JPH0791282B2 - エチレンオキシドの精製方法 - Google Patents
エチレンオキシドの精製方法Info
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- JPH0791282B2 JPH0791282B2 JP61171831A JP17183186A JPH0791282B2 JP H0791282 B2 JPH0791282 B2 JP H0791282B2 JP 61171831 A JP61171831 A JP 61171831A JP 17183186 A JP17183186 A JP 17183186A JP H0791282 B2 JPH0791282 B2 JP H0791282B2
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
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- Epoxy Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、エチレンオキシドの精製方法に関するもので
ある。エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
と接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有す
る反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収
液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりの
ガスはエチレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシ
ドを含むエチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシ
ド放散塔へ供給し、エチレンオキシド放散塔頂からエチ
レンオキシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水
を含む留出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質
分分離塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精
留塔でエチレンオキシドを精留する工程よりなるエチレ
ンオキシドの精製方法において、エチレンオキシド精留
塔および／または軽質分分離塔の加熱エネルギーを低減
させるエチレンオキシドの精製方法に関するものであ
る。
ある。エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
と接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有す
る反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収
液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりの
ガスはエチレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシ
ドを含むエチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシ
ド放散塔へ供給し、エチレンオキシド放散塔頂からエチ
レンオキシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水
を含む留出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質
分分離塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精
留塔でエチレンオキシドを精留する工程よりなるエチレ
ンオキシドの精製方法において、エチレンオキシド精留
塔および／または軽質分分離塔の加熱エネルギーを低減
させるエチレンオキシドの精製方法に関するものであ
る。
（従来の技術） エチレンオキシドは一般につぎにようにして精製され
る。エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触
気相酸化して生成するエチレンオキシドを含む反応生成
ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導びき水を主とする吸
収液と向流接触させエチレンオキシド水溶液として回収
し、ついでエチレンオキシド放散塔へ送りエチレンオキ
シド放散塔底部を加熱蒸気で加熱することによってエチ
レンオキシドを水溶液から放散させエチレンオキシド放
散塔底部より実質的にエチレンオキシドを含まない水溶
液は吸収液として循環使用し、エチレンオキシド放散塔
頂部より放散されるエチレンオキシド、水、二酸化炭
素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）の
他ホルムアルデヒド等の低沸点不純物およびアセトアル
デヒド、酢酸等の高沸点不純物を含む放散物を脱水工
程、軽質分分離工程および重質分分離工程の各々を経て
精製しエチレンオキシドを製造することができる。エチ
レンオキシドの回収方法については種々の提案がされて
いる。たとえば、 米国特許第3,165,539号、米国特許第2,771,473号、米国
特許第4,028,070号、米国特許第3,097,215号、米国特許
第3,217,466号、米国特許第3,745,092号、米国特許第3,
729,899号、米国特許第3,766,714号および米国特許第3,
964,980号等が挙げられる。
る。エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触
気相酸化して生成するエチレンオキシドを含む反応生成
ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導びき水を主とする吸
収液と向流接触させエチレンオキシド水溶液として回収
し、ついでエチレンオキシド放散塔へ送りエチレンオキ
シド放散塔底部を加熱蒸気で加熱することによってエチ
レンオキシドを水溶液から放散させエチレンオキシド放
散塔底部より実質的にエチレンオキシドを含まない水溶
液は吸収液として循環使用し、エチレンオキシド放散塔
頂部より放散されるエチレンオキシド、水、二酸化炭
素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）の
他ホルムアルデヒド等の低沸点不純物およびアセトアル
デヒド、酢酸等の高沸点不純物を含む放散物を脱水工
程、軽質分分離工程および重質分分離工程の各々を経て
精製しエチレンオキシドを製造することができる。エチ
レンオキシドの回収方法については種々の提案がされて
いる。たとえば、 米国特許第3,165,539号、米国特許第2,771,473号、米国
特許第4,028,070号、米国特許第3,097,215号、米国特許
第3,217,466号、米国特許第3,745,092号、米国特許第3,
729,899号、米国特許第3,766,714号および米国特許第3,
964,980号等が挙げられる。
従来公知の方法を具体的に説明すると、例えば第１図に
おいてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
により接触気相酸化して生成するエチレンオキシドを含
む反応生成ガスを導管１を通して、充填塔あるいは棚段
塔型式のエチレンオキシド吸収塔２の下部へ供給し、導
管３よりエチレンオキシド吸収塔２の上部へ吸収液を導
入し、反応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の
99重量％以上のエチレンオキシドを回収し、エチレンオ
キシド吸収塔２の塔頂より吸収しなかったエチレン、酸
素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタ
ン、エタン）アルデヒド類、酸性物質等のガスは導管４
を通して二酸化炭素吸収工程および／または酸化反応工
程へ循環される。この吸収工程においてエチレンオキシ
ドの他、エチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒
素、アルゴン、メタン、エタン、）ならびにエチレン酸
化反応工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純
物、アセトアルデヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実
質量が同時に吸収される。エチレンオキシド吸収塔２の
塔底液を導管５を通して熱交換器６へ送りエチレンオキ
シド放散塔底液と熱交換して温度70〜110℃に高め、導
管７によりフラッシュタンク８へ送られ一部エチレンオ
キシド、水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管９によ
り分離される。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収
液を導管10を通して塔頂圧力0.1〜2Kg/cm2Ｇ、塔頂温度
85〜120℃のエチレンオキシド放散塔11の上部へ供給
し、エチレンオキシド放散塔11の加熱器12より水蒸気ま
たはダウサム（ダウ社、熱媒体商品）等の加熱媒体で導
管13を通して加熱するか、または直接エチレンオキシド
放散塔11の底部へ水蒸気を導入する加熱方式により加熱
し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量％以
上を放散せしめ、エチレンオキシド放散塔11の底部より
エチレンオキシドを実質的に含まない温度110〜150℃の
エチレンオキシド放散塔底液の一部は導管14および導管
15を通して熱交換器６でエチレンオキシド吸収塔２の塔
底液と熱交換し、導管16を通して、さらに導管18および
導管19に冷却水が通る冷却器17により冷却し、ついで吸
収液中のエチレングリコール濃度を調節するため新鮮な
水を導管21を通して導入し、必要により、吸収液中のpH
を調節するため水酸化カリウム水溶液を添加し、吸収液
中の消泡剤濃度を調節するため消泡剤をエチレンオキシ
ド吸収塔２へそれぞれ導入することができる。エチレン
を分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレンオキシ
ド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと水との
加水反応で生成する副生エチレングリコールおよびホル
ムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよ
び酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチレンオキ
シド放散塔11の塔底部より導管14および22を通してエチ
レンオキシド放散塔11の底液を抜き出し、副生エチレン
グリコール濃縮工程に送られる。
おいてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
により接触気相酸化して生成するエチレンオキシドを含
む反応生成ガスを導管１を通して、充填塔あるいは棚段
塔型式のエチレンオキシド吸収塔２の下部へ供給し、導
管３よりエチレンオキシド吸収塔２の上部へ吸収液を導
