JPH0786672B2 - 画像形成方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は写真特性を損うことなく帯電防止性とフイルム
の搬送性が良く、赤外域に分光増感されたレーザースキ
ヤナー用ハロゲン化銀写真感光材料(以下写真感光材料
と称す)を現像・定着して画像を形成する方法に関する
ものであり、特に短時間(15秒以内)に現像処理されて
も現像ムラを発生することがない画像形成方法に関する
ものである。
の搬送性が良く、赤外域に分光増感されたレーザースキ
ヤナー用ハロゲン化銀写真感光材料(以下写真感光材料
と称す)を現像・定着して画像を形成する方法に関する
ものであり、特に短時間(15秒以内)に現像処理されて
も現像ムラを発生することがない画像形成方法に関する
ものである。
(従来の技術) 写真感光材料の露光方法の一つに原図を走査し、その画
像信号に基づいてハロゲン化銀写真感光材料上に露光を
行い、原図の画像に対応するネガ画像もしくはポジ画像
を形成する所謂スキヤナー方式による画像形成方法が知
られている。スキヤナー方式による画像形成方法を実用
した記録装置は種々あり、これらのスキヤナー方式記録
装置の記録用光源の1つとして半導体レーザーが使用さ
れる。
像信号に基づいてハロゲン化銀写真感光材料上に露光を
行い、原図の画像に対応するネガ画像もしくはポジ画像
を形成する所謂スキヤナー方式による画像形成方法が知
られている。スキヤナー方式による画像形成方法を実用
した記録装置は種々あり、これらのスキヤナー方式記録
装置の記録用光源の1つとして半導体レーザーが使用さ
れる。
半導体レーザーは小型で安価、しかも変調が容易であ
り、長寿命である。また赤外域に発光するため、明るい
セーフライトが使用できるので、取扱い作業性が良くな
るという利点を有している。
り、長寿命である。また赤外域に発光するため、明るい
セーフライトが使用できるので、取扱い作業性が良くな
るという利点を有している。
この半導体レーザーに用いられる感材は赤外域に分光増
感された写真感光材料であり、それはある種のシアニン
色素をハロゲン化銀写真乳剤に添加することによつて、
その感光波長域を長波長側に拡張させる分光増感技術に
よつて得られる。赤外域の分光増感には、赤外光に対し
て吸収を有する増感色素が用いられる。
感された写真感光材料であり、それはある種のシアニン
色素をハロゲン化銀写真乳剤に添加することによつて、
その感光波長域を長波長側に拡張させる分光増感技術に
よつて得られる。赤外域の分光増感には、赤外光に対し
て吸収を有する増感色素が用いられる。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、この半導体レーザーを用いて画像形成に使用さ
れる赤外増感されたハロゲン化銀写真感光材料の帯電防
止性と搬送性は従来不十分であり問題であつた。
れる赤外増感されたハロゲン化銀写真感光材料の帯電防
止性と搬送性は従来不十分であり問題であつた。
写真感光材料は一般に電気絶縁性を有する支持体および
写真層から成つているので写真感光材料の製造工程中な
らびに使用時に同種または異種物質の表面との間の接触
摩擦または剥離をうけることによつて静電電荷が蓄積さ
れることが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害
を引起すが、重大な障害は現像処理前に蓄積された静電
電荷が放電することによつて感光性乳剤層が感光し写真
フイルムを現像処理した際に点状スポツト又は樹枝状や
羽毛状の線班を生ずることである。またこれらの蓄積さ
れた静電電荷はフイルム表面へ塵埃を付着させたり、撮
影やフイルム搬送機で搬送不良を生じたり、塗布が均一
に行なえないなどの第2次的な故障を誘起せしめる原因
にもなる。
写真層から成つているので写真感光材料の製造工程中な
らびに使用時に同種または異種物質の表面との間の接触
摩擦または剥離をうけることによつて静電電荷が蓄積さ
れることが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害
を引起すが、重大な障害は現像処理前に蓄積された静電
電荷が放電することによつて感光性乳剤層が感光し写真
フイルムを現像処理した際に点状スポツト又は樹枝状や
羽毛状の線班を生ずることである。またこれらの蓄積さ
れた静電電荷はフイルム表面へ塵埃を付着させたり、撮
影やフイルム搬送機で搬送不良を生じたり、塗布が均一
に行なえないなどの第2次的な故障を誘起せしめる原因
にもなる。
半導体レーザーを用いるスキヤナー方式においては、高
速且つ正確なフイルム搬送が必須であり、静電気による
搬送不良を生じると正しい画像を得ることができなくな
る。
速且つ正確なフイルム搬送が必須であり、静電気による
搬送不良を生じると正しい画像を得ることができなくな
る。
同様の問題は迅速処理が行なわれる自動現像機のフイル
ム搬送時(特に、現像浴前)において生じる。
ム搬送時(特に、現像浴前)において生じる。
静電気による障害をなくすための一つの方法は感光材料
表面の電気伝導性を上げて蓄積電荷が放電する前に短時
間に逸散せしめるようにすることである。
表面の電気伝導性を上げて蓄積電荷が放電する前に短時
間に逸散せしめるようにすることである。
したがつて、従来から写真感光材料の支持体や各種塗布
表面層の導電性を向上させる方法が考えられ種々の吸湿
性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、ポリマー
等の利用が試みられてきた。
表面層の導電性を向上させる方法が考えられ種々の吸湿
性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、ポリマー
等の利用が試みられてきた。
例えば、ノニオン界面活性剤を表面保護層に含有させる
ことで良好な帯電防止性と搬送性を有した写真感光材料
を得ることができる。
ことで良好な帯電防止性と搬送性を有した写真感光材料
を得ることができる。
一方最近になり半導体レーザーを用いたスキヤナー方式
においても画像を早く見たいということが望まれ、その
ため従来よりも現像時間を短かくすること(従来は20秒
以上)が必要となつて来た。
においても画像を早く見たいということが望まれ、その
ため従来よりも現像時間を短かくすること(従来は20秒
以上)が必要となつて来た。
例えば、レーザースキヤナー工程と現像処理工程が連続
的に行なわれるシステムにおいては、この点が特に必要
となつた。
的に行なわれるシステムにおいては、この点が特に必要
となつた。
しかし、前述のノニオン界面活性剤を用いた写真感光材
料は現像時間15秒以内で処理された場合に“現像ムラ”
と称する画像ムラを発生することが判明し重大な問題と
なつている。この現像ムラは、前述のノニオン界面活性
剤は現像液中で非常に小さい溶解性を有し、感材表面で
析出するために、感材が現像浴からスクイズされて定着
浴に移る際に現像液が感材の表面で不均一に残り、それ
に対応し現像が不均一に生じるためであると考えられ
た。
料は現像時間15秒以内で処理された場合に“現像ムラ”
と称する画像ムラを発生することが判明し重大な問題と
なつている。この現像ムラは、前述のノニオン界面活性
剤は現像液中で非常に小さい溶解性を有し、感材表面で
析出するために、感材が現像浴からスクイズされて定着
浴に移る際に現像液が感材の表面で不均一に残り、それ
に対応し現像が不均一に生じるためであると考えられ
た。
これは現像スクイズ後感材表面にムラ状に残つている現
像液による現像が、現像時間の短縮化のために写真感光
材料の現像速度を大きくしたため、無視できないものと
なり、それが現像ムラとして残るためである。
像液による現像が、現像時間の短縮化のために写真感光
材料の現像速度を大きくしたため、無視できないものと
なり、それが現像ムラとして残るためである。
またある種のノニオン界面活性剤は感光材料を重ねて保
存したときの保存安定性を劣化させるという問題があつ
た(コンタクト写真性の劣化)。
存したときの保存安定性を劣化させるという問題があつ
た(コンタクト写真性の劣化)。
従つて、本発明の第1の目的は、種々の素材に対して発
電性が小さくなるように帯電防止された赤外域に分光増
感されたレーザースキヤナー用写真感光材料を現象・定
着して画像形成する方法を提供することにある。
電性が小さくなるように帯電防止された赤外域に分光増
感されたレーザースキヤナー用写真感光材料を現象・定
着して画像形成する方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、現像時間が15秒以内でも現像ム
ラを生じない赤外域に分光増感されたレーザースキヤナ
ー用写真感光材料を現象・定着して画像形成する方法を
提供することにある。
ラを生じない赤外域に分光増感されたレーザースキヤナ
ー用写真感光材料を現象・定着して画像形成する方法を
提供することにある。
本発明の第3の目的は、感材を長期保存しても感材同志
が接着したり、コンタクト写真性を劣化させることのな
いような帯電防止されたレーザースキヤナー用感光材料
を現像・定着して画像形成する方法を提供することにあ
る。
が接着したり、コンタクト写真性を劣化させることのな
いような帯電防止されたレーザースキヤナー用感光材料
を現像・定着して画像形成する方法を提供することにあ
る。
(問題点を解決するための手段) 本発明のこれらの目的は支持体の一方の側に赤外分光増
感されたハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層有するレ
ーザースキヤナー用ハロゲン化銀感光材料を現像・定着
して画像形成する方法において、該ハロゲン化銀感光材
料の乳剤層のある側に(1)少なくとも1種のノニオン
界面活性剤、(2)現像液に対する溶解度が0.005重量
%以上(30℃)でかつ1重量%水溶液の表面張力が45ダ
イン/cm以下(30℃)であるイオン性界面活性剤の少な
くとも1種、及び(3)下記一般式〔l〕で表わされる
重合体、デキストランあるいはセルロース誘導体から選
ばれる少なくとも1種のポリマーを有し、かつ現像時間
が15秒以内で処理されることを特徴とする画像形成方法
によつて達成された。
感されたハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層有するレ
ーザースキヤナー用ハロゲン化銀感光材料を現像・定着
して画像形成する方法において、該ハロゲン化銀感光材
料の乳剤層のある側に(1)少なくとも1種のノニオン
界面活性剤、(2)現像液に対する溶解度が0.005重量
%以上(30℃)でかつ1重量%水溶液の表面張力が45ダ
イン/cm以下(30℃)であるイオン性界面活性剤の少な
くとも1種、及び(3)下記一般式〔l〕で表わされる
重合体、デキストランあるいはセルロース誘導体から選
ばれる少なくとも1種のポリマーを有し、かつ現像時間
が15秒以内で処理されることを特徴とする画像形成方法
によつて達成された。
本発明はノニオン界面活性剤の現像液中での溶解性不良
が原因で生じる写真感光材料の不均一な現像を、現像液
中でも溶解して界面張力が小さくなるような界面活性を
有する特定のイオン性界面活性剤とかつ特定のポリマー
を用いて均一に現象させるようにしたことによつて解決
したのものであり、これによつて帯電防止性と機械搬送
性を損うことなくかつ現像時間15秒以内で処理されても
良好な画像を得ることができたものである。
が原因で生じる写真感光材料の不均一な現像を、現像液
中でも溶解して界面張力が小さくなるような界面活性を
有する特定のイオン性界面活性剤とかつ特定のポリマー
を用いて均一に現象させるようにしたことによつて解決
したのものであり、これによつて帯電防止性と機械搬送
性を損うことなくかつ現像時間15秒以内で処理されても
良好な画像を得ることができたものである。
本発明に用いられる赤外域に分光増感されたハロゲン化
銀写真乳剤は、赤外域に吸収を有する増感色素をハロゲ
ン化銀粒子に添加して得ることができる。
銀写真乳剤は、赤外域に吸収を有する増感色素をハロゲ
ン化銀粒子に添加して得ることができる。
まず、赤外光に対して吸収を有する増感色素について述
べる。
べる。
こちらは例えばMees著“The Theory of the Photograph
ic Process,第3版”(MacMillan社1966年発行)のp.19
8〜p.201に記載されている。この場合分光感度即ち、赤
外域の光に対する感度は高感度であることが望ましく、
かつ乳剤の保存中にも感度の変化の小さいことが望まれ
る。このために従来数多くの増感色素が開発されてき
た。これらは例えば米国特許第2,095,854号、同第2,09
5,856号、同第2,955,939号、同第3,482,978号、同第3,5
52,974号、同第3,573,921号、同第3,582,344号、例えば
米国特許第2,875,058号及び同第3,695,888号に記載され
ているトリアジン誘導体、米国特許第3,457,078号に記
載されているメルカプト化合物、米国特許第3,458,318
号に記載されているチオウレア化合物、米国特許第3,61
5,632号に記載されているピリミジン誘導体などがあ
り、また米国特許第4,011,083号にはアザインデン化合
物を用いることにより、減感量の赤外増感色素を使用し
て赤外増感を行うことが記載されている。
ic Process,第3版”(MacMillan社1966年発行)のp.19
8〜p.201に記載されている。この場合分光感度即ち、赤
外域の光に対する感度は高感度であることが望ましく、
かつ乳剤の保存中にも感度の変化の小さいことが望まれ
る。このために従来数多くの増感色素が開発されてき
た。これらは例えば米国特許第2,095,854号、同第2,09
5,856号、同第2,955,939号、同第3,482,978号、同第3,5
52,974号、同第3,573,921号、同第3,582,344号、例えば
米国特許第2,875,058号及び同第3,695,888号に記載され
ているトリアジン誘導体、米国特許第3,457,078号に記
載されているメルカプト化合物、米国特許第3,458,318
号に記載されているチオウレア化合物、米国特許第3,61
5,632号に記載されているピリミジン誘導体などがあ
