JPH0791155B2 - CdTe単結晶の製造方法 - Google Patents

CdTe単結晶の製造方法

Info

Publication number
JPH0791155B2
JPH0791155B2 JP2210276A JP21027690A JPH0791155B2 JP H0791155 B2 JPH0791155 B2 JP H0791155B2 JP 2210276 A JP2210276 A JP 2210276A JP 21027690 A JP21027690 A JP 21027690A JP H0791155 B2 JPH0791155 B2 JP H0791155B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
resistivity
single crystal
heat treatment
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2210276A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0497990A (ja
Inventor
稔 船木
聰明 朝日
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Japan Energy Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Energy Corp filed Critical Japan Energy Corp
Priority to JP2210276A priority Critical patent/JPH0791155B2/ja
Publication of JPH0497990A publication Critical patent/JPH0497990A/ja
Publication of JPH0791155B2 publication Critical patent/JPH0791155B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、放射線検出素子用等として有用な高抵抗CdTe
単結晶の製造方法に関する。
従来技術 CdTe単結晶は放射線検出素子等に有用であり、その特性
向上、特に高エネルギー分解能化をめざして従来からCd
Te単結晶の製造方法が検討されている。
高エネルギー分解能を達成するための結晶特性として
は、主に次の2点が重要である。
第1点は、抵抗率が高いことである。抵抗率が低いと放
射線検出器の信号ノイズが増大し好ましくなく、1×10
8Ωcm以上の値が必要である。第2点はキャリアライフ
タイムが大きいことである。キャリアライフタイムが小
さいと、キャリア収集効率が低下し、エネルギー分解能
が低下する。
以上のことから、放射線検出素子用の結晶の製造条件の
検討は、高抵抗率化、キャリアライフタイムの増大の2
点に注目して行なわれてきた。
第1点目の高抵抗率化に対しては、結晶成長時に塩素を
ドープして抵抗率を向上する事が報告されている。
第2点目のキャリアライフタイムの増大に関しては、結
晶の純度の向上によって達成される事が報告されてい
る。
本発明が解決する問題点 従来から、高抵抗率の結晶を得るためには、結晶中に添
加する塩素濃度を増加することが効果あることが知られ
ている。しかし、塩素濃度が高くなるほどキャリアライ
フタイムは低下する傾向があるために、放射線検出素子
に適した充分抵抗率が高く、しかもキャリアライフタイ
ムも大きい結晶を得ることが出来ないという問題点があ
った。すなわち、放射線検出素子として使用可能な抵抗
率を得るためには、塩素の添加量をある程度大きな量に
せざるを得ず、そのため、キャリアライフタイムが小さ
くなり、結果的に、この結晶を使用して作製した放射線
検出素子のエネルギー分解能は満足できる値が得られて
いないという問題があった。
発明の構成 本発明は、上記の問題点を解決したものであって、放射
線検出素子用のCdTe単結晶の製造方法において、塩素を
0.8重量ppm以上5重量ppm以下の濃度で添加したCdTe単
結晶を、真空中、あるいは不活性ガス中で350℃以上450
℃以下の温度で熱処理することを特徴とするCdTe単結晶
の製造方法に関するものである。
問題点を解決するための手段および作用 上記の問題点を解決するためには、低塩素濃度でも抵抗
率の高い結晶を得る方法が必要であり、本発明者等は、
結晶を熱処理することで抵抗率が増加することを新たに
見い出し、本発明に至ったものである。
本発明における熱処理は真空中あるいはAr、窒素などの
不活性ガス雰囲気下で行う。これは、酸化防止のために
行なわれる。
本発明における熱処理温度は350℃以上450℃以下である
必要がある。熱処理温度が350℃未満であっても、450℃
を越えても、抵抗率は1×108Ωcm以下となるため好ま
しくないからである。特に結晶中の塩素濃度が小さい場
合、この熱処理温度範囲はより一層狭く限定される。例
えば、第1図に示すように塩素濃度が1重量ppmの結晶
の場合、370℃以上400℃以下で熱処理する必要がある。
しかし、塩素濃度が5重量ppmの結晶の場合、熱処理温
度範囲は350℃以上450℃以下で熱処理することで抵抗率
は1×108Ωcm以上となる。
本発明の熱処理は、例えば第2図に示すごとく、塩素が
0.8重量ppm以上、5重量ppm以下の濃度で添加された結
晶に対して行われる。0.8重量ppm未満では本発明の熱処
理を行っても、結晶の抵抗率は1×108Ωcm以上に向上
しないため、放射線検出素子用の結晶として使用するこ
とが出来ない。5重量ppmを越える場合は、例えば第3
図に示すごとく、本発明の熱処理を行っても、キャリア
ライフタイムが低くなるため、高性能の放射線検出素子
が得られないため効果が少ない。
本発明の熱処理時間は、1時間以上、より好ましくは15
時間以上である。尚、該熱処理はインゴットの状態で
も、ウエハーの状態で行なっても良い。
[実施例] 塩素濃度1重量ppmのCdTe結晶ウエハーを、真空中で385
℃で15時間熱処理した後、約50℃/hrで室温まで炉冷し
た結晶を用いて、放射線検出素子を作製した。
この結晶の抵抗率は、2×108Ωcm、キャリアライフタ
イムは電子が1μs,ホールが0.5μsであった。このよ
うに本発明の処理品は、高抵抗、高キャリアライフタイ
ムを同時に満足するものであった。
さらに放射線検出素子としての特性は、241Amの放射線
(59.5keVのエネルギーをもっている)を測定したとき
のピーク強度半値幅が、印加電圧15Vにおいて5keVの良
好な分解能が得られた。
[比較例1] 塩素濃度1重量ppmの結晶を、熱処理をせずに放射線検
出素子を作製した。この結晶の抵抗率は、1×104Ωcm
と低く、そのためキャリアライフタイムも測定出来なか
った。放射線検出素子としての特性は、抵抗率が低すぎ
たために、リーク電流が大きく、241Amの放射線を測定
したところ、なんらスペクトルが得られなかった。
発明の効果 本発明により、結晶中塩素濃度が0.8重量ppm以上5重量
ppm以下という低塩素濃度でも、放射線検出素子を作製
するのに充分な抵抗率の高い結晶を得ることが出来るよ
うになった。このため、この結晶を用いて、従来よりも
エネルギー分解能の良好な放射線検出素子を作製するこ
とができるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は熱処理温度による抵抗率の変化を示したもので
ある。 第2図は結晶中の塩素濃度と熱処理によって得られた抵
抗率の関係を示したものである。 第3図は結晶中の塩素濃度とキャリアライフタイムの関
係を示したものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】放射線検出素子用のCdTe単結晶の製造方法
    において、塩素を0.8重量ppm以上5重量ppm以下の濃度
    で添加したCdTe単結晶を、真空中、あるいは不活性ガス
    中で350℃以上450℃以下の温度で熱処理することを特徴
    とするCdTe単結晶の製造方法。
JP2210276A 1990-08-10 1990-08-10 CdTe単結晶の製造方法 Expired - Lifetime JPH0791155B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2210276A JPH0791155B2 (ja) 1990-08-10 1990-08-10 CdTe単結晶の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2210276A JPH0791155B2 (ja) 1990-08-10 1990-08-10 CdTe単結晶の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0497990A JPH0497990A (ja) 1992-03-30
JPH0791155B2 true JPH0791155B2 (ja) 1995-10-04

Family

ID=16586712

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2210276A Expired - Lifetime JPH0791155B2 (ja) 1990-08-10 1990-08-10 CdTe単結晶の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0791155B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06345598A (ja) * 1993-06-04 1994-12-20 Japan Energy Corp 放射線検出素子用CdTe結晶およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0497990A (ja) 1992-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Evwaraye et al. Electron‐irradiation‐induced divacancy in lightly doped silicon
Jagannath et al. Linewidths of the electronic excitation spectra of donors in silicon
Shimura et al. Precipitation and redistribution of oxygen in Czochralski‐grown silicon
JP7250919B2 (ja) 半導体ウエハ、放射線検出素子、放射線検出器、及び化合物半導体単結晶基板の製造方法
Swanson Low-temperature recovery of deformed aluminum
JPH07108839B2 (ja) CdTe単結晶の製造方法
JP7265004B2 (ja) 半導体ウエハ、放射線検出素子、放射線検出器、及び化合物半導体単結晶基板の製造方法
JPH0791155B2 (ja) CdTe単結晶の製造方法
JPH09124310A (ja) CdTe結晶の製造方法
JPH0796478B2 (ja) CdTe単結晶の製造方法
EP0627506A1 (en) CdTe crystal for use in radiation detector and method of manufacturing such CdTe crystal
JP2858598B2 (ja) CdTe単結晶の製造方法
Lee et al. High‐temperature ion implantation in diamond
Braggins et al. High infrared responsivity indium-doped silicon detector material compensated by neutron transmutation
Barradas et al. Optical properties and defect chemistry of p-CuInS2
JPH0818917B2 (ja) CdTe単結晶の製造方法
CA2199523A1 (en) Method of Manufacturing Semiconductor Device
Hendorfer et al. Photo-EPR and DLTS of CdTe: CO
Look et al. Room temperature electron damage in cds
Araika et al. Radiation defects and electrical properties of silicon layers containing Sb and As implanted with Si+ ions
JP2017197413A (ja) 化合物半導体基板およびその製造方法
Gonon et al. Spectral response of the photoconductivity of polycrystalline chemically vapor deposited diamond films
JP6396245B2 (ja) リン化インジウム単結晶ウェハおよびリン化インジウム単結晶ウェハの製造方法
Squillante et al. Performance characteristics of CdTe gamma-ray spectrometers
Gross et al. Characteristics of infrared photodetectors produced by radiation doping

Legal Events

Date Code Title Description
S803 Written request for registration of cancellation of provisional registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081004

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091004

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101004

Year of fee payment: 15

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101004

Year of fee payment: 15

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532

S803 Written request for registration of cancellation of provisional registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101004

Year of fee payment: 15

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101004

Year of fee payment: 15

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S803 Written request for registration of cancellation of provisional registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101004

Year of fee payment: 15

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term