JPH03206073A - 高純度4,4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 - Google Patents
高純度4,4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法Info
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- JPH03206073A JPH03206073A JP1340699A JP34069989A JPH03206073A JP H03206073 A JPH03206073 A JP H03206073A JP 1340699 A JP1340699 A JP 1340699A JP 34069989 A JP34069989 A JP 34069989A JP H03206073 A JPH03206073 A JP H03206073A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高純度4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン(以下r4,4’−DDSJという)の製造法に
関する。
ルホン(以下r4,4’−DDSJという)の製造法に
関する。
従来技術及びその課題
近年、4.4’ −DDSは、繊維、樹脂等の化学工業
の分野での需要が増大し、しかも各分野に於でより高純
度のものが要求されるようになってきている。
の分野での需要が増大し、しかも各分野に於でより高純
度のものが要求されるようになってきている。
4.4’−DDSの製造法としては、フェノールとスル
ホン化剤又はフェノールスルホン酸とを上記原料物質及
び生成4.4’ −DDSを溶解するジクロルベンゼン
等の溶剤の存在下に脱水反応させる方法が知られている
。しかしながら該方法による時は、目的物である4.4
’ −DDSが副生物である異性体2,4′ −ジヒド
ロキシジフェニルスルホン(以下2.4’−DDSJと
いう)と溶液状態で異性化平衡を有する為に得られる粗
製品中には20〜30重量%もの多量の2,4′−DD
Sが不純物として含有される。
ホン化剤又はフェノールスルホン酸とを上記原料物質及
び生成4.4’ −DDSを溶解するジクロルベンゼン
等の溶剤の存在下に脱水反応させる方法が知られている
。しかしながら該方法による時は、目的物である4.4
’ −DDSが副生物である異性体2,4′ −ジヒド
ロキシジフェニルスルホン(以下2.4’−DDSJと
いう)と溶液状態で異性化平衡を有する為に得られる粗
製品中には20〜30重量%もの多量の2,4′−DD
Sが不純物として含有される。
そこで、本発明者は先に4.4’ −DDSを高純度且
つ高収率で収得する方法として、フェノールと硫酸とを
溶剤の存在下に脱水反応させ、次で反応溶液から溶剤を
徐々に除去しつつ副生2,4’−DDSを4.4’ −
DDSに異性化することにより、高純度の4.4’ −
DDSを製造する方法(特公昭55−8972号公報)
を提案した。
つ高収率で収得する方法として、フェノールと硫酸とを
溶剤の存在下に脱水反応させ、次で反応溶液から溶剤を
徐々に除去しつつ副生2,4’−DDSを4.4’ −
DDSに異性化することにより、高純度の4.4’ −
DDSを製造する方法(特公昭55−8972号公報)
を提案した。
この方法は、4.4’−DDSと2.4’ −DDSと
の溶剤に対する溶解度の差を利用し、溶剤を徐々に除去
して4.4′−DDSのみを県外に析出させることによ
り溶液中での異性化平衡を移行させて副生2.4’−D
DSの4.4’ −DDSへの異性化を進めて4.4’
−DDSの純度及び収率の向上を図るものである。し
かしながら上記方法によると溶剤除去に伴い反応生成物
は溶融状態から固化し、結果として流動性のない粘稠な
固体となる為に製造には特殊な撹拌装置が必要となり、
装置の大型化が困難である。