り、また米国特許第4,011,083号にはアザインデン化合
物を用いることにより、減感量の赤外増感色素を使用し
て赤外増感を行うことが記載されている。
あるいは又、特開昭60-80841号記載のトリカルボシアニ
ン色素及び/又は4−キノリン核含有ジカルボシアニン
色素が好ましく用いられる。以下に代表的な赤外増感色
素を示すが勿論、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
ン色素及び/又は4−キノリン核含有ジカルボシアニン
色素が好ましく用いられる。以下に代表的な赤外増感色
素を示すが勿論、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
これらの増感色素の添加量は、ハロゲン化銀1モル当り
5×10-7モル〜5×10-3モル、好ましくは1×10-6モル
〜1×10-3モル、特に好ましくは2×10-6モル〜5×10
-4モルである。
5×10-7モル〜5×10-3モル、好ましくは1×10-6モル
〜1×10-3モル、特に好ましくは2×10-6モル〜5×10
-4モルである。
次に本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、塩化銀、
臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃臭化銀な
ど、塩素、臭素、沃素化物から成るハロゲン化銀であれ
ばいずれでもよいが、特に臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化
銀が好ましい。ハロゲン化銀中の沃化銀は0〜20モル%
が好ましく、0〜10%がとくに好ましい。ハロゲン化銀
中の塩化銀は多くとも20モル%以下であることが好まし
く少なくとも10モル%以下であることが更に好ましく5
モル%以下であることがとくに好ましい。
臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃臭化銀な
ど、塩素、臭素、沃素化物から成るハロゲン化銀であれ
ばいずれでもよいが、特に臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化
銀が好ましい。ハロゲン化銀中の沃化銀は0〜20モル%
が好ましく、0〜10%がとくに好ましい。ハロゲン化銀
中の塩化銀は多くとも20モル%以下であることが好まし
く少なくとも10モル%以下であることが更に好ましく5
モル%以下であることがとくに好ましい。
又特に好ましく用いられるハロゲン化銀粒子は(100)
面/(111)面比が1以上のハロゲン化銀粒子であり種
々の方法で調製することができる。最も一般的な方法は
粒子形成中のpAg値を8.10以下の一定値に保ち硝酸銀水
溶液とアルカリハライド水溶液とを同時添加する方法で
ある(いわゆるコントロールダブルジエツト法)、より
好ましくはpAg値を7.80以下更に好ましくはpAg値を7.60
以下とするのがよい。ハロゲン化銀粒子形成を核形成と
その成長という2つのタイプに分けた時、核形成時のpA
g値の制限はなく、そのpAgは前述と同様である。
面/(111)面比が1以上のハロゲン化銀粒子であり種
々の方法で調製することができる。最も一般的な方法は
粒子形成中のpAg値を8.10以下の一定値に保ち硝酸銀水
溶液とアルカリハライド水溶液とを同時添加する方法で
ある(いわゆるコントロールダブルジエツト法)、より
好ましくはpAg値を7.80以下更に好ましくはpAg値を7.60
以下とするのがよい。ハロゲン化銀粒子形成を核形成と
その成長という2つのタイプに分けた時、核形成時のpA
g値の制限はなく、そのpAgは前述と同様である。
これらの乳剤は粗粒子でも微粒子でも、またはそれらの
混合粒子でもよいが、好ましくは平均粒径が(例えばプ
ロジエクテツドエリア法)数平均法による測定で約0.04
μから1.0μの粒子のものが好ましい。また、サイズ分
布としては変動係数20%以内好ましくは15%以内の単分
散乳剤を用いることが好ましい。
混合粒子でもよいが、好ましくは平均粒径が(例えばプ
ロジエクテツドエリア法)数平均法による測定で約0.04
μから1.0μの粒子のものが好ましい。また、サイズ分
布としては変動係数20%以内好ましくは15%以内の単分
散乳剤を用いることが好ましい。
粒子形状は好ましくは立方体でよいが前記好ましい面指
数条件を満たすものであれば、じやがいも状、球状、板
状、粒子径が粒子厚みの5倍以上の平板状など変則的な
結晶形を有するものでもよい。
数条件を満たすものであれば、じやがいも状、球状、板
状、粒子径が粒子厚みの5倍以上の平板状など変則的な
結晶形を有するものでもよい。
本発明に用いられる感光材料にはハロゲン化銀乳剤層は
一層にかぎらず二層以上としてもよく、また粒子サイ
ズ、感度等の異なる2種以上の乳剤を混合もしくは別層
に用いてもよい。また乳剤層は支持体の片側に限らず両
面に設けてもよい。
一層にかぎらず二層以上としてもよく、また粒子サイ
ズ、感度等の異なる2種以上の乳剤を混合もしくは別層
に用いてもよい。また乳剤層は支持体の片側に限らず両
面に設けてもよい。
これら感光性乳剤に実質的に非感光性乳剤(例えば内部
のかぶつた微粒子乳剤)を混合して用いてもよい。勿
論、別々の層に塗り分けて用いてもよい。
のかぶつた微粒子乳剤)を混合して用いてもよい。勿
論、別々の層に塗り分けて用いてもよい。
更にハロゲン化銀粒子の結晶構造は内部迄一様なもので
あつても、また内部と外部が異質の層状構造をしたもの
や、英国特許第635,841号、米国特許第3,622,318号に記
されているようないわゆるコンバージヨン型のものであ
つてもよい。また潜像を主として表面に形成する型のも
の、粒子内部に形成する内部潜像型のもの何れでもよ
い。
あつても、また内部と外部が異質の層状構造をしたもの
や、英国特許第635,841号、米国特許第3,622,318号に記
されているようないわゆるコンバージヨン型のものであ
つてもよい。また潜像を主として表面に形成する型のも
の、粒子内部に形成する内部潜像型のもの何れでもよ
い。
本発明の乳剤にはイリジウムイオンが好ましく用いら
れ、イリジウムイオンの含有は、乳剤調製時に水溶性イ
リジウム化合物(たとえばヘキサクロロイリジウム(II
I)酸塩、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸塩)を水溶
液の形で添加することによつて達成される。粒子形成の
ためのハロゲン化銀と同じ水溶液の形で添加してもよい
し、粒子形成前添加、粒子形成途中添加、粒子形成後か
ら化学増感までの添加のいづれかでもよいが、特に好ま
しいのは粒子形成時の添加である。
れ、イリジウムイオンの含有は、乳剤調製時に水溶性イ
リジウム化合物(たとえばヘキサクロロイリジウム(II
I)酸塩、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸塩)を水溶
液の形で添加することによつて達成される。粒子形成の
ためのハロゲン化銀と同じ水溶液の形で添加してもよい
し、粒子形成前添加、粒子形成途中添加、粒子形成後か
ら化学増感までの添加のいづれかでもよいが、特に好ま
しいのは粒子形成時の添加である。
このハロゲン化銀粒子の形成時には粒子の成長をコント
ロールするためにハロゲン化銀溶剤として例えば、アン
モニア、ロダンカリ、ロダンアンモン、チオエーテル化
合物、チオン化合物、アミン化合物などを用いることが
できる。
ロールするためにハロゲン化銀溶剤として例えば、アン
モニア、ロダンカリ、ロダンアンモン、チオエーテル化
合物、チオン化合物、アミン化合物などを用いることが
できる。
ハロゲン化銀溶剤以外にも粒子表面に吸着して晶避を制
御する化合物例えば、シアニン系の増感色素やテトラザ
インデン系化合物、メルカプト化合物などを粒子形成時
に用いることが出来る。
御する化合物例えば、シアニン系の増感色素やテトラザ
インデン系化合物、メルカプト化合物などを粒子形成時
に用いることが出来る。
ハロゲン化銀写真乳剤は、通常用いられている化学増感
法、例えば金増感、硫黄増感、還元増感、チオエーテル
化合物による増感などの各種化学増感法が適用される。
法、例えば金増感、硫黄増感、還元増感、チオエーテル
化合物による増感などの各種化学増感法が適用される。
本発明に用いられるノニオン界面活性剤としては親油基
として炭素数4〜30のアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アラルキル基を有し親水基として炭素数2〜6
の置換、無置換のポリオキシアルキレン基を有する化合
物であり、好ましくは下記一般式〔l−1〕、〔l−
2〕又は〔l−3〕で表わされる化合物を挙げることが
できる。
として炭素数4〜30のアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アラルキル基を有し親水基として炭素数2〜6
の置換、無置換のポリオキシアルキレン基を有する化合
物であり、好ましくは下記一般式〔l−1〕、〔l−
2〕又は〔l−3〕で表わされる化合物を挙げることが
できる。
一般式〔l−1〕 R1−ABn1R 一般式〔l−2〕 一般式〔l−3〕 式中、Rは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル、エチル、ヒドロキシエチルなど)、又は炭素
数1〜5のアルキルカルボニル(例えばアセチル、クロ
ルアセチル、カルボキシメチルカルボニルなど)を表わ
す。
ばメチル、エチル、ヒドロキシエチルなど)、又は炭素
数1〜5のアルキルカルボニル(例えばアセチル、クロ
ルアセチル、カルボキシメチルカルボニルなど)を表わ
す。
又、R1は炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキル基、
アルケニル基又はアリール基を表わす。
アルケニル基又はアリール基を表わす。
Aは−O−基、−S−基、−COO−基、−N−R10基、 又は (ここでR10は、水素原子、置換又は無置換のアルキル
基を示す。)を表わす。Bは、オキシアルキレン基を表
わす。
基を示す。)を表わす。Bは、オキシアルキレン基を表
わす。
R2、R3、R7、R9は水素原子、置換もしくは無置換のアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミ
ド基、カルバモイル基或いはスルフアモイル基を表わ
す。
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミ
ド基、カルバモイル基或いはスルフアモイル基を表わ
す。
又式中R6及びR8は、置換もしくは無置換のアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
ン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、カル
バモイル基或いはスルフアモイル基を表わす。一般式
(II-3)でフエニル環の置換基は左右非対称でもよい。
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
ン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、カル
バモイル基或いはスルフアモイル基を表わす。一般式
(II-3)でフエニル環の置換基は左右非対称でもよい。
R4及びR5は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル
基、又はアリール基を表わす。R4とR5、R6とR7及びR8と
R9は互いに連結して置換もしくは無置換の環を形成して
もよい。n1、n2、n3及びn4はオキシアルキレン基の平均
重合度であつて2〜50の数である。
基、又はアリール基を表わす。R4とR5、R6とR7及びR8と
R9は互いに連結して置換もしくは無置換の環を形成して
もよい。n1、n2、n3及びn4はオキシアルキレン基の平均
重合度であつて2〜50の数である。
又mは平均重合度であり、2〜50の数である。
本発明の好ましい例を以下に記す。
Bは好ましくは2〜6の炭素を有するオキシアルキレン
基であり、特に好ましくは、オキシエチレン基、オキシ
プロピレン基、オキシ(ヒドロキシ)プロピレン基、オ
キシブチレン基、オキシスチレン基が挙げられる。特に
好ましくはオキシエチレン基、オキシ(ヒドロキシ)プ
ロピレン基である。
基であり、特に好ましくは、オキシエチレン基、オキシ
プロピレン基、オキシ(ヒドロキシ)プロピレン基、オ
キシブチレン基、オキシスチレン基が挙げられる。特に
好ましくはオキシエチレン基、オキシ(ヒドロキシ)プ
ロピレン基である。
R1は好ましくは炭素数4〜24のアルキル基、アルケニル
基、アルキルアリール基であり、特に好ましくはヘキシ
ル基、ドデシル基、インステアリル基、オレイル基、t
−ブチルフエニル基、2,4−ジ−t−ブチルフエニル
基、2,4−ジ−t−ペンチルフエニル基、p−ドデシル
フエニル基、m−ペンタデカフエニル基、t−オクチル
フエニル基、2,4−ジノニルフエニル基、オクチルナフ
チル基等である。
基、アルキルアリール基であり、特に好ましくはヘキシ
ル基、ドデシル基、インステアリル基、オレイル基、t
−ブチルフエニル基、2,4−ジ−t−ブチルフエニル
基、2,4−ジ−t−ペンチルフエニル基、p−ドデシル
フエニル基、m−ペンタデカフエニル基、t−オクチル
フエニル基、2,4−ジノニルフエニル基、オクチルナフ
チル基等である。
R2、R3、R6、R7、R8及びR9は好ましくはメチル、エチ
ル、i−プロピル、t−ブチル、t−アミル、t−ヘキ
シル、t−オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、トリ
クロロメチル、トリブロモメチル、1−フエニルエチ
ル、2−フエニル−2−プロピル等の炭素数1〜20の置
換又は無置換のアルキル基、フエニル基、p−クロロフ
エニル基等の置換又は無置換のアリール基、−OR11(こ
こでR11は炭素数1〜20の置換又は無置換のアルキル基
又はアリール基を表わす。以下同じである)で表わされ
