other are sequentially numbered, odd-numbered transfer transistors TT and TT The reset transistor TR is arranged relatively close to the photodiode P, and the even-numbered transfer transistors TT and the reset transistor TR are arranged apart from the photodiode P. Between the photodiode T and the photodiode P, The space is provided so that a set of transfer transistor TT and reset transistor TR can be arranged just between the photodiode P (a specific arrangement example will be described later).
【0025】そして、補正用容量CA は、偶数番の転送
トランジスタTT及びリセットトランジスタTRのドレ
インとリセットトランジスタTRのゲ−ト間に接続され
ている。また、補正用容量CB は、奇数番の転送用トラ
ンジスタTTのソ−スとゲ−トとの間に接続されてい
る。The correction capacitor CA is connected between the drains of the even-numbered transfer transistors TT and reset transistors TR and the gate of the reset transistor TR. The correction capacitor CB is connected between the source and the gate of the odd-numbered transfer transistor TT.
【0026】図2には上述したイメ−ジセンサにおける
一画素当りの等価回路が示されており、以下、同図を参
照しつつその内容について概略的に説明する。尚、既に
図2において説明された構成要素については、ここでの
説明を省略し、以下、図1には示されていない構成要素
を中心に説明することとする。フォトダイオ−ドPは、
それ自体の寄生容量Cpを有しており、フォトダイオ−
ドPのアノ−ドとカソ−ドとの間に接続された状態とし
て表されている。本実施例において寄生容量Cpは、約
1pFとなっている。また、読出用IC7は、増幅器8
を有しており、その入力側には転送用トランジスタTT
のソ−スが接続されると共に、リセット用MOSトラン
ジスタ9のドレインが接続されている。そして、リセッ
ト用MOSトランジスタ8は、ソ−ス側が接地されてお
り、図示されないパルス信号発生回路からのゲ−ト信号
が、ゲ−トに入力されることにより導通状態となって配
線容量CL の残留電荷を放電するようになっているもの
である。尚、同図において、ゲ−ト・ドレイン間容量C
GD及びゲ−ト・ソ−ス間容量CGSの後に括弧書きされた
TR或るいはTTの文字は、それぞれ、リセットトラン
ジスタTRにおける或るいは転送用トランジスタTTに
おける容量であることを表すためのものである。FIG. 2 shows an equivalent circuit per pixel in the above-mentioned image sensor, and the contents thereof will be briefly described below with reference to FIG. It should be noted that the description of the components already described in FIG. 2 will be omitted, and hereinafter, the components not shown in FIG. 1 will be mainly described. Photodiode P is
Since it has its own parasitic capacitance Cp,
It is shown as being connected between the anode of cathode P and the cathode. In this embodiment, the parasitic capacitance Cp is about 1 pF. Further, the reading IC 7 is an amplifier 8
Has a transfer transistor TT on its input side.
Source and the drain of the reset MOS transistor 9 are connected. The source side of the reset MOS transistor 8 is grounded, and a gate signal from a pulse signal generating circuit (not shown) is input to the gate to make it conductive so that the wiring capacitance CL is reduced. It is designed to discharge residual charges. In the figure, the gate-drain capacitance C
The letters TR or TT in parentheses after GD and the gate-source capacitance CGS represent the capacitance in the reset transistor TR or the transfer transistor TT, respectively. Is.
【0027】次に、このイメ−ジセンサの具体的配置構
造の一例について図4を参照しつつ説明する。フォトダ
イオ−ドPは、上部透明電極10と、この上部透明電極
10に対向し且つ各フォトダイオ−ドPに共通の共通下
部電極11と、これら2つの電極10,11の間に挟持
された光電変換層(図示せず)とを有してなり、共通下
部電極11は基板に接合されている。図4において紙面
右側のフォトダイオ−ドPに接続されたリセットトラン
ジスタTR及び転送用トランジスタTTは、フォトダイ
オ−ドPの下側(図4において紙面下側)の位置に、リ
セットトランジスタTR及び転送用トランジスタTT
が、それぞれ1つづつ配置できる間隔を空けて配置され
ている。Next, an example of the specific arrangement structure of the image sensor will be described with reference to FIG. The photodiode P is sandwiched between the upper transparent electrode 10, a common lower electrode 11 facing the upper transparent electrode 10 and common to each photodiode P, and these two electrodes 10, 11. And a photoelectric conversion layer (not shown), and the common lower electrode 11 is bonded to the substrate. The reset transistor TR and the transfer transistor TT connected to the photodiode P on the right side of the paper in FIG. 4 are located at the lower side (lower side of the paper in FIG. 4) of the photodiode P and the reset transistor TR and the transfer transistor TT. Transistor TT
However, they are arranged at intervals such that they can be arranged one by one.