入し、反応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の
99重量％以上のエチレンオキシドを回収し、エチレンオ
キシド吸収塔２の塔頂より吸収しなかったエチレン、酸
素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタ
ン、エタン）アルデヒド類、酸性物質等のガスは導管４
を通して二酸化炭素吸収工程および／または酸化反応工
程へ循環される。この吸収工程においてエチレンオキシ
ドの他、エチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒
素、アルゴン、メタン、エタン、）ならびにエチレン酸
化反応工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純
物、アセトアルデヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実
質量が同時に吸収される。エチレンオキシド吸収塔２の
塔底液を導管５を通して熱交換器６へ送りエチレンオキ
シド放散塔底液と熱交換して温度70〜110℃に高め、導
管７によりフラッシュタンク８へ送られ一部エチレンオ
キシド、水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管９によ
り分離される。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収
液を導管10を通して塔頂圧力0.1〜2Kg/cm2Ｇ、塔頂温度
85〜120℃のエチレンオキシド放散塔11の上部へ供給
し、エチレンオキシド放散塔11の加熱器12より水蒸気ま
たはダウサム（ダウ社、熱媒体商品）等の加熱媒体で導
管13を通して加熱するか、または直接エチレンオキシド
放散塔11の底部へ水蒸気を導入する加熱方式により加熱
し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量％以
上を放散せしめ、エチレンオキシド放散塔11の底部より
エチレンオキシドを実質的に含まない温度110〜150℃の
エチレンオキシド放散塔底液の一部は導管14および導管
15を通して熱交換器６でエチレンオキシド吸収塔２の塔
底液と熱交換し、導管16を通して、さらに導管18および
導管19に冷却水が通る冷却器17により冷却し、ついで吸
収液中のエチレングリコール濃度を調節するため新鮮な
水を導管21を通して導入し、必要により、吸収液中のpH
を調節するため水酸化カリウム水溶液を添加し、吸収液
中の消泡剤濃度を調節するため消泡剤をエチレンオキシ
ド吸収塔２へそれぞれ導入することができる。エチレン
を分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレンオキシ
ド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと水との
加水反応で生成する副生エチレングリコールおよびホル
ムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよ
び酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチレンオキ
シド放散塔11の塔底部より導管14および22を通してエチ
レンオキシド放散塔11の底液を抜き出し、副生エチレン
グリコール濃縮工程に送られる。
一方、エチレンオキシド放散塔11の塔頂部より放散され
るエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管23を通して、
導管25および導管26に冷却水が通る凝縮器24へ送り、凝
縮液は導管27を通してエチレンオキシド放散塔11の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管28を通して脱水塔29へ供
給される。
るエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管23を通して、
導管25および導管26に冷却水が通る凝縮器24へ送り、凝
縮液は導管27を通してエチレンオキシド放散塔11の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管28を通して脱水塔29へ供
給される。
脱水塔29の加熱器30により水蒸気またはダウサム（ダウ
社商品）等の加熱媒体で導管31を通して加熱するか、ま
たは直接脱水塔29の下部へ水蒸気を導入する加熱方式に
より加熱し、脱水塔29の塔底部より導管32を通して実質
的にエチレンオキシドを含まない水が抜き出される。
社商品）等の加熱媒体で導管31を通して加熱するか、ま
たは直接脱水塔29の下部へ水蒸気を導入する加熱方式に
より加熱し、脱水塔29の塔底部より導管32を通して実質
的にエチレンオキシドを含まない水が抜き出される。
脱水塔29の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は導
管33を通して、導管35および導管36に冷却水またはブラ
インが通る凝縮器34へ送り、凝縮液は導管37を通して脱
水塔29の塔頂部へ還流し、凝縮器34の未凝縮蒸気は導管
39を通して再エチレンオキシド吸収塔（図示していな
い）へ供給される。凝縮器34の凝縮液の他部は導管38を
通して軽質分分離塔40へ供給される。
管33を通して、導管35および導管36に冷却水またはブラ
インが通る凝縮器34へ送り、凝縮液は導管37を通して脱
水塔29の塔頂部へ還流し、凝縮器34の未凝縮蒸気は導管
39を通して再エチレンオキシド吸収塔（図示していな
い）へ供給される。凝縮器34の凝縮液の他部は導管38を
通して軽質分分離塔40へ供給される。
軽質分分離塔40の加熱器41により水蒸気またはダウサム
（ダウ社商品）等の加熱媒体で導管42を通して加熱する
方式により加熱し、軽質分分離塔40の塔頂部より軽質分
を含むエチレンオキシド蒸気は導管43を通して凝縮器44
へ送り、凝縮液は導管47を通して軽質分分離塔40の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管48を通してエチレンオキ
シドを回収するため再エチレンオキシド吸収塔（図示し
てない）へ供給される。
（ダウ社商品）等の加熱媒体で導管42を通して加熱する
方式により加熱し、軽質分分離塔40の塔頂部より軽質分
を含むエチレンオキシド蒸気は導管43を通して凝縮器44
へ送り、凝縮液は導管47を通して軽質分分離塔40の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管48を通してエチレンオキ
シドを回収するため再エチレンオキシド吸収塔（図示し
てない）へ供給される。
一方軽質分を分離されたエチレンオキシドは軽質分分離
塔40の塔底部より導管49を通してエチレンオキシド精留
塔50へ供給される。
塔40の塔底部より導管49を通してエチレンオキシド精留
塔50へ供給される。
エチレンオキシド精留塔50の加熱器58へ導管59より圧力
0.5〜3.0Kg/cm2Ｇの水蒸気を供給し、エチレンオキシド
精留塔50の塔底温度35〜85℃、エチレンオキシド精留塔
底圧力1.2〜8.2Kg/cm2Ｇで精留を行ない、エチレンオキ
シド精留塔頂部より塔頂温度29〜81℃、塔頂圧力1.0〜
8.0Kg/cm2Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管51を通し
て、凝縮器52へ送りエチレンオキシド蒸気は液化し、液
化した液の一部は導管56を通してエチレンオキシド精留
塔50の塔頂部へ還流液として導入し、液化した液の他部
は導管57を通してエチレンオキシド製品として抜き出さ
れる。
0.5〜3.0Kg/cm2Ｇの水蒸気を供給し、エチレンオキシド
精留塔50の塔底温度35〜85℃、エチレンオキシド精留塔
底圧力1.2〜8.2Kg/cm2Ｇで精留を行ない、エチレンオキ
シド精留塔頂部より塔頂温度29〜81℃、塔頂圧力1.0〜
8.0Kg/cm2Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管51を通し
て、凝縮器52へ送りエチレンオキシド蒸気は液化し、液
化した液の一部は導管56を通してエチレンオキシド精留
塔50の塔頂部へ還流液として導入し、液化した液の他部
は導管57を通してエチレンオキシド製品として抜き出さ
れる。
エチレンオキシド精留塔50の凝縮器52の未凝縮蒸気は導
管55を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレ
ンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給される。
管55を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレ
ンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給される。
エチレンオキシド精留塔50の塔底液はアセトアルデヒ
ド、水、および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離のた
め必要により導管67を通して抜き出される。
ド、水、および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離のた
め必要により導管67を通して抜き出される。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、このようなエチレンオキシドの精製方法
は、エチレンオキシド放散塔頂蒸気の凝縮熱の回収やエ
チレンオキシド放散塔底部より抜き出された液が有する
熱エネルギーを回収する点については十分でなく、大量
の熱量が系外に廃棄されるという問題があった。従来の
方法は100〜150℃のエチレンオキシド放散塔底液をエチ
レンオキシド吸収塔底液と熱交換させ、熱量の回収を行
なった後、冷却してエチレンオキシド吸収塔の吸収液と
していた。また、エチレンオキシドの精製方法はエチレ
ンオキシド精留塔及び軽質分分離塔における加熱蒸気量
を多量に消費する問題があった。
は、エチレンオキシド放散塔頂蒸気の凝縮熱の回収やエ
チレンオキシド放散塔底部より抜き出された液が有する
熱エネルギーを回収する点については十分でなく、大量
の熱量が系外に廃棄されるという問題があった。従来の
方法は100〜150℃のエチレンオキシド放散塔底液をエチ
レンオキシド吸収塔底液と熱交換させ、熱量の回収を行
なった後、冷却してエチレンオキシド吸収塔の吸収液と
していた。また、エチレンオキシドの精製方法はエチレ
ンオキシド精留塔及び軽質分分離塔における加熱蒸気量
を多量に消費する問題があった。
したがって、本発明の目的は、エチレンオキシドの新規
な精製方法を提供することにある。
な精製方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、エチレンオキシド放散塔底液の有
するエネルギー有効利用をはかったエチレンオキシドの
精製方法を提供することにある。
するエネルギー有効利用をはかったエチレンオキシドの
精製方法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸
化して生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガ
スをエチレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流接
