JPH0789737B2 - 溶融金属供給装置 - Google Patents

溶融金属供給装置

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JPH0789737B2
JPH0789737B2 JP1017882A JP1788289A JPH0789737B2 JP H0789737 B2 JPH0789737 B2 JP H0789737B2 JP 1017882 A JP1017882 A JP 1017882A JP 1788289 A JP1788289 A JP 1788289A JP H0789737 B2 JPH0789737 B2 JP H0789737B2
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JP
Japan
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molten metal
cylinder
decompression
duct
tank
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JP1017882A
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邦明 三浦
正憲 野崎
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Sukegawa Electric Co Ltd
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Sukegawa Electric Co Ltd
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  • Casting Support Devices, Ladles, And Melt Control Thereby (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、溶湯槽の中から溶融金属を移送する溶融金属
供給装置に関する。
[従来の技術] 従来の溶融供給装置は、第3図のように、誘電子3をセ
ラミック保護容器14で被覆し、上記誘電子3が溶融金属
bの液面より下方に位置するように浸漬させて使用する
浸漬型電磁ポンプaと、第4図のように、溶湯槽4内の
溶融金属bの液面より下方に、溶湯導入口17を穿設し、
上記溶湯導入口17に接続されたダクト10に誘導子3を配
置した外置型電磁ポンプaが使用されていた。
このように、現在一般的に使用されている上記2例の場
合、電磁ポンプaが設置される箇所が、溶湯槽4の内と
外ということで、この点では明確に相違するが、いずれ
も誘電子3によって移動磁界を発生し、発生した移動磁
界を利用して溶融金属bを吸引し、さらに移送する点で
共通している。
[発明が解決しようとする課題] しかし、前記従来例のような電磁ポンプaを使用した場
合、各々次のような問題点を有していた。
まず、浸漬型電磁ポンプaは、耐蝕性、耐熱性のあるセ
ラミック製の保護容器14で、誘電子3を保護しなければ
ならず、このコストにより装置自体が非常に高額なもの
となってしまう。さらに、このセラミック製の保護容器
14は、熱衝撃や機械的衝撃に弱く、操作時に十分慎重な
取扱いが要求された。
また、もう一方の外置型電磁ポンプaは、溶湯槽4の下
方に溶湯導入口17を穿設せざるを得ないため、既存の溶
湯槽4にそのまま簡便に設置することができない。ま
た、上記溶湯導入口17とダクト10の継目からの溶融金属
bの漏れが生じやすい。
そこで本発明は、上記2つの型式の溶融金属供給装置の
各々の欠点を同時に解消することを目的とする。
[課題を解決するための手段] すなわち、本発明は、溶融金属bを蓄えている溶湯槽4
からダクト10を通して溶融金属bの移送先に溶融金属b
を送る溶融金属供給装置において、下端が開口し、上端
が閉塞され、下端が上記溶湯槽4内の溶融金属bに浸漬
された減圧筒1と、この減圧筒1の中間部に接続された
ダクト10と、このダクト10の途中に配置され、ダクト10
内の溶融金属bに推力を与える誘導子3と、減圧筒1の
上端に接続され、減圧筒1内を減圧する減圧系と、減圧
筒1内に挿入され、その中の溶融金属bの液位を検知す
るレベル計5と、このレベル計5により検知される減圧
筒1内の溶融金属bの液位により、その液位がほぼ一定
になるよう上記減圧系を制御する制御系とを有すること
を特徴とする溶融金属供給装置を提供する。
[作用] 上記本発明の溶融金属供給装置によれば、減圧筒1は上
端が閉塞され、開口した下端が溶湯槽内内に浸漬されて
おり、且つ同減圧筒1が減圧系により減圧されるため、
大気圧によって溶湯槽4内の溶融金属bが同減圧筒1内
に引き上げられる。さらに、この減圧筒1内には、その
内部に引き上げられた溶融金属bの液面を検知するレベ
ル計5が設けられ、このレベル計5が検知した液位がほ
ぼ一定になるよう制御系により減圧系が制御される。
このため、誘電子3を駆動させると、減圧筒1内に引き
上げられた溶融金属bを同減圧筒1の中間部からダクト
10を通して送ることができる。この場合、減圧筒1内部
に引き上げられた溶融金属bの液位が、ほぼ一定になる
よう制御されるため、減圧筒1の中間部のダクト10の入
口における溶融金属bの初期水頭はほぼ一定となり、安
定して溶融金属bを移送先に送ることができる。
[実 施 例] 以下、第1図及び第2図を参照にしながら、本発明によ
る溶融金属供給装置の実施例について説明する。
減圧筒1は、例えば、常圧焼成の緻密質セラミック(Si
3N4)から出来ており、その上部に減圧筒1内に取り込
まれた溶融金属bの液面を検知するレベル計5と、真空
ポンプ8、減圧タンク7に接続された減圧筒1内を減圧
するための減圧系9が接続している。そして、上記のよ
うな構造となっている減圧筒1に溶融金属bをチャージ
する場合、ダクト10に取り付けてあるダクトバルブ11を
閉鎖し、減圧筒9を作動させて、大気圧によりレベル計
5に溶融金属bが達するように、減圧筒1内を十分に減
圧する。
そこで、溶融金属bがレベル計5に達したら、減圧バル
ブ12を閉鎖し、溶融金属bの減圧筒1内の気圧をそのま
ま維持し、これをもって給湯前の準備が完了する。つま
り、この時点では、減圧筒1内にh2+h3の揚程に相当す
る大気圧がかかり、その中の溶融金属bのレベルが維持
されることになる。
続いてダクトバルブ11を開放して、給湯することになる
が、連続した給湯が可能となるように、上記減圧筒1内
に吸引された溶融金属bの液面が、ダクト10を通って移
送されることによって低下しないように、ほぼ一定の高
さに維持する。この場合の減圧筒1内の液面の制御手段
として次の2つの方法がある。
その1つの方法として、減圧筒1内の溶融金属bの揚程
h2は、移送先への給湯時に、ダクト10の導入口でギャビ
テーションを起さないように、最低でも溶湯槽内の液面
変化分h1に、導入口圧損h4を加えたもの以上になるよう
予めセットしておく方法がある。この方法では、給湯に
よって溶湯槽内の液面の低下h1が生じ、さらに伴って減
圧筒1内の液面の低下h2が生じても、給湯前に制御系18
に接続したレベル計5を利用して、十分な高さの液面に
なるように、減圧タンク7内の圧力を調整するので、給
湯時には減圧タンク7内の圧力を調整する必要がない。
また、もう1つの方法として、溶湯槽4内に溶融金属b
の液面変化分を検知するレベル計5′と、給湯時にレベ
ル計5、5′によって検知された液面変化分を計測、比
較演算して、減圧ポンプ内の圧力を制御する制御系18を
設ける方法である。この方法では、給湯前の減圧筒1内
の揚程h2は、導入口圧損h4を越える程度でよいことにな
り、給湯時に溶湯槽4内の溶融金属bの液面変化分をレ
ベル計5′によって、減圧筒1内の溶融金属bの液面変
化分をレベル計5によってそれぞれ検知し、それらを制
御系18の液面計測器14、14′で計測し、この値を基に比
較演算器16で減圧筒1内に一定の液面を保持するために
必要な圧力を比較演算し、この演算結果から減圧ポンプ
制御器17に制御信号を出力し、減圧ポンプ7内の圧力の
調整を行なう。
さらに、第1図に示すように、上記減圧筒1において、
溶湯槽4内の溶融金属bの液面より上方に吸引された溶
融金属bが、放熱により凝固しないように、上記減圧筒
1の上方にヒータ2を取り付ける。これにより、放熱に
よる流動性の低下による圧損増加を、未然に防止するこ
とが可能である。
[発明の効果] 以上の説明からも明らかなように、本発明による溶融金
属供給装置によれば、誘電子3が溶湯槽4外のダクト10
に取り付けられるので、従来の浸漬型電磁ポンプを使用
する必要が無く、誘電子3を高価な保護容器で保護する
必要がない。
また、減圧筒1で吸引した溶融金属bを、ダクト10を通
して溶湯槽4を隔てた上方より移送先に送ることができ
るので、従来の外置型電磁ポンプを使用した溶融金属供
給装置のように、溶湯槽4の下方に溶湯導入口17を穿設
する必要がなく、溶湯導入口17より溶融金属bが漏出す
る危険が回避される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による実施例を示す溶融供給装置の縦
断面図、第2図は、本発明による実施例の中で構成され
る制御系を示すブロック図、第3図及び第4図は、従来
の溶融供給装置を示す縦断面図である。 1……減圧筒、2……ヒータ、3……誘電子、4……溶
湯槽、5、5′……レベル計、7……減圧タンク、8…
…真空ポンプ、9……減圧系、10……ダクト、11……ダ
クトバルブ、12……減圧バルブ、14、14′……液面計測
器、16……比較演算器、17……減圧ポンプ制御器、18…
…制御系、a……電磁ポンプ、b……溶融金属