【0028】図4において紙面右側のフォトダイオ−ド
Pのアノ−ドに接続されたアノ−ド電極12からは、リ
セットトランジスタTRへ向かって直線状に形成された
接続配線12aが延設されており、その先にはリセット
トランジスタTR及び転送用トランジスタTTの各ドレ
インに接続されたドレイン電極部13a,13bが形成
されている。一方、図4右側のリセットトランジスタT
Rのソ−ス領域14の上部にはソ−ス電極15が配され
ている。このソ−ス電極15は、チャンネル領域側(図
4においてソ−ス電極15の右側)へ延設されており、
この延設された部位はチャネル遮光部16として、チャ
ンネル領域への光の入射を遮断するようになっている。
さらに、このチャンネル遮光部16は下側(図4におい
て紙面下側)へも延設されており、転送用トランジスタ
TTのチャンネル遮光部としての機能をも果たしてい
る。そして、このチャンネル遮光部16は、転送用トラ
ンジスタTTの下側へ延設されて、グランド配線17に
接続されている。In FIG. 4, a connection wiring 12a formed in a straight line extends toward the reset transistor TR from the anode electrode 12 connected to the anode of the photodiode P on the right side of the drawing. The drain electrode portions 13a and 13b connected to the drains of the reset transistor TR and the transfer transistor TT are formed at the tip of the drain electrode portions 13a and 13b. On the other hand, the reset transistor T on the right side of FIG.
A source electrode 15 is arranged on the source region 14 of R. The source electrode 15 is extended to the channel region side (right side of the source electrode 15 in FIG. 4),
This extended portion serves as a channel light-shielding portion 16 so as to block light from entering the channel region.
Further, the channel light-shielding portion 16 is also extended to the lower side (lower side of the paper surface in FIG. 4) and also functions as the channel light-shielding portion of the transfer transistor TT. The channel light-shielding portion 16 extends below the transfer transistor TT and is connected to the ground wiring 17.
【0029】また、図4右側のリセットトランジスタT
Rのゲ−トに接続されたゲ−ト電極18は上方(図4に
おいて紙面上方)へ延設されて、ゲ−ト電極接続線19
に接続されている。このゲ−ト電極接続線19は、図4
左側で隣接するリセットトランジスタTRと転送用トラ
ンジスタTTの間を通り左右方向(図4において紙面左
右方向)に配設されており、図4左側のリセットトラン
ジスタTRのゲ−トも接続されているものである。さら
に、図4右側の転送用トランジスタTTのソ−スに接続
されたソ−ス電極20は、この転送用トランジスタTT
の下側で左右方向(図4において紙面左右方向)に配置
されている共通信号線5に接続されている。また、ソ−
ス電極20は、転送用トランジスタTTの下側において
左右方向(図4において紙面左右方向)に配置されたゲ
−ト電極接続線21と、基板の表裏方向(図4の紙面表
裏方向)において一定の間隙を隔て略直角に交差した状
態となっている。The reset transistor T on the right side of FIG.
The gate electrode 18 connected to the R gate is extended upward (upper surface of FIG. 4), and a gate electrode connecting line 19 is provided.
It is connected to the. This gate electrode connecting line 19 is shown in FIG.
Passing between the reset transistor TR and the transfer transistor TT which are adjacent to each other on the left side, and arranged in the left-right direction (left-right direction on the paper surface in FIG. 4), the gate of the reset transistor TR on the left side in FIG. 4 is also connected. Is. Further, the source electrode 20 connected to the source of the transfer transistor TT on the right side of FIG.
It is connected to a common signal line 5 arranged in the left-right direction (left-right direction on the paper in FIG. 4) on the lower side. Also,
The gate electrode 20 and the gate electrode connecting line 21 arranged in the left-right direction (the left-right direction of the paper in FIG. 4) below the transfer transistor TT and the gate electrode connection line 21 are constant in the front-back direction of the substrate (front-back direction of the paper in FIG. 4). It is in a state of intersecting at a substantially right angle with a gap of.
【0030】一方、図4において左側に位置するフォト
ダイオ−ドPの下側には、このフォトダイオ−ドPに接
続されたリセットトランジスタTR及び転送用トランジ
スタTTが配置されている。この左側に位置するフォト
ダイオ−ドPのアノ−ド電極12は下側に延び、リセッ
トトランジスタTRのドレイン電極22aに接続され、
さらに、このドレイン電極22aは下側へ延設されて転
送用トランジスタTTのドレイン電極22bに接続され
ている。尚、このリセットトランジスタTRのドレイン
電極22aから転送用トランジスタTTのドレイン電極
22bに延設された部位は、このリセットトランジスタ
TRの下側において左右方向(図4において紙面表裏方
向)に配置されたゲ−ト電極接続配線19と、基板の表
裏方向(図4において紙面表裏方向)において一定間隔
を隔てて略直角状態に交差している。On the other hand, below the photodiode P located on the left side in FIG. 4, a reset transistor TR and a transfer transistor TT connected to the photodiode P are arranged. The anode electrode 12 of the photo diode P located on the left side extends downward and is connected to the drain electrode 22a of the reset transistor TR,
Further, the drain electrode 22a extends downward and is connected to the drain electrode 22b of the transfer transistor TT. The portion extending from the drain electrode 22a of the reset transistor TR to the drain electrode 22b of the transfer transistor TT is located below the reset transistor TR in the left-right direction (front-back direction in FIG. 4). The electrode connection wiring 19 intersects with the substrate 19 in a substantially right-angled state at regular intervals in the front-back direction of the substrate (the front-back direction of the paper in FIG. 4).