の溶剤に対する溶解度の差を利用し、溶剤を徐々に除去
して4.4′−DDSのみを県外に析出させることによ
り溶液中での異性化平衡を移行させて副生2.4’−D
DSの4.4’ −DDSへの異性化を進めて4.4’
−DDSの純度及び収率の向上を図るものである。し
かしながら上記方法によると溶剤除去に伴い反応生成物
は溶融状態から固化し、結果として流動性のない粘稠な
固体となる為に製造には特殊な撹拌装置が必要となり、
装置の大型化が困難である。
特開昭64−9970号公報には脂肪族炭化水素系懸濁
剤及び共沸剤の存在下にフェノールと硫酸とを脱水反応
させ、次いで反応混合物を懸濁剤と共に加熱して異性化
反応を完結させる方法が提案されている。しかし上記方
法では、異性化を充分に制御された温度条件下に高い温
度と長い時間をかけて行わない限り、2.4’ =DD
Sの異性化を実質的に完結させて4.4’ −DDSを
高純度で収得することは出来ない。更に、懸濁剤の存在
下に異性化させるために装置容量が大となり、熱的にも
不経済となるのを免れ得ない。
剤及び共沸剤の存在下にフェノールと硫酸とを脱水反応
させ、次いで反応混合物を懸濁剤と共に加熱して異性化
反応を完結させる方法が提案されている。しかし上記方
法では、異性化を充分に制御された温度条件下に高い温
度と長い時間をかけて行わない限り、2.4’ =DD
Sの異性化を実質的に完結させて4.4’ −DDSを
高純度で収得することは出来ない。更に、懸濁剤の存在
下に異性化させるために装置容量が大となり、熱的にも
不経済となるのを免れ得ない。
課題を解決するための手段
本発明は、上記問題を解決し、しかも従来法に比してよ
り簡便な方法で4.4’ −DDSを高純度且つ高収率
で収得すべくなされたものである。
り簡便な方法で4.4’ −DDSを高純度且つ高収率
で収得すべくなされたものである。
即ち、本発明は、4.4’−DDSと2,4′−DDS
とを液状分散媒に懸濁状態で含有している懸濁液を、酸
触媒の存在下に加熱して液相を留去しつつ2.4’−D
DSの4.4’ −DDSへの異性化反応を進行させ、
最終的に液相の実質的に全てが除去された高純度4.4
’ −DDSを収得することを特徴とする高純度4.4
’ −DDSの製造方法に係るものである。
とを液状分散媒に懸濁状態で含有している懸濁液を、酸
触媒の存在下に加熱して液相を留去しつつ2.4’−D
DSの4.4’ −DDSへの異性化反応を進行させ、
最終的に液相の実質的に全てが除去された高純度4.4
’ −DDSを収得することを特徴とする高純度4.4
’ −DDSの製造方法に係るものである。
本発明者の研究によれば、4.4’ −DDSと2.4
’ −DDSとを液状分散媒中に懸濁状態で含有してい
る懸濁液から、酸触媒の存在下にその液相を徐々に留去
して固相を取り出したときは、その留去過程で2.4’
−DDSの4,4′DDSへの異性化反応が良好に進行
し、極めて高純度の4.4’ −DDSを固体として効
率よく収得できることが見出された。本発明の異性化は
、当初懸濁液中で行う為に撹拌容易にして進行させるこ
とができ、最終的に固相となったときでも、4.4’
−DDSの純度が極めて高い為に粘稠化の問題を伴わず
容易に取扱うことができる。また本発明者の研究によれ
ば液相を異性化反応の完結前に留出し去り、固相として
加熱を続けても異性化反応は同様に進行するという新し
い事実が見出された。この場合固相は粘稠化しないから
撹拌容易であり、操作上の不都合を伴うことはない。殊
に液状分散媒としてメシチレンを用いた場合、液相留去
後の固相はサラサラの状態にあり、取扱いが著るしく容
易であり、また固相での撹拌異性化を通常の撹拌装置を
用いて容易に行うことができる。
’ −DDSとを液状分散媒中に懸濁状態で含有してい
る懸濁液から、酸触媒の存在下にその液相を徐々に留去
して固相を取り出したときは、その留去過程で2.4’
−DDSの4,4′DDSへの異性化反応が良好に進行
し、極めて高純度の4.4’ −DDSを固体として効