触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスはエチ
レン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含むエ
チレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ
供給してエチレンオキシド放散塔頂からエチレンオキシ
ドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留出
液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離塔で
軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエチ
レンオキシドを精留する工程よりなるエチレンオキシド
の精製方法において、エチレンオキシド放散塔頂部から
放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に
使用し、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された
液の一部はエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換した後
エチレンオキシド精留塔の加熱源および／または軽質分
分離塔の加熱源に使用することを特徴とするエチレンオ
キシドの精製方法に関するものである。これらの諸目的
は、エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して
生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスをエ
チレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流接触さ
せ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスの一部はエ
チレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔
へ供給し、エチレンオキシド放散塔頂部からエチレンオ
キシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む
留出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離
塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔で
エチレンオキシドを精製する工程よりなるエチレンオキ
シドの精製方法において、エチレンオキシド放散塔頂部
から放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱
源に使用し、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源および
／または軽質分分離の加熱源に使用することを特徴とす
るエチレンオキシドの精製方法により達成される。
化して生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガ
スをエチレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流接
触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスはエチ
レン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含むエ
チレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ
供給してエチレンオキシド放散塔頂からエチレンオキシ
ドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留出
液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離塔で
軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエチ
レンオキシドを精留する工程よりなるエチレンオキシド
の精製方法において、エチレンオキシド放散塔頂部から
放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に
使用し、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された
液の一部はエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換した後
エチレンオキシド精留塔の加熱源および／または軽質分
分離塔の加熱源に使用することを特徴とするエチレンオ
キシドの精製方法に関するものである。これらの諸目的
は、エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して
生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスをエ
チレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流接触さ
せ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスの一部はエ
チレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔
へ供給し、エチレンオキシド放散塔頂部からエチレンオ
キシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む
留出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離
塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔で
エチレンオキシドを精製する工程よりなるエチレンオキ
シドの精製方法において、エチレンオキシド放散塔頂部
から放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱
源に使用し、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源および
／または軽質分分離の加熱源に使用することを特徴とす
るエチレンオキシドの精製方法により達成される。
第１図は、公知のエチレンオキシドの精製方法の一例を
示すフローチャートであり、 第２〜５図は、本発明によるエチレンオキシドの精製方
法の実施態様を示すフローチャートである。
示すフローチャートであり、 第２〜５図は、本発明によるエチレンオキシドの精製方
法の実施態様を示すフローチャートである。
本発明においてエチレンオキシド吸収塔へ供給される吸
収液の温度は５〜40℃、好ましくは10〜35℃であり、吸
収液の組成はpHが５〜12、好ましくは６〜11、エチレン
グリコール濃度が１〜40重量％、好ましくは５〜30重量
％、消泡剤濃度が0.1ppm以上、好ましくは１〜100ppm、
残り水の範囲に制御される。吸収液中のエチレングリコ
ール濃度を一定に保持するためエチレンオキシド吸収塔
とエチレンオキシド放散塔とを循環する吸収液の一部を
エチレンオキシド放散塔底部から抜き出し副生エチレン
グリコール濃縮塔へ送り、必要により新鮮な水が導入さ
れ制御される。pHの調節は、たとえばカリウム、ナトリ
ウムのようなアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の吸収
液に溶解する化合物を添加することにより行うのが好ま
しく、添加剤は具体的には水酸化カリウムまたは水酸化
ナトリウムが好ましい。
収液の温度は５〜40℃、好ましくは10〜35℃であり、吸
収液の組成はpHが５〜12、好ましくは６〜11、エチレン
グリコール濃度が１〜40重量％、好ましくは５〜30重量
％、消泡剤濃度が0.1ppm以上、好ましくは１〜100ppm、
残り水の範囲に制御される。吸収液中のエチレングリコ
ール濃度を一定に保持するためエチレンオキシド吸収塔
とエチレンオキシド放散塔とを循環する吸収液の一部を
エチレンオキシド放散塔底部から抜き出し副生エチレン
グリコール濃縮塔へ送り、必要により新鮮な水が導入さ
れ制御される。pHの調節は、たとえばカリウム、ナトリ
ウムのようなアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の吸収
液に溶解する化合物を添加することにより行うのが好ま
しく、添加剤は具体的には水酸化カリウムまたは水酸化
ナトリウムが好ましい。
消泡剤は、エチレンオキシド、副生エチレングリコール
等に不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであ
ればいかなる消泡剤でも使用でき、代表的な例としては
水溶性シリコンエマルションが吸収液への分散性、希釈
安定性、熱安定性が優れているので効果的である。
等に不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであ
ればいかなる消泡剤でも使用でき、代表的な例としては
水溶性シリコンエマルションが吸収液への分散性、希釈
安定性、熱安定性が優れているので効果的である。
エチレンオキシド吸収塔の操作条件は、反応生成ガス中
のエチレンオキシド濃度が0.5〜５容量％、好ましくは
1.0〜４容量％であり、エチレンオキシド吸収塔の操作
圧は２〜40Kg/cm2Ｇ、好ましくは10〜30Kg/cm2Ｇであ
る。エチレンオキシド放散塔の操作条件は、エチレンオ
キシド放散塔頂圧力0.1〜2Kg/cm2Ｇ、好ましくは0.3〜
0.6Kg/cm2Ｇ、エチレンオキシド放散塔頂温度85〜120
℃、エチレンオキシド放散塔底温度100〜150℃、エチレ
ンオキシド放散塔底エチレンオキシド濃度は10ppm以
下、好ましくは0.5ppm以下である。
のエチレンオキシド濃度が0.5〜５容量％、好ましくは
1.0〜４容量％であり、エチレンオキシド吸収塔の操作
圧は２〜40Kg/cm2Ｇ、好ましくは10〜30Kg/cm2Ｇであ
る。エチレンオキシド放散塔の操作条件は、エチレンオ
キシド放散塔頂圧力0.1〜2Kg/cm2Ｇ、好ましくは0.3〜
0.6Kg/cm2Ｇ、エチレンオキシド放散塔頂温度85〜120
℃、エチレンオキシド放散塔底温度100〜150℃、エチレ
ンオキシド放散塔底エチレンオキシド濃度は10ppm以
下、好ましくは0.5ppm以下である。
本発明の第１の特徴は、エチレンオキシド放散塔での塔
頂部から放散された蒸気をエチレンオキシド精留塔の加
熱器に導入することにより、エチレンオキシド精留塔を
加熱するに要する外部からの加熱熱量を大幅に減少する
ことが可能となる効果を発揮するものである。さらにこ
の方法を実施することによってエチレンオキシドの放散
塔頂部で発生した蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。本発明の第２の特徴
は、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された液の
一部をエチレンオキシド吸収塔底部よりの液と熱交換し
た後、エチレンオキシド精留塔および軽質分分離塔の加
熱源として利用するすることによってエチレンオキシド
精留塔および軽質分分離塔の加熱蒸気の削減をもたらす
ものである。さらにエチレンオキシド吸収塔への吸収液