【0031】また、図4左側のリセットトランジスタT
Rのソ−ス電極23は、ゲ−ト側へ延設されると共に、
転送用トランジスタTTのゲ−ト側へ延設されて、チャ
ンネル遮光部24を形成しているのは、右側のリセット
トランジスタTRのソ−ス電極15と同様である。図4
左側の転送用トランジスタTTのソ−ス電極25は下側
(図4において紙面下側)へ延設され、図4の右側の転
送用トランジスタTTのソ−ス電極20と同様に共通信
号線5に接続されている。The reset transistor T on the left side of FIG.
The R source electrode 23 is extended to the gate side, and
It is similar to the source electrode 15 of the reset transistor TR on the right side that the channel light-shielding portion 24 is formed by extending to the gate side of the transfer transistor TT. Figure 4
The source electrode 25 of the transfer transistor TT on the left side is extended to the lower side (the lower side of the drawing in FIG. 4), and like the source electrode 20 of the transfer transistor TT on the right side of FIG. It is connected to the.
【0032】上述の構成において、図4右側のフォトダ
イオ−ドPから延設され、リセットトランジスタTRの
ドレイン電極13aに接続されている接続配線12aの
一部イと、リセットトランジスタTRのゲ−トから延び
る配線部分ロとは平行(図4において二点鎖線で囲まれ
た部分参照)しているので、静電的ないわゆるカップリ
ングが生じ、この部分で静電容量が形成される。この結
果、図4右側のリセットトランジスタTRのゲ−ト・ド
レイン間容量CGDは、リセットトランジスタTRがフォ
トダイオ−ドPの直ぐ下側に配置される場合に比して上
述の静電容量の分だけ大きいものとなる。In the above structure, a part of the connection wiring 12a extending from the photodiode P on the right side of FIG. 4 and connected to the drain electrode 13a of the reset transistor TR and the gate of the reset transistor TR. Since it is parallel to the wiring portion B extending from (refer to the portion surrounded by the alternate long and two short dashes line in FIG. 4), electrostatic so-called coupling occurs, and electrostatic capacitance is formed in this portion. As a result, the gate-drain capacitance CGD of the reset transistor TR on the right side of FIG. 4 is smaller than that of the case where the reset transistor TR is arranged immediately below the photodiode P. It will only be big.
【0033】一方、図4の紙面左側のリセットトランジ
スタTRのドレイン電極22aから転送用トランジスタ
TTのドレイン電極22bへ延びる部位ハと、この部位
ハと平行する部位を有して略直角に交差するゲ−ト電極
接続線19との間において補正用容量CA が形成され、
この補正用容量CA は、図4左側のリセットトランジス
タTRのゲ−ト・ドレイン間容量CGDに付加されること
となる。尚、補正用容量CA は、主として上述した部分
で形成されるが、図4において左側のリセットトランジ
スタTTのドレイン電極22bと、右側のリセットトラ
ンジスタTRのゲ−ト電極18から延びる配線部分ロと
の平行している部分(図4において二点鎖線で囲まれた
領域参照)とによっても静電容量を生じ、補正用容量C
A の一部となる。そして、この補正容量CA は、図4右
側のリセットトランジスタTRにおけるゲ−ト・ドレイ
ン間容量CGDが前述したように増加した分に略等しくな
るように設定することにより、両リセットトランジスタ
TRにおけるゲ−ト・ドレイン間容量CGDは略等しくな
る。On the other hand, a portion c extending from the drain electrode 22a of the reset transistor TR to the drain electrode 22b of the transfer transistor TT on the left side of the paper of FIG. 4 and a portion having a portion parallel to this portion c intersect at a substantially right angle. -A correction capacitor CA is formed between the gate electrode connection line 19 and
This correction capacitance CA is added to the gate-drain capacitance CGD of the reset transistor TR on the left side of FIG. Although the correction capacitor CA is mainly formed by the above-mentioned portion, in FIG. 4, a drain portion 22b of the reset transistor TT on the left side and a wiring portion B extending from the gate electrode 18 of the reset transistor TR on the right side are formed. Capacitance is also generated by the parallel portion (see the area surrounded by the two-dot chain line in FIG. 4), and the correction capacitance C
Be part of A. The correction capacitance CA is set so as to be substantially equal to the amount by which the gate-drain capacitance CGD in the reset transistor TR on the right side of FIG. The gate-drain capacitance CGD is substantially equal.