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】溶融金属(b)を蓄えている溶湯槽(4)
    からダクト(10)を通して溶融金属(b)の移送先に溶
    融金属(b)を送る溶融金属供給装置において、下端が
    開口し、上端が閉塞され、下端が上記溶湯槽(4)内の
    溶融金属bに浸漬された減圧筒(1)と、この減圧筒
    (1)の中間部に接続されたダクト(10)と、このダク
    ト(10)の途中に配置され、ダクト(10)内の溶融金属
    (b)に推力を与える誘導子(3)と、減圧筒(1)の
    上端に接続され、減圧筒(1)内を減圧する減圧系と、
    減圧筒(1)内に挿入され、その中の溶融金属(b)の
    液位を検知するレベル計(5)と、このレベル計(5)
    により検知される減圧筒(1)内の溶融金属(b)の液
    位により、その液位がほぼ一定になるよう上記減圧系を
    制御する制御系とを有することを特徴とする溶融金属供
    給装置。
JP1017882A 1989-01-28 1989-01-28 溶融金属供給装置 Expired - Lifetime JPH0789737B2 (ja)

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JP1017882A JPH0789737B2 (ja) 1989-01-28 1989-01-28 溶融金属供給装置

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JPH02202352A JPH02202352A (ja) 1990-08-10
JPH0789737B2 true JPH0789737B2 (ja) 1995-09-27

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2231762B1 (ja) * 1973-05-30 1976-05-28 Activite Atom Avance
JPS62261997A (ja) * 1986-05-08 1987-11-14 株式会社東芝 ポンプリ−クフロ−処理装置

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