を冷却するための冷却水の熱負荷が低減されるものであ
る。
頂部から放散された蒸気をエチレンオキシド精留塔の加
熱器に導入することにより、エチレンオキシド精留塔を
加熱するに要する外部からの加熱熱量を大幅に減少する
ことが可能となる効果を発揮するものである。さらにこ
の方法を実施することによってエチレンオキシドの放散
塔頂部で発生した蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。本発明の第２の特徴
は、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された液の
一部をエチレンオキシド吸収塔底部よりの液と熱交換し
た後、エチレンオキシド精留塔および軽質分分離塔の加
熱源として利用するすることによってエチレンオキシド
精留塔および軽質分分離塔の加熱蒸気の削減をもたらす
ものである。さらにエチレンオキシド吸収塔への吸収液
を冷却するための冷却水の熱負荷が低減されるものであ
る。
本発明においてエチレンオキシド脱水塔へ供給される供
給蒸気の温度は５〜60℃、好ましくは10〜50℃であり、
供給蒸気のエチレンオキシド濃度は80〜98重量％の範囲
である。
給蒸気の温度は５〜60℃、好ましくは10〜50℃であり、
供給蒸気のエチレンオキシド濃度は80〜98重量％の範囲
である。
エチレンオキシド脱水塔の操作条件は、脱水塔頂点圧力
０〜2Kg/cm2Ｇ、好ましくは0.3〜0.6Kg/cm2Ｇ、脱水塔
頂温度10〜40℃、脱水塔底温度100〜130℃の範囲であ
る。脱水塔底エチレンオキシド濃度は100ppm以下、好ま
しくは10ppm以下の範囲である。
０〜2Kg/cm2Ｇ、好ましくは0.3〜0.6Kg/cm2Ｇ、脱水塔
頂温度10〜40℃、脱水塔底温度100〜130℃の範囲であ
る。脱水塔底エチレンオキシド濃度は100ppm以下、好ま
しくは10ppm以下の範囲である。
本発明においてエチレンオキシド軽質分分離塔へ供給さ
れる供給液の温度は０〜50℃、好ましくは５〜30℃であ
り、供給液の組成は大部分がエチレンオキシドで、わず
かのホルムアルデヒド等のアルデヒド類及び水を含んで
いる。
れる供給液の温度は０〜50℃、好ましくは５〜30℃であ
り、供給液の組成は大部分がエチレンオキシドで、わず
かのホルムアルデヒド等のアルデヒド類及び水を含んで
いる。
軽質分分離塔の操作条件は、軽質分分離塔頂圧力１〜10
Kg/cm2Ｇ好ましくは３〜7Kg/cm2Ｇ、軽質分分離塔頂温
度30〜90℃、軽質分分離塔底温度30〜90℃の範囲であ
る。
Kg/cm2Ｇ好ましくは３〜7Kg/cm2Ｇ、軽質分分離塔頂温
度30〜90℃、軽質分分離塔底温度30〜90℃の範囲であ
る。
軽質分分離塔底エチレンオキシド濃度は99.5重量％以
上、好ましくは99.95重量％以上の範囲である。
上、好ましくは99.95重量％以上の範囲である。
本発明においてエチレンオキシド精留塔は棚段塔型式お
よび充填塔型式がある。
よび充填塔型式がある。
棚段塔型式の蒸留塔の棚段としては種々あるがバブルキ
ャップトレイ、ユニフラックストレイ、ターボグリッド
トレイ、リップトレイ、フレキシトレイ、シーブトレ
イ、バラストトレイ等が挙げられる。また、充填塔型式
の精留塔の充填物としては、ラシヒリング、ポールリン
グ、サドル型リング、スパイラルリング、マクマホンパ
ッキング、インターロックスメタルパッキング、一論理
段数あたり10mmHg以下の圧力損失を有する充填物、織物
または編物構造の金網積層板等が挙げられる。
ャップトレイ、ユニフラックストレイ、ターボグリッド
トレイ、リップトレイ、フレキシトレイ、シーブトレ
イ、バラストトレイ等が挙げられる。また、充填塔型式
の精留塔の充填物としては、ラシヒリング、ポールリン
グ、サドル型リング、スパイラルリング、マクマホンパ
ッキング、インターロックスメタルパッキング、一論理
段数あたり10mmHg以下の圧力損失を有する充填物、織物
または編物構造の金網積層板等が挙げられる。
本発明においてエチレンオキシド精留塔および軽質分分
離塔は一理論段数あたり20mmHg以下、好ましくは15mmHg
以下の圧力損失を有する棚段塔形式および充填塔形式が
好ましい。
離塔は一理論段数あたり20mmHg以下、好ましくは15mmHg
以下の圧力損失を有する棚段塔形式および充填塔形式が
好ましい。
本発明においてエチレンオキシド精留塔へ供給される供
給液の温度は30〜90℃、好ましくは50〜70℃であり、供
給液の組成はエチレンオキシド濃度が99.5重量％以上、
好ましくは99.95重量％以上の範囲に制御される。
給液の温度は30〜90℃、好ましくは50〜70℃であり、供
給液の組成はエチレンオキシド濃度が99.5重量％以上、
好ましくは99.95重量％以上の範囲に制御される。
エチレンオキシドの精留塔の操作条件は、精留塔頂圧力
1.0〜8.0Kg/cm2Ｇ、好ましくは1.2〜5.0Kg/cm2Ｇ、精留
塔頂温度29〜81℃、精留塔底温度35〜85℃、エチレンオ
キシド精留塔底エチレンオキシド濃度は30〜90重量％、
好ましくは40〜80重量％の範囲である。
1.0〜8.0Kg/cm2Ｇ、好ましくは1.2〜5.0Kg/cm2Ｇ、精留
塔頂温度29〜81℃、精留塔底温度35〜85℃、エチレンオ
キシド精留塔底エチレンオキシド濃度は30〜90重量％、
好ましくは40〜80重量％の範囲である。
本発明において、エチレンオキシド精留塔底液はエチレ
ンオキシドの他にアセトアルデヒド、水および酢酸等の
高沸点不純物からなる。
ンオキシドの他にアセトアルデヒド、水および酢酸等の
高沸点不純物からなる。
したがって前記特徴は、エチレンを銀触媒の存在下、分
子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレン
オキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸
収塔へ導入し、吸収液と向流接触させ、エチレンオキシ
ド吸収塔頂部よりのガスの一部はエチレン酸化反応工程
へ循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド吸
収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレン
オキシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せし
め、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液の一
部は熱交換器にてエチレンオキシド吸収塔底部と熱交換
した後、冷却器にて冷却した後、エチレンオキシド吸収
塔へ導き吸収液として循環使用し、残部はその液に含ま
れるエチレングリコールを濃縮するため副生エチレング
リコール濃縮塔へ送る工程において、エチレンオキシド
放散塔頂部より放散する蒸気が有する熱エネルギーを回
収し、その回収熱エネルギーの有効利用を計ることであ
る。その手段として、エチレンオキシド放散塔頂部より
放散する蒸気をエチレンオキシド精留塔の加熱器に送
り、熱交換し放散物を液化し、凝縮した液はエチレンオ
キシド放散塔へ還流し、未凝縮ガスは脱水塔へ供給する
方法が採用される。さらにエチレンオキシド放散塔底部
より抜き出した液はエチレンオキシド吸収塔底液と熱交
換して熱量を回収した後、エチレンオキシド精留塔およ
び／または軽質分分離塔の加熱器に導かれ、エチレンオ
キシド精留塔および／または軽質分分離塔の加熱源の一
部として利用され、ついで冷却水で冷却されエチレンオ
キシド吸収塔へ導かれる。
子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレン
オキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸
収塔へ導入し、吸収液と向流接触させ、エチレンオキシ
ド吸収塔頂部よりのガスの一部はエチレン酸化反応工程
へ循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド吸
収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレン
オキシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せし
め、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液の一
部は熱交換器にてエチレンオキシド吸収塔底部と熱交換
した後、冷却器にて冷却した後、エチレンオキシド吸収
塔へ導き吸収液として循環使用し、残部はその液に含ま
れるエチレングリコールを濃縮するため副生エチレング
リコール濃縮塔へ送る工程において、エチレンオキシド
放散塔頂部より放散する蒸気が有する熱エネルギーを回
収し、その回収熱エネルギーの有効利用を計ることであ
る。その手段として、エチレンオキシド放散塔頂部より
放散する蒸気をエチレンオキシド精留塔の加熱器に送
り、熱交換し放散物を液化し、凝縮した液はエチレンオ
キシド放散塔へ還流し、未凝縮ガスは脱水塔へ供給する
方法が採用される。さらにエチレンオキシド放散塔底部
より抜き出した液はエチレンオキシド吸収塔底液と熱交
換して熱量を回収した後、エチレンオキシド精留塔およ
び／または軽質分分離塔の加熱器に導かれ、エチレンオ
キシド精留塔および／または軽質分分離塔の加熱源の一
部として利用され、ついで冷却水で冷却されエチレンオ
キシド吸収塔へ導かれる。
一方、エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド
放散塔底部よりの高温の液と熱交換された後、フラッシ
ュタンクにて軽質分ガスを分離した後、エチレンオキシ
ド放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシドは放散され
る。本発明においてエチレンオキシド放散塔頂部より放
散されるものは、大部分が水、エチレンオキシド、少部
分が二酸化炭素、微量の酸素、エチレン、不活性ガス
（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、ホルムアルデヒ
ド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよび酢酸等の
高沸点不純物からなる放散物である。
放散塔底部よりの高温の液と熱交換された後、フラッシ
ュタンクにて軽質分ガスを分離した後、エチレンオキシ
ド放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシドは放散され
る。本発明においてエチレンオキシド放散塔頂部より放
散されるものは、大部分が水、エチレンオキシド、少部
分が二酸化炭素、微量の酸素、エチレン、不活性ガス
（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、ホルムアルデヒ
ド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよび酢酸等の
高沸点不純物からなる放散物である。
本発明をさらに詳しく述べるために図面に基づいて説明
する。
する。
第２図においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管301を通して、充填塔あ
るいは棚段塔形式のエチレオキシド吸収塔302の下部へ
供給し、導波管303よりエチレンオキシド吸収塔302の上
部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ、反
応生成ガス中の99重量％以上のエチレンオキシドを回収
し、エチレンオキシド吸収塔302の塔頂より吸収しなか
ったエチレン，酸素，二酸化炭素，不活性ガス（窒素，
アルゴン，メタン，エタン），アルデヒド，酸性物質等
のガスは導管304を通して二酸化炭素吸収工程および／
また酸化反応工程へ循環される。この吸収工程において
エチレンオキシドの他、エチレン，酸素，二酸化炭素，
不活性ガス（窒素，アルゴン，メタン，エタン）ならび
にエチレン酸化反応工程で生成したホルムアルデヒド等
の低沸点不純物，アセトアルデヒド，酢酸等の高沸点不
純物もその実質量が同時に吸収される。エチレンオキシ
ド吸収塔302の塔底液を導管305を通して熱交換器306へ
送りエチレンオキシド放散塔311底液と熱交換して温度7
0〜110℃に高め、導管307によりフラッシュタンク308へ
送られ一部エチレンオキシドおよび水を含む不活性ガス
の軽質分ガスが導管309により分離される。軽質分ガス
をフラッシュした残部の吸収液を導管310を通して塔頂
圧力0.1〜2kg/cmC2G,温度90〜120℃のエチレンオキシド
放散塔311の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔311
の加熱器312より水蒸気またはダウサム（ダウ社商品）
等の加熱媒体で導管313を通して加熱するか、または直
接エチレンオキシド放散塔311の底部へ水蒸気を導入す
る加熱方式により加熱し、吸収液中に含まれるエチレン
オキシドの99重量％以上を放散せしめ、エチレンオキシ
ド放散塔311の底部よりエチレンオキシドを実質的に含
まない温度 100〜150℃の放散塔底液の一部は導管314および導管315
を通して熱交換器306でエチレンオキシド吸収塔302の塔
底液と熱交換した後導管380によりエチレンオキシド精
留塔350の加熱器358へ送られ、加熱源とした後、導管31
6を通して、さらに導管318および319に冷却水が通る冷
却器317により冷却し、ついで吸収液中のエチレングリ
コール濃度を調節するため新鮮な水を導管321を通して
導入し、必要により、吸収液中のpHを調節するため水酸
化カリウム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調
節するため消泡剤をエチレンオキシド吸収塔302へそれ
ぞれ導入することができる。
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管301を通して、充填塔あ
るいは棚段塔形式のエチレオキシド吸収塔302の下部へ
供給し、導波管303よりエチレンオキシド吸収塔302の上
部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ、反
応生成ガス中の99重量％以上のエチレンオキシドを回収
し、エチレンオキシド吸収塔302の塔頂より吸収しなか
ったエチレン，酸素，二酸化炭素，不活性ガス（窒素，
アルゴン，メタン，エタン），アルデヒド，酸性物質等
のガスは導管304を通して二酸化炭素吸収工程および／
また酸化反応工程へ循環される。この吸収工程において
エチレンオキシドの他、エチレン，酸素，二酸化炭素，
不活性ガス（窒素，アルゴン，メタン，エタン）ならび
にエチレン酸化反応工程で生成したホルムアルデヒド等
の低沸点不純物，アセトアルデヒド，酢酸等の高沸点不
純物もその実質量が同時に吸収される。エチレンオキシ
ド吸収塔302の塔底液を導管305を通して熱交換器306へ
送りエチレンオキシド放散塔311底液と熱交換して温度7
0〜110℃に高め、導管307によりフラッシュタンク308へ
送られ一部エチレンオキシドおよび水を含む不活性ガス
の軽質分ガスが導管309により分離される。軽質分ガス
をフラッシュした残部の吸収液を導管310を通して塔頂
圧力0.1〜2kg/cmC2G,温度90〜120℃のエチレンオキシド
放散塔311の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔311
の加熱器312より水蒸気またはダウサム（ダウ社商品）
等の加熱媒体で導管313を通して加熱するか、または直
接エチレンオキシド放散塔311の底部へ水蒸気を導入す
る加熱方式により加熱し、吸収液中に含まれるエチレン
オキシドの99重量％以上を放散せしめ、エチレンオキシ
ド放散塔311の底部よりエチレンオキシドを実質的に含
まない温度 100〜150℃の放散塔底液の一部は導管314および導管315
を通して熱交換器306でエチレンオキシド吸収塔302の塔
底液と熱交換した後導管380によりエチレンオキシド精
留塔350の加熱器358へ送られ、加熱源とした後、導管31
6を通して、さらに導管318および319に冷却水が通る冷
却器317により冷却し、ついで吸収液中のエチレングリ
コール濃度を調節するため新鮮な水を導管321を通して
導入し、必要により、吸収液中のpHを調節するため水酸
化カリウム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調
節するため消泡剤をエチレンオキシド吸収塔302へそれ
ぞれ導入することができる。
エチレンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレ
ンオキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシド
と水との加水反応で生成する副生エチレングリコールお
よびホルムアルデヒド等の低沸点不純物，アセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチ
レンオキシド放散塔311の塔底より導管314および322を
通してエチレンオキシド放散塔311の底液を抜き出し、
副生エチレングリコール濃縮工程に送られる。
ンオキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシド
と水との加水反応で生成する副生エチレングリコールお
よびホルムアルデヒド等の低沸点不純物，アセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチ
レンオキシド放散塔311の塔底より導管314および322を
通してエチレンオキシド放散塔311の底液を抜き出し、
副生エチレングリコール濃縮工程に送られる。
一方、エチレンオキシド放散塔311の塔頂部より放散さ
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管323を通し
て、エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へ送り加熱
源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導管361を通し
て導管362および導管363に冷却水が通る凝縮器364へ送
り、凝縮液は導管365を通してエチレンオキシド放散塔3
11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管366を通して脱
水塔329へ供給される。
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管323を通し
て、エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へ送り加熱
源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導管361を通し
て導管362および導管363に冷却水が通る凝縮器364へ送
り、凝縮液は導管365を通してエチレンオキシド放散塔3
11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管366を通して脱
水塔329へ供給される。
脱水塔329の加熱器330により水蒸気またはダウサム（ダ
ウ社商品）等の加熱媒体で導管331を通して加熱する
か、または直接脱水塔329の下部へ水蒸気を導入する加
熱方式により加熱し、脱水塔329の塔底部より導管332を
通してエチレンオキシドを実質的に含まない水が抜き出
される。
ウ社商品）等の加熱媒体で導管331を通して加熱する
か、または直接脱水塔329の下部へ水蒸気を導入する加
熱方式により加熱し、脱水塔329の塔底部より導管332を
通してエチレンオキシドを実質的に含まない水が抜き出
される。
脱水塔329の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は
導管333を通して、導管335および導管336に冷却水また
はブラインが通る凝縮器334へ送り、凝縮液の一部は導
管337を通して脱水塔329の塔頂部へ還流し、凝縮器334
の未凝縮蒸気は導管339を通して再エチレンオキシド吸
収塔（図示していない）へ供給される。
導管333を通して、導管335および導管336に冷却水また
はブラインが通る凝縮器334へ送り、凝縮液の一部は導
管337を通して脱水塔329の塔頂部へ還流し、凝縮器334
の未凝縮蒸気は導管339を通して再エチレンオキシド吸
収塔（図示していない）へ供給される。
凝縮器334の凝縮液の他部は導管338を通して軽質分分離
塔340へ供給される。軽質分分離塔340の塔頂部より軽質
分ガスを含むエチレンオキシド蒸気は導管343を通して
凝縮器344へ送り、凝縮液は導管347を通して軽質分分離
塔340の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管348を通して
エチレンオキシドを回収するため再エチレンオキシド吸
収塔（図示していない）へ供給される。
塔340へ供給される。軽質分分離塔340の塔頂部より軽質
分ガスを含むエチレンオキシド蒸気は導管343を通して
凝縮器344へ送り、凝縮液は導管347を通して軽質分分離
塔340の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管348を通して
エチレンオキシドを回収するため再エチレンオキシド吸
収塔（図示していない）へ供給される。
軽質分分離塔340の塔底液は導管349を通してエチレンオ
キシド精留塔350へ供給される。
キシド精留塔350へ供給される。
エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へエチレンオキ
シド放散塔311の塔頂部からの放散物を供給し、エチレ
ンオキシド精留塔350の加熱器358にエチレンオキシド放
散塔311の底部よりの液をエチレンオキシド吸収塔底部
よりの液と熱交換した後、導管380を通して導入する加
熱方式により加熱し、エチレンオキシド精留塔350の塔
底温度35〜85℃，エチレンオキシド精留塔底圧力1.2〜
8.2kg/cm2Ｇで精留を行ない、エチレンオキシド精留塔3
50の項部より塔頂温度29〜81℃，塔頂部圧力１〜8kg/cm
2Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管351を通して、エチレ
ンオキシド凝縮器352へ送り、エチレンオキシドを液化
し、一部は導管356を通してエチレンオキシド精留塔350
の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管357を通し
てエチレンオキシド製品として抜き出される。
シド放散塔311の塔頂部からの放散物を供給し、エチレ
ンオキシド精留塔350の加熱器358にエチレンオキシド放
散塔311の底部よりの液をエチレンオキシド吸収塔底部
よりの液と熱交換した後、導管380を通して導入する加