【0034】また、図4において紙面左側の転送用トラ
ンジスタTTのソ−ス電極25から共通信号線5へ延び
る配線の一部ニと、この転送用トランジスタTTのゲ−
トから延びる配線部分ホとの間(図4において二点鎖線
で囲まれた部分参照)にも静電的なカップリングによる
静電容量が形成され、この静電容量は図4左側の転送用
トランジスタTTのゲ−ト・ソ−ス間容量CGSの一部と
なる。一方、図4において紙面右側の転送用トランジス
タTTのソ−ス電極20から共通信号線5へ延びる配線
部分ヘは、その長さが図4左側の転送用トランジスタT
Tのそれに比して短い。したがって、この配線部分ヘと
図4右側の転送用トランジスタTTのゲ−ト電極26か
らゲ−ト電極接続線21へ延びる部分とが、上述した図
4左側の場合と異なり平行する部分は極めて短いので、
それによる静電容量の形成は左隣の転送用トランジスタ
TTの場合に比して少なく、その分ゲ−ト・ソ−ス間容
量CGSも小さい。しかし、本実施例においては、右側の
転送用トランジスタTTのソ−ス電極20から共通信号
線5へ延びた配線の一部ヘが、ゲ−ト電極接続線21と
直角に交差するようにして対向することで補正用容量C
Bを形成しており、上述した静電容量の減少分を補うこ
ととなる。したがって、右側の転送用トランジスタTT
のゲ−ト・ソ−ス間容量CGSと左側の転送用トランジス
タTTのゲ−ト・ソ−ス間容量CGSとは、殆ど等しくな
る。Further, in FIG. 4, a part of the wiring extending from the source electrode 25 of the transfer transistor TT on the left side of the drawing to the common signal line 5 and the gate of this transfer transistor TT.
Capacitance is also formed by electrostatic coupling between the wiring portion e extending from the port (see the portion surrounded by the two-dot chain line in FIG. 4), and this capacitance is for transfer on the left side of FIG. It becomes a part of the gate-source capacitance CGS of the transistor TT. On the other hand, in FIG. 4, the wiring portion extending from the source electrode 20 of the transfer transistor TT on the right side of the paper to the common signal line 5 has a length on the left side of FIG.
Shorter than that of T. Therefore, the portion where this wiring portion and the portion extending from the gate electrode 26 of the transfer transistor TT on the right side of FIG. 4 to the gate electrode connecting line 21 are parallel to each other is extremely short, unlike the case of the above-mentioned left side of FIG. So
The formation of the electrostatic capacitance due to this is smaller than that of the transfer transistor TT on the left side, and the capacitance CGS between the gate and the source is also small accordingly. However, in this embodiment, a part of the wiring extending from the source electrode 20 of the transfer transistor TT on the right side to the common signal line 5 crosses the gate electrode connecting line 21 at a right angle. Compensation capacitance C by facing
B is formed, and the above-mentioned decrease in capacitance is compensated. Therefore, the transfer transistor TT on the right side
Between the gate-source capacitance CGS and the gate-source capacitance CGS of the left transfer transistor TT are almost equal.
【0035】また、図4右側の転送用トランジスタTT
のソ−ス電極20と、図4左側の転送用トランジスタT
Tのゲ−トから延びる配線ホの一部との間でも静電的カ
ップリングによる静電容量が生じ、補正用容量CB の一
部を形成している(図4において二点鎖線で囲まれた範
囲)。図3には補正用容量CA を設けた場合と、設けな
い場合とのそれぞれにおける転送用トランジスタTTの
ドレイン及びソ−ス電位の変化が示されており、以下、
同図を参照しつつその内容を説明する。先ず、この波形
図は、理解を容易にするために補正用容量CA だけに注
目して表されたものである。すなわち、この図3に示さ
れた波形図は、図4に示されたように千鳥状に配置され
た2つの転送用トランジスタTTの下側(図4において
紙面下側)における配線容量(図4で言えば配線イ、ロ
の間で形成される容量及び補正容量CB)がないと仮定し
た場合において、図3(c),(d)は補正用容量CA
を設けない場合の転送用トランジスタTTのドレイン及
びソ−ス電位の変化を、図3(e),(f)はフォトダ
イオ−ドPから離れて配置されたことによりゲ−ト・ド
レイン間容量CGDが増えた転送用トランジスタTT(図
4で言えば紙面右側の転送用トランジスタTT)のドレ
イン及びソ−ス電位の変化を、それぞれ表すものであ
る。The transfer transistor TT on the right side of FIG.
Source electrode 20 and the transfer transistor T on the left side of FIG.
Capacitance due to electrostatic coupling occurs also with a part of the wiring e extending from the gate of T, and forms a part of the correction capacitor CB (enclosed by a chain double-dashed line in FIG. 4). Range). FIG. 3 shows changes in the drain and source potentials of the transfer transistor TT when the correction capacitor CA is provided and when it is not provided.
The contents will be described with reference to FIG. First, for ease of understanding, this waveform diagram is shown focusing only on the correction capacitance CA. That is, the waveform diagram shown in FIG. 3 shows that the wiring capacitance (FIG. 4) below the two transfer transistors TT arranged in a staggered manner as shown in FIG. Assuming that there is no capacitance formed between the wirings a and b and the correction capacitance CB), the correction capacitance CA is shown in FIGS. 3 (c) and 3 (d).
3 (e) and 3 (f) show the change in the drain and source potentials of the transfer transistor TT when the gate transistor is not provided. The changes in the drain and source potentials of the transfer transistor TT in which CGD is increased (in FIG. 4, the transfer transistor TT on the right side of the drawing) are shown.
【0036】図3(c)に示されたドレイン電位と同図
(e)に示されたドレイン電位とを比較してみると、
(e)の全体の電圧レベルは、(c)の全体の電圧レベ
ルに比して負極側へシフトしていると共に、リセットパ
ルスΦGRの立ち上がり及び立ち下がりにおけるドレイ
ン電圧の変化量、すなわち、フィ−ドスル−電圧が
(c)に比して大きくなっている。これは、図4で言え
ば、配線部分イ,ロによるリセットトランジスタTRの
ゲ−ト・ドレイン間容量CGDが増加したことによってフ
ィ−ドスル−電圧が増加したことに起因するものであ
る。そして、本実施例においては、補正用容量CA を設
けることによって、この補正用容量CA が設けられた側
の転送用トランジスタTTのドレイン電位の変化は、図
3(e)に示された変化と同一となり、いわゆるオフセ
ット電圧VOF(図3(f)参照)が画素毎に異なること
なく、略等しいレベルとなる。尚、図3(d)は転送用
トラジスタTTのドレイン電位の変化が同図(c)に示
された変化である場合における、同トランジスタTTの
ソ−ス電位変化を示した波形図であり、図3(f)は転
送用トランジスタTTのドレイン電位変化が同図(e)
に示された変化である場合における、同トランジスタT
Tのソ−ス電位変化を示した波形図である。Comparing the drain potential shown in FIG. 3C with the drain potential shown in FIG.
The entire voltage level of (e) is shifted to the negative side as compared with the entire voltage level of (c), and the amount of change in drain voltage at the rise and fall of the reset pulse ΦGR, that is, the voltage The voltage is higher than that of (c). This is because the gate-drain capacitance CGD of the reset transistor TR is increased due to the wiring portions a and b in FIG. 4, and the feedthrough voltage is increased. Further, in this embodiment, by providing the correction capacitor CA, the change in the drain potential of the transfer transistor TT on the side where the correction capacitor CA is provided is the same as the change shown in FIG. The pixels are the same, and the so-called offset voltage VOF (see FIG. 3 (f)) does not differ for each pixel, but has substantially the same level. 3D is a waveform diagram showing a change in the source potential of the transistor TT when the change in the drain potential of the transfer transistor TT is the change shown in FIG. 3 (f) shows that the drain potential change of the transfer transistor TT is shown in FIG. 3 (e).
The same transistor T in the case of the change shown in FIG.
It is a wave form diagram which showed the source potential change of T.
【0037】本実施例において、補正用容量CA,CB
は、基板表裏方向で配線を対向させてなるいわゆる平行
平板型としたが、その構造はこれに限定されるものでは
なく、例えば、同一の平面上で2つの配線を平行させ、
この平行配線間で容量を形成するようにしても勿論よい
ものである。この場合、図7に示されたように、補正前
のドレイン電極イとゲ−ト電極ハとの間隔をSo 、ドレ
イン電極イとゲ−ト電極ハの平行部分の長さをLo とす
れば(図7(a)参照)、ドレイン電極イとゲ−ト電極
ハとの間隔をS1 へ変えたり(図7(b)参照)、ドレ
イン電極イとゲ−ト電極ハの平行部分の長さをL1へ変
える(図7(c)参照)ことにより容量値を調整するこ
とができる。尚、図7において符号ロはソ−ス電極であ
る。In this embodiment, the correction capacitors CA and CB
Is a so-called parallel plate type in which wirings are opposed to each other in the front-back direction of the substrate, but the structure is not limited to this, and for example, two wirings are paralleled on the same plane,
Of course, a capacitor may be formed between the parallel wirings. In this case, as shown in FIG. 7, if the distance between the drain electrode B and the gate electrode C before correction is So and the length of the parallel portion of the drain electrode B and the gate electrode C is Lo. (See FIG. 7 (a)), the distance between the drain electrode a and the gate electrode c is changed to S1 (see FIG. 7 (b)), and the length of the parallel portion between the drain electrode a and the gate electrode c is changed. Can be adjusted to L1 (see FIG. 7C) to adjust the capacitance value. Incidentally, in FIG. 7, the reference numeral "b" is a source electrode.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上、述べたように、請求項1記載の発
明によれば、第1のスイッチング素子から延びる信号用
配線と第2のスイッチング素子から延びる制御用配線と
の間で形成される静電容量の違いを、補正用容量によっ
て補償するような構成とすることにより、各画素におけ
る第1のスイッチング素子から延びる信号用配線と第2
のスイッチング素子から延びる制御用配線との間で形成
される静電容量が略等しくなるので、そのため、出力信
号のオフセット量が略均一となり、出力信号のばらつき
のない画像信号を得ることができるという効果を奏する
ものである。請求項3記載の発明によれば、第1のスイ
ッチング素子から延びる信号用配線及び制御用線との間
で形成される静電容量の違いを、補正用容量によって補
償するような構成とすることにより、各画素における第
1のスイッチング素子から延びる信号用配線及び制御用
線との間で形成される静電容量が略等しくなるので、そ
のため、出力信号のオフセット量が略均一となり、出力
信号のばらつきのない画像信号を得ることができるとい
う効果を奏するものである。請求項5記載の発明によれ
ば、受光素子の近傍に配置された第1のスイッチング素
子から延びる信号用配線と第2のスイッチング素子から
延びる制御用配線との間に形成される静電容量が、隣接
する第1及び第2のスイッチング素子における同様な静
電容量に比して不足する分を、補正用容量によって補う
ように構成することにより、各画素における第1のスイ
ッチング素子から延びる信号用配線と第2のスイッチン
グ素子から延びる制御用配線との間の静電容量が略等し
くなるので、そのため、出力信号のオフセット量が略均
一となり、出力信号のばらつきのない画像信号を得るこ
とができるという効果を奏するものである。請求項7記
載の発明によれば、受光素子から隔てて配置された第1
のスイッチング素子から延びる信号用配線と制御用配線
との間で形成される静電容量が、隣接する第1のスイッ
チング素子における同様な静電容量に比して不足する分
を、補正用容量により補うように構成することにより、
各画素における第1のスイッチグ素子から延びる信号用
配線と制御用配線との間で形成される静電容量が略等し
くなるので、そのため、出力信号のオフセット量が略均
一となり、出力信号のばらつきのない画像信号を得るこ
とができるという効果を奏するものである。As described above, according to the invention described in claim 1, it is formed between the signal wiring extending from the first switching element and the control wiring extending from the second switching element. With the configuration in which the difference in electrostatic capacitance is compensated by the correction capacitance, the signal wiring extending from the first switching element in each pixel and the second wiring
Since the capacitances formed between the control wiring extending from the switching element and the control wiring are substantially equal to each other, the offset amount of the output signal is substantially uniform, and an image signal without variation in the output signal can be obtained. It is effective. According to the third aspect of the invention, the difference between the electrostatic capacitances formed between the signal wiring and the control wiring extending from the first switching element is compensated by the correction capacitance. As a result, the capacitance formed between the signal wiring and the control line extending from the first switching element in each pixel becomes substantially equal, so that the offset amount of the output signal becomes substantially uniform, and the output signal The effect is that an image signal without variation can be obtained. According to the invention described in claim 5, the capacitance formed between the signal wiring extending from the first switching element and the control wiring extending from the second switching element, which is arranged in the vicinity of the light receiving element, is reduced. , A signal extending from the first switching element in each pixel is configured by compensating for the shortage of the similar electrostatic capacitance in the adjacent first and second switching elements with the correction capacitance. Since the capacitance between the wiring and the control wiring extending from the second switching element becomes substantially equal, the offset amount of the output signal becomes substantially uniform, and an image signal without variations in the output signal can be obtained. That is the effect. According to the invention described in claim 7, the first device is arranged apart from the light receiving element.
The capacitance formed between the signal wiring extending from the switching element and the control wiring is insufficient by comparison with the similar capacitance in the adjacent first switching element by the correction capacitance. By configuring to supplement,
Since the capacitance formed between the signal wiring extending from the first switching element and the control wiring in each pixel is substantially equal to each other, the offset amount of the output signal is substantially uniform and the variation in the output signal is small. The effect is that an image signal that does not exist can be obtained.
【図1】 本発明に係るイメ−ジセンサの等価回路図で
ある。である。FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of an image sensor according to the present invention. Is.
【図2】 本発明に係るイメ−ジセンサの一画素当りの
等価回路図である。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram for one pixel of the image sensor according to the present invention.
