JPH0790594A

JPH0790594A - チタン系複合酸化物形成用塗布液

Info

Publication number: JPH0790594A
Application number: JP23829093A
Authority: JP
Inventors: Akira Hashimoto; 晃橋本
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 1993-09-24
Filing date: 1993-09-24
Publication date: 1995-04-04

Abstract

(57)【要約】【構成】（イ）テトラアルコキシチタンとオキシ酸と
の反応生成物及び（ロ）チタン以外の金属の可溶性塩を
含む有機溶剤性溶液から成るチタン系複合酸化物形成用
塗布液である。【効果】従来の塗布液に比較し、優れた保存安定性を
有する上に、１回の塗布により所望の膜厚の複合酸化物
膜を基板上に形成しうる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、チタン系複合酸化物を
形成するための、安定な塗布液に関するものである。さ
らに詳しくいえば、本発明は、ケイ素、ガラス、セラミ
ックス、金属などの基板上に、誘電性、圧電性、焦電
性、電歪、電気光学的性質を示すチタン系複合酸化物被
膜を形成するのに用いられる安定な塗布液に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】チタン系複合酸化物は、ＢａＴｉＯ
₃系、Ｐｂ（Ｆｅ、Ｗ）Ｏ₃−Ｐｂ（Ｆｅ、Ｎｂ）Ｏ
₃系、Ｐｂ（Ｎｉ、Ｎｂ）Ｏ₃−Ｐｂ（Ｍｇ、Ｗ）Ｏ₃−
ＰｂＴｉＯ₃系、Ｐｂ（Ｍｇ、Ｎｂ）Ｏ₃−Ｐｂ（Ｎｉ、
Ｎｂ）Ｏ₃−ＰｂＴｉＯ₃系、Ｂａ₂、Ｔｉ ₉Ｏ₂₀系、（Ｚ
ｒ、Ｓｎ）ＴｉＯ₄系、ＭｇＴｉＯ₃−ＣａＴｉＯ₃系、
ＭｇＯ−ＴｉＯ₂−Ｌａ₂Ｏ₃−ＣａＯ系、（Ｓｒ、Ｃ
ａ）［（Ｌｉ、Ｎｂ）Ｔｉ］Ｏ₃系、ＢａＯ・Ｓｍ₂Ｏ₃
・５ＴｉＯ₂系、ＢａＯ−ＰｂＯ−Ｎｄ₂Ｏ₃−ＴｉＯ₂系
の誘電体として、ＢａＴｉＯ₃系、ＰｂＴｉＯ₃−ＰｂＺ
ｒＯ₃系、ＰｂＴｉＯ₃−ＰｂＺｒＯ₃−Ｐｂ（Ｍｇ、Ｎ
ｂ）Ｏ₃系の圧電体として、あるいはＢａＴｉＯ₃系、Ｓ
ｒＴｉＯ₃系の誘電体、圧電体、バリスタなどとして広
く用いられている。それらに特有の物性を利用して、超
音波洗浄、蓄電器のピックアップ振動子、通信用フィル
ター、音波遅延回路、高電圧発生用トランス、赤外線セ
ンサーなどの電子素子や着火素子、各種の電気光学材
料、超電導材料などの用途に供されている。

【０００３】ところで、基板上にチタン系複合酸化物を
形成するには、基板上に、チタン化合物とともに、Ｐ
ｂ、Ｚｒ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｇなど複合酸化物の成分とな
る金属の化合物を含む溶液を塗布し、乾燥及び焼成する
方法が、操作が容易で、複雑形状の表面への適用可能な
ことから推奨されている。

【０００４】しかしながら、一般にこの方法で金属の化
合物として用いられている金属アルコキシドは、加水分
解しやすく、塗布液を調製し保存しているうちに分解し
て固形分を析出し、これを用いると生成する被膜が不均
一になるという欠点がある。

【０００５】このような欠点を改善し、保存安定性を向
上させるために、官能基としてアルコキシル基及びβ‐
ジケトン基を有する有機金属化合物溶液を使用すること
や（特開昭６１−９７１５９号公報）、鉛アルコキシド
又は鉛塩、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキ
シドを含む溶液について、エタノールアミンとアルコー
ルを配合すること（特開平２−６３３５号公報）が提案
されているが、いずれも十分な保存安定性を得ることが
できず、実用的ではない。