熱方式により加熱し、エチレンオキシド精留塔350の塔
底温度35〜85℃，エチレンオキシド精留塔底圧力1.2〜
8.2kg/cm2Ｇで精留を行ない、エチレンオキシド精留塔3
50の項部より塔頂温度29〜81℃，塔頂部圧力１〜8kg/cm
2Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管351を通して、エチレ
ンオキシド凝縮器352へ送り、エチレンオキシドを液化
し、一部は導管356を通してエチレンオキシド精留塔350
の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管357を通し
てエチレンオキシド製品として抜き出される。
エチレンオキシド精留塔350の塔底液はエチレンオキシ
ドの他アセトアルデヒド，水および酢酸を含むため必要
により導管367を通して抜き出される。
ドの他アセトアルデヒド，水および酢酸を含むため必要
により導管367を通して抜き出される。
エチレンオキシド放散塔311底液は熱交換器306によりエ
チレンオキシド吸収塔302底部からの液と熱交換された
後、導管380を経てエチレンオキシド精留塔350の加熱器
358に供給されて加熱源として使用され、ついで導管316
を経て冷却器317に送られて冷却され、さらに導管320お
よび303を経てエチレンオキシド吸収塔302に循環され
る。
チレンオキシド吸収塔302底部からの液と熱交換された
後、導管380を経てエチレンオキシド精留塔350の加熱器
358に供給されて加熱源として使用され、ついで導管316
を経て冷却器317に送られて冷却され、さらに導管320お
よび303を経てエチレンオキシド吸収塔302に循環され
る。
第３図は、本発明の別の実施態様を示すもので、第２図
に示す方法と同様な方法において、エチレンオキシド放
散塔底液は熱交換器406によりエチレンオキシド吸収塔4
02底部からの液と熱交換されたのち、導管442を経て軽
質分分離塔440の加熱器441に供給されて加熱源として使
用され、ついで導管416を経て冷却器417に送って冷却
し、さらに導管420および403を経てエチレンオキシド吸
収塔402に循環される。
に示す方法と同様な方法において、エチレンオキシド放
散塔底液は熱交換器406によりエチレンオキシド吸収塔4
02底部からの液と熱交換されたのち、導管442を経て軽
質分分離塔440の加熱器441に供給されて加熱源として使
用され、ついで導管416を経て冷却器417に送って冷却
し、さらに導管420および403を経てエチレンオキシド吸
収塔402に循環される。
なお、第２図における符号に100をプラスした符号は第
３図において同一の部材を表わす。
３図において同一の部材を表わす。
第４図は、本発明の別の実施態様を示すもので、第２図
に示す方法と同様な方法において、エチレンオキシド放
散塔底液は熱交換器506によりエチレンオキシド吸収塔5
02からの液と熱交換されたのち、導管580および581,542
を経てエチレンオキシド精留塔550の加熱器558および軽
質分分離塔540の加熱器541にそれぞれ供給して加熱源と
して使用し、ついで導管582,583および516を経て冷却器
517に送って冷却し、さらに導管520および503を経てエ
チレンオキシド吸収塔502に循環される。
に示す方法と同様な方法において、エチレンオキシド放
散塔底液は熱交換器506によりエチレンオキシド吸収塔5
02からの液と熱交換されたのち、導管580および581,542
を経てエチレンオキシド精留塔550の加熱器558および軽
質分分離塔540の加熱器541にそれぞれ供給して加熱源と
して使用し、ついで導管582,583および516を経て冷却器
517に送って冷却し、さらに導管520および503を経てエ
チレンオキシド吸収塔502に循環される。
なお、第２図における符号に200をプラスした符号は第
４図において同一の部材を表わす。
４図において同一の部材を表わす。
第５図は、本発明のさらに別の実施態様を示すもので、
第２図に示す方法と同様な方法において、エチレンオキ
シド放散塔底液は熱交換器606によりエチレンオキシド
吸収塔602からの液と熱交換されたのち、導管680を経て
エチレンオキシド精留塔650の加熱器658に供給されて加
熱源として使用され、ついで導管642を経て軽質分分離
塔640の加熱器641に供給されて加熱源として使用され、
ついで導管616を経て冷却器617に送られて冷却され、さ
らに導管620および603を経てエチレンオキシド吸収塔60
2へ循環される。
第２図に示す方法と同様な方法において、エチレンオキ
シド放散塔底液は熱交換器606によりエチレンオキシド
吸収塔602からの液と熱交換されたのち、導管680を経て
エチレンオキシド精留塔650の加熱器658に供給されて加
熱源として使用され、ついで導管642を経て軽質分分離
塔640の加熱器641に供給されて加熱源として使用され、
ついで導管616を経て冷却器617に送られて冷却され、さ
らに導管620および603を経てエチレンオキシド吸収塔60
2へ循環される。
なお、第２図における符号に300をプラスした符号は第
５図において同一の部材を表わす。
５図において同一の部材を表わす。
（実施例） 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。し
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものではない。
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものではない。
実施例１ 第２図において、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸
素含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオ
キシドを含む反応生成ガスを導管301を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔302の下
部へ供給し、導管303よりエチレンオキシド吸収塔302の
上部へ温度29.6℃以下、pH＝６、エチレングリコール濃
度＝9.0重量％、消泡剤（水溶性シリコーンエマルジョ
ン）濃度3ppmおよび残部は水からなる吸収液を導入し、
反応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
％以上のエチレンオキシドを回収し、エチレンオキシド
吸収塔302の塔頂より吸収しなかったエチレン，酸素，
二酸化炭素，不活性ガス（窒素，アルゴン，メタン，エ
タン），アルデヒド，酸性物質等のガスは導管304を通
して二酸化炭素吸収工程および／または酸化反応工程へ
循環した。この吸収工程においてエチレンオキシドの
他、エチレン，酸素，二酸化炭素，不活性ガス（窒素，
アルゴン，メタン，エタン）ならびにエチレン酸化反応
工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物，ア
セトアルデヒド，酢酸等の高沸点不純物もその実質量が
同時に吸収した。エチレンオキシド吸収塔302の塔底液
を導管305を通して熱交換器306へ送りエチレンオキシド
放散塔底液と熱交換して温度105.5℃に高め、導管307に
よりフラッシュタンク308へ送られ一部エチレンオキシ
ドおよび水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管309に
より分離された。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸
収液を導管310を通して塔頂圧力0.4kg/cm2G,温度99.6℃
のエチレンオキシド放散塔311の上部へ供給し、エチレ
ンオキシド放散塔311の加熱器312より水蒸気を通して加
熱し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量％
以上を放散せしめ、エチレンオキシド放散塔311の底部
よりエチレンオキシドを実質的に含まない温度113.8℃
のエチレンオキシド放散塔底液の一部は導管314および
導管315を通して熱交換器306でエチレンオキシド吸収塔
302の塔底液と熱交換した後、導管380によりエチレンオ
キシド精留塔350の加熱器358に送り加熱源とした後、導
管316を通して、さらに導管318および導管319に冷却水
が通る冷却器317により冷却し、ついで吸収液中のエチ
レングリコール濃度を調節するため新鮮な水を導管321
を通して導入した。エチレンを分子状酸素で酸化する酸
化工程およびエチレンオキシド放散工程の間で吸収液中
にエチレンオキシドと水との加水反応で生成する副生エ
チレングリコールおよびホルムアルデヒド等の低沸点不
純物，アセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の
増加を防ぐためエチレンオキシド放散塔311の塔底より
導管314および322を通してエチレンオキシド放散塔311
の底液を抜き出し、副生エチレングリコール濃縮工程に
送った。
素含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオ
キシドを含む反応生成ガスを導管301を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔302の下
部へ供給し、導管303よりエチレンオキシド吸収塔302の
上部へ温度29.6℃以下、pH＝６、エチレングリコール濃
度＝9.0重量％、消泡剤（水溶性シリコーンエマルジョ
ン）濃度3ppmおよび残部は水からなる吸収液を導入し、
反応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
％以上のエチレンオキシドを回収し、エチレンオキシド
吸収塔302の塔頂より吸収しなかったエチレン，酸素，
二酸化炭素，不活性ガス（窒素，アルゴン，メタン，エ
タン），アルデヒド，酸性物質等のガスは導管304を通
して二酸化炭素吸収工程および／または酸化反応工程へ
循環した。この吸収工程においてエチレンオキシドの
他、エチレン，酸素，二酸化炭素，不活性ガス（窒素，
アルゴン，メタン，エタン）ならびにエチレン酸化反応
工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物，ア
セトアルデヒド，酢酸等の高沸点不純物もその実質量が
同時に吸収した。エチレンオキシド吸収塔302の塔底液
を導管305を通して熱交換器306へ送りエチレンオキシド
放散塔底液と熱交換して温度105.5℃に高め、導管307に
よりフラッシュタンク308へ送られ一部エチレンオキシ
ドおよび水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管309に
より分離された。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸
収液を導管310を通して塔頂圧力0.4kg/cm2G,温度99.6℃
のエチレンオキシド放散塔311の上部へ供給し、エチレ
ンオキシド放散塔311の加熱器312より水蒸気を通して加
熱し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量％
以上を放散せしめ、エチレンオキシド放散塔311の底部
よりエチレンオキシドを実質的に含まない温度113.8℃
のエチレンオキシド放散塔底液の一部は導管314および
導管315を通して熱交換器306でエチレンオキシド吸収塔
302の塔底液と熱交換した後、導管380によりエチレンオ
キシド精留塔350の加熱器358に送り加熱源とした後、導
管316を通して、さらに導管318および導管319に冷却水
が通る冷却器317により冷却し、ついで吸収液中のエチ
レングリコール濃度を調節するため新鮮な水を導管321
を通して導入した。エチレンを分子状酸素で酸化する酸
化工程およびエチレンオキシド放散工程の間で吸収液中
にエチレンオキシドと水との加水反応で生成する副生エ
チレングリコールおよびホルムアルデヒド等の低沸点不
純物，アセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の
増加を防ぐためエチレンオキシド放散塔311の塔底より
導管314および322を通してエチレンオキシド放散塔311
の底液を抜き出し、副生エチレングリコール濃縮工程に
送った。
一方、エチレンオキシド放散塔311の塔頂部より放散さ
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管323を通し
て、エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へ送り加熱
源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導管361を通し
て導管362および導管363に冷却水が通る凝縮器364へ送
り、凝縮液は導管365を通してエチレンオキシド放散塔3
11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管366を通して脱
水塔329へ供給した。
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管323を通し
て、エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へ送り加熱
源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導管361を通し
て導管362および導管363に冷却水が通る凝縮器364へ送
り、凝縮液は導管365を通してエチレンオキシド放散塔3
11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管366を通して脱
水塔329へ供給した。
脱水塔329の加熱器330により水蒸気を導管331を通して
加熱する加熱方式により加熱し、脱水塔329の塔底より
導管332を通して実質的にエチレンオキシドを含まない
水が抜き出された。
加熱する加熱方式により加熱し、脱水塔329の塔底より
導管332を通して実質的にエチレンオキシドを含まない
水が抜き出された。
脱水塔329の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は
導管333を通して、導管335および導管336にブラインが
通る凝縮器334へ送り、凝縮液の一部は導管337を通して
脱水塔329の塔頂部へ還流し、凝縮器334の未凝縮蒸気は
導管339を通して再エチレンオキシド吸収塔（図示して
いない）へ供給した。凝縮液の他部は導管338を通して
軽質分分離塔340へ供給された。軽質分分離塔340の塔頂
部より軽質分ガスを含むエチレンオキシド蒸気は導管34
3を通して凝縮器344へ送り、凝縮液は導管347を通して
軽質分分離塔340の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管3
48を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレン
オキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。軽質分分
離塔340の塔底液は導管349を通してエチレンオキシド精
留塔350へ供給した。
導管333を通して、導管335および導管336にブラインが
通る凝縮器334へ送り、凝縮液の一部は導管337を通して
脱水塔329の塔頂部へ還流し、凝縮器334の未凝縮蒸気は
導管339を通して再エチレンオキシド吸収塔（図示して
いない）へ供給した。凝縮液の他部は導管338を通して
軽質分分離塔340へ供給された。軽質分分離塔340の塔頂
部より軽質分ガスを含むエチレンオキシド蒸気は導管34
3を通して凝縮器344へ送り、凝縮液は導管347を通して
軽質分分離塔340の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管3
48を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレン
オキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。軽質分分
離塔340の塔底液は導管349を通してエチレンオキシド精
留塔350へ供給した。
エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へエチレンオキ
シド放散塔からの放散物を供給し、エチレンオキシド精
留塔350の加熱器358にエチレンオキシド放散塔311底部
の液を熱交換器306で熱回収した後、導管380により加熱
器358へ導入して加熱する方式により加熱し、エチレン
オキシド精留塔350の塔底温度45℃，エチレンオキシド
精留塔底圧力2.0kg/cm2Ｇで精留を行ない、エチレンオ
キシド精留塔頂より塔頂温度39℃，塔頂部圧力1.8kg/cm
2Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管351を通して、エチレ
ンオキシド凝縮器352へ送り、エチレンオキシドを液化
し、一部は導管356を通してエチレンオキシド精留塔350
の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管357を通し
てエチレンオキシド製品として抜き出した。
シド放散塔からの放散物を供給し、エチレンオキシド精
留塔350の加熱器358にエチレンオキシド放散塔311底部
の液を熱交換器306で熱回収した後、導管380により加熱
器358へ導入して加熱する方式により加熱し、エチレン
オキシド精留塔350の塔底温度45℃，エチレンオキシド
精留塔底圧力2.0kg/cm2Ｇで精留を行ない、エチレンオ
キシド精留塔頂より塔頂温度39℃，塔頂部圧力1.8kg/cm
2Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管351を通して、エチレ
ンオキシド凝縮器352へ送り、エチレンオキシドを液化
し、一部は導管356を通してエチレンオキシド精留塔350
の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管357を通し
てエチレンオキシド製品として抜き出した。
エチレンオキシド凝縮器352の未凝縮蒸気は導管355を通
してエチレンオキシドを回収するため再エチレンオキシ
ド吸収塔（図示してない）へ供給した。
してエチレンオキシドを回収するため再エチレンオキシ
ド吸収塔（図示してない）へ供給した。
エチレンオキシド精留塔350の塔底液はエチレンオキシ
ドの他アセトアルデヒド，水および酢酸等の高沸点不純
物のため必要により導管367を通して抜き出された。
ドの他アセトアルデヒド，水および酢酸等の高沸点不純
物のため必要により導管367を通して抜き出された。
表−１にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。
る。
実施例２ 第３図に示すように、実施例１と同様な方法において、
エチレンエキシド放散塔411底液は熱交換器406によりエ
チレンオキシド吸収塔402からの液と熱交換したのち、
導管442を経て軽質分分離塔440の加熱器441に供給して
加熱源として使用し、ついで導管416を経て熱交換器 417に送って冷却し、さらに導管420および403を経てエ
チレンオキシド吸収塔402に循環した以外は同様な方法
を行なった。
エチレンエキシド放散塔411底液は熱交換器406によりエ
チレンオキシド吸収塔402からの液と熱交換したのち、
導管442を経て軽質分分離塔440の加熱器441に供給して
加熱源として使用し、ついで導管416を経て熱交換器 417に送って冷却し、さらに導管420および403を経てエ
チレンオキシド吸収塔402に循環した以外は同様な方法
を行なった。
表２にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。
実施例３ 第４図に示すように、実施例１と同様な方法において、
エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器506によりエチ
レンオキシド吸収塔502からの液と熱交換したのち、導
管580および581,542を経てエチレンオキシド精留塔550
の加熱器558および軽質分分離塔540の加熱器541にそれ
ぞれ供給して加熱源として使用し、ついで導管582,583
および516を経て冷却器517に送って冷却し、さらに導管
520および503を経てエチレンオキシド吸収塔502に循環
した以外は同様な方法を行なった。
エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器506によりエチ
レンオキシド吸収塔502からの液と熱交換したのち、導
管580および581,542を経てエチレンオキシド精留塔550
の加熱器558および軽質分分離塔540の加熱器541にそれ
ぞれ供給して加熱源として使用し、ついで導管582,583
および516を経て冷却器517に送って冷却し、さらに導管
520および503を経てエチレンオキシド吸収塔502に循環
した以外は同様な方法を行なった。
表３にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。
実施例４ 第４図に示すように、実施例３の方法において各部の操
作条件を変えた以外は同様の方法を行なったところ、表
４の結果が得られた。
作条件を変えた以外は同様の方法を行なったところ、表
４の結果が得られた。
実施例５ 第５図に示すようにして、実施例１と同様な方法におい
て、エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器606により
エチレンオキシド吸収塔602からの液と熱交換したの
ち、導管680を経てエチレンオキシド精留塔650の加熱器
658に供給して、加熱源として使用したのち、導管642を
通して軽質分分離塔640の加熱器641に供給して加熱源と
して使用し、ついで導管616を経て冷却器617に送って冷
却し、、さらに導管620および603を経てエチレンオキシ
ド吸収塔602に循環した以外は同様な方法を行なった。
て、エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器606により
エチレンオキシド吸収塔602からの液と熱交換したの
ち、導管680を経てエチレンオキシド精留塔650の加熱器
658に供給して、加熱源として使用したのち、導管642を
通して軽質分分離塔640の加熱器641に供給して加熱源と
して使用し、ついで導管616を経て冷却器617に送って冷
却し、、さらに導管620および603を経てエチレンオキシ
ド吸収塔602に循環した以外は同様な方法を行なった。
表５にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。
比較例１ 第１図に示すように、実施例１と同様の方法において、
エチレンオキシド放散塔11の塔頂部より放散されるエチ
レンオキシドを含む放散蒸気は導管23を通して、導管25
および導管26に冷却水が通る凝縮器24へ送り、凝縮液は
導管27を通してエチレンオキシド放散塔11の塔頂部へ還
流し、未凝縮蒸気は導管28を通して脱水塔29へ供給し
た。
エチレンオキシド放散塔11の塔頂部より放散されるエチ
レンオキシドを含む放散蒸気は導管23を通して、導管25
および導管26に冷却水が通る凝縮器24へ送り、凝縮液は
導管27を通してエチレンオキシド放散塔11の塔頂部へ還
流し、未凝縮蒸気は導管28を通して脱水塔29へ供給し
た。
脱水塔29の加熱器30により水蒸気で導管31を通して加熱
する加熱方式により加熱し、脱水塔29の塔底より導管32
を通してエチレンオキシドを実質的に含まない水が抜き
出された。これ以外は実施例１と同様な方法を行なっ
た。
する加熱方式により加熱し、脱水塔29の塔底より導管32
を通してエチレンオキシドを実質的に含まない水が抜き
出された。これ以外は実施例１と同様な方法を行なっ
た。
表６にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。
（発明の効果） 本発明の方法によれば、エチレンオキシド放散塔での塔
頂部から放散された蒸気をエチレンオキシド精留塔の加
熱器に導入することにより、エチレンオキシド精留塔を
加熱するに要する外部からの加熱熱量を大幅に減少する
ことが可能となる効果を発揮するものである。さらにこ
の方法を実施することによってエチレンオキシドの放散
塔頂部で発生した蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。また、エチレンオキ
シド放散塔底部より抜き出された液の一部をエチレンオ
キシド吸収塔底部よりの液と熱交換した後、エチレンオ
キシド精留塔および／または軽質分分離塔の加熱源とし
て利用するすることによってエチレンオキシド精留塔お
よび軽質分分離塔の加熱蒸気の削減をもたらすものであ
る。さらにエチレンオキシド吸収塔への吸収液を冷却す
るための冷却水の熱負荷が低減される効果を有するもの
である。
頂部から放散された蒸気をエチレンオキシド精留塔の加
熱器に導入することにより、エチレンオキシド精留塔を
加熱するに要する外部からの加熱熱量を大幅に減少する
ことが可能となる効果を発揮するものである。さらにこ
の方法を実施することによってエチレンオキシドの放散
塔頂部で発生した蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。また、エチレンオキ
シド放散塔底部より抜き出された液の一部をエチレンオ
キシド吸収塔底部よりの液と熱交換した後、エチレンオ
キシド精留塔および／または軽質分分離塔の加熱源とし
て利用するすることによってエチレンオキシド精留塔お
よび軽質分分離塔の加熱蒸気の削減をもたらすものであ
る。さらにエチレンオキシド吸収塔への吸収液を冷却す
るための冷却水の熱負荷が低減される効果を有するもの
である。
（発明の効果） エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生成
したエチレンオキシド含有反応生成ガスよりエチレンオ
キシドを精製する方法において、エチレンオキシド放散
塔から放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加
熱源に使用してなるエチレンオキシドの精製方法であ
り、また該放散塔の塔底物は精留塔および／または軽質
分分離塔の加熱源としても使用できる。
したエチレンオキシド含有反応生成ガスよりエチレンオ
キシドを精製する方法において、エチレンオキシド放散
塔から放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加
熱源に使用してなるエチレンオキシドの精製方法であ
り、また該放散塔の塔底物は精留塔および／または軽質
分分離塔の加熱源としても使用できる。
第１図は、本発明に関連する公知のエチレンキシド回収
方法を示す一例である。 第２〜５図は、本発明のエチレンオキシド回収方法の好
ましい具体例を示す一例である。 （302）……エチレンオキシド吸収塔 （317）……冷却器 （308）……フラッシュタンク （311）……エチレンオキシド放散塔 （312）……エチレンオキシド放散塔加熱器 （364）……エチレンオキシド放散塔凝縮器 （329）……脱水塔 （330）……脱水塔加熱器 （334）……脱水塔凝縮器 （340）……軽質分分離塔 （341）……軽質分分離塔加熱器 （344）……軽質分分離塔凝縮器 （350）……エチレンオキシド精留塔 （352）……エチレンオキシド精留塔凝縮器 （358）……エチレンオキシド精留塔加熱器 （360）……エチレンオキシド精留塔加熱器 （306）……熱交換器
方法を示す一例である。 第２〜５図は、本発明のエチレンオキシド回収方法の好
ましい具体例を示す一例である。 （302）……エチレンオキシド吸収塔 （317）……冷却器 （308）……フラッシュタンク （311）……エチレンオキシド放散塔 （312）……エチレンオキシド放散塔加熱器 （364）……エチレンオキシド放散塔凝縮器 （329）……脱水塔 （330）……脱水塔加熱器 （334）……脱水塔凝縮器 （340）……軽質分分離塔 （341）……軽質分分離塔加熱器 （344）……軽質分分離塔凝縮器 （350）……エチレンオキシド精留塔 （352）……エチレンオキシド精留塔凝縮器 （358）……エチレンオキシド精留塔加熱器 （360）……エチレンオキシド精留塔加熱器 （306）……熱交換器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許3766714（ＵＳ，Ａ)
Claims (6)
- 【請求項１】エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相
酸化して生成したエチレンオキシドを含有する反応生成
ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流
接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスはエ
チレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔
へ供給してエチレンオキシド放散塔頂からエチレンオキ
シドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留
出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離塔
で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエ
チレンオキシドを精留する工程よりなるエチレンオキシ
ドの生成方法において、エチレンオキシド放散塔から放
散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に使
用し、エチレンオキシド放散塔より抜き出された液の一
部はエチレンオキシド精留塔の加熱源および／または軽
質分分離塔の加熱源に使用することを特徴とするエチレ
ンオキシドの生成方法。 - 【請求項２】放散塔底液温度は100〜150℃である特許請
求の範囲（１）に記載の方法。 - 【請求項３】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源として
使用されてなる特許請求の範囲（１）に記載の方法。 - 【請求項４】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部は軽質分分離塔の加熱源として使用されて
なる特許請求の範囲（１）に記載の方法。 - 【請求項５】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔および軽質分分
離塔の加熱源として使用されてなる特許請求の範囲
（１）に記載の方法。 - 【請求項６】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源と併用
された後、さらに軽質分分離等の加熱源として使用され
てなる特許請求の範囲（１）に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61171831A JPH0791282B2 (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | エチレンオキシドの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61171831A JPH0791282B2 (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | エチレンオキシドの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6330476A JPS6330476A (ja) | 1988-02-09 |
| JPH0791282B2 true JPH0791282B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=15930553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61171831A Expired - Fee Related JPH0791282B2 (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | エチレンオキシドの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791282B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4986369A (en) * | 1988-07-11 | 1991-01-22 | Makita Electric Works, Ltd. | Torque adjusting mechanism for power driven rotary tools |
| JP6174352B2 (ja) | 2013-03-29 | 2017-08-02 | 株式会社日本触媒 | エチレンオキシドの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3766714A (en) | 1971-10-04 | 1973-10-23 | Shell Oil Co | Secondary removal of inerts in ethylene oxide purification |
-
1986
- 1986-07-23 JP JP61171831A patent/JPH0791282B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3766714A (en) | 1971-10-04 | 1973-10-23 | Shell Oil Co | Secondary removal of inerts in ethylene oxide purification |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330476A (ja) | 1988-02-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |