JPH0791261B2 - ４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 - Google Patents
４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法Info
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- JPH0791261B2 JPH0791261B2 JP1239523A JP23952389A JPH0791261B2 JP H0791261 B2 JPH0791261 B2 JP H0791261B2 JP 1239523 A JP1239523 A JP 1239523A JP 23952389 A JP23952389 A JP 23952389A JP H0791261 B2 JPH0791261 B2 JP H0791261B2
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- dihydroxydiphenyl sulfone
- mesitylene
- dihydroxydiphenylsulfone
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの
製造法に関する。
製造法に関する。
従来技術及びその課題 近年、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンは、繊
維、樹脂等の化学工業の分野において需要が増加し、各
種分野に於てより高純度の4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンが要求されるようになっている。
維、樹脂等の化学工業の分野において需要が増加し、各
種分野に於てより高純度の4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンが要求されるようになっている。
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法とし
ては、フェノールとスルホン化剤又はフェノールスルホ
ン酸とを上記原料物質及び生成4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを溶解するジクロルベンゼン等の溶剤
の存在下に脱水反応させる方法が知られている。しかし
ながら該方法による時は、目的物である4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンが副生物である異性体2,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンと溶解状態で異性化
平衡を有する為に得られる粗製品中には20〜30重量％も
の多量の2,4′体が不純物として含有され、4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの収率も満足のいくもので
はなかった。
ては、フェノールとスルホン化剤又はフェノールスルホ
ン酸とを上記原料物質及び生成4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを溶解するジクロルベンゼン等の溶剤
の存在下に脱水反応させる方法が知られている。しかし
ながら該方法による時は、目的物である4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンが副生物である異性体2,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンと溶解状態で異性化
平衡を有する為に得られる粗製品中には20〜30重量％も
の多量の2,4′体が不純物として含有され、4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの収率も満足のいくもので
はなかった。
そこで、本発明者は先に4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを高純度且つ高収率で収得する方法として、
フェノールと硫酸とを溶剤の存在下に脱水反応させつ
つ、溶剤を徐々に除去して副生2,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンに異性化することにより、高純度の4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを製造する方法（特公昭55
−8972号公報）を提案した。
ルスルホンを高純度且つ高収率で収得する方法として、
フェノールと硫酸とを溶剤の存在下に脱水反応させつ
つ、溶剤を徐々に除去して副生2,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンに異性化することにより、高純度の4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを製造する方法（特公昭55
−8972号公報）を提案した。
この方法は、溶液中の異性化平衡の問題を解消して高純
度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得る方法
として画期的なものであったが、最近の増大する4,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンの需要に対応して装
置を大型化して大量生産しようとする改善すべき種々の
困難に遭遇する。たとえば該方法では溶剤を完全に回収
した時点で流動性のない粘稠な固体を扱わねばならない
ために、機械的強度に優れた特殊な撹拌装置が必要とな
り、装置の大型化が困難となる等の問題である。
度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得る方法
として画期的なものであったが、最近の増大する4,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンの需要に対応して装
置を大型化して大量生産しようとする改善すべき種々の
困難に遭遇する。たとえば該方法では溶剤を完全に回収
した時点で流動性のない粘稠な固体を扱わねばならない
ために、機械的強度に優れた特殊な撹拌装置が必要とな
り、装置の大型化が困難となる等の問題である。
課題を解決するための手段 本発明は、上記課題を解決し、高純度の4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンを高収率で工業的に容易に生
産することを可能とする方法を提供することを目的とし
てなされたものである。
ロキシジフェニルスルホンを高収率で工業的に容易に生
産することを可能とする方法を提供することを目的とし
てなされたものである。
即ち、本発明は、フェノールとスルホン化剤又はフェノ
ールスルホン酸とを脱水反応させて4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを製造するに当り、メシチレンを
反応媒体として生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを懸濁させつつ反応せしめることを特徴とす
る高純度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製
造法及び上記脱水反応が停止した後、必要に応じメシチ
レンの一部を留去し、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの懸濁状態を維持し乍ら反応系を異性化温度以
上に保持して2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンへの異性化
反応を進行させる4,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンの製造法に係るものである。
ールスルホン酸とを脱水反応させて4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを製造するに当り、メシチレンを