【０００６】他方、基板上に強誘電体膜のように、ある
程度の膜厚を必要とする複合酸化物被膜を形成させる場
合、これまでの塗布液では、必要な膜厚が得られるまで
何回も重ね塗りをしなければならず、操作が煩雑になる
のを避けられない。したがって、１回の塗布、焼成で所
望の膜厚が得られるような複合酸化物形成用塗布液が要
望されていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、十分に実用的な保存安定性を有し、しか
も１回の塗布、焼成によって十分に厚膜の被膜を得るこ
とができるチタン系複合酸化物形成用塗布液を提供する
ことを目的としてなされたものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、保存安定
性が良好で、しかも厚膜の塗膜を得るのに適したチタン
系複合酸化物形成用塗布液を開発するために鋭意研究を
重ねた結果、チタンのアルコキシド又はその錯体化合物
をオキシ酸との反応生成物として、他の必要な金属の可
溶性塩とともに含有させることにより保存安定性を著し
く向上させること及びこの塗布液にさらに可溶性ポリマ
ーを配合させると１回の塗布で厚膜の塗膜が得られるこ
とを見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至っ
た。

【０００９】すなわち、本発明は、（イ）テトラアルコ
キシチタン又はその錯体化合物と、オキシ酸との反応生
成物、（ロ）チタン系複合酸化物の成分となるチタン以
外の金属の可溶性塩、及び所望によりさらに（ハ）可溶
性ポリマーを含む有機溶剤性溶液から成るチタン系複合
酸化物形成用塗布液を提供するものである。

【００１０】本発明の（イ）成分は、テトラアルコキシ
チタン又はその錯体化合物とオキシ酸との反応生成物で
あるが、このテトラアルコキシチタンは、一般式Ｔｉ（ＯＲ）₄ … Ｉ（式中のＲはアルキル基であって、各Ｒは同一でも異な
っていてもよい）で表わされる化合物である。このよう
な化合物としては、例えばテトラメトキシチタン、テト
ラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブ
トキシチタン、テトラペントキシチタン、テトラヘキソ
キシチタン、トリメトキシエトキシチタン、ジメトキシ
ジエトキシチタン、ジメトキシジプロポキシチタン、ジ
エトキシジプロポキシチタン、トリエトキシブトキシチ
タン、ジエトキシジブトキシチタンなどを挙げることが
できる。これらのテトラアルコキシチタンは、単独で用
いてもよいし、また２種以上混合して用いてもよい。

【００１１】本発明においては、上記のテトラアルコキ
シチタンの代りにその錯化合物を用いることもできる
が、この錯体化合物は、例えばテトラアルコキシチタン
にβ‐ジケトン化合物やグリコール化合物を付加させる
ことによって得られるものである。この際に用いられる
β‐ジケトンの例としては、アセチルアセトン、トリフ
ルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセ
トン、ベンンゾイルアセトン、ベンゾイルトリフルオロ
アセトン、ジベンゾイルメタン、アセト酢酸メチルエス
テル、アセト酢酸エチルエステル、アセト酢酸ブチルエ
ステルなどが、またグリコール化合物の例としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、トリメチレング
リコール、ブタンジオール、ヘキシレングリコールなど
がある。これらは単独で用いてもよいし、また２種以上
混合して用いてもよい。さらにテトラアルコキシチタン
と混合して用いてもよい。

【００１２】本発明の塗布液で用いられる（イ）成分
は、上記チタン化合物又はその錯体化合物をオキシ酸と
反応させて得られる反応生成物であるが、オキシ酸とし
ては、例えばグリコール酸、乳酸、ヒドロキシアクリル
酸、オキシ酪酸、リンゴ酸などを挙げることができる
が、特に好ましいのは乳酸である。これらのオキシ酸は
単独で用いてもよいし、また２種以上混合して用いても
よい。

【００１３】テトラアルコキシチタン又はその錯体化合
物とオキシ酸との反応は、例えばテトラアルコキシチタ
ン又はその錯体化合物を適当な有機溶剤に溶解し、これ
にオキシ酸を加え、かきまぜることによって行うことが
できる。この際、必要ならば加熱して反応を促進させる
こともできる。

【００１４】オキシ酸の使用量は、テトラアルコキシチ
タン又はその錯体化合物１モルに対し、０．５〜２．０
モル、好ましくは０．７〜１．２モルの範囲内で選ばれ
る。反応生成物の存在は、例えば、テトラアルコキシチ
タンまたその錯体化合物はそれぞれ単独では、水に溶解
せず、析出したり、ゲル化したりするが、これらとオキ
シ酸を接触させることにより得られる生成物が水に可溶
となることから確認することができる。

【００１５】本発明における（イ）成分は、あらかじめ
調製したものを用いてもよいが、テトラアルコキシチタ
ン又はその錯体化合物と（ロ）成分とを所定の割合で含
む有機溶剤中に所定量のオキシ酸を添加し、その場で生
成させるのが有利である。

【００１６】次に本発明において（ロ）成分として用い
る金属の可溶性塩は、チタンとともに所望のチタン系複
合酸化物を構成するのに必要な金属の可溶性塩であっ
て、上記の金属は、これまで知られているチタン系複合
酸化物の金属成分の中から任意に選ぶことができ、特に
制限はない。このような金属としては、例えば、Ｐｂ、
Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、
Ｗ、Ｌａ、Ｙ、Ｌｉなどを挙げることができる。

【００１７】これらの金属の可溶性塩としては、例えば
Ｂａ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｌａ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₃
ｎＨ₂Ｏ、Ｐｂ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｌｉ（ＣＨ₃
ＣＯＯ）ｎＨ₂Ｏ、Ｚｎ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｓｒ
（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｙ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₃ｎＨ
₂Ｏ、Ｍｇ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂ｎＨ₂Ｏなどの有機カルボン
酸塩、これらの有機カルボン酸塩と乳酸との反応生成
物、Ｂａ（ＮＯ₃）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｌａ（ＮＯ₃）₃ｎＨ₂Ｏ、
Ｐｂ（ＮＯ₃）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｌｉ（ＮＯ₃）ｎＨ₂Ｏ、Ｍｇ
（ＮＯ₃）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｓｒ（ＮＯ₃）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｚｎ（Ｎ
Ｏ₃）₂ｎＨ₂Ｏ、Ｙ（ＮＯ₃）₃ｎＨ₂Ｏなどの硝酸塩、Ｓ
ｒ［ＯＣＯＣＨ（ＣＨ₃）ＯＨ］₂・Ｈ₂Ｏ、Ｂａ［ＯＣ
ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＯＨ］₂・Ｈ₂Ｏ、Ｌｉ［ＯＣＯＣＨ
（ＣＨ₃）ＯＨ］ ₂・Ｈ₂Ｏなどの乳酸塩を挙げることが
できるが、これらに限定されるものではなく、塗布液に
使用される有機溶剤に可溶な塩であれば、どのようなも
のでも用いることができる。これらの可溶性塩は、単独
で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いることも
できる。

【００１８】（イ）成分と（ロ）成分との使用割合は、
所望の複合酸化物中の各金属の原子比に応じて定められ
るが、通常、チタン１当量当り、それ以外の金属の合計
量０．１〜５当量好ましくは０．２〜３当量の範囲内で
選ばれる。

【００１９】本発明においては、（イ）成分と（ロ）成
分とをそれらを溶解しうる有機溶剤中に溶解させたもの
であるが、このような有機溶剤としては、例えばメチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、ｎ‐プロピルアルコール、ｎ‐ブチルアルコール、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ジヘキシレングリコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエー
テル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレン
グリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジ
ベンジルエーテル、エチレングリコールメチルエチルジ
エーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プ
ロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリ
コールジブチルエーテル、メチルカルビトール、エチル
カルビトール、ブチルカルビトール、フェニルカルビト
ール、ベンジルカルビトール、ジメチルカルビトール、
ジエチルカルビトール、ジブチルカルビトール、ジフェ
ニルカルビトール、ジベンジルカルビトール、メチルエ
チルカルビトール、ジプロピレングリコールジメチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールジブチルエーテル、乳酸などを挙
げることができる。これらの有機溶剤は単独で用いても
よいし、２種以上混合して用いてもよい。