る置換又は無置換のアルコキシ基又はアリールオキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、−COR11で
表わされるアシル基、−NR12COR11(ここにR12は水素原
子又は炭素数1〜20のアルキル基を表わす。以下同じ)
で表わされるアミド基、−NR12SO2R11で表わされるスル
ホンアミド基、 で表わされるカルバモイル基、或いは で表わされるスルフアモイル基であり、又R2、R3、R7、
R9は水素原子であつてもよい。これらのうちR6、R8は好
ましくはアルキル基又はハロゲン原子であり、特に好ま
しくはかさ高いt−ブチル基、t−アミル基、t−オク
チル基等の3級アルキル基である。R7、R9は特に好まし
くは水素原子である。すなわち、2,4−ジ置換フエノー
ルから合成される一般式〔II-3〕の化合物が特に好まし
い。
ル、i−プロピル、t−ブチル、t−アミル、t−ヘキ
シル、t−オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、トリ
クロロメチル、トリブロモメチル、1−フエニルエチ
ル、2−フエニル−2−プロピル等の炭素数1〜20の置
換又は無置換のアルキル基、フエニル基、p−クロロフ
エニル基等の置換又は無置換のアリール基、−OR11(こ
こでR11は炭素数1〜20の置換又は無置換のアルキル基
又はアリール基を表わす。以下同じである)で表わされ
る置換又は無置換のアルコキシ基又はアリールオキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、−COR11で
表わされるアシル基、−NR12COR11(ここにR12は水素原
子又は炭素数1〜20のアルキル基を表わす。以下同じ)
で表わされるアミド基、−NR12SO2R11で表わされるスル
ホンアミド基、 で表わされるカルバモイル基、或いは で表わされるスルフアモイル基であり、又R2、R3、R7、
R9は水素原子であつてもよい。これらのうちR6、R8は好
ましくはアルキル基又はハロゲン原子であり、特に好ま
しくはかさ高いt−ブチル基、t−アミル基、t−オク
チル基等の3級アルキル基である。R7、R9は特に好まし
くは水素原子である。すなわち、2,4−ジ置換フエノー
ルから合成される一般式〔II-3〕の化合物が特に好まし
い。
R4、R5は、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ヘプチル基、1
−エチルアミル基、n−ウンデシル基、トリクロロメチ
ル基、トリプロモメチル基等の置換もしくは無置換のア
ルキル基、α−フリル基、フエニル基、ナフチル基、p
−クロロフエニル基、p−メトキシフエニル基、m−ニ
トロフエニル基等の置換もしくは無置換のアリール基で
ある。又はR4とR5、R6とR7及びR8とR9は互いに連結して
置換もしくは無置換の環を形成しても良く、例えばシク
ロヘキシル環である。これらのうちR4とR5は特に好まし
くは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、フエニル
基、フリル基である。n1、n2、n3及びn4は特に好ましく
は5〜30の数である。n3とn4は同じでも異なつても良
い。
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ヘプチル基、1
−エチルアミル基、n−ウンデシル基、トリクロロメチ
ル基、トリプロモメチル基等の置換もしくは無置換のア
ルキル基、α−フリル基、フエニル基、ナフチル基、p
−クロロフエニル基、p−メトキシフエニル基、m−ニ
トロフエニル基等の置換もしくは無置換のアリール基で
ある。又はR4とR5、R6とR7及びR8とR9は互いに連結して
置換もしくは無置換の環を形成しても良く、例えばシク
ロヘキシル環である。これらのうちR4とR5は特に好まし
くは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、フエニル
基、フリル基である。n1、n2、n3及びn4は特に好ましく
は5〜30の数である。n3とn4は同じでも異なつても良
い。
これらの化合物は例えば米国特許第2,982,651号、同3,4
28,456号、同3,457,076号、同3,454,625号、同3,552,97
2号、同3,655,337号、特公昭51-9610号、特開昭53-2971
5号、特開昭54-89626号、特開昭58-203435号、特開昭58
-208743号、堀口博著「新界面活性剤」(三共出版1975
年)等に記載されている。
28,456号、同3,457,076号、同3,454,625号、同3,552,97
2号、同3,655,337号、特公昭51-9610号、特開昭53-2971
5号、特開昭54-89626号、特開昭58-203435号、特開昭58
-208743号、堀口博著「新界面活性剤」(三共出版1975
年)等に記載されている。
次に本発明に好ましく用いられるノニオン界面活性剤の
具体例を示す。
具体例を示す。
化合物例 l−1 C11H23COOCH2CH2O8H l−2 C15H31COOCH2CH2O15H l−4 C8H17OCH2CH2O7H l−5 C12H25O(CH2CH2O10H l−6 C16H33OCH2CH2O12H l−8 C22H45OCH2CH2O25H 1−19 C12H25SCH2CH2O16H 次に本発明に用いられる現像液に対する溶解度が0.005
重量%以上でかつその表面張力が45dyn/cm以下(1重量
%、現像液中、30℃)を有するイオン性界面活性剤につ
いて述べる。
重量%以上でかつその表面張力が45dyn/cm以下(1重量
%、現像液中、30℃)を有するイオン性界面活性剤につ
いて述べる。
本発明のイオン性界面活性剤は、疎水基として炭素数4
以上の置換、無置換のアルキル、アルケニル、アラルキ
ル、アリール基であり、親水基としては、アニオン、カ
チオン、ベタイン、基である。
以上の置換、無置換のアルキル、アルケニル、アラルキ
ル、アリール基であり、親水基としては、アニオン、カ
チオン、ベタイン、基である。
好ましい疎水基としては、炭素数6〜40の置換、無置換
のアルキル、アルケニル、アラルキル、アリール基であ
り、例えば、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ド
デシル、セチル、ステアリル、オレイル、ノニルフエニ
ル、オクチルフエニル、ジt−アミルフエニル、ジノニ
ルフエニル、ドデシルフエニル、ドデシルビフエニル、
ビス(ジ−tブチルフエニル)メチレン、ビス(ジt−
ブチルフエニル)−フエニルメチレン、パーフルオロオ
クチル、パーフルオロデシル、パーフルオロヘキシル、
パーフルオロノニレイル、パーフルオロドデシルなどが
挙げられる。
のアルキル、アルケニル、アラルキル、アリール基であ
り、例えば、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ド
デシル、セチル、ステアリル、オレイル、ノニルフエニ
ル、オクチルフエニル、ジt−アミルフエニル、ジノニ
ルフエニル、ドデシルフエニル、ドデシルビフエニル、
ビス(ジ−tブチルフエニル)メチレン、ビス(ジt−
ブチルフエニル)−フエニルメチレン、パーフルオロオ
クチル、パーフルオロデシル、パーフルオロヘキシル、
パーフルオロノニレイル、パーフルオロドデシルなどが
挙げられる。
又、親水基(イオン性)として好ましいのは、アニオン
基としてはカルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、硫
酸エステル塩、ホウ酸塩が、カチオン基としては、3級
アミン、4級アミン、ホスホニウム、スルホニウムであ
り、ベタイン基としてはアミノ酸、カルボキシベタイ
ン、スルホキシベタイン、ホスホベタインであり、親水
基としては特に好ましいのはカルボン酸塩、スルホン酸
塩、リン酸塩、硫酸エステル塩、3級もしくは4級アミ
ン、カルボキシベタイン、スルホベタイン、なおアニオ
ンの塩としては水素、アルカリ金属、アルカリ土類、ア
ンモニウム、低級アミンが好ましい。又イオン性親水基
に更にポリオキシルアルキレン(アルキレンは炭素数1
〜6)を同時に含有していることが好ましい。
基としてはカルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、硫
酸エステル塩、ホウ酸塩が、カチオン基としては、3級
アミン、4級アミン、ホスホニウム、スルホニウムであ
り、ベタイン基としてはアミノ酸、カルボキシベタイ
ン、スルホキシベタイン、ホスホベタインであり、親水
基としては特に好ましいのはカルボン酸塩、スルホン酸
塩、リン酸塩、硫酸エステル塩、3級もしくは4級アミ
ン、カルボキシベタイン、スルホベタイン、なおアニオ
ンの塩としては水素、アルカリ金属、アルカリ土類、ア
ンモニウム、低級アミンが好ましい。又イオン性親水基
に更にポリオキシルアルキレン(アルキレンは炭素数1
〜6)を同時に含有していることが好ましい。
以下にこれらの具体的な化合物を列挙する。
化合物例 II-7 C12H25OCH2CH2O5CH2COOK II-17 C13H27COO(CH2CH2O4CH2 4SO3Na 次に本発明で使用する一般式〔L〕で表わされる重合
体、デキストラン誘導体及びセルロース誘導体について
詳細に記す。
体、デキストラン誘導体及びセルロース誘導体について
詳細に記す。
まず一般式〔L〕で表わされる重合体について記す。
一般式〔L〕 XxYy 式中、Xはアクリルアミド類モノマー残基を、YはXと
共重合可能なX以外のモノマーを表わし、2種類以上の
混合物でもよい。xは70〜100モル%、yは30〜0モル
%を表わす。又分子量は0.2〜50万である。
共重合可能なX以外のモノマーを表わし、2種類以上の
混合物でもよい。xは70〜100モル%、yは30〜0モル
%を表わす。又分子量は0.2〜50万である。
本発明で好ましく用いられる一般式〔L〕の重合物のX
としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ア
ルキルアクリルアミド(アルキルとしてはメチル、エチ
ル、ヒドロキシエチルなど)、N−アルキルメタクリル
アミド(アルキルは前記と同じ)が挙げられる。次にY
はXと共重合しうるモノマーから導かれる単位であり好
ましいYとしては例えばビニルアルコール、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、無水マレ
イン酸、カルボキシスチレン、スルホスチレン、ビニル
スルホン酸、−CONHC(CH3)2CH2SO3H及びこれらの塩(例
えばアルカリ金属塩、アンモニウム塩、低級アルキルア
ミン塩)、又はビニルピロリドン、ビニルオキサゾリジ
ン、アクリル酸エステル(例えば、メチル−、エチル
−、ヒドロキシエチル−アクリレート)メタクリル酸エ
ステル(例えば、メチル−、エチル−、ヒドロキシエチ
ル−メタクリレート)、イタコン酸エステル(例えばメ
チル、エチル、ヒドロキシエチルイタコナート)、スチ
レン、マレイン酸エステル(例えば、モノメチル−、ジ
メチル−、モノエチル−1、ジエチル、モノヒドロキシ
エチル)、アクリロニトリル、メタクリロニトリルが挙
げられる。一般式〔L〕の重合体の中で好ましく用いら
れる具体例を次に表わす。
としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ア
ルキルアクリルアミド(アルキルとしてはメチル、エチ
ル、ヒドロキシエチルなど)、N−アルキルメタクリル
アミド(アルキルは前記と同じ)が挙げられる。次にY
はXと共重合しうるモノマーから導かれる単位であり好
ましいYとしては例えばビニルアルコール、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、無水マレ
イン酸、カルボキシスチレン、スルホスチレン、ビニル
スルホン酸、−CONHC(CH3)2CH2SO3H及びこれらの塩(例
えばアルカリ金属塩、アンモニウム塩、低級アルキルア
ミン塩)、又はビニルピロリドン、ビニルオキサゾリジ
ン、アクリル酸エステル(例えば、メチル−、エチル
−、ヒドロキシエチル−アクリレート)メタクリル酸エ
ステル(例えば、メチル−、エチル−、ヒドロキシエチ
ル−メタクリレート)、イタコン酸エステル(例えばメ
チル、エチル、ヒドロキシエチルイタコナート)、スチ
レン、マレイン酸エステル(例えば、モノメチル−、ジ
メチル−、モノエチル−1、ジエチル、モノヒドロキシ
エチル)、アクリロニトリル、メタクリロニトリルが挙
げられる。一般式〔L〕の重合体の中で好ましく用いら
れる具体例を次に表わす。
一般式〔L〕で表わされる重合物は0.2〜50万の分子量
を有するが、好ましくは0.2〜15万、特に好ましくは0.4
〜10万の分子量を有するものである。
を有するが、好ましくは0.2〜15万、特に好ましくは0.4
〜10万の分子量を有するものである。
一般式〔L〕で表わされる重合物は、水溶性であるのが
好ましく25℃において水への溶解度が0.1wt%以上がよ
り好ましく、1.0wt%以上が特に好ましい。
好ましく25℃において水への溶解度が0.1wt%以上がよ
り好ましく、1.0wt%以上が特に好ましい。
次に本発明で使用されるデキストラン誘導体について記
すと、その分子量は0.1万〜100万のものであり、好まし
くは0.2万〜50万、特に好ましくは、0.5万〜20万であ
る。
すと、その分子量は0.1万〜100万のものであり、好まし
くは0.2万〜50万、特に好ましくは、0.5万〜20万であ
る。
更に本発明で使用されるデキストラン誘導体について詳
細に記す。
細に記す。
デキストランは、α−1,6結合したD−グルコースの重
合体であり、一般に、糖類の存在下でデキストラン生産
菌を培養することによつて得るが、ロイコノストツク、
メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液よ
り、分離したデキストランシユクラーゼを糖類と作用さ
せて得ることができる。また、これらのネイテイブデキ
ストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法に
よつて、所望の分子量まで低下させ、極限粘度が0.03〜
2.5の範囲のものも得ることができる。
合体であり、一般に、糖類の存在下でデキストラン生産
菌を培養することによつて得るが、ロイコノストツク、
メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液よ
り、分離したデキストランシユクラーゼを糖類と作用さ
せて得ることができる。また、これらのネイテイブデキ
ストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法に
よつて、所望の分子量まで低下させ、極限粘度が0.03〜
2.5の範囲のものも得ることができる。
また、デキストラン変性物とは、デキストラン分子中に
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及び、その塩、デキストラン分子中にカルボキ
シアルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアル
キルデキストラン、デキストラン分子中に硫酸基がエス
テル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在
するカルボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、及
び、その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステル結
合して、存在しているデキストラン燐酸エステル、及
び、その塩、デキストラン分子中に、ハイドロオキシア
ルキル基が導入された、ハイドロオキシアルキルデキス
トランなどが挙げられる。
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及び、その塩、デキストラン分子中にカルボキ
シアルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアル
キルデキストラン、デキストラン分子中に硫酸基がエス
テル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在
するカルボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、及
び、その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステル結
合して、存在しているデキストラン燐酸エステル、及
び、その塩、デキストラン分子中に、ハイドロオキシア
ルキル基が導入された、ハイドロオキシアルキルデキス
トランなどが挙げられる。
次に本発明で使用されるセルロース誘導体について記す
と、セルロース、セルロース誘導体(例えばメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシピロ
ピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、硫酸化
セルロースなど)であり、その分子量は0.1万〜100万で
あり、好ましくは0.2万〜50万、特に好ましくは0.5万〜
20万である。
と、セルロース、セルロース誘導体(例えばメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシピロ
ピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、硫酸化
セルロースなど)であり、その分子量は0.1万〜100万で
あり、好ましくは0.2万〜50万、特に好ましくは0.5万〜
20万である。
本発明の成分(1)のノニオン界面活性剤及び成分
(3)のイオン性界面活性剤の添加量は各々1〜2000mg
/m2が好ましく、更には、3〜500mg/m2がより好まし
く、5〜300mg/m2が特に好ましい。
(3)のイオン性界面活性剤の添加量は各々1〜2000mg
/m2が好ましく、更には、3〜500mg/m2がより好まし
く、5〜300mg/m2が特に好ましい。
又、これらの界面活性剤は各々単独でもよいし2種以上
を混合して用いてもよい。
を混合して用いてもよい。
本発明の成分(3)の一般式〔L〕の重合体、デキスト
ラン誘導体及びセルロース誘導体の中から選ばれる特定
のポリマーの添加量は感材を構成する成分(3)の特定
のポリマーも含んだ全バインダー量に対して2〜50重量
%、より好ましくは5〜40重量%、特に好ましくは10〜
30重量%である。
ラン誘導体及びセルロース誘導体の中から選ばれる特定
のポリマーの添加量は感材を構成する成分(3)の特定
のポリマーも含んだ全バインダー量に対して2〜50重量
%、より好ましくは5〜40重量%、特に好ましくは10〜
30重量%である。
成分(3)の特定のポリマーは単独でもよいし2種類以
上の混合物であつても良い。
上の混合物であつても良い。
本発明の成分(1)のノニオン界面活性剤及び成分
(2)のイオン性界面活性剤及び成分(3)の特定のポ
リマーの添加場所は写真感光材料のハロゲン化銀乳剤側
の少なくとも1層である。
(2)のイオン性界面活性剤及び成分(3)の特定のポ
リマーの添加場所は写真感光材料のハロゲン化銀乳剤側
の少なくとも1層である。
層としては例えば表面保護層、乳剤層、中間層、下塗層
などを挙げることができる。表面保護層が2層以上から
なる場合はそのいづれの層でもよく、又表面保護層の上
にさらにオーバーコートとして用いることができる。こ
のうち特に好ましいのは表面保護層である。
などを挙げることができる。表面保護層が2層以上から
なる場合はそのいづれの層でもよく、又表面保護層の上
にさらにオーバーコートとして用いることができる。こ
のうち特に好ましいのは表面保護層である。
本発明のノニオン界面活性剤、特定のイオン性界面活性
剤及び特定のポリマーを感材に含有させることにより、
帯電防止性を損うことなく、又現像時間15秒以内の処理
で現像ムラを生じることなく写真感度の高い画像を得る
ことができた。
剤及び特定のポリマーを感材に含有させることにより、
帯電防止性を損うことなく、又現像時間15秒以内の処理
で現像ムラを生じることなく写真感度の高い画像を得る
ことができた。
本発明のノニオン界面活性剤及びイオン性界面活性剤を
含有する層あるいは他の層に別の帯電防止剤を併用する
こともでき、こうすることによつて更に好ましい帯電防
止効果を得ることができる。このような帯電防止剤には
アニオン、カチオン、ベタイン性重合物、含フツ素界面
活性剤、金属酸化物、コロイドシリカ等や硫酸バリウム
ストロンチウム、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル−メタクリル酸共重合体、特開昭62-89957号に
記載の含フツ素微粒子、特願昭61-219019号に記載の含
ケイ素マツト剤、コロイドシリカ又は粉末シリカ等から
なるいわゆるマツト剤を挙げることができる。マツト剤
の添加層は最外層でもよいし、最外層より支持体側の層
でもよい。
含有する層あるいは他の層に別の帯電防止剤を併用する
こともでき、こうすることによつて更に好ましい帯電防
止効果を得ることができる。このような帯電防止剤には
アニオン、カチオン、ベタイン性重合物、含フツ素界面
活性剤、金属酸化物、コロイドシリカ等や硫酸バリウム
ストロンチウム、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル−メタクリル酸共重合体、特開昭62-89957号に
記載の含フツ素微粒子、特願昭61-219019号に記載の含
ケイ素マツト剤、コロイドシリカ又は粉末シリカ等から
なるいわゆるマツト剤を挙げることができる。マツト剤
の添加層は最外層でもよいし、最外層より支持体側の層
でもよい。
又、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,1,
1−トリメチロールプロパン等特開昭54-89626に示され
るようなポリオール化合物を本発明の界面活性剤を含有
する層あるいは他の層に添加することが出来、こうする
ことによつても更に好ましい帯電防止効果を得ることが
できる。
1−トリメチロールプロパン等特開昭54-89626に示され
るようなポリオール化合物を本発明の界面活性剤を含有
する層あるいは他の層に添加することが出来、こうする
ことによつても更に好ましい帯電防止効果を得ることが
できる。
これらの中でも特に含フツ素界面活性剤を使用すること
によつて更に良好な帯電防止能を得ることができる。
によつて更に良好な帯電防止能を得ることができる。
好ましい含弗素界面活性剤としては、炭素数4以上のフ
ルオロ−アルキル基、−アルケニル基、又は−アリール
基を有し、イオン性基としてアニオン基(スルホン酸
(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸
(塩)、カチオン基(アミン塩、アンモニウム塩、芳香
族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩)、ベタ
イン基(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウム
塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホア
ンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置換のポリオ
キシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタン
残基)を有する界面活性剤が挙げられる。
ルオロ−アルキル基、−アルケニル基、又は−アリール
基を有し、イオン性基としてアニオン基(スルホン酸
(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸
(塩)、カチオン基(アミン塩、アンモニウム塩、芳香
族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩)、ベタ
イン基(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウム
塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホア
ンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置換のポリオ
キシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタン
残基)を有する界面活性剤が挙げられる。
これらの含弗素界面活性剤は特開昭49-10722号、英国特
許第1,330,356号、米国特許第4,335,201号、同4,347,30
8号、英国特許第1,417,915号、特開昭55-149938号、同5
8-196544号、英国特許第1,439,402号などに記載されて
いる。
許第1,330,356号、米国特許第4,335,201号、同4,347,30
8号、英国特許第1,417,915号、特開昭55-149938号、同5
8-196544号、英国特許第1,439,402号などに記載されて
いる。
これらの好ましい具体例を以下に記す。
III-1 C8F17SO3K III-2 C7F15COONa III-3 C8F17CH2CH2OSO3Na III-19 C8F17CH2CH2OCH2CH2O12.5H III-22 C8F17SO▲ 3▼ N(C2H5)4 これらの含フツ素界面活性剤の添加量は0.1〜1000mg/m2
であればよく、好ましくは0.2〜250mg/m2、特に好まし
くは0.3〜100mg/m2である。
であればよく、好ましくは0.2〜250mg/m2、特に好まし
くは0.3〜100mg/m2である。
写真層のバインダーとしてはゼラチン、カゼインなどの
蛋白質、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん誘導体の糖
誘導体、合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重
合体、またはこれらの誘導体および部分加水分解物を併
用することもできる。
蛋白質、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん誘導体の糖
誘導体、合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重
合体、またはこれらの誘導体および部分加水分解物を併
用することもできる。
ここに言うゼラチンはいわゆる石灰処理ゼラチン、酸処
理ゼラチン、誘導体ゼラチンおよび酵素処理ゼラチンを
指す。それらの分子量には、特に限定はなく、0.2〜20
万が好ましい。
理ゼラチン、誘導体ゼラチンおよび酵素処理ゼラチンを
指す。それらの分子量には、特に限定はなく、0.2〜20
万が好ましい。
本発明の写真構成層には本発明のノニオン界面活性剤及
びイオン性界面活性剤の他に他の公知の界面活性剤を単
独または混合して添加してもよい。それらの塗布助剤と
して用いられるものであるが、時としてその他の目的、
例えば乳化分散、増感その他の写真特性の改良、等のた
めにも適用される。
びイオン性界面活性剤の他に他の公知の界面活性剤を単
独または混合して添加してもよい。それらの塗布助剤と
して用いられるものであるが、時としてその他の目的、
例えば乳化分散、増感その他の写真特性の改良、等のた
めにも適用される。
これらの界面活性剤はサポニン等の天然界面活性剤、高
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、
リン酸、硫酸エステル、リン酸エステル等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類等
の両性界面活性剤にわけられる。
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、
リン酸、硫酸エステル、リン酸エステル等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類等
の両性界面活性剤にわけられる。
又、本発明に於ては、滑性化組成物、例えば米国特許第
3,079,837号、同第3,080,317号、同第3,545,970号、同
第3,294,537号及び日本公開特許昭52-129520号に示され
るような変性シリコーン等を写真構成中に含むことがで
きる。
3,079,837号、同第3,080,317号、同第3,545,970号、同
第3,294,537号及び日本公開特許昭52-129520号に示され
るような変性シリコーン等を写真構成中に含むことがで
きる。
本発明に於いて用いられるハレーシヨン防止染料及び/
又はイラジエーシヨン防止染料としては、750nm以上の
長波長に実質的な吸収を有する染料が用いられる。ここ
でハレーシヨン防止染料は、中間層、下塗り層、ハレー
シヨン防止層、バツク層、乳剤層などに、イラジエーシ
ヨン防止染料は、乳剤層の他に中間層などに用いられ
る。またこれらの染料は好ましくは10-3〜1g/m2、より
好ましくは10-3〜0.5g/m2の添加量で用いられる。例え
ば、米国特許第2,895,955号、同3,177,078号、同4,581,
325号、特開昭50-1,001,116号に記載の染料や、特願昭6
1-162987号に記載されているような染料が好ましく用い
られる。
又はイラジエーシヨン防止染料としては、750nm以上の
長波長に実質的な吸収を有する染料が用いられる。ここ
でハレーシヨン防止染料は、中間層、下塗り層、ハレー
シヨン防止層、バツク層、乳剤層などに、イラジエーシ
ヨン防止染料は、乳剤層の他に中間層などに用いられ
る。またこれらの染料は好ましくは10-3〜1g/m2、より
好ましくは10-3〜0.5g/m2の添加量で用いられる。例え
ば、米国特許第2,895,955号、同3,177,078号、同4,581,
325号、特開昭50-1,001,116号に記載の染料や、特願昭6
1-162987号に記載されているような染料が好ましく用い
られる。
本発明の写真感光材料は写真構成中に米国特許第3,411,
911号、同3,411,912号、特公昭45-5331号、特願昭61-19
5788号、特開昭62-89950号、同62-17745号、等に記載の
ポリマーラテツクスを含むことができる。
911号、同3,411,912号、特公昭45-5331号、特願昭61-19
5788号、特開昭62-89950号、同62-17745号、等に記載の
ポリマーラテツクスを含むことができる。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層、表面保護
層などに用いられるカブリ防止剤、安定剤、硬膜剤、可
塑剤、潤滑剤、塗布助剤、マツト剤、増白剤、染料等に
ついては特に制限はなく、例えばリサーチ・デイスクロ
ージヤー誌(Research Disclosure)176巻22〜31頁(19
78年12月)の記載を参考にすることが出来る。
層などに用いられるカブリ防止剤、安定剤、硬膜剤、可
塑剤、潤滑剤、塗布助剤、マツト剤、増白剤、染料等に
ついては特に制限はなく、例えばリサーチ・デイスクロ
ージヤー誌(Research Disclosure)176巻22〜31頁(19
78年12月)の記載を参考にすることが出来る。
本発明に用いられる感光材料としては銀画像を与える感
光材料(例えば医療用感光材料、製版用感光材料など)
の他に色素画像を与える感光材料(例えばカラー印画
紙、カラー反転ペーパーなど)を挙げることができる。
光材料(例えば医療用感光材料、製版用感光材料など)
の他に色素画像を与える感光材料(例えばカラー印画
紙、カラー反転ペーパーなど)を挙げることができる。
次に本発明における現像時間が15秒以内で処理される現
像・定着・水洗・乾燥工程について記す。
像・定着・水洗・乾燥工程について記す。
本発明において「現像時間」、「定着時間」とは各々、
処理する感光材料が自現機の現像タンク液に浸漬されて
から次の定着液に浸漬されるまでの時間、定着タンク液
に浸漬されてから次の水洗タンク液(安定液)に浸漬さ
れるまでの時間を言う。
処理する感光材料が自現機の現像タンク液に浸漬されて
から次の定着液に浸漬されるまでの時間、定着タンク液
に浸漬されてから次の水洗タンク液(安定液)に浸漬さ
れるまでの時間を言う。
また「水洗時間」とは、水洗タンク液に浸漬されている
時間をいう。
時間をいう。
また「乾燥時間」とは通常35℃〜100℃好ましくは40℃
〜80℃の温風が吹きつけられる乾燥ゾーンが自現機には
設置されているが、その乾燥ゾーンに入つている時間を
いう。
〜80℃の温風が吹きつけられる乾燥ゾーンが自現機には
設置されているが、その乾燥ゾーンに入つている時間を
いう。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には良好な性
能を得やすい点で、ジヒドロキシベンゼン類と1−フエ
ニル−3−ピラゾリドン類の組合せが最も好ましい。勿
論この他にp−アミノフエノール系現像主薬を含んでも
よい。
能を得やすい点で、ジヒドロキシベンゼン類と1−フエ
ニル−3−ピラゾリドン類の組合せが最も好ましい。勿
論この他にp−アミノフエノール系現像主薬を含んでも
よい。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、イソプロピ
ルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3−ジク
ロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロキノン、
2,3−ジプロムハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロ
キノンなどがあるが特にハイドロキノンが好ましい。
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、イソプロピ
ルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3−ジク
ロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロキノン、
2,3−ジプロムハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロ
キノンなどがあるが特にハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いる1−フエニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては1−フエニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フエニ
ル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、な
どがある。
の誘導体の現像主薬としては1−フエニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フエニ
ル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、な
どがある。
本発明に用いるp−アミノフエノール系現像主薬として
はN−メチル−p−アミノフエノール、p−アミノフエ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
エノール、N−(4−ヒドロキシフエニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフエノール、p−ベンジルアミ
ノフエノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフエノ−ルが好ましい。
はN−メチル−p−アミノフエノール、p−アミノフエ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
エノール、N−(4−ヒドロキシフエニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフエノール、p−ベンジルアミ
ノフエノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフエノ−ルが好ましい。
現像主薬は通常0.01モル/l〜1.2モル/lの量で用いられ
るのが好ましい。
るのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.2モル/l以上特に0.4モル/l以上が好ましい。ま
た、上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.2モル/l以上特に0.4モル/l以上が好ましい。ま
た、上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
本発明に用いる現像液のpHは9から13までの範囲のもの
が好ましい。更に好ましくはpH10から12までの範囲であ
る。
が好ましい。更に好ましくはpH10から12までの範囲であ
る。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きpH調
節剤を含む。
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きpH調
節剤を含む。
特願昭61-28708号(ホウ酸塩)、特開昭60-93433号(例
えば、サツカロース、アセトオキシム、5−スルホサル
チル酸)、リン酸塩、炭酸塩などの緩衛剤を用いてもよ
い。
えば、サツカロース、アセトオキシム、5−スルホサル
チル酸)、リン酸塩、炭酸塩などの緩衛剤を用いてもよ
い。
上記成分以外に用いられる添加剤としては、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソ
ルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノール
の如き有機溶剤:1−フエニル−5−メルカプトテトラゾ
ール、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホ
ン酸ナトリウム塩等のメルカプト系化合物、5−ニトロ
インダゾ−ル等のインダゾール系化合物、5−メチルベ
ンツトリアゾール等のベンツトリアゾール系化合物など
のカブリ防止剤を含んでもよく、更に必要に応じて色調
剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、特開昭56-10624
4号記載のアミノ化合物などを含んでもよい。
ウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソ
ルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノール
の如き有機溶剤:1−フエニル−5−メルカプトテトラゾ
ール、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホ
ン酸ナトリウム塩等のメルカプト系化合物、5−ニトロ
インダゾ−ル等のインダゾール系化合物、5−メチルベ
ンツトリアゾール等のベンツトリアゾール系化合物など
のカブリ防止剤を含んでもよく、更に必要に応じて色調
剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、特開昭56-10624
4号記載のアミノ化合物などを含んでもよい。
本発明においては現像液に銀汚れ防止剤、例えば特開昭
56-24347号に記載の化合物、を用いることができる。
56-24347号に記載の化合物、を用いることができる。
本発明の現像液には、特開昭56-106244号に記載のアル
カノールアミンなどのアミノ化合物を用いることができ
る。
カノールアミンなどのアミノ化合物を用いることができ
る。
この他L.F.A.メイソン著「フオトグラフイツク・プロセ
シング・ケミストリー」、フオーカル・プレス刊(1966
年)の226〜229頁、米国特許第2,193,015号、同2,592,3
64号、特開昭48-64933号などに記載のものを用いてもよ
い。
シング・ケミストリー」、フオーカル・プレス刊(1966
年)の226〜229頁、米国特許第2,193,015号、同2,592,3
64号、特開昭48-64933号などに記載のものを用いてもよ
い。
本発明においては現像液として前述の3−ピラゾリドン
系現像主薬を含有する1剤からなる現像液を補充して用
いてもよい。これらの3−ピラゾリドン化合物は、現像
液1中に0.1g〜30g添加され、より好ましくは0.5g〜2
0g、更に好ましくは1g〜15g添加される。又上記1剤か
らなる現像液は濃縮化して使用することもでき、その場
合には写真感光材料が処理されるに従つて現像液を水で
希釈することが好ましい。
系現像主薬を含有する1剤からなる現像液を補充して用
いてもよい。これらの3−ピラゾリドン化合物は、現像
液1中に0.1g〜30g添加され、より好ましくは0.5g〜2
0g、更に好ましくは1g〜15g添加される。又上記1剤か
らなる現像液は濃縮化して使用することもでき、その場
合には写真感光材料が処理されるに従つて現像液を水で
希釈することが好ましい。
本発明における現像処理工程の現像温度及び時間は約25
℃〜約50℃で15秒以下であるが好ましくは30℃〜40℃で
6秒〜15秒である。
℃〜約50℃で15秒以下であるが好ましくは30℃〜40℃で
6秒〜15秒である。
次に本発明で使用される定着液はチオ硫酸塩、を含む水
溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜5.5を有す
る。更に好ましくはpH4.65〜5.5である。
溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜5.5を有す
る。更に好ましくはpH4.65〜5.5である。
定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニ
ウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニウムイオンと
を必須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫
酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量は適宜
変えることができ、一般には約0.1〜約6モル/lであ
る。
ウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニウムイオンと
を必須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫
酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量は適宜
変えることができ、一般には約0.1〜約6モル/lであ
る。
定着液には硬膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩
を含んでもよく、それらには、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがある。
を含んでもよく、それらには、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがある。
定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン酸あるいはそ
れらの誘導体を単独で、あるいは2種以上、併用するこ
とができる。これらの化合物は定着液1につき、0.00
5モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/l〜0.03モ
ル/lが特に有効である。
れらの誘導体を単独で、あるいは2種以上、併用するこ
とができる。これらの化合物は定着液1につき、0.00
5モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/l〜0.03モ
ル/lが特に有効である。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸、クエン酸ナ
トリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リチウム、クエ
ン酸アンモニウムなどがある。
ム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸、クエン酸ナ
トリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リチウム、クエ
ン酸アンモニウムなどがある。
定着液には所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜
硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、pH調整剤
(例えば、硫酸)、硬水軟化能のあるキレート剤や特願
昭60-218562号記載の化合物を含むことができる。
硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、pH調整剤
(例えば、硫酸)、硬水軟化能のあるキレート剤や特願
昭60-218562号記載の化合物を含むことができる。
定着温度及び時間は約20℃〜約50℃で6秒〜1分が好ま
しいが30℃〜40℃で6秒〜30秒がより好ましく、更に好
ましくは30℃〜40℃で6秒〜15秒である。
しいが30℃〜40℃で6秒〜30秒がより好ましく、更に好
ましくは30℃〜40℃で6秒〜15秒である。
本発明においては定着液濃縮液が自動現像機に、感光材
料が処理されるに従つて、それを希釈する水と共に補充
される場合、定着液濃縮液は1剤で構成されてもよい。
料が処理されるに従つて、それを希釈する水と共に補充
される場合、定着液濃縮液は1剤で構成されてもよい。
1剤として定着液原液が安定に存在しうるのはpH4.5以
上であり、より好ましくはpH4.65以上である。pH4.5未
満では、特に定着液が実際に使われるまでの期間長年放
置された場合にチオ硫酸塩が分解して最終的には硫化し
てしまうためである。従つてpH4.5以上の範囲では亜硫
酸ガスの発生も少なく、作業環境上も良くなる。pHの上
限はそれ程厳しくないが余り高pHで定着されると、以後
水洗されても膜pHが高くなつて膜膨潤が大きくなり従つ
て乾燥負荷が大きくなるのでpH7まで位が限度である。
アルミニウム塩を使つて硬膜する定着液ではアルミニウ
ム塩の析出沈澱防止pHは5.5までが限界である。
上であり、より好ましくはpH4.65以上である。pH4.5未
満では、特に定着液が実際に使われるまでの期間長年放
置された場合にチオ硫酸塩が分解して最終的には硫化し
てしまうためである。従つてpH4.5以上の範囲では亜硫
酸ガスの発生も少なく、作業環境上も良くなる。pHの上
限はそれ程厳しくないが余り高pHで定着されると、以後
水洗されても膜pHが高くなつて膜膨潤が大きくなり従つ
て乾燥負荷が大きくなるのでpH7まで位が限度である。
アルミニウム塩を使つて硬膜する定着液ではアルミニウ
ム塩の析出沈澱防止pHは5.5までが限界である。
本発明の処理では現像液または定着液のいずれかが上記
のような希釈水を必要としない(すなわち原液のままで
補充する)いわゆる使用液であつても構わない。
のような希釈水を必要としない(すなわち原液のままで
補充する)いわゆる使用液であつても構わない。
各濃縮液の処理タンク液への供給量及び希釈水との混合
割合はそれぞれ濃縮液の組成に依存して種々変化させる
ことができるが、一般に濃縮液対希釈水は1対0〜8の
割合で、これらの現像液、定着液各々の全量は感光材料
1m2に対して50mlから1500mlであることが好ましい。
割合はそれぞれ濃縮液の組成に依存して種々変化させる
ことができるが、一般に濃縮液対希釈水は1対0〜8の
割合で、これらの現像液、定着液各々の全量は感光材料
1m2に対して50mlから1500mlであることが好ましい。
本発明においては感光材料は現像、定着した後、水洗又
は安定化処理が施される。
は安定化処理が施される。
水洗又は安定化処理は本分野で公知のあらゆる方法を適
用することができ、本分野で公知の種々の添加剤を含有
する水を水洗水又は安定化液として用いることもでき
る。防徽手段を施した水を水洗水又は安定化液に使用す
ることにより、感光材料1m2当たり3l以下の補充量とい
う節水処理も可能となるのみならず、自現機設置の配管
が不要となり更にストツク槽の削減が可能となる。即ち
現像液及び定着液用の調液希釈水及び水洗水又は安定化
液を共通の一槽のストツク槽から供給でき、自動現像機
の一層のコンパクト化が可能となる。
用することができ、本分野で公知の種々の添加剤を含有
する水を水洗水又は安定化液として用いることもでき
る。防徽手段を施した水を水洗水又は安定化液に使用す
ることにより、感光材料1m2当たり3l以下の補充量とい
う節水処理も可能となるのみならず、自現機設置の配管
が不要となり更にストツク槽の削減が可能となる。即ち
現像液及び定着液用の調液希釈水及び水洗水又は安定化
液を共通の一槽のストツク槽から供給でき、自動現像機
の一層のコンパクト化が可能となる。
防徽手段を施した水を水洗水又は安定化液に併用する
と、水垢の発生等が有効に防止し得るため、感光材料1
m2当たり0〜3l、好ましくは0〜1、の節水処理を行
うことができる。
と、水垢の発生等が有効に防止し得るため、感光材料1
m2当たり0〜3l、好ましくは0〜1、の節水処理を行
うことができる。
ここで、補充量が0の場合とは、水洗槽中の水洗水が自
然蒸発等により減少した分だけ適宜補充する以外は全く
補充を行なわない、即ち実質的に無補充のいわゆる「た
め水」処理方法を行なう場合をいう。
然蒸発等により減少した分だけ適宜補充する以外は全く
補充を行なわない、即ち実質的に無補充のいわゆる「た
め水」処理方法を行なう場合をいう。
補充量を少なくする方法として、古くより多段向流方式
(例えば2段、3段など)が知られている。この多段向
流方式を本発明に適用すれば定着後の感光材料はだんだ
んと清浄な方向、つまり定着液で汚れていない処理液の
方に順次接触して処理されて行くので、更に効率の良い
水洗がなされる。これによれば、不安定なチオ硫酸塩等
が適度に除去され、変退色の可能性が一層小さくなつ
て、更に著しい安定化効果が得られる。水洗水も従来に
比べ、非常に少ない量ですむ。
(例えば2段、3段など)が知られている。この多段向
流方式を本発明に適用すれば定着後の感光材料はだんだ
んと清浄な方向、つまり定着液で汚れていない処理液の
方に順次接触して処理されて行くので、更に効率の良い
水洗がなされる。これによれば、不安定なチオ硫酸塩等
が適度に除去され、変退色の可能性が一層小さくなつ
て、更に著しい安定化効果が得られる。水洗水も従来に
比べ、非常に少ない量ですむ。
少量の水洗水で水洗するときには特願昭60-172968号に
記載のスクイズローラー洗浄槽を設けることがより好ま
しい。
記載のスクイズローラー洗浄槽を設けることがより好ま
しい。
更に水洗又は安定化浴に防徽手段を施した水を処理に応
じて補充することによつて生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60-235133
号に記載されているようにその前の処理工程である定着
能を有する処理液に利用することもできる。こうするこ
とによつて上記ストツク水の節水ができ、しかも廃液が
より少なくなるためより好ましい。
じて補充することによつて生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60-235133
号に記載されているようにその前の処理工程である定着
能を有する処理液に利用することもできる。こうするこ
とによつて上記ストツク水の節水ができ、しかも廃液が
より少なくなるためより好ましい。
防徽手段としては、特開昭60-263939号に記された紫外
線照射法、同60-263940号に記された磁場を用いる方
法、同61-131632号に記されたイオン交換樹脂を用いて
純水にする方法、特願昭60-253807号、同60-295894号、
同61-63030号、同61-51396号に記載の防菌剤を用いる方
法を用いることができる。
線照射法、同60-263940号に記された磁場を用いる方
法、同61-131632号に記されたイオン交換樹脂を用いて
純水にする方法、特願昭60-253807号、同60-295894号、
同61-63030号、同61-51396号に記載の防菌剤を用いる方
法を用いることができる。
更には、L.E.West“Water Quality Criteria"Photo Sci
& Eng.Vol.9 No.6(1965)、M.W.Beach“Microbiolog
ical Growths in Motion-Picture Processing"SMPTE Jo
urnal Vol.85,(1976),R.O.Deegan,“Photo Processin
g Wash Water Biocides"J.Imaging Tech.Vol 10,No.6
(1984)及び特開昭57-8542号、同57-58143号、同58-10
5145号、同57-132146号、同58-18631号、同57-97530
号、同57-157244号などに記載されている防菌剤、防バ
イ剤、界面活性剤などを併用することもできる。
& Eng.Vol.9 No.6(1965)、M.W.Beach“Microbiolog
ical Growths in Motion-Picture Processing"SMPTE Jo
urnal Vol.85,(1976),R.O.Deegan,“Photo Processin
g Wash Water Biocides"J.Imaging Tech.Vol 10,No.6
(1984)及び特開昭57-8542号、同57-58143号、同58-10
5145号、同57-132146号、同58-18631号、同57-97530
号、同57-157244号などに記載されている防菌剤、防バ
イ剤、界面活性剤などを併用することもできる。
更に、水洗浴には、R.T.Kreiman著J.Image,Tech 10,
(6)242(1984)に記載されたイソチアゾリン系化合
物、RESEARCH DISCLOSURE第205巻、Item 20526(1981
年、5月号)に記載されたイソチアゾリン系化合物、同
第228巻、Item 22845(1983年、4月号)に記載された
イソチアゾリン系化合物、特願昭61-51396号に記載され
た化合物、などを防菌剤(Microbiocide)として併用す
ることもできる。
(6)242(1984)に記載されたイソチアゾリン系化合
物、RESEARCH DISCLOSURE第205巻、Item 20526(1981
年、5月号)に記載されたイソチアゾリン系化合物、同
第228巻、Item 22845(1983年、4月号)に記載された
イソチアゾリン系化合物、特願昭61-51396号に記載され
た化合物、などを防菌剤(Microbiocide)として併用す
ることもできる。
更に防バイ剤の具体例としては、フエノール、4−クロ
ロフエノール、ベンタクロロフエノール、クレゾール、
O−フエニルフエノール、クロロフエン、ジクロロフエ
ン、ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒド、クロル
アセトアミド、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、2−
(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベンゾイソ
チアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−ジメチル
アンモニウム−クロライド、N−(フルオロジクロロメ
チルチオ)−フタルイミド、2,4,4′−トリクロロ−
2′−ハイドロオキシジフエニルエーテルなどがある。
ロフエノール、ベンタクロロフエノール、クレゾール、
O−フエニルフエノール、クロロフエン、ジクロロフエ
ン、ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒド、クロル
アセトアミド、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、2−
(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベンゾイソ
チアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−ジメチル
アンモニウム−クロライド、N−(フルオロジクロロメ
チルチオ)−フタルイミド、2,4,4′−トリクロロ−
2′−ハイドロオキシジフエニルエーテルなどがある。
防徽手段を施して水ストツク槽に保存された水は前記現
像液定着液などの処理液原液の希釈水としても水洗水と
しても共用されるのがスペースが小さくてすむ点で好ま
しい。しかし防徽手段を施した調液希釈水と水洗水(又
は安定化液)とを分けて別槽にそれぞれ保管することも
できるし、どちらか一方だけを水道から直接とつてもよ
い。
像液定着液などの処理液原液の希釈水としても水洗水と
しても共用されるのがスペースが小さくてすむ点で好ま
しい。しかし防徽手段を施した調液希釈水と水洗水(又
は安定化液)とを分けて別槽にそれぞれ保管することも
できるし、どちらか一方だけを水道から直接とつてもよ
い。
別槽に分けて保管したときは、防徽手段を施した上に、
水洗水(又は安定浴)には種々の添加剤を含有させるこ
とができる。
水洗水(又は安定浴)には種々の添加剤を含有させるこ
とができる。
例えば、アルミニウムとのキレート安定度定数logK値
が、10以上のキレート化合物を含有させてもよい。これ
らは、定着液中に硬膜剤としてアルミニウム化合物を含
む場合水洗水中での白沈を防止するのに有効である。
が、10以上のキレート化合物を含有させてもよい。これ
らは、定着液中に硬膜剤としてアルミニウム化合物を含
む場合水洗水中での白沈を防止するのに有効である。
キレート剤の具体例としては、エチレンジアミン四酢酸
(logK=16.1,以下同じ)、シクロヘキサンジアミン四
酢酸(17.6)、ジアミノプロパノール四酢酸(13.8)、
ジエチレントリアミン五酢酸(18.4)、トリエチレンテ
トラミン六酢酸(19.7)等及びこれらのナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩があり、その添加量は好ま
しくは0.01〜10g/l、より好ましくは0.1〜5g/lである。
(logK=16.1,以下同じ)、シクロヘキサンジアミン四
酢酸(17.6)、ジアミノプロパノール四酢酸(13.8)、
ジエチレントリアミン五酢酸(18.4)、トリエチレンテ
トラミン六酢酸(19.7)等及びこれらのナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩があり、その添加量は好ま
しくは0.01〜10g/l、より好ましくは0.1〜5g/lである。
更に水洗水中には銀画像安定化剤の他に水滴むらを防止
する目的で、各種の界面活性剤を添加することがきる。
界面活性剤としては、陽イオン型、陰イオン型、非イオ
ン型えよび両イオン型のいずれを用いてもよい。界面活
性剤の具体例としてはたとえば工学図書(株)発行の
「界面活性剤ハンドブツク」に記載されている化合物な
どがある。
する目的で、各種の界面活性剤を添加することがきる。
界面活性剤としては、陽イオン型、陰イオン型、非イオ
ン型えよび両イオン型のいずれを用いてもよい。界面活
性剤の具体例としてはたとえば工学図書(株)発行の
「界面活性剤ハンドブツク」に記載されている化合物な
どがある。
上記安定化浴中には画像を安定化する目的で各種化合物
が添加される。例えば膜pHを調整する(例えばpH3〜
8)ための各種の緩衝剤(例えばホウ酸塩、メタホウ酸
塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリ、水酸化ナ
トリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカルボン
酸、ポリカルボン酸などを組み合わせて使用)やホルマ
リンなどのアルデヒドを代表例として挙げることができ
る。その他、キレート剤、殺菌剤(チアゾール系、イソ
チアゾール系、ハロゲン化フエノール、スルフアニルア
ミド、ベンゾトリアゾールなど)、界面活性剤、蛍光増
白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用してもよく、同一
もしくは異種の目的の化合物を2種以上併用しても良
い。
が添加される。例えば膜pHを調整する(例えばpH3〜
8)ための各種の緩衝剤(例えばホウ酸塩、メタホウ酸
塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリ、水酸化ナ
トリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカルボン
酸、ポリカルボン酸などを組み合わせて使用)やホルマ
リンなどのアルデヒドを代表例として挙げることができ
る。その他、キレート剤、殺菌剤(チアゾール系、イソ
チアゾール系、ハロゲン化フエノール、スルフアニルア
ミド、ベンゾトリアゾールなど)、界面活性剤、蛍光増
白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用してもよく、同一
もしくは異種の目的の化合物を2種以上併用しても良
い。
また、処理機の膜pH調整剤として塩化アンモニウム、硝
酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウ
ム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム等の各
種アンモニウム塩を添加するのが画像保存性を良化する
ために好ましい。
酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウ
ム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム等の各
種アンモニウム塩を添加するのが画像保存性を良化する
ために好ましい。
上記の方法による水洗または安定浴温度及び時間は0℃
〜50℃で6秒〜1分が好ましいが15℃〜40℃で6秒から
30秒がより好ましく、更には15℃〜40℃で6秒から15秒
が好ましい。
〜50℃で6秒〜1分が好ましいが15℃〜40℃で6秒から
30秒がより好ましく、更には15℃〜40℃で6秒から15秒
が好ましい。
現像、定着及び水洗された写真材料は水洗水をしぼり切
る、すなわちスクイズローラー法を経て乾燥される。乾
燥は約40℃〜約100℃で行なわれ、乾燥時間は周囲の状
態によつて適宜変えられるが、通常は約5秒〜1分でよ
いが、より好ましくは40℃〜80℃で約5秒〜30秒であ
る。
る、すなわちスクイズローラー法を経て乾燥される。乾
燥は約40℃〜約100℃で行なわれ、乾燥時間は周囲の状
態によつて適宜変えられるが、通常は約5秒〜1分でよ
いが、より好ましくは40℃〜80℃で約5秒〜30秒であ
る。
本発明では、現像、定着、水洗及び乾燥されるまでのい
わゆるDry to Dryの処理時間は3分15秒以内、好ましく
は100秒以内、更に最も好ましくは60秒以内で処理され
る。
わゆるDry to Dryの処理時間は3分15秒以内、好ましく
は100秒以内、更に最も好ましくは60秒以内で処理され
る。
ここで“dry to dry"とは処理される感材の先端が自現
機のフイルム挿入部分に入つた瞬間から、処理されて、
同先端が自現機から出てくる瞬間までの時間を言う。
機のフイルム挿入部分に入つた瞬間から、処理されて、
同先端が自現機から出てくる瞬間までの時間を言う。
(実施例) 以下に実施例を挙げて本発明を例証するが本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例1 (1)単分散ハロゲン化銀乳剤の調製 ゼラチンと臭化カリウムと水が入つた55℃に加温された
容器に適当量のアンモニアを入れた後、反応容器中のpA
g値を7.60に保ちつつ硝酸銀水溶液と銀に対するイリジ
ウムのモル比で10-7モルとなるようにヘキサクロロイリ
ジウム(III)酸塩を添加した臭化カリウム水溶液とを
ダブルジエツト法により添加して平均粒子サイズが0.55
μの単分散臭化銀乳剤粒子を調製した。この乳剤粒子
は、平均粒子サイズの±40%以内に全粒子数の98%が存
在していた。この乳剤を脱塩処理後、pHを6.2、pAgを8.
6に合わせてからチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸とによ
り金・硫黄増感を行ない所望の写真性を得た。
容器に適当量のアンモニアを入れた後、反応容器中のpA
g値を7.60に保ちつつ硝酸銀水溶液と銀に対するイリジ
ウムのモル比で10-7モルとなるようにヘキサクロロイリ
ジウム(III)酸塩を添加した臭化カリウム水溶液とを
ダブルジエツト法により添加して平均粒子サイズが0.55
μの単分散臭化銀乳剤粒子を調製した。この乳剤粒子
は、平均粒子サイズの±40%以内に全粒子数の98%が存
在していた。この乳剤を脱塩処理後、pHを6.2、pAgを8.
6に合わせてからチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸とによ
り金・硫黄増感を行ない所望の写真性を得た。
この乳剤の(100)面/(111)面比率をクベルカムンク
法で測定したところ98/2であつた。この乳剤をAと命名
した。
法で測定したところ98/2であつた。この乳剤をAと命名
した。
次にAから粒子形成前に添加するアンモニア量を減らす
だけの変更を行なつて平均粒子サイズが0.35μ及び0.25
μの単分散乳剤B、Cを調製した。
だけの変更を行なつて平均粒子サイズが0.35μ及び0.25
μの単分散乳剤B、Cを調製した。
(2)乳剤塗布液の調製 乳剤A、B、Cの各々0.333Kgを40℃に加温して乳剤を
溶解後赤外域増感色素、構造Aの増感色素のメタノール
溶液(9×10-4M/l)を70cc、強色増感剤4,4′−ビス
〔2,6−ジ(ナフチル−2−オキシ)ピリミジン−4−
イルアミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホン酸ジナト
リウム塩水溶液(4.4×10-3M/l)90cc、構造式Bの化合
物のメタノール溶液(2.8×10-2M/l)35cc、4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン水溶
液、ポリアクリル酸ソーダ水溶液、塗布助剤p−t−オ
クチルフエノキシエトキシエトキシエタンスルホン酸ソ
ーダの水溶液、増粘剤ポリスチレンスルホン酸カリウム
塩の水溶液及び本発明の特定のポリマーを表1のごとく
添加して乳剤塗布液とした。
溶解後赤外域増感色素、構造Aの増感色素のメタノール
溶液(9×10-4M/l)を70cc、強色増感剤4,4′−ビス
〔2,6−ジ(ナフチル−2−オキシ)ピリミジン−4−
イルアミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホン酸ジナト
リウム塩水溶液(4.4×10-3M/l)90cc、構造式Bの化合
物のメタノール溶液(2.8×10-2M/l)35cc、4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン水溶
液、ポリアクリル酸ソーダ水溶液、塗布助剤p−t−オ
クチルフエノキシエトキシエトキシエタンスルホン酸ソ
ーダの水溶液、増粘剤ポリスチレンスルホン酸カリウム
塩の水溶液及び本発明の特定のポリマーを表1のごとく
添加して乳剤塗布液とした。
(3)感材層の最外層用塗布液の調製 40℃に加温された10wt%ゼラチン水溶液に、増粘剤ポリ
スチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、ポリアクリル酸ソ
ーダ水溶液、マツト剤ポリメチルメタクリレート微粒子
(平均粒子サイズ3.0μm)及びポリ(メチルアクリレ
ート/アクリル酸=85:15)共重合体の微粒子(粒径4.0
μm)、硬膜剤N,N′−エチレンビス−(ビニルスルフ
オニルアセトアミド)、4,4′−ビス〔2,6−ジ(ナフチ
ル−2−オキシ)ピリミジン−4−イルアミノ〕スチル
ベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム塩のメタノール
溶液(4.4×10-3M/l)45cc、帯電調整剤パーフルオロオ
クタンスルホン酸テトラエチルアンモニウム塩(III-2
2)の水溶液及び本発明のノニオン界面活性剤水溶液、
イオン性界面活性剤及び特定のポリマーの水溶液を表1
のごとく添加して塗布液とした。
スチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、ポリアクリル酸ソ
ーダ水溶液、マツト剤ポリメチルメタクリレート微粒子
(平均粒子サイズ3.0μm)及びポリ(メチルアクリレ
ート/アクリル酸=85:15)共重合体の微粒子(粒径4.0
μm)、硬膜剤N,N′−エチレンビス−(ビニルスルフ
オニルアセトアミド)、4,4′−ビス〔2,6−ジ(ナフチ
ル−2−オキシ)ピリミジン−4−イルアミノ〕スチル
ベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム塩のメタノール
溶液(4.4×10-3M/l)45cc、帯電調整剤パーフルオロオ
クタンスルホン酸テトラエチルアンモニウム塩(III-2
2)の水溶液及び本発明のノニオン界面活性剤水溶液、
イオン性界面活性剤及び特定のポリマーの水溶液を表1
のごとく添加して塗布液とした。
(4)バツク塗布液の調製 40℃に加温された10wt%ゼラチン水溶液1Kgに増粘剤ポ
リスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、構造式Cの染料
水溶液(5×10-2モル/l)50cc、硬膜剤N,N′−エチレ
ンビス(ビニルスルホニルアセトアミド)水溶液、塗布
助剤t−オクチルフエノキシエトキシエトキシエタンス
ルフオン酸ナトリウム水溶液、ポリアクリル酸ソーダ水
溶液、ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸=9
5:5)重合体からなる微粒子(該微粒子はポリ(スチレ
ン/スチレンスルホン酸=50:50)のポリマーを5重量
%含有したもの)(粒径0.9μm)、デキストラン水溶
液、とを加えて塗布液とした。
リスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、構造式Cの染料
水溶液(5×10-2モル/l)50cc、硬膜剤N,N′−エチレ
ンビス(ビニルスルホニルアセトアミド)水溶液、塗布
助剤t−オクチルフエノキシエトキシエトキシエタンス
ルフオン酸ナトリウム水溶液、ポリアクリル酸ソーダ水
溶液、ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸=9
5:5)重合体からなる微粒子(該微粒子はポリ(スチレ
ン/スチレンスルホン酸=50:50)のポリマーを5重量
%含有したもの)(粒径0.9μm)、デキストラン水溶
液、とを加えて塗布液とした。
(5)バツク層の最外層用塗布液の調製 40℃に加温された10wt%ゼラチン水溶液にポリスチレン
スルフオン酸ソーダ水溶液、ポリメチルメタクリレート
微粒子(平均粒子サイズ4.2μm)、ポリ(メチルメタ
クリレート/スチレン/ドデシルフルオロヘプチルメタ
クリレート/スチレンスルフイン酸=60:20:15:5)共重
合体の微粒子(粒径1.0μm)、デキストラン(分子量
3.7万)、アクリルアミド(分子量0.8万)、t−オクチ
ルフエノキシエトキシエトキシエタンスルフオン酸ナト
リウム水溶液及びポリオキシエチレンセチルエーテル及
び下記構造の含フツ素化合物の水溶液とを添加して塗布
液とした。
スルフオン酸ソーダ水溶液、ポリメチルメタクリレート
微粒子(平均粒子サイズ4.2μm)、ポリ(メチルメタ
クリレート/スチレン/ドデシルフルオロヘプチルメタ
クリレート/スチレンスルフイン酸=60:20:15:5)共重
合体の微粒子(粒径1.0μm)、デキストラン(分子量
3.7万)、アクリルアミド(分子量0.8万)、t−オクチ
ルフエノキシエトキシエトキシエタンスルフオン酸ナト
リウム水溶液及びポリオキシエチレンセチルエーテル及
び下記構造の含フツ素化合物の水溶液とを添加して塗布
液とした。
C8F17SO3Kおよび C8F17SO2N(C3H7)(CH2CH2O4CH2 4SO3Na (6)塗布試料の作成 前述のバツク塗布液をバツク層の最外層塗布液とともに
ポリエチレンテレフタレート支持体の一方の側にゼラチ
ン塗布量4g/m2となるように塗布した。これに続いて支
持体の反対の側に(2)で述べた赤外増感色素入りの乳
剤塗布液と最外層塗布液とを塗布銀量が3.5g/m2となる
ように塗布した。
ポリエチレンテレフタレート支持体の一方の側にゼラチ
ン塗布量4g/m2となるように塗布した。これに続いて支
持体の反対の側に(2)で述べた赤外増感色素入りの乳
剤塗布液と最外層塗布液とを塗布銀量が3.5g/m2となる
ように塗布した。
得られた試料フイルムを後述する方法で、それぞれコン
タクト写真性、レーザースキヤナー部分と自動現像機部
分に使用されるウレタンローラーに対するスタチツクマ
ーク、同様にステンレス部分に対する機械搬送性テスト
および現像ムラテストを行つた。
タクト写真性、レーザースキヤナー部分と自動現像機部
分に使用されるウレタンローラーに対するスタチツクマ
ーク、同様にステンレス部分に対する機械搬送性テスト
および現像ムラテストを行つた。
現像液及び定着液の組成は次の通りである。
〈現像液〉 水酸化カリウム 17g 亜硫酸ナトリウム 60g ジエチレントリアミン五酢酸 2g 炭酸カリ 5g ホウ酸 3g ヒドロキノン 25g ジエチレングリコール 12g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フエニル−3
−ピラゾリドン 1.65g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.6g 酢酸 1.8g 臭化カリウム 2g 水で1とする(pH10.35に調整する)。
−ピラゾリドン 1.65g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.6g 酢酸 1.8g 臭化カリウム 2g 水で1とする(pH10.35に調整する)。
〈定着液〉 チオ硫酸アンモニウム 140g 亜硫酸ナトリウム 15g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水塩 25mg 水酸化ナトリウム 6g 水で1とする(酢酸pH4.95に調整する)。
現像工程は以下の通りである。
処理温度、時間 現像 35℃×11.5秒 定着 35℃×12.5秒 水洗 20℃×7.5秒 乾燥 60℃ Dry to Dry処理時間 60秒 (7)スタチツクマークの評価 未露光の試料を25℃、10%RHで2時間調湿した後、、同
一空調条件の暗室中に於いて試料を、ウレタンゴムロー
ラーで摩擦した後、前述の方法で現像処理した。
一空調条件の暗室中に於いて試料を、ウレタンゴムロー
ラーで摩擦した後、前述の方法で現像処理した。
そのスタチツクマーク発生度の評価は以下の4段階に分
けて行つた。
けて行つた。
A:スタチツクマークの発生が全く認められず B: 〃 〃 少し認められる C: 〃 〃 かなり認められる D: 〃 〃 ほぼ全面に認められる (8)コンタクト写真性の評価は以下の方法で行つた。
試料フイルム4cm×4cmを25℃、70%相対湿度で3時間調
湿し、試料の感光層側とバツク層側の面を重ね合わせて
同一条件下で調湿した袋中に入れて密封した。このよう
にして調整した試料の上に1Kgの荷重を均一にかけ、25
℃下、1週間経時した後、試料を現像しその写真性のム
ラを以下の4段階で評価した。
湿し、試料の感光層側とバツク層側の面を重ね合わせて
同一条件下で調湿した袋中に入れて密封した。このよう
にして調整した試料の上に1Kgの荷重を均一にかけ、25
℃下、1週間経時した後、試料を現像しその写真性のム
ラを以下の4段階で評価した。
A:画像のムラ発生が全く認められない B: 〃 少し認められ。
C: 〃 かなり認められる。
D: 〃 ほぼ全面に認められる。
(9)機械搬送性テストの評価は以下の方法で行なつ
た。
た。
試料フイルム12cm×30cmを25℃、10%相対湿度で3時間
調湿し同温度、湿度下でウレタンゴムローラー(直径3c
m)の間を通した後、水平面に対し45°の角度を有した
ステンレス板の上をバツク層側をステンレス面に向けて
自然落下させた。この時の試料フイルムの平らなステン
レス(130cm×90cm)への付着状態を以下の4段階で評
価した。
調湿し同温度、湿度下でウレタンゴムローラー(直径3c
m)の間を通した後、水平面に対し45°の角度を有した
ステンレス板の上をバツク層側をステンレス面に向けて
自然落下させた。この時の試料フイルムの平らなステン
レス(130cm×90cm)への付着状態を以下の4段階で評
価した。
A:ステンレスへの付着は全くなくスムースに落下した。
B:ステンレスへの付着が弱く認められ落下するのに少し
時間がかかつた。
時間がかかつた。
C:ステンレスへの付着が認められ落下するのにかなり時
間がかかつた。
間がかかつた。
D:ステンレス上へ付着し落下しなかつた。
(10)現像ムラ評価方法 試料フイルム35cm×25cmを前記現像・定着・水洗・乾燥
工程を通じて処理し、次の4段階でその現像ムラを評価
した。
工程を通じて処理し、次の4段階でその現像ムラを評価
した。
A:画像のムラが全く認められない B: 〃 少し認められる C: 〃 かなり認められる D: 〃 ほぼ全面に認められる 第1表から明らかなように、本発明のノニオン界面活性
剤、イオン性界面活性剤及び特定のポリマーを併用した
試料(1−8〜1-13)は、相対湿度10%といつた湿度条
件下においてスタチツクマークの発生が殆んど認められ
ないすぐれた帯電防止効果を有するだけでなくコンタク
ト写真性、機械搬送性共に良いものであり、かつ現像ム
ラの発生は全く認められない。これに対して、コントロ
ールでは、帯電防止性、機械搬送性が著しく劣り、又現
像ムラも悪い。一方ノニオン性界面活性剤イオン性界面
活性剤及び特定のポリマーのいずれか1つを用いない比
較試料l−2〜l−7ではスタチツクマーク、機械搬送
性、現像ムラのすべてを満足することはできなく、又比
較試料1-14〜1-15は、イオン性界面活性剤の溶解性が0.
005%以下であるためにやはり現像ムラが悪く本発明に
比べ大きく劣る。
剤、イオン性界面活性剤及び特定のポリマーを併用した
試料(1−8〜1-13)は、相対湿度10%といつた湿度条
件下においてスタチツクマークの発生が殆んど認められ
ないすぐれた帯電防止効果を有するだけでなくコンタク
ト写真性、機械搬送性共に良いものであり、かつ現像ム
ラの発生は全く認められない。これに対して、コントロ
ールでは、帯電防止性、機械搬送性が著しく劣り、又現
像ムラも悪い。一方ノニオン性界面活性剤イオン性界面
活性剤及び特定のポリマーのいずれか1つを用いない比
較試料l−2〜l−7ではスタチツクマーク、機械搬送
性、現像ムラのすべてを満足することはできなく、又比
較試料1-14〜1-15は、イオン性界面活性剤の溶解性が0.
005%以下であるためにやはり現像ムラが悪く本発明に
比べ大きく劣る。
また、本発明のフイルム試料に780mmの波長を有する半
導体レーザーキヤナーを用いて光楔露光を行つて前述の
方法で現像・定着を行い、更に水洗し所定の黒白像をも
つストリツプスを得た。
導体レーザーキヤナーを用いて光楔露光を行つて前述の
方法で現像・定着を行い、更に水洗し所定の黒白像をも
つストリツプスを得た。
これらの写真性は良好な感度、階調を示し、カブリも少
なく優れたものであつた。
なく優れたものであつた。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体の一方の側に赤外分光増感されたハ
ロゲン化銀乳剤層を少なくとも1層有してなるハロゲン
化銀感光材料を露光・現像・定着して画像形成する方法
において、該ハロゲン化銀感光材料の乳剤層のある側
に、 (1)少なくとも1種のノニオン界面活性剤、 (2)現像液に対する溶解度が0.005重量%以上(30
℃)でかつ1重量%水溶液にしたときの表面張力が45ダ
イン/cm以下(30℃)であるイオン性界面活性剤の少な
くとも1種、および (3)デキストラン誘導体、セルロース誘導体もしくは
下記一般式〔L〕で表される重合体から選ばれる少なく
とも1種 を組み合わせて有し、かつ現像時間が15秒以内で処理さ
れることを特徴とする画像形成方法。 一般式〔L〕 XxYy 式中、Xはアクリルアミド類モノマー残基を、YはXと
共重合可能なX以外のモノマー残基を表し、2種以上の
混合物でもよい。xは70〜100モル%、yは30〜0モル
%を表す。また分子量は2000から50万である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156276A JPH0786672B2 (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156276A JPH0786672B2 (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 画像形成方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS64951A JPS64951A (en) | 1989-01-05 |
| JPH01951A JPH01951A (ja) | 1989-01-05 |
| JPH0786672B2 true JPH0786672B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=15624274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62156276A Expired - Lifetime JPH0786672B2 (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786672B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0497344A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-30 | Konica Corp | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
| GB9807498D0 (en) * | 1998-04-08 | 1998-06-10 | Ici Plc | Production of unsaturated acids therfore and catalysts therfor |
| CN114062222B (zh) * | 2021-11-12 | 2024-07-23 | 烟台核晶陶瓷新材料有限公司 | 陶瓷过滤板检测液的制备方法及陶瓷过滤板的检测方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0677137B2 (ja) * | 1986-12-16 | 1994-09-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 現像処理方法 |
| JPH0677136B2 (ja) * | 1986-12-16 | 1994-09-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 現像処理方法 |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP62156276A patent/JPH0786672B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS64951A (en) | 1989-01-05 |
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