反応媒体として生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを懸濁させつつ反応せしめることを特徴とす
る高純度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製
造法及び上記脱水反応が停止した後、必要に応じメシチ
レンの一部を留去し、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの懸濁状態を維持し乍ら反応系を異性化温度以
上に保持して2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンへの異性化
反応を進行させる4,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンの製造法に係るものである。
本発明者の研究によれば、フェノールとスルホン化剤又
はフェノールスルホン酸との脱水反応の生成物である4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを実質的に溶解
しないメシチレン中において生成4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンを懸濁させつつ且つ副生する水を系
外に除去しつつ脱水反応を進行せしめる時は、通常の攪
拌を行うだけで生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの凝集を伴うことなく微細粒子として容易に
かつ安定にメシチレン中に懸濁せしめつつ反応を進行さ
せることができ、しかも溶剤中で反応を行う従来法に比
して4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを選択的
により高純度且つ高収率で収得できることを見出した。
また上記反応終了後、副生2,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンの4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンへの異性化反応を4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの懸濁状態を維持し乍ら行うことにより何ら粘稠
な個体を扱うことなく異性化できることを見出した。し
かも反応系に懸濁を維持し得る量のメシチレンが存在す
る限り通常の攪拌装置で容易に4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンの安定な懸濁状態を維持でき、斯くし
て4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを容易に大
量に生産することが可能となる。本発明は、これらの発
見に基づき完成されたものである。
はフェノールスルホン酸との脱水反応の生成物である4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを実質的に溶解
しないメシチレン中において生成4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンを懸濁させつつ且つ副生する水を系
外に除去しつつ脱水反応を進行せしめる時は、通常の攪
拌を行うだけで生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの凝集を伴うことなく微細粒子として容易に
かつ安定にメシチレン中に懸濁せしめつつ反応を進行さ
せることができ、しかも溶剤中で反応を行う従来法に比
して4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを選択的
により高純度且つ高収率で収得できることを見出した。
また上記反応終了後、副生2,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンの4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンへの異性化反応を4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの懸濁状態を維持し乍ら行うことにより何ら粘稠
な個体を扱うことなく異性化できることを見出した。し
かも反応系に懸濁を維持し得る量のメシチレンが存在す
る限り通常の攪拌装置で容易に4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンの安定な懸濁状態を維持でき、斯くし
て4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを容易に大
量に生産することが可能となる。本発明は、これらの発
見に基づき完成されたものである。
本発明におけるスルホン化剤としては、従来公知のもの
を広く使用でき、例えば濃硫酸、無水硫酸、発煙硫酸、
クロルスルホン酸等を挙げることができる。
を広く使用でき、例えば濃硫酸、無水硫酸、発煙硫酸、
クロルスルホン酸等を挙げることができる。
本発明の方法において、フェノールとスルホン化剤又は
フェノールスルホン酸との使用割合は、特に限定はない
が、後者に対して前者が少な過ぎる場合には収率が低下
し、また過剰の場合には4,4′体のフェノールに対する
溶解性の為に2,4′体の含有量が増加し、好ましくな
い。従って、通常両者を化学量論的割合若しくはその近
傍で使用するのが最も好ましい。例えば、スルホン化剤
を使用する場合は、スルホン化剤１モルに対してフェノ
ールを1.9〜2.10モル程度使用するのがよい。また、フ
ェノールスルホン酸を使用する場合は、フェノールスル
ホン酸１モルに対してフェノールを0.9〜1.1モル程度使
用するのがよい。
フェノールスルホン酸との使用割合は、特に限定はない
が、後者に対して前者が少な過ぎる場合には収率が低下
し、また過剰の場合には4,4′体のフェノールに対する
溶解性の為に2,4′体の含有量が増加し、好ましくな
い。従って、通常両者を化学量論的割合若しくはその近
傍で使用するのが最も好ましい。例えば、スルホン化剤
を使用する場合は、スルホン化剤１モルに対してフェノ
ールを1.9〜2.10モル程度使用するのがよい。また、フ
ェノールスルホン酸を使用する場合は、フェノールスル
ホン酸１モルに対してフェノールを0.9〜1.1モル程度使
用するのがよい。
本発明においては、メシチレンを反応媒体として用いて
上記原料を脱水反応せしめ、生成する4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンを懸濁させつつ該反応を進行せ
しめることを必須とする。本発明に従いメシチレンを反
応媒体として使用すると、通常の攪拌を行うだけで生成
する4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを微細粒
子として容易に且つ安定に懸濁せしめつつ反応を進行せ
しめることができ、しかも溶剤を用いる従来法に比して
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンをより高純度
且つ高収率で収得できる。しかもメシチレンを用いると
昇温速度等に特別の注意を払う必要がなく温度管理が容
易であるという利点もある。
上記原料を脱水反応せしめ、生成する4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンを懸濁させつつ該反応を進行せ
しめることを必須とする。本発明に従いメシチレンを反
応媒体として使用すると、通常の攪拌を行うだけで生成
する4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを微細粒
子として容易に且つ安定に懸濁せしめつつ反応を進行せ
しめることができ、しかも溶剤を用いる従来法に比して
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンをより高純度