【００２０】本発明においては、これらの成分に加え
て、厚膜性の塗膜の形成を容易にするために、所望に応
じ、さらに（ハ）成分として可溶性特にアルコール可溶
性のポリマーを配合することができる。このような可溶
性ポリマーとしては、その分子構造中に水酸基を有する
もの、例えば部分けん化したポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ホルマール樹脂、ブチラール樹脂、ポリ
グリセリンなど、あるいは２‐ヒドロキシメチルアクリ
レート、２‐ヒドロキシメチルメタクリレート、２‐ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２‐ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２‐ヒドロキシプロピルアクリレート、
２‐ヒドロキシプロピルメタクリレート、２‐ヒドロキ
シブチルアクリレート、２‐ヒドロキシブチルメタクリ
レートなどの水酸基をもつモノマーの単独重合体及び共
重合体を挙げることができる。そのほか、ポリビニルピ
ロリドンのような可溶性ポリマーも用いることができ
る。

【００２１】これらの可溶性ポリマーは、塗布液中に含
まれる（イ）成分と（ロ）成分の合計量１００重量部当
り１〜１００重量部好ましくは３〜４０重量部の範囲内
で配合される。この量が１重量部未満のものでは、１回
の塗布で厚膜の塗膜を形成することが困難になるし、１
００重量部よりも多くなると、形成されるチタン系複合
酸化物の物性が低下する。

【００２２】本発明の塗布液は、所定の有機溶剤中に、
（イ）成分と（ロ）成分及び場合により（ハ）成分を、
全固形成分濃度が５〜５０重量％の範囲になるように溶
解し、十分に分散させることによって調製される。

【００２３】このようにして得られた本発明の塗布液
は、プラスチックス、ガラス、セラミックス、金属ナイ
トライドや金属カーボネートなどの粉末を焼成して得ら
れた基板、金属、半導体基板などに塗布され、加熱する
ことで均一性に優れた強誘電体膜である複合金属酸化物
被膜を形成することができる。この場合の塗布手段とし
ては浸漬引き上げ法、スプレー法、スピンコート法、刷
毛塗り法、ロールコート法、印刷法、減圧吹付け法（Ｌ
ＳＣＵＤ法）のいずれの方法でも用いることができる。
また加熱手段としてはホットプレート加熱、熱風加熱、
バーナー加熱、赤外線加熱、レーザー加熱、高周波加
熱、急速加熱法（ＲＴＡ法）などを挙げることができ
る。加熱温度は２５０℃以上、好ましくは３５０℃以上
で化学的に安定した被膜を形成することができるが、基
板の材質などにより制限を受けるので、基板が耐えられ
る温度内で適宜選択する必要がある。

【００２４】

【発明の効果】本発明の塗布液は、従来の塗布液に比べ
て極めて優れた保存安定性を示し、長期間にわたって保
存してもその性能が低下することはないし、また、１回
の塗布により、容易に所望の膜厚の複合酸化物膜を基板
上に形成しうるという利点を有するので、基板上に強誘
電体膜のような特定の電気的特性をもつセラミックス膜
を形成させるための塗布液として好適である。

【００２５】

【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。

【００２６】実施例１エチレングリコールモノメチルエーテル５００ｇと乳酸
５４０ｇとを均一混合し、その中に酢酸ストロンチウム
半水塩１０７．３６ｇ（０．５モル）と酢酸バリウム１
２９．７ｇ（０．５モル）とを加え、１〜２時間反応さ
せて得られた溶液に、テトラブトキシチタン３４３．８
６ｇ（１モル）をゆっくり加えて反応させて得られた溶
液１６８．９ｇに、エチレングリコールモノメチルエー
テル２５０ｇを加え、均一に希釈したものを０．４５μ
ｍのフィルターにかけて塗布液を調製した。

【００２７】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そして１４０℃、３００℃、５００
℃、７００℃と各々３０分間焼成処理を行うことで透明
で均一な膜厚７６０Åの強誘電体膜を形成することがで
きた。

【００２８】また、調製した塗布液は室温で３か月間静
置しても、塗布液中に析出物などは全く認められなかっ
た。

【００２９】実施例２エチレングリコールモノメチルエーテル５００ｇと乳酸
３６０ｇとを均一に混合し、その中に酢酸ストロンチウ
ム半水塩６４．４ｇ（０．３モル）と酢酸バリウム１７
８．８ｇ（０．７モル）とを加え、１〜２時間反応させ
て得られた溶液に、テトラブトキシチタン３４３．８６
ｇ（１モル）をゆっくりと加えて反応させて得られた溶
液１４４．７１ｇに、純水７．２ｇとエチレングリコー
ルモノメチルエーテル２７５ｇを加え、均一に希釈した
ものを０．４５μｍのフィルターにかけて塗布液を調製
した。

【００３０】次いで、３インチシリコンウエーハ上に、
塗布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
７５０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００３１】実施例３実施例２と同様にして反応させて得られた溶液１４４．
７１ｇに、純水７．２ｇとエチレングリコールモノメチ
ルエーテル２５０ｇを加え、均一に希釈し、さらにアセ
ト酢酸エチルエステル１７５ｇを加えてかきまぜて反応
させた。次にこの反応溶液に、ポリヒドロキシエチルメ
タクリレートの２６．３重量％エチレングリコールモノ
メチルエーテル溶液を４４．４７ｇを加えて、均一に混
合したものを０．４５μｍのフィルターにかけて塗布液
を調製した。

【００３２】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
９３０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００３３】実施例４エチレングリコールモノメチルエーテル３００ｇとプロ
ピレングリコール１５２．２ｇと乳酸３６０．３２ｇと
を均一に混合し、酢酸ストロンチウム半水塩２１４．７
２ｇ（１モル）を加え、１〜２時間反応させて得られた
溶液に、テトラブトキシチタン３４３．８６ｇ（１モ
ル）とプロピレングリコール６．１ｇと乳酸９０．０８
ｇから成る溶液を加えて、均一に混合したのち、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル５００ｇとプロピレン
グリコール５００ｇを加え、均一に希釈したものを０．
４５μｍのフィルターにかけて塗布液を調製した。

【００３４】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、６０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布液を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
７５０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００３５】実施例５エチレングリコールモノメチルエーテル５００ｇと乳酸
３６０ｇとを均一に混合し、酢酸バリウム２５５．４４
ｇ（１モル）を加え、１〜２時間反応させて得られた溶
液に、テトラブトキシチタン３４３．８６ｇ（１モル）
をゆっくりと加えて反応させ、さらに純水７２ｇとエチ
レングリコールモノメチルエーテル１０９．４４ｇを加
えて希釈し、さらにポリヒドロキシプロピルメタクリレ
ートの１９．５重量％エチレングリコールモノメチルエ
ーテル溶液６００ｇを加え、混合したものを０．４５μ
ｍのフィルターにかけて塗布液を調製した。

【００３６】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
２２５０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布
液は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは
全く認められなかった。

【００３７】実施例６エチレングリコールモノメチルエーテル５００ｇと乳酸
３６０ｇとを均一に混合し、酢酸バリウム７６．６３ｇ
（０．３モル）と酢酸ストロンチウム半水塩１５０．３
ｇ（０．７モル）とを加え、２〜３時間反応させて得ら
れた溶液に、テトラブトキシチタン３４３．８６ｇ（１
モル）中へアセチルアセトン１００．１２ｇを加えて得
られた溶液を加えて、均一に混合したのち、純水７２ｇ
とエチレングリコールモノメチルエーテル１７５０ｇを
加え、均一に希釈したものを０．４５μｍのフィルター
にかけて塗布液を調製した。

【００３８】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で膜厚７５０
Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液は室温
で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全く認め
られなかった。

【００３９】実施例７テトラブトキシチタン３４３．８６ｇ（１モル）に、エ
チレングリコールモノメチルエーテル７５０ｇを加え、
さらに乳酸１８０ｇを加えて得られた溶液に、アセチル
アセトン３８５ｇとエチレングリコールモノメチルエー
テル１５００ｇと硝酸ビスマス５水塩６４６．７５ｇ
（１．３モル）との混合溶液を加えたものを、０．４５
μｍのフィルターにかけて塗布液を調製した。

【００４０】次いで、３インチシリコンウエーハ上に、
塗布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
８６０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００４１】実施例８テトラブトキシチタン３４３．８６ｇ（１モル）に、プ
ロピレングリコール７６．１ｇを加え、さらに乳酸９
０．０８ｇを加えて得られた溶液に、プロピレングリコ
ール１５２．２ｇとエチレングリコールモノメチルエー
テル８００ｇと乳酸３６０．３２ｇと酢酸ストロンチウ
ム半水塩６４．４０ｇ（０．３モル）と酢酸バリウム１
７８．８０ｇとの混合溶液を加えたものを、０．４５μ
ｍのフィルターにかけて塗布液を調製した。

【００４２】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、４０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
７５０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００４３】実施例９テトラアルコキシチタンと乳酸との反応物として市販さ
れているＴＬＡ（商品名、日本曹達社製）３４０ｇをエ
チレングリコールモノメチルエーテル５００ｇに加え、
さらに酢酸ストロンチウム半水塩１０７．３６ｇ（０．
５モル）と酢酸バリウム１２９．７ｇ（０．５モル）を
加え、１〜２時間反応させて得られた溶液に、エチレン
グリコールモノメチルエーテル２５０ｇを加えたもの
を、０．４５μｍのフィルターにかけて塗布液を調製し
た。

【００４４】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
７５０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００４５】実施例１０テトラブトキシチタンとアセチルアセトンとの反応物と
して市販されているＴＡＡ（商品名、日本曹達社製）３
４０ｇとエチレングリコールモノメチルエーテル５００
ｇと乳酸５４０ｇとを均一混合し、さらに酢酸ストロン
チウム１０７．３６ｇ（０．５モル）と酢酸バリウム１
２９．７ｇ（０．５モル）を加え、１〜２時間反応させ
て得られた溶液に、エチレングリコールモノメチルエー
テル２５０ｇを加えたものを、０．４５μｍのフィルタ
ーにかけて塗布液を調製した。

【００４６】次いで、３インチシリコウエーハ上に、塗
布液をスピンナーで、２０００ｒｐｍの回転数で塗布
し、塗布膜を得た。そしてこの塗布膜に対して実施例１
と同様の操作で被膜を形成した結果、透明で均一な膜厚
７５０Åの強誘電体膜が形成された。また、この塗布液
は室温で３か月静置しても、塗布液中に析出物などは全
く認められなかった。

【００４７】比較例１実施例１の塗布液調製において、乳酸を除いた以外は実
施例１と同様の操作で塗布液を調製したが、その塗布液
は調製時に白濁し、ゲル化物が確認され、強誘電体膜の
形成塗布液として使用できるものではなかった。

【００４８】比較例２実施例７の塗布液調製において、乳酸を除いた以外は実
施例１と同様の操作で塗布液を調製したが、その塗布液
は調製時に白濁し、ゲル化物が確認され、強誘電体膜の
形成塗布液として使用できるものではなかった。

【００４９】比較例３実施例８の塗布液調製において、乳酸を除いた以外は実
施例１と同様の操作で塗布液を調製したが、その塗布液
は調製時に白濁し、ゲル化物が確認され、強誘電体膜の
形成塗布液として使用できるものではなかった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（イ）テトラアルコキシチタン又はその
錯体化合物と、オキシ酸との反応生成物、及び（ロ）チ
タン系複合酸化物の成分となるチタン以外の金属の可溶
性塩を含む有機溶剤性溶液から成るチタン系複合酸化物
形成用塗布液。
【請求項２】チタン系複合酸化物の成分となる金属が
Ｐｂ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｚ
ｒ、Ｗ、Ｌａ、Ｙ及びＬｉの中から選ばれた少なくとも
１種である請求項１記載のチタン系複合酸化物形成用塗
布液。
【請求項３】（イ）成分及び（ロ）成分の合計量１０
０重量部当り、１〜１００重量部の可溶性ポリマーを配
合した請求項１又は２記載のチタン系複合酸化物形成用
塗布液。