【図3】 本発明に係るイメ−ジセンサの動作を説明す
るためのタイミング図である。FIG. 3 is a timing diagram for explaining the operation of the image sensor according to the present invention.
【図4】 本発明に係るイメ−ジセンサの主要部の配置
構造の一実施例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an embodiment of the arrangement structure of the main part of the image sensor according to the present invention.
【図5】 従来のイメ−ジセンサの一例を示す等回路図
である。FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing an example of a conventional image sensor.
【図6】 図5に示されたイメ−ジセンサの動作を説明
するためのタイミング図である。FIG. 6 is a timing diagram for explaining the operation of the image sensor shown in FIG.
【図7】 容量形成の他の方法を説明するための概略説
明図である。FIG. 7 is a schematic explanatory diagram for explaining another method of forming a capacitance.
2…電荷転送部、 3…電荷リセット部、 4…マトリ
ックス配線部、 5…共通信号線、 13a,13b,
22a,22b…ドレイン電極、 15,20,23,
25…ソ−ス電極、 19,21…ゲ−ト電極接続線2 ... Charge transfer section, 3 ... Charge reset section, 4 ... Matrix wiring section, 5 ... Common signal line, 13a, 13b,
22a, 22b ... Drain electrodes, 15, 20, 23,
25 ... Source electrode, 19, 21 ... Gate electrode connecting wire
Claims (8)
光素子アレイと、前記受光素子から転送された電荷を蓄
積する第1の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設
けられ前記受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転
送する第1のスイッチング素子と、前記複数の受光素子
と同数設けられ前記受光素子の残留電荷を放電する第2
のスイッチング素子と、を具備するイメ−ジセンサにお
いて、前記第1のスイッチング素子から延び前記受光素
子の電荷が伝送される信号用配線と、前記第2のスイッ
チング素子から延びこの第2のスイッチング素子の動作
を制御する制御信号が伝送される制御用配線との間に補
正用容量を設けたことを特徴とするイメ−ジセンサ。1. A light receiving element array comprising at least a plurality of light receiving elements, a first storage capacitor for storing charges transferred from the light receiving elements, and the same number of light receiving elements as the plurality of light receiving elements. A first switching element for transferring the accumulated electric charge to the first storage capacitor, and a second switching element provided in the same number as the plurality of light receiving elements for discharging the residual electric charge of the light receiving elements.
In the image sensor including the switching element, the signal wiring extending from the first switching element and transmitting the electric charge of the light receiving element; and the signal wiring extending from the second switching element An image sensor characterized in that a correction capacitor is provided between the control wiring for transmitting a control signal for controlling the operation and the control wiring.
を平行に対向させて形成されてなることを特徴とする請
求項1記載のイメ−ジセンサ。2. The image sensor according to claim 1, wherein the correction capacitor is formed by parallelly opposing the signal wiring and the control wiring.
光素子アレイと、前記受光素子から転送された電荷を蓄
積する第1の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設
けられ前記受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転
送する第1のスイッチング素子と、前記複数の受光素子
と同数設けられ前記受光素子の残留電荷を放電する第2
のスイッチング素子と、を具備するイメ−ジセンサにお
いて、前記第1のスイッチング素子から延び前記受光素
子の電荷が伝送される信号用配線と、前記第1のスイッ
チング素子から延びこの第1のスイッチング素子の動作
を制御する制御信号が伝送される制御用配線との間に補
正用容量を設けたことを特徴とするイメ−ジセンサ。3. A light receiving element array comprising at least a plurality of light receiving elements, a first storage capacitor for storing charges transferred from the light receiving elements, and the same number of light receiving elements as the plurality of light receiving elements. A first switching element for transferring the accumulated electric charge to the first storage capacitor, and a second switching element provided in the same number as the plurality of light receiving elements for discharging the residual electric charge of the light receiving elements.
And an image sensor including the switching element of the first switching element, the signal wiring extending from the first switching element and transmitting the electric charge of the light receiving element, and the signal wiring extending from the first switching element. An image sensor characterized in that a correction capacitor is provided between the control wiring for transmitting a control signal for controlling the operation and the control wiring.
を平行に対向させて形成されてなることを特徴とする請
求項3記載のイメ−ジセンサ。4. The image sensor according to claim 3, wherein the correction capacitor is formed by parallelly opposing the signal wiring and the control wiring.
光素子アレイと、前記受光素子から転送された電荷を蓄
積する第1の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設
けられ前記受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転
送する第1のスイッチング素子と、前記複数の受光素子
と同数設けられ前記受光素子の残留電荷を放電する第2
のスイッチング素子と、を具備し、前記受光素子、第1
のスイッチング素子及び第2のスイッチング素子の配置
は、前記受光素子に接続された第1及び第2のスイッチ
ング素子が受光素子の近傍に配置されたものと、前記受
光素子に接続された第1及び第2のスイッチング素子が
受光素子との間に略一組の第1及び第2のスイッチング
素子を配設し得る程度の間隔を隔てて配置されたものと
が交互に隣接配置されてなるイメ−ジセンサにおいて、
受光素子の近傍に配置された第1のスイッチング素子か
ら延び前記受光素子の電荷が伝送される信号用配線と、
第2のスイッチング素子から延びこの第2のスイッチン
グ素子の動作を制御する制御信号が伝送される制御用配
線との間に補正用容量を設けたとを特徴とするイメ−ジ
センサ。5. A light receiving element array comprising at least a plurality of light receiving elements, a first storage capacitor for storing charges transferred from the light receiving elements, and the same number of light receiving elements as the plurality of light receiving elements. A first switching element for transferring the accumulated electric charge to the first storage capacitor, and a second switching element provided in the same number as the plurality of light receiving elements for discharging the residual electric charge of the light receiving elements.
A switching element, and the light receiving element,
The switching element and the second switching element are arranged such that the first and second switching elements connected to the light receiving element are arranged in the vicinity of the light receiving element, and the first and second switching elements connected to the light receiving element are An image in which the second switching element and the light receiving element are arranged alternately and adjacent to each other with a gap enough to arrange a pair of the first and second switching elements. In the ji sensor,
A signal wiring extending from the first switching element arranged in the vicinity of the light receiving element and transmitting the electric charge of the light receiving element;
An image sensor, characterized in that a correction capacitor is provided between the control wiring and a control wiring which extends from the second switching element and transmits a control signal for controlling the operation of the second switching element.
を平行に対向させて形成されてなることを特徴とする請
求項5記載のイメ−ジセンサ。6. The image sensor according to claim 5, wherein the correction capacitor is formed by parallelly opposing the signal wiring and the control wiring.
光素子アレイと、前記受光素子から転送された電荷を蓄
積する第1の蓄積容量と、前記複数の受光素子と同数設
けられ前記受光素子で生じた電荷を第1の蓄積容量に転
送する第1のスイッチング素子と、前記複数の受光素子
と同数設けられ前記受光素子の残留電荷を放電する第2
のスイッチング素子と、を具備し、前記受光素子、第1
のスイッチング素子及び第2のスイッチング素子の配置
は、前記受光素子に接続された第1及び第2のスイッチ
ング素子が受光素子の近傍に配置されたものと、前記受
光素子に接続された第1及び第2のスイッチング素子が
受光素子との間に略一組の第1及び第2のスイッチング
素子を配設し得る程度の間隔を隔てて配置されたものと
が交互に隣接配置されてなるイメ−ジセンサにおいて、
前記受光素子から略一組の第1及び第2のスイッチング
素子が配置され得る間隔を隔てて配置された前記第1の
スイッチング素子から延び前記受光素子の電荷が伝送さ
れる信号用配線と、前記第1のスイッチング素子から延
びこの第1のスイッチング素子の動作を制御する制御信
号が伝送される制御用配線との間に補正用容量を設けた
ことを特徴とするイメ−ジセンサ。7. A light-receiving element array including at least a plurality of light-receiving elements, a first storage capacitor for storing electric charges transferred from the light-receiving elements, and the same number of light-receiving elements as the plurality of light-receiving elements. A first switching element for transferring the accumulated electric charge to the first storage capacitor, and a second switching element provided in the same number as the plurality of light receiving elements for discharging the residual electric charge of the light receiving elements.
A switching element, and the light receiving element,
The switching element and the second switching element are arranged such that the first and second switching elements connected to the light receiving element are arranged in the vicinity of the light receiving element, and the first and second switching elements connected to the light receiving element are An image in which the second switching element and the light receiving element are arranged alternately and adjacent to each other with a gap enough to arrange a pair of the first and second switching elements. In the ji sensor,
A signal wiring extending from the first switching element and spaced apart from the light receiving element such that a pair of first and second switching elements can be disposed, and a signal wire for transmitting the charge of the light receiving element; An image sensor characterized in that a correction capacitor is provided between the first switching element and a control wiring for transmitting a control signal for controlling the operation of the first switching element.
を平行に対向させて形成されてなることを特徴とする請
求項7記載のイメ−ジセンサ。8. The image sensor according to claim 7, wherein the correction capacitor is formed by parallelly opposing the signal wiring and the control wiring.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5177501A JPH0786548A (en) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | Image sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5177501A JPH0786548A (en) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | Image sensor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0786548A true JPH0786548A (en) | 1995-03-31 |
Family
ID=16032014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5177501A Pending JPH0786548A (en) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | Image sensor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786548A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2026075084A1 (en) * | 2024-10-02 | 2026-04-09 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Solid-state imaging device |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP5177501A patent/JPH0786548A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2026075084A1 (en) * | 2024-10-02 | 2026-04-09 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Solid-state imaging device |
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