且つ高収率で収得できる。しかもメシチレンを用いると
昇温速度等に特別の注意を払う必要がなく温度管理が容
易であるという利点もある。
メシチレン（1,3,5−トリメチルベンゼン）は、165℃の
沸点を有し、本発明における反応条件下では原料物質は
溶解するが、生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンは実質的に溶解しない。メシチレンの使用量
は、反応系を撹拌するのに充分な流動性を有する程度の
液量以上であれば特に限定されず使用できる。つまり、
反応系において生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの懸濁状態を反応終了時点まで維持できる液
量以上であれば過剰量でもよく、通常フェノールの量に
対し重量で５倍程度までの使用が経済的に有利である。
沸点を有し、本発明における反応条件下では原料物質は
溶解するが、生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンは実質的に溶解しない。メシチレンの使用量
は、反応系を撹拌するのに充分な流動性を有する程度の
液量以上であれば特に限定されず使用できる。つまり、
反応系において生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの懸濁状態を反応終了時点まで維持できる液
量以上であれば過剰量でもよく、通常フェノールの量に
対し重量で５倍程度までの使用が経済的に有利である。
上記脱水反応は、従来の方法に従い容易に行うことがで
き、通常約120℃以上、好ましくは140〜165℃で撹拌下
に生成水をメシチレンと共に共沸蒸留し、水を分離除去
しメシチレンを還流させながら行なわれる。この時、加
圧してより高温で行なうことも可能である。
き、通常約120℃以上、好ましくは140〜165℃で撹拌下
に生成水をメシチレンと共に共沸蒸留し、水を分離除去
しメシチレンを還流させながら行なわれる。この時、加
圧してより高温で行なうことも可能である。
本発明によれば、フェノールとスルホン化剤又はフェノ
ールスルホン酸との脱水反応の際に、生成する4,4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンが実質的にメシチレン
中に溶解せず懸濁状態で反応系に存在することにより著
しく2,4′体の副生を抑制し選択的に4,4′体を生成させ
ることができ、2,4′体:4,4′体の生成比は、1:10重量
倍以上となる。
ールスルホン酸との脱水反応の際に、生成する4,4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンが実質的にメシチレン
中に溶解せず懸濁状態で反応系に存在することにより著
しく2,4′体の副生を抑制し選択的に4,4′体を生成させ
ることができ、2,4′体:4,4′体の生成比は、1:10重量
倍以上となる。
本発明者の研究によれば、上記脱水反応の進行が停止し
た後、更に生成物をメシチレン中懸濁状態で、反応系を
異性化温度以上に保持することで副生2,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンの4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンへの異性化反応を進行せしめることがで
き、一層高純度の4,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンが高収率で得られることが認められた。斯くして本
発明によれば2,4′体:4,4′体の生成比は、1:20重量倍
以上となる。また本発明によれば異性化反応を4,4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンの懸濁状態で維持しつ
つ行うことができ、しかも上記懸濁状態は通常の攪拌装
置を用いて容易に且つ安定に維持できるから、従来法に
比して遥かに操作が容易になり、装置の大型化を図り得
る。上記異性化反応の温度は、120℃以上とするのがよ
く、120℃を下回る場合には異性化速度が遅くなり好ま
しくない。より好ましくは撹拌下で140〜165℃に保持し
て必要に応じメシチレンを還流しつつ異性化反応を行う
のがよい。本発明に於ては上記異性化反応を4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを懸濁させた状態で行う
ことを不可欠とし、反応系から揮散するメシチレンは反
応系に還流させて上記懸濁状態を維持しつつ反応を行う
のがよい。また、上記異性化反応を加圧下に、より高温
として行なうこともかまわない。異性化反応に要する時
間は、反応系の液量、反応温度等の製造条件により適宜
選択されるが、通常２〜10時間程度で異性化反応は停止
する。
た後、更に生成物をメシチレン中懸濁状態で、反応系を
異性化温度以上に保持することで副生2,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンの4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンへの異性化反応を進行せしめることがで
き、一層高純度の4,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンが高収率で得られることが認められた。斯くして本
発明によれば2,4′体:4,4′体の生成比は、1:20重量倍
以上となる。また本発明によれば異性化反応を4,4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンの懸濁状態で維持しつ
つ行うことができ、しかも上記懸濁状態は通常の攪拌装
置を用いて容易に且つ安定に維持できるから、従来法に
比して遥かに操作が容易になり、装置の大型化を図り得
る。上記異性化反応の温度は、120℃以上とするのがよ
く、120℃を下回る場合には異性化速度が遅くなり好ま
しくない。より好ましくは撹拌下で140〜165℃に保持し
て必要に応じメシチレンを還流しつつ異性化反応を行う
のがよい。本発明に於ては上記異性化反応を4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを懸濁させた状態で行う
ことを不可欠とし、反応系から揮散するメシチレンは反
応系に還流させて上記懸濁状態を維持しつつ反応を行う
のがよい。また、上記異性化反応を加圧下に、より高温
として行なうこともかまわない。異性化反応に要する時
間は、反応系の液量、反応温度等の製造条件により適宜
選択されるが、通常２〜10時間程度で異性化反応は停止
する。
本発明では、上記異性化反応を行うに際して、メシチレ
ンの一部を未反応余剰フェノールと共に系外に留去し、
残存メシチレン中での4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの懸濁状態を維持し乍ら反応系を異性化温度以
上、好ましくは撹拌下120〜165℃に保持して副生2,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンの4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンへの異性化反応を進行せしめ得
ることもできる。メシチレンは、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの懸濁状態を維持し得る範囲内でそ
の一部を未反応フェノールと共に留去する。特に反応系
が流動性を保ち充分撹拌可能な限界までメシチレンを留
去することが好ましい。この場合も、上記異性化を加圧
下に進めてもかまわない。このようにして得られる4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンは更に高純度の
ものとなり、2,4′体:4,4′体の生体比は、1:30重量部
以上で、収率も向上する。
ンの一部を未反応余剰フェノールと共に系外に留去し、