率よく収得できることが見出された。本発明の異性化は
、当初懸濁液中で行う為に撹拌容易にして進行させるこ
とができ、最終的に固相となったときでも、4.4’
−DDSの純度が極めて高い為に粘稠化の問題を伴わず
容易に取扱うことができる。また本発明者の研究によれ
ば液相を異性化反応の完結前に留出し去り、固相として
加熱を続けても異性化反応は同様に進行するという新し
い事実が見出された。この場合固相は粘稠化しないから
撹拌容易であり、操作上の不都合を伴うことはない。殊
に液状分散媒としてメシチレンを用いた場合、液相留去
後の固相はサラサラの状態にあり、取扱いが著るしく容
易であり、また固相での撹拌異性化を通常の撹拌装置を
用いて容易に行うことができる。
本発明における上記懸濁液としては、4,4′−DDS
と2.4’ −DDSとが液状分散媒中に懸濁状態で存
在するものである限り、その製造方法に関係なく適用す
ることができる。例えば、フエノールとスルホン化剤又
はフェノールスルホン酸とを4.4’ −DDSを溶解
しない液状分散媒中で脱水反応させて得られたる懸濁液
を用いるのが最も好ましい。上記懸濁液は脱水反応の過
程で中間的に生成した又は原料として用いたフェノール
スルホン酸を含有し、これが異性化反応の酸触媒として
作用するから、このまま本発明の異性化反応に用いるこ
とができる。
と2.4’ −DDSとが液状分散媒中に懸濁状態で存
在するものである限り、その製造方法に関係なく適用す
ることができる。例えば、フエノールとスルホン化剤又
はフェノールスルホン酸とを4.4’ −DDSを溶解
しない液状分散媒中で脱水反応させて得られたる懸濁液
を用いるのが最も好ましい。上記懸濁液は脱水反応の過
程で中間的に生成した又は原料として用いたフェノール
スルホン酸を含有し、これが異性化反応の酸触媒として
作用するから、このまま本発明の異性化反応に用いるこ
とができる。
上記脱水反応に用いるスルホン化剤としては、従来公知
のものを広く使用でき、例えば濃硫酸、無水硫酸、発煙
硫酸、クロルスルホン酸等が挙げられる。フェノールと
スルホン化剤又はフェノールスルホン酸との使用割合は
、特に限定されず広い範囲から適宜選択されるが、通常
両者を化学量論的割合若しくその近傍或いは前者を後者
に対し過剰量使用するのが好ましい。
のものを広く使用でき、例えば濃硫酸、無水硫酸、発煙
硫酸、クロルスルホン酸等が挙げられる。フェノールと
スルホン化剤又はフェノールスルホン酸との使用割合は
、特に限定されず広い範囲から適宜選択されるが、通常
両者を化学量論的割合若しくその近傍或いは前者を後者
に対し過剰量使用するのが好ましい。
上記脱水反応は生成する結晶を懸濁し得る液状分散媒(
懸濁媒)の存在下に行われる。懸濁媒としては本発明者
が先に開発し特願平1−239523号として出願した
発明に記載のメシチレンや、特開昭64−9970号に
記載の直鎖又は枝分れ脂肪族炭化水素及び脂肪族ハロ炭
化水素を用いることができる。脂肪族系懸濁媒を用いる
時は上記公開公報の記載に従い共沸剤を用いて副生ずる
水を県外に除去する必要がある。これらの中でも懸濁媒
としてメシチレンを用いる方法が最適である。上記反応
液媒の使用量は、反応系を撹拌するのに充分で、還流可
能な程度の液量以上であれば特に限定されない。通常経
済性の面からフェノールの量に対し5倍量程度までの量
で用いられるが、これを超えて用いても差つかえない。
懸濁媒)の存在下に行われる。懸濁媒としては本発明者
が先に開発し特願平1−239523号として出願した
発明に記載のメシチレンや、特開昭64−9970号に
記載の直鎖又は枝分れ脂肪族炭化水素及び脂肪族ハロ炭
化水素を用いることができる。脂肪族系懸濁媒を用いる
時は上記公開公報の記載に従い共沸剤を用いて副生ずる
水を県外に除去する必要がある。これらの中でも懸濁媒
としてメシチレンを用いる方法が最適である。上記反応
液媒の使用量は、反応系を撹拌するのに充分で、還流可
能な程度の液量以上であれば特に限定されない。通常経
済性の面からフェノールの量に対し5倍量程度までの量
で用いられるが、これを超えて用いても差つかえない。
脱水反応は、従来の方法に従い行えばよい。通常撹拌下
反応液媒を還流しながら生成水を分離除去して行われる
。反応温度としては、通常120〜220℃の範囲から
適当な温度を適宜選択すればよい。メシチレン中で生成
DDSを懸濁させつつ脱水反応を進行させるときは、特
に好ましくは140〜165℃という比較的低い温度で
撹拌下に副生水をメシチレンと共に共沸蒸留して水を分
離除去しメシチレンを還流させながら行われる。
反応液媒を還流しながら生成水を分離除去して行われる
。反応温度としては、通常120〜220℃の範囲から
適当な温度を適宜選択すればよい。メシチレン中で生成
DDSを懸濁させつつ脱水反応を進行させるときは、特
に好ましくは140〜165℃という比較的低い温度で
撹拌下に副生水をメシチレンと共に共沸蒸留して水を分
離除去しメシチレンを還流させながら行われる。
メシチレン中で脱水反応を行うときには、他の懸濁媒又
は溶剤中で行うときに比して、撹拌容易にして生成DD
Sを微細粒子として安定に懸濁させることができ、しか
も反応系の昇温速度等に特別の注意を払う必要がなく温
度管理を容易に行える為に有利である。また、得られる
懸濁液中の4,4’ −DDSの純度も高く、本発明の
方法に都合よく適用される。
は溶剤中で行うときに比して、撹拌容易にして生成DD
Sを微細粒子として安定に懸濁させることができ、しか
も反応系の昇温速度等に特別の注意を払う必要がなく温
度管理を容易に行える為に有利である。また、得られる
懸濁液中の4,4’ −DDSの純度も高く、本発明の
方法に都合よく適用される。
上記において、懸濁媒中で脱水反応を行い得られる反応
液は、そのまま本発明の異性化に供することができる。
液は、そのまま本発明の異性化に供することができる。
向上記脱水反応を4.4’ −DDSを溶解する溶剤中
で行った場合には生成物溶液を固液分離し、次いで固相
を4.4’ −DDSを溶解しない液状分散媒に懸濁さ
せて本発明の異性化に用いればよい。この場合の液状分
散媒としては、前記に挙げた懸濁媒と同様のものを使用
すればよい。
で行った場合には生成物溶液を固液分離し、次いで固相
を4.4’ −DDSを溶解しない液状分散媒に懸濁さ
せて本発明の異性化に用いればよい。この場合の液状分
散媒としては、前記に挙げた懸濁媒と同様のものを使用
すればよい。
本発明の方法では、DDS混合物の懸濁液を酸触媒の存
在下に加熱して液相を留去しつつ2,4’−DDSの4
.4’ −DDSへの異性化反応を進行させる。上記脱
水反応により得られる懸濁液は、通常脱水反応の過程で
中間的に生戊する或いは原料として用いたフェノールス
ルホン酸を含有しこれが異性化反応の酸触媒として作用
する為に、本発明の方法にそのまま用いることができる
。
在下に加熱して液相を留去しつつ2,4’−DDSの4
.4’ −DDSへの異性化反応を進行させる。上記脱
水反応により得られる懸濁液は、通常脱水反応の過程で
中間的に生戊する或いは原料として用いたフェノールス
ルホン酸を含有しこれが異性化反応の酸触媒として作用
する為に、本発明の方法にそのまま用いることができる
。
若し、懸濁液が酸触媒を含有しないとき或いは脱水反応
により得られる懸濁液であってもより多くの酸触媒を存
在させようとする時は別途酸触媒を添加すればよい。酸
触媒としては、フェノールスルホン酸の他にベンゼンス
ルホン酸、ベンゼンジスルホン酸、クロルベンゼンスル
ホン酸等を用いることができる。懸濁液中の酸触媒の含
量はDDS結晶粉末混合物に対して0. 5〜5重量
%程度とするのがよい。
により得られる懸濁液であってもより多くの酸触媒を存
在させようとする時は別途酸触媒を添加すればよい。酸
触媒としては、フェノールスルホン酸の他にベンゼンス
ルホン酸、ベンゼンジスルホン酸、クロルベンゼンスル
ホン酸等を用いることができる。懸濁液中の酸触媒の含
量はDDS結晶粉末混合物に対して0. 5〜5重量
%程度とするのがよい。
本発明においては異性化反応を液相を徐々に留去しつつ
行うことを必須とする。撹拌下に減圧度を調節しなから
液相を蒸留回収しつつ異性化してもよいし、常圧下に蒸
留回収しつつ異性化してもよい。加熱温度は減圧度、液
相の沸点等に応じ適宜選択すればよいが、通常120〜
200℃程度、好ましくは140〜180℃が好適であ
る。液相は異性化反応の完結とほぼ同時に留去してしま
ってもよいし、異性化反応の完結前に留去してしまって
もよい。後者の場合、固相はサラサラの結晶粉末として
得られるから、これを更に異性化温度以上に加熱撹拌し
て異性化反応を進行させることができる。異性化に要す
る時間は通常0.5〜10時間程度であり、液相の留去
は異性化とほぼ同時に完結させるかそれ以前に完結させ
る様にすればよく、0.5時間或いはそれ以前に留去が
完結してもよいが、液相を留去しつつ異性化する工程は
不可欠である。
行うことを必須とする。撹拌下に減圧度を調節しなから
液相を蒸留回収しつつ異性化してもよいし、常圧下に蒸
留回収しつつ異性化してもよい。加熱温度は減圧度、液
相の沸点等に応じ適宜選択すればよいが、通常120〜
200℃程度、好ましくは140〜180℃が好適であ
る。液相は異性化反応の完結とほぼ同時に留去してしま
ってもよいし、異性化反応の完結前に留去してしまって
もよい。後者の場合、固相はサラサラの結晶粉末として
得られるから、これを更に異性化温度以上に加熱撹拌し
て異性化反応を進行させることができる。異性化に要す
る時間は通常0.5〜10時間程度であり、液相の留去
は異性化とほぼ同時に完結させるかそれ以前に完結させ
る様にすればよく、0.5時間或いはそれ以前に留去が
完結してもよいが、液相を留去しつつ異性化する工程は
不可欠である。
斯くして本発明によれば、4.4’ −DDSを液相成
分を含まないサラサラの結晶粉末として高純度高収率で
収得でき、異性化後に溶剤や懸濁媒を分離除去する必要
はない。殊に、液状分散媒にメシチレンを用いた場合に
は、得られる4,4′−DDSは薄いピンクと色相も良
好で、より効果的である。
分を含まないサラサラの結晶粉末として高純度高収率で
収得でき、異性化後に溶剤や懸濁媒を分離除去する必要
はない。殊に、液状分散媒にメシチレンを用いた場合に
は、得られる4,4′−DDSは薄いピンクと色相も良
好で、より効果的である。
実施例
以下に実施例を示し、本発明の特徴とするところを一層
明確なものとする。
明確なものとする。
実施例1
フェノール2.02モル及びメシチレン190mQの混
合物に撹拌下98%硫酸1. 0モルを滴下後、20
0℃の油浴により加熱し、昇温した。
合物に撹拌下98%硫酸1. 0モルを滴下後、20
0℃の油浴により加熱し、昇温した。
145℃付近で反応液が沸騰を始めた。留出物は、コン
デンサーで凝縮されトラップで2相に分離された。上相
の有機相は連続的に反応機に戻された。
デンサーで凝縮されトラップで2相に分離された。上相
の有機相は連続的に反応機に戻された。
留出が始まってから約4時間後、反応系は165℃とな
り、トラップで除去された下相の水量は38−となった
。更に2時間経過後は、反応系の温度、水量に実質上の
変化はなく、脱水反応の実質上の完了が確認された。
り、トラップで除去された下相の水量は38−となった
。更に2時間経過後は、反応系の温度、水量に実質上の
変化はなく、脱水反応の実質上の完了が確認された。
次に、得られた懸濁液を165℃の温度に固定した油浴
で、反応系の減圧度を調節することに、より3時間を要
して、徐々に、液相の実質上の全てを回収し、異性化反
応を終えた。最終の減圧度はlQmmHgであった。
で、反応系の減圧度を調節することに、より3時間を要
して、徐々に、液相の実質上の全てを回収し、異性化反
応を終えた。最終の減圧度はlQmmHgであった。
このようにして得た生成物の組成は、高速液体クロマト
グラフィー(HPLC)で分析したところ、重量比で 4.4’ −DD8 96.2%2.
4’ −DD8 1.8%トリヒド
ロキシトリフエニルジスルホン(以下「トリ体」という
) 2.0%であった。また、硫酸に対する
収率は、上記3成分合計で98.1%であり、4.4’
−DDSの収率は、94.4%であった。
グラフィー(HPLC)で分析したところ、重量比で 4.4’ −DD8 96.2%2.
4’ −DD8 1.8%トリヒド
ロキシトリフエニルジスルホン(以下「トリ体」という
) 2.0%であった。また、硫酸に対する
収率は、上記3成分合計で98.1%であり、4.4’
−DDSの収率は、94.4%であった。
実施例2
実施例1と同様にして脱水反応して得られた懸濁液を1
65℃で減圧度を調節しつつ0.5時間かけて液相の実
質上の全てを回収した。更に、得られた結晶粉末を16
5℃で3時間加熱して異性化反応を終えた。このように
して得られた生成物の組成は、HPLCにより、重量比
で 4.4’ 一DD8 97.0%2.
4’ −DD8 1.6%ト
リ 体
1 . 4 %であっ
た。また、硫酸に対する収率は、上記3成分合計で98
.2%であり、4.4’ −DDSで95,3%であっ
た。
65℃で減圧度を調節しつつ0.5時間かけて液相の実
質上の全てを回収した。更に、得られた結晶粉末を16
5℃で3時間加熱して異性化反応を終えた。このように
して得られた生成物の組成は、HPLCにより、重量比
で 4.4’ 一DD8 97.0%2.
4’ −DD8 1.6%ト
リ 体
1 . 4 %であっ
た。また、硫酸に対する収率は、上記3成分合計で98
.2%であり、4.4’ −DDSで95,3%であっ
た。
実施例3
実施例1と同様にして脱水反応して得られた懸濁液を1
80℃で減圧度を調節しつつ3時間かけて液相の実質上
の全てを回収した。このようにして得られた生成物の組
戊は、HPLCにより、重量比で 4.4’ −DD8 94.7%2.
4’ −DD8 2.5%ト
リ 体
2. 8 %であった。
80℃で減圧度を調節しつつ3時間かけて液相の実質上
の全てを回収した。このようにして得られた生成物の組
戊は、HPLCにより、重量比で 4.4’ −DD8 94.7%2.
4’ −DD8 2.5%ト
リ 体
2. 8 %であった。
また、硫酸に対する収率は、3成分で97.5%であり
、4.4’ 一DDSで92.3%であった。
、4.4’ 一DDSで92.3%であった。
実施例4
フェノールを2.10モルとした以外は実施例1と同様
にして脱水反応して懸濁液を得た。これを165℃で減
圧度を調節しつつ3時間かけて液相の実質上の全てを回
収した。このようにして得られた生成物の組成は、HP
LCにより、重量比で 4.4’ −DDS 96.
1%2.4’ −DDS
2,Q%ト リ 体
1 . 9 %であった。また、硫酸に対する収率
は、3成分で96.3%であり、4.4’−DDSで9
2.5%であった。
にして脱水反応して懸濁液を得た。これを165℃で減
圧度を調節しつつ3時間かけて液相の実質上の全てを回
収した。このようにして得られた生成物の組成は、HP
LCにより、重量比で 4.4’ −DDS 96.
1%2.4’ −DDS
2,Q%ト リ 体
1 . 9 %であった。また、硫酸に対する収率
は、3成分で96.3%であり、4.4’−DDSで9
2.5%であった。
実施例5
フェノールを2.20モルとした以外は実施例1と同様
にして脱水反応して懸濁液を得た。これを165℃で減
圧度を調節しつつ3時間かけて液相の実質上の全てを回
収した。このようにして得られた生成物の組成は、HP
LCにより、重量比で 4.4’ −DDS 96.
0%2.4’ −DD8
2.3%ト リ 体
1 .
7 %であった。また、硫酸に対する収率は、3成
分で95.5%であり、4.4’−DDSで91.7%
であった。
にして脱水反応して懸濁液を得た。これを165℃で減
圧度を調節しつつ3時間かけて液相の実質上の全てを回
収した。このようにして得られた生成物の組成は、HP
LCにより、重量比で 4.4’ −DDS 96.
0%2.4’ −DD8
2.3%ト リ 体
1 .
7 %であった。また、硫酸に対する収率は、3成
分で95.5%であり、4.4’−DDSで91.7%
であった。
Claims (6)
- (1)4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンと2
,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとを液状分散
媒に懸濁状態で含有している懸濁液を、酸触媒の存在下
に加熱して液相を留去しつつ2,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンの4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンへの異性化反応を進行させ、最終的に液相の実
質的に全てが除去された高純度4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンを収得することを特徴とする高純度
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
。 - (2)異性化反応の完結とほぼ同時に液相の実質的に全
てを留去する請求項(1)に記載の方法。 - (3)液相の実質的全てを異性化反応の完結前に留去し
、次いで4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンと
2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとを含有す
る固相を更に加熱して異性化反応を完結させる請求項(
1)に記載の方法。 - (4)液状分散媒がメシチレンである請求項(1)に記
載の方法。 - (5)フェノールとスルホン化剤又はフェノールスルホ
ン酸とを液状分散媒の存在下に生成する4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを懸濁させつつ脱水反応さ
せて4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンと2,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとが液状分散媒
中に懸濁されている懸濁液を得、該懸濁液を加熱して液
相を留去しつつ異性化反応を進行させ、最終的に液相の
実質的に全てが除去された高純度4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを収得することを特徴とする高純
度4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方
法。 - (6)液状分散媒がメシチレンである請求項(5)に記
載の方法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1340699A JPH082861B2 (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | 高純度4,4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
| DE69008154T DE69008154T2 (de) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Verfahren zur herstellung von 4,4'-dihydroxydiphenyl-sulfonen. |
| PCT/JP1990/001179 WO1991004245A1 (fr) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Procede de preparation de 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone |
| EP90913547A EP0443046B1 (en) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Process for preparing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
| US07/678,332 US5189223A (en) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Process for preparation of 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone |
| PCT/JP1990/001740 WO1991009839A1 (fr) | 1989-12-29 | 1990-12-28 | Procede de production de 4,4'-dihydroxydiphenyle sulfone |
| EP91901562A EP0461272B1 (en) | 1989-12-29 | 1990-12-28 | Process for producing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
| DE69031272T DE69031272T2 (de) | 1989-12-29 | 1990-12-28 | Verfahren zur herstellung von 4,4'-dihydroxydiphenylsulfon |
| US07/904,887 US5241121A (en) | 1989-12-29 | 1992-06-25 | Process for preparation of 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1340699A JPH082861B2 (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | 高純度4,4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03206073A true JPH03206073A (ja) | 1991-09-09 |
| JPH082861B2 JPH082861B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=18339465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1340699A Expired - Lifetime JPH082861B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-12-29 | 高純度4,4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH082861B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255925A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-11 | Nippon Soda Co Ltd | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
| JP2003104955A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
| JP2003104954A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
| JP2003531137A (ja) * | 2000-04-14 | 2003-10-21 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの半連続的製造法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004029020A1 (ja) | 2002-09-25 | 2004-04-08 | Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. | 高純度4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
-
1989
- 1989-12-29 JP JP1340699A patent/JPH082861B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003531137A (ja) * | 2000-04-14 | 2003-10-21 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの半連続的製造法 |
| JP2002255925A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-11 | Nippon Soda Co Ltd | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
| JP2003104955A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
| JP2003104954A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH082861B2 (ja) | 1996-01-17 |
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