残存メシチレン中での4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの懸濁状態を維持し乍ら反応系を異性化温度以
上、好ましくは撹拌下120〜165℃に保持して副生2,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンの4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンへの異性化反応を進行せしめ得
ることもできる。メシチレンは、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの懸濁状態を維持し得る範囲内でそ
の一部を未反応フェノールと共に留去する。特に反応系
が流動性を保ち充分撹拌可能な限界までメシチレンを留
去することが好ましい。この場合も、上記異性化を加圧
下に進めてもかまわない。このようにして得られる4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンは更に高純度の
ものとなり、2,4′体:4,4′体の生体比は、1:30重量部
以上で、収率も向上する。
また、本発明の製造法においては、フェノールとスルホ
ン化剤又はフェノールスルホン酸の使用割合を前述した
ように化学量論量に近い割合で用いる為に、系内には未
反応余剰フェノールは微量しか存在せず、この微量フェ
ノールの一部は、還流の際にトラップに滞留されて系外
に除かれる水相と共にあり、系内に残存する未反応余剰
フェノール量は実際上無視できる程度である。
ン化剤又はフェノールスルホン酸の使用割合を前述した
ように化学量論量に近い割合で用いる為に、系内には未
反応余剰フェノールは微量しか存在せず、この微量フェ
ノールの一部は、還流の際にトラップに滞留されて系外
に除かれる水相と共にあり、系内に残存する未反応余剰
フェノール量は実際上無視できる程度である。
これら本発明の方法は、前述した従来法のように溶媒回
収後に流動性のない粘稠な固体を扱うことはないので、
通常の反応装置での製造が可能である。
収後に流動性のない粘稠な固体を扱うことはないので、
通常の反応装置での製造が可能である。
発明の効果 本発明の方法では、反応系の攪拌を容易且つ安定に行う
ことができ、また全操作にわたって温度管理に特別の注
意を払う必要はない。しかも本発明の方法は、単一反応
媒体を用いるために、操作管理が容易である。従って、
本発明の方法により得られる4,4′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンは、異性化反応をさせない場合であって
も従来法によるものに比して高純度のもので、しかも高
収率で得られることができる。
ことができ、また全操作にわたって温度管理に特別の注
意を払う必要はない。しかも本発明の方法は、単一反応
媒体を用いるために、操作管理が容易である。従って、
本発明の方法により得られる4,4′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンは、異性化反応をさせない場合であって
も従来法によるものに比して高純度のもので、しかも高
収率で得られることができる。
また、異性化反応をさせる場合であっても、従来法のよ
うに粘稠な反応系を扱う必要はなく、通常の撹拌装置を
適用でき、一層高純度且つ高収率で4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを得ることができる。
うに粘稠な反応系を扱う必要はなく、通常の撹拌装置を
適用でき、一層高純度且つ高収率で4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを得ることができる。
以上のように本発明の方法は、4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン高純度且つ高収率で収得することが可
能であると共に製造工程が簡易なゆえに、生産規模の拡
大化を可能ならしめる工業的に優れたものである。
フェニルスルホン高純度且つ高収率で収得することが可
能であると共に製造工程が簡易なゆえに、生産規模の拡
大化を可能ならしめる工業的に優れたものである。
実 施 例 以下実施例により本発明を一層具体的に説明する。
実施例１ フェノール2.02モル及びメシチレン190mlの混合物に撹
拌下98％硫酸1.0モルを滴下後昇温した。145℃付近で反
応液の留出が始まった。この留出物は、凝縮されトラッ
プで２相に分離された。上相の有機相は連続的に反応装
置に戻された。昇温から約５時間後、反応系は165℃と
なり、水の生成が停止し、トラップで除去された水量が
38mlで一定化した段階で得られた反応生成物の組成は、
高速液体クロマトグラフィー（HPLC）で分析した結果、
重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 89.4重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 8.3重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.3重量％ であった。硫酸に対する収率は、上記３成分合計で95.7
％であった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの収率は85.6％であった。
拌下98％硫酸1.0モルを滴下後昇温した。145℃付近で反
応液の留出が始まった。この留出物は、凝縮されトラッ
プで２相に分離された。上相の有機相は連続的に反応装
置に戻された。昇温から約５時間後、反応系は165℃と
なり、水の生成が停止し、トラップで除去された水量が
38mlで一定化した段階で得られた反応生成物の組成は、
高速液体クロマトグラフィー（HPLC）で分析した結果、
重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 89.4重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 8.3重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.3重量％ であった。硫酸に対する収率は、上記３成分合計で95.7
％であった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの収率は85.6％であった。
実施例２ 実施例１と同様にして反応を行なった後に、更に反応系
を165℃で還流下５時間保温撹拌して得られた生成物の
組成はHPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 93.6重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 4.2重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.2重量％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.0％で
あった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンの収率は90.8％であった。
を165℃で還流下５時間保温撹拌して得られた生成物の
組成はHPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 93.6重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 4.2重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.2重量％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.0％で
あった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンの収率は90.8％であった。
実施例３ 実施例１と同様にして反応を行なった後に、メシチレン
及び未反応フェノール116mlを回収した。その後、更に1
65℃で還流下５時間保温撹拌して生成物を得た。得られ
た生成物の組成はHPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 95.7重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 2.5重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 1.8重量％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で98.0％で
あった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンの収率は93.8％であった。
及び未反応フェノール116mlを回収した。その後、更に1
65℃で還流下５時間保温撹拌して生成物を得た。得られ
た生成物の組成はHPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 95.7重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 2.5重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 1.8重量％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で98.0％で
あった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンの収率は93.8％であった。
実施例４ フェノール188.2g（2.00モル）及びメシチレン100mlの
混合物に攪拌下98.1％硫酸100.0g（硫酸1.00モル）を滴
下した。その後、攪拌を続けながら油浴により加熱昇温
した。145℃付近で反応物が沸騰し始め留出が始まっ
た。留出物は、コンデンサーで凝縮されトラップで２相
に分離され、上相の有機相は連続的に反応系に戻され
た。昇温から約５時間後、反応系の温度が165℃、また
トラップで除去された下相の水量が38mlで共に一定化し
た。この段階で得られた生成物の組成は、HPLCで分析し
た結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 93.6％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 4.3％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.1％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.0％で
あり、また4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンで9
0.7％であった。
混合物に攪拌下98.1％硫酸100.0g（硫酸1.00モル）を滴
下した。その後、攪拌を続けながら油浴により加熱昇温
した。145℃付近で反応物が沸騰し始め留出が始まっ
た。留出物は、コンデンサーで凝縮されトラップで２相
に分離され、上相の有機相は連続的に反応系に戻され
た。昇温から約５時間後、反応系の温度が165℃、また
トラップで除去された下相の水量が38mlで共に一定化し
た。この段階で得られた生成物の組成は、HPLCで分析し
た結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 93.6％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 4.3％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.1％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.0％で
あり、また4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンで9
0.7％であった。
実施例５ 実施例４と同様の操作に引き続き、反応系をそのままの
状態で更に５時間保温した。得られた生成物の組成は、
HPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 95.4％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 2.6％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.0％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.5％
で、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンで93.0％
であった。
状態で更に５時間保温した。得られた生成物の組成は、
HPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 95.4％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 2.6％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 2.0％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.5％
で、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンで93.0％
であった。
実施例６ 実施例４と同様の操作に引き続き、反応系の液分（メシ
チレン及び未反応フェノール）を30ml回収し、更に165
℃で５時間保温攪拌を続けた。得られた生成物の組成
は、HPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 95.9％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 2.3％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 1.8％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.9％
で、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンで93.9％
であった。
チレン及び未反応フェノール）を30ml回収し、更に165
℃で５時間保温攪拌を続けた。得られた生成物の組成
は、HPLCで分析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 95.9％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 2.3％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 1.8％ であった。硫酸に対する収率は、３成分合計で97.9％
で、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンで93.9％
であった。
比較例１ フェノール2.02モル及びオルソジクロルベンゼン190ml
の混合物に撹拌下98％硫酸1.0モルを滴下後昇温した。1
50℃付近で反応液の留出が始まった。この留出物は、凝
縮されトラップで２相に分離された。下相の有機相は連
続的に反応装置に戻された。昇温から約５時間後、反応
系は179℃となり、水の生成が停止し、トラップで除去
された水量が37mlで一定化した段階で得られた反応生成
物の組成は、高速液体クロマトグラフィー（HPLC）で分
析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 71.9重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 22.7重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 5.4重量％ であった。硫酸に対する収率は、上記３成分合計で91.7
％であった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの収率は65.9％であった。
の混合物に撹拌下98％硫酸1.0モルを滴下後昇温した。1
50℃付近で反応液の留出が始まった。この留出物は、凝
縮されトラップで２相に分離された。下相の有機相は連
続的に反応装置に戻された。昇温から約５時間後、反応
系は179℃となり、水の生成が停止し、トラップで除去
された水量が37mlで一定化した段階で得られた反応生成
物の組成は、高速液体クロマトグラフィー（HPLC）で分
析した結果、重量比で 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 71.9重量％ 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン 22.7重量％ トリヒドロキシトリフェニルジスルホン 5.4重量％ であった。硫酸に対する収率は、上記３成分合計で91.7
％であった。また、4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの収率は65.9％であった。
Claims (3)
- 【請求項１】フェノールとスルホン化剤又はフェノール
スルホン酸とを脱水反応させて4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを製造するに当り、メシチレンを反応
媒体として生成する4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンを懸濁させつつ反応せしめることを特徴とする高
純度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造
法。 - 【請求項２】反応の進行が停止した後、更にメシチレン
中での4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの懸濁
状態を維持し乍ら反応系を異性化温度以上に保持して副
生2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンへの異性化反応を進行せ
しめる請求項に記載の製造法。 - 【請求項３】反応の進行が停止した段階でメシチレンの
一部を未反応余剰フェノールと共に留去し、残存メシチ
レン中での4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの
懸濁状態を維持し乍ら反応系を異性化温度以上に保持し
て副生2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの4,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンへの異性化反応を進
行せしめることを特徴とする請求項に記載の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1239523A JPH0791261B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | ４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 |
| DE69008154T DE69008154T2 (de) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Verfahren zur herstellung von 4,4'-dihydroxydiphenyl-sulfonen. |
| PCT/JP1990/001179 WO1991004245A1 (fr) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Procede de preparation de 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone |
| EP90913547A EP0443046B1 (en) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Process for preparing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
| US07/678,332 US5189223A (en) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Process for preparation of 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1239523A JPH0791261B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | ４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03101656A JPH03101656A (ja) | 1991-04-26 |
| JPH0791261B2 true JPH0791261B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=17046068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1239523A Expired - Lifetime JPH0791261B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | ４，４′―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791261B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7456321B2 (en) | 2002-09-25 | 2008-11-25 | Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. | Process for producing high-purity 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10018580A1 (de) * | 2000-04-14 | 2001-10-25 | Basf Ag | Semikontinuierliches Verfahren zur Herstellung von 4,4'-Dihydroxydiphenylsulfon |
| JP4930668B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2012-05-16 | 小西化学工業株式会社 | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
| JP6941893B2 (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-29 | 小西化学工業株式会社 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1239523A patent/JPH0791261B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7456321B2 (en) | 2002-09-25 | 2008-11-25 | Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. | Process for producing high-purity 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03101656A (ja) | 1991-04-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |