JPH0793708A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPH0793708A JPH0793708A JP25637193A JP25637193A JPH0793708A JP H0793708 A JPH0793708 A JP H0793708A JP 25637193 A JP25637193 A JP 25637193A JP 25637193 A JP25637193 A JP 25637193A JP H0793708 A JPH0793708 A JP H0793708A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 厚さの異なる磁気テ―プで互換性があり、薄
い磁気テ―プでも良好なエンベロ―プ出力を得ることが
でき、しかもテ―プ摺動面での接合部材の強度や耐摩耗
性を十分に確保することができる磁気ヘツドを提供す
る。 【構成】 磁気ヘツド１のテ―プ摺動面９における幅方
向ロの両端側に、磁気テ―プの摺動方向イに沿う一対の
溝１０ａ，１０ｂを形成するとともに、その深さを、磁
気テ―プの入側位置Ｘの深さよりも、出側位置Ｙの深さ
の方が小さくなるように、設計する。
い磁気テ―プでも良好なエンベロ―プ出力を得ることが
でき、しかもテ―プ摺動面での接合部材の強度や耐摩耗
性を十分に確保することができる磁気ヘツドを提供す
る。 【構成】 磁気ヘツド１のテ―プ摺動面９における幅方
向ロの両端側に、磁気テ―プの摺動方向イに沿う一対の
溝１０ａ，１０ｂを形成するとともに、その深さを、磁
気テ―プの入側位置Ｘの深さよりも、出側位置Ｙの深さ
の方が小さくなるように、設計する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ビデオテ―プレコ―
ダ（ＶＴＲ）などの磁気記録再生装置に装備される磁気
ヘツドに関し、主に回転ヘツド型ヘリキヤルスキヤン方
式の磁気記録再生装置に使用する磁気ヘツドに関する。
ダ（ＶＴＲ）などの磁気記録再生装置に装備される磁気
ヘツドに関し、主に回転ヘツド型ヘリキヤルスキヤン方
式の磁気記録再生装置に使用する磁気ヘツドに関する。
【０００２】
【従来の技術】回転ヘツド型ヘリキヤルスキヤン方式の
磁気記録再生装置では、シリンダの周面に磁気ヘツドが
数１０μｍ突き出した状態で固定され、このシリンダに
磁気テ―プを一定角度で巻き付け、シリンダの回転によ
り磁気ヘツドを磁気テ―プに摺動させて、記録，再生を
行うものである。磁気ヘツドは、テ―プ摺動面の形状
が、摺動方向および幅方向ともに滑らかな楕円曲面に形
成されており、ヘツドギヤツプはテ―プ摺動面の中心に
形成されている。
磁気記録再生装置では、シリンダの周面に磁気ヘツドが
数１０μｍ突き出した状態で固定され、このシリンダに
磁気テ―プを一定角度で巻き付け、シリンダの回転によ
り磁気ヘツドを磁気テ―プに摺動させて、記録，再生を
行うものである。磁気ヘツドは、テ―プ摺動面の形状
が、摺動方向および幅方向ともに滑らかな楕円曲面に形
成されており、ヘツドギヤツプはテ―プ摺動面の中心に
形成されている。
【０００３】このような磁気記録再生装置により、磁気
特性が同じで厚さの異なる磁気テ―プを用いて、テ―プ
張力を一定条件にして記録，再生を行うと、薄い磁気テ
―プでは再生出力が低下し、とくにエンベロ―プ出力波
形でみると、図７の破線（曲線−β）に示すように、シ
リンダの回転方向前方側での磁気テ―プの張力が大きく
なる区間Ａにおいて、再生出力が低下する欠点がある。
特性が同じで厚さの異なる磁気テ―プを用いて、テ―プ
張力を一定条件にして記録，再生を行うと、薄い磁気テ
―プでは再生出力が低下し、とくにエンベロ―プ出力波
形でみると、図７の破線（曲線−β）に示すように、シ
リンダの回転方向前方側での磁気テ―プの張力が大きく
なる区間Ａにおいて、再生出力が低下する欠点がある。
【０００４】これは、図８のように、厚い磁気テ―プＴ
1 は、磁気ヘツド２０のテ―プ摺動面２１の幅方向のほ
ぼ全面に接触するが、薄い磁気テ―プＴ2 は、図９の如
く、剛性の低下によるテ―プ変形が大きく、テ―プ摺動
面２１の幅方向の両端部２１ａ，２１ｂ位置で接触し、
ギヤツプ中心２１ｃ位置での磁気テ―プと磁気ヘツドと
の間のスペ―シング、とくに磁気テ―プの張力が増大す
る前記Ａの区間での上記スペ―シングが大きくなるた
め、と推定される。
1 は、磁気ヘツド２０のテ―プ摺動面２１の幅方向のほ
ぼ全面に接触するが、薄い磁気テ―プＴ2 は、図９の如
く、剛性の低下によるテ―プ変形が大きく、テ―プ摺動
面２１の幅方向の両端部２１ａ，２１ｂ位置で接触し、
ギヤツプ中心２１ｃ位置での磁気テ―プと磁気ヘツドと
の間のスペ―シング、とくに磁気テ―プの張力が増大す
る前記Ａの区間での上記スペ―シングが大きくなるた
め、と推定される。
【０００５】このため、従来より、磁気テ―プ側の改良
として、ポリエチレンナフタレ―トや芳香族ポリアミド
樹脂などの高ヤング率のベ―スフイルムを用いて、磁気
テ―プの剛性を高めることが行われている。しかし、そ
の効果には限度があるため、磁気記録再生装置側の改良
についても、種々検討されている。
として、ポリエチレンナフタレ―トや芳香族ポリアミド
樹脂などの高ヤング率のベ―スフイルムを用いて、磁気
テ―プの剛性を高めることが行われている。しかし、そ
の効果には限度があるため、磁気記録再生装置側の改良
についても、種々検討されている。
【０００６】この装置側の改良として、たとえば、磁気
テ―プの張力を低くしたり、シリンダ周面での磁気ヘツ
ドの突き出し量を下げるなどの改良が試みられている
が、薄い磁気テ―プに最適にすると、厚い磁気テ―プの
出力が逆に低下し、厚い磁気テ―プと薄い磁気テ―プと
の互換性をとれないという問題があつた。
テ―プの張力を低くしたり、シリンダ周面での磁気ヘツ
ドの突き出し量を下げるなどの改良が試みられている
が、薄い磁気テ―プに最適にすると、厚い磁気テ―プの
出力が逆に低下し、厚い磁気テ―プと薄い磁気テ―プと
の互換性をとれないという問題があつた。
【０００７】また、図１０および図１１に示すように、
磁気ヘツド３０（４０）におけるテ―プ摺動面３１（４
１）の幅方向の両端部３１ａ，３１ｂ（４１ａ，４１
ｂ）を面取りした構造とすることにより、テ―プ摺動面
の幅を狭くして摺動面積を小さくし、磁気テ―プと磁気
ヘツドとの間の面圧を増加する方法も知られているが、
この方法によると、テ―プ摺動面の幅が一定値以下とな
ると、ギヤツプ幅を規制している接合部材の強度が低下
する問題がある。
磁気ヘツド３０（４０）におけるテ―プ摺動面３１（４
１）の幅方向の両端部３１ａ，３１ｂ（４１ａ，４１
ｂ）を面取りした構造とすることにより、テ―プ摺動面
の幅を狭くして摺動面積を小さくし、磁気テ―プと磁気
ヘツドとの間の面圧を増加する方法も知られているが、
この方法によると、テ―プ摺動面の幅が一定値以下とな
ると、ギヤツプ幅を規制している接合部材の強度が低下
する問題がある。
【０００８】さらに、特開昭６２−１９２９０７号、同
６０−１０１７０６号などの公報には、テ―プ摺動面の
幅を部分的に狭くする方法も提案されているが、狭トラ
ツク化に対応して摺動面の幅を狭くしていくと、磁気テ
―プとの接触面積が著しく小さくなるため、上記幅が一
定値以下となると、磁気ヘツドの局部的な摩耗量が極め
て大きくなり、磁気ヘツドの耐摩耗性の点で問題が生じ
る。
６０−１０１７０６号などの公報には、テ―プ摺動面の
幅を部分的に狭くする方法も提案されているが、狭トラ
ツク化に対応して摺動面の幅を狭くしていくと、磁気テ
―プとの接触面積が著しく小さくなるため、上記幅が一
定値以下となると、磁気ヘツドの局部的な摩耗量が極め
て大きくなり、磁気ヘツドの耐摩耗性の点で問題が生じ
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の改
良技術では、厚い磁気テ―プと薄い磁気テ―プとの互換
性をとれなかつたり、磁気ヘツドのテ―プ摺動面での接
合部材の強度や耐摩耗性を確保しにくいという難点があ
つた。
良技術では、厚い磁気テ―プと薄い磁気テ―プとの互換
性をとれなかつたり、磁気ヘツドのテ―プ摺動面での接
合部材の強度や耐摩耗性を確保しにくいという難点があ
つた。
【００１０】この発明は、上記の事情に鑑み、厚さの異
なる磁気テ―プで互換性があり、薄い磁気テ―プでも良
好なエンベロ―プ出力を得ることができ、しかもテ―プ
摺動面での接合部材の強度や耐摩耗性を十分に確保する
ことができる磁気ヘツドを提供することを目的としてい
る。
なる磁気テ―プで互換性があり、薄い磁気テ―プでも良
好なエンベロ―プ出力を得ることができ、しかもテ―プ
摺動面での接合部材の強度や耐摩耗性を十分に確保する
ことができる磁気ヘツドを提供することを目的としてい
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明者らは、上記の
目的を達成するために、鋭意検討した結果、磁気ヘツド
のテ―プ摺動面の特定位置に特定の溝を形成すると、薄
い磁気テ―プを用いたときのテ―プ摺動面における幅方
向両端部での接触が防がれて、ギヤツプ中心位置での磁
気テ―プと磁気ヘツドとの間のスペ―シングが低減さ
れ、良好なエンベロ―プ出力が得られることを知り、こ
の発明を完成するに至つた。
目的を達成するために、鋭意検討した結果、磁気ヘツド
のテ―プ摺動面の特定位置に特定の溝を形成すると、薄
い磁気テ―プを用いたときのテ―プ摺動面における幅方
向両端部での接触が防がれて、ギヤツプ中心位置での磁
気テ―プと磁気ヘツドとの間のスペ―シングが低減さ
れ、良好なエンベロ―プ出力が得られることを知り、こ
の発明を完成するに至つた。
【００１２】すなわち、この発明は、テ―プ摺動面の幅
方向の両端側に、磁気テ―プの摺動方向に沿う一対の溝
を、その深さが磁気テ―プの入側位置よりも出側位置で
小さくなるように形成したことを特徴とする磁気ヘツド
に係るものである。
方向の両端側に、磁気テ―プの摺動方向に沿う一対の溝
を、その深さが磁気テ―プの入側位置よりも出側位置で
小さくなるように形成したことを特徴とする磁気ヘツド
に係るものである。
【００１３】
【作 用】この発明において、テ―プ摺動面の幅方向の
両端部に形成された溝内には、空気が流入する。溝の深
さが磁気テ―プの入側位置よりも出側位置で小さくされ
ているので、流入空気は出側付近で外部に圧出され、こ
の圧出で走行テ―プに対して内方からの押圧力が生じ
る。この押圧力により、薄い磁気テ―プを用いたときで
も、従来のような幅方向の両端部側での磁気テ―プの接
触が防がれて、ギヤツプ中心位置での磁気テ―プと磁気
ヘツドとの間のスペ―シングが低減され、これにより良
好なエンベロ―プ出力が得られる。
両端部に形成された溝内には、空気が流入する。溝の深
さが磁気テ―プの入側位置よりも出側位置で小さくされ
ているので、流入空気は出側付近で外部に圧出され、こ
の圧出で走行テ―プに対して内方からの押圧力が生じ
る。この押圧力により、薄い磁気テ―プを用いたときで
も、従来のような幅方向の両端部側での磁気テ―プの接
触が防がれて、ギヤツプ中心位置での磁気テ―プと磁気
ヘツドとの間のスペ―シングが低減され、これにより良
好なエンベロ―プ出力が得られる。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の磁気ヘツドの一実施例を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明の回転ヘツド型
ヘリキヤルスキヤン方式のＶＴＲ用磁気ヘツドの斜視
図、図２は上記磁気ヘツドのテ―プ摺動面の正面図、図
３は同側面図で、（Ａ）は磁気テ―プの入側位置、
（Ｂ）は出側位置である。
面に基づいて説明する。図１はこの発明の回転ヘツド型
ヘリキヤルスキヤン方式のＶＴＲ用磁気ヘツドの斜視
図、図２は上記磁気ヘツドのテ―プ摺動面の正面図、図
３は同側面図で、（Ａ）は磁気テ―プの入側位置、
（Ｂ）は出側位置である。
【００１５】図１〜図３において、磁気ヘツド１は、磁
気コア半体２Ａ，２Ｂおよび両半体の対向面に配した磁
性合金薄膜３Ａ，３Ｂで形成された磁気ギヤツプ４と、
この磁気ギヤツプ４を保持するために配された接合部材
５とにより構成され、磁気ギヤツプ４の対向面の近傍に
切欠部を設けてトラツク幅６を規制している。７は、磁
気コア半体２Ａ，２Ｂにコイル８を巻き付けるための巻
線窓である。
気コア半体２Ａ，２Ｂおよび両半体の対向面に配した磁
性合金薄膜３Ａ，３Ｂで形成された磁気ギヤツプ４と、
この磁気ギヤツプ４を保持するために配された接合部材
５とにより構成され、磁気ギヤツプ４の対向面の近傍に
切欠部を設けてトラツク幅６を規制している。７は、磁
気コア半体２Ａ，２Ｂにコイル８を巻き付けるための巻
線窓である。
【００１６】磁気コア半体２Ａ，２Ｂには、Ｍｎ−Ｚｎ
系フエライトのような酸化物系磁性材料が用いられ、磁
性合金薄膜３Ａ，３Ｂには、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、
Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルフアス合金などからなる高飽
和磁束密度および高透磁率を有する結晶質または非晶質
の合金材料が用いられる。また、接合部材５には、通常
ＰｂＯ2 を主成分とする鉛系ガラスなどが用いられる。
系フエライトのような酸化物系磁性材料が用いられ、磁
性合金薄膜３Ａ，３Ｂには、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、
Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルフアス合金などからなる高飽
和磁束密度および高透磁率を有する結晶質または非晶質
の合金材料が用いられる。また、接合部材５には、通常
ＰｂＯ2 を主成分とする鉛系ガラスなどが用いられる。
【００１７】この磁気ヘツド１のテ―プ摺動面９の形状
としては、たとえばHi８ＶＴＲ用としては摺動方向（つ
まり長手方向）イの長さが１〜２mm程度、幅方向の長さ
が５０〜１００μｍ程度であつて、摺動方向のア―ル
（曲率半径）が５〜１０mm、幅方向のア―ルが１〜２mm
の滑らかな楕円曲面に形成されており、前記の磁気ギヤ
ツプ４はこのテ―プ摺動面９の中心に形成されている。
としては、たとえばHi８ＶＴＲ用としては摺動方向（つ
まり長手方向）イの長さが１〜２mm程度、幅方向の長さ
が５０〜１００μｍ程度であつて、摺動方向のア―ル
（曲率半径）が５〜１０mm、幅方向のア―ルが１〜２mm
の滑らかな楕円曲面に形成されており、前記の磁気ギヤ
ツプ４はこのテ―プ摺動面９の中心に形成されている。
【００１８】このようなテ―プ摺動面９の幅方向ロの両
端側には、磁気テ―プの摺動方向イに沿う一対の溝１０
ａ １０ｂが形成されており、その深さは、図３の
（Ａ）に示す磁気テ―プの入側位置Ｘでの深さｄ1 より
も、図３の（Ｂ）に示す磁気テ―プの出側位置Ｙでの深
さｄ2 が小さくなるようにされている。この溝１０ａ，
１０ｂの幅としては、磁気テ―プの巻き込みによるテ―
プ損傷を防止するために、通常１０μｍ以下であるのが
よい。上記の深さｄ1 ，ｄ2 は、磁気ギヤツブ４の深さ
ｄ0 以下の１〜１０μｍ程度であるのが望ましい。
端側には、磁気テ―プの摺動方向イに沿う一対の溝１０
ａ １０ｂが形成されており、その深さは、図３の
（Ａ）に示す磁気テ―プの入側位置Ｘでの深さｄ1 より
も、図３の（Ｂ）に示す磁気テ―プの出側位置Ｙでの深
さｄ2 が小さくなるようにされている。この溝１０ａ，
１０ｂの幅としては、磁気テ―プの巻き込みによるテ―
プ損傷を防止するために、通常１０μｍ以下であるのが
よい。上記の深さｄ1 ，ｄ2 は、磁気ギヤツブ４の深さ
ｄ0 以下の１〜１０μｍ程度であるのが望ましい。
【００１９】上記構成の磁気ヘツドは、磁気コア半体へ
の磁性合金薄膜のスパツタリング、磁気ギヤツプ部のボ
ンデイング、磁気コアの切り出し、研削加工、ラツピン
グテ―プによるテ―プ摺動面の研磨などの通常の磁気ヘ
ツドの作製手順を経て、規定トラツク幅および所定ア―
ルのテ―プ摺動面としたのち、イオンミリング、スライ
サなどの回転砥石、化学エツチング、超音波加工などの
手段により、テ―プ摺動面の幅方向の両端側に一対の溝
を形成することにより、作製される。
の磁性合金薄膜のスパツタリング、磁気ギヤツプ部のボ
ンデイング、磁気コアの切り出し、研削加工、ラツピン
グテ―プによるテ―プ摺動面の研磨などの通常の磁気ヘ
ツドの作製手順を経て、規定トラツク幅および所定ア―
ルのテ―プ摺動面としたのち、イオンミリング、スライ
サなどの回転砥石、化学エツチング、超音波加工などの
手段により、テ―プ摺動面の幅方向の両端側に一対の溝
を形成することにより、作製される。
【００２０】この磁気ヘツドを回転ヘツド型ヘリキヤル
スキヤン方式のＶＴＲ（Hi８ＶＴＲ；ＳＯＮＹ CCD-V90
0 ）に装備して、磁気テ―プと磁気ヘツドとの間のスペ
―シングを調べた。図５は厚い磁気テ―プ（総厚１３μ
ｍ）を、図６は薄い磁気テ―プ（総厚９μｍ）を用いた
場合で、両図中、実線（曲線−ａ，曲線−ｃ）がこの発
明の上記構成の磁気ヘツド、破線（曲線−ｂ，曲線−
ｄ）が溝１０ａ，１０ｂを形成しない以外は上記と同様
構成とした比較用の磁気ヘツドである。
スキヤン方式のＶＴＲ（Hi８ＶＴＲ；ＳＯＮＹ CCD-V90
0 ）に装備して、磁気テ―プと磁気ヘツドとの間のスペ
―シングを調べた。図５は厚い磁気テ―プ（総厚１３μ
ｍ）を、図６は薄い磁気テ―プ（総厚９μｍ）を用いた
場合で、両図中、実線（曲線−ａ，曲線−ｃ）がこの発
明の上記構成の磁気ヘツド、破線（曲線−ｂ，曲線−
ｄ）が溝１０ａ，１０ｂを形成しない以外は上記と同様
構成とした比較用の磁気ヘツドである。
【００２１】この両図から明らかなように、厚い磁気テ
―プを用いた場合は、この発明の上記構成の磁気ヘツド
と比較用の磁気ヘツドとの間にほとんど差はないが、薄
い磁気テ―プを用いた場合、比較用の磁気ヘツドでは、
テ―プ摺動面の幅方向の両端側で接触して、ギヤツプ中
心位置のスペ―シングが著しく大きくなつているのに対
して、この発明の上記構成の磁気ヘツドによると、上記
両端側での接触が防がれて、ギヤツプ中心位置のスペ―
シングが低減されている。
―プを用いた場合は、この発明の上記構成の磁気ヘツド
と比較用の磁気ヘツドとの間にほとんど差はないが、薄
い磁気テ―プを用いた場合、比較用の磁気ヘツドでは、
テ―プ摺動面の幅方向の両端側で接触して、ギヤツプ中
心位置のスペ―シングが著しく大きくなつているのに対
して、この発明の上記構成の磁気ヘツドによると、上記
両端側での接触が防がれて、ギヤツプ中心位置のスペ―
シングが低減されている。
【００２２】また、薄い磁気テ―プを用いる場合に、こ
の発明の上記構成の磁気ヘツドと比較用の磁気ヘツドと
について、再生出力のエンベロ―プ波形、つまりエンベ
ロ―プ出力を調べたところ、図７に示す結果が得られ
た。図中、実線（曲線−α）がこの発明の上記構成の磁
気ヘツド、破線（曲線−β）が比較用の磁気ヘツドで、
この図から、この発明の上記構成の磁気ヘツドによれ
ば、比較用の磁気ヘツドの欠点である再生出力の低下を
防げることがわかる。
の発明の上記構成の磁気ヘツドと比較用の磁気ヘツドと
について、再生出力のエンベロ―プ波形、つまりエンベ
ロ―プ出力を調べたところ、図７に示す結果が得られ
た。図中、実線（曲線−α）がこの発明の上記構成の磁
気ヘツド、破線（曲線−β）が比較用の磁気ヘツドで、
この図から、この発明の上記構成の磁気ヘツドによれ
ば、比較用の磁気ヘツドの欠点である再生出力の低下を
防げることがわかる。
【００２３】なお、上記の実施例では、溝１０ａ １０
ｂを磁気テ―プの入側端部より出側端部にかけて、つま
りテ―プ摺動面の全面にわたつて形成しているが、図４
に示すように、磁気テ―プの入側端部より磁気ギヤツプ
４を少し超えるあたりまで、つまりテ―プ摺動面の一部
に形成してもよく、この場合でも上記と同様の効果が得
られる。図４中の符号は、図１〜３の場合と同じであ
る。
ｂを磁気テ―プの入側端部より出側端部にかけて、つま
りテ―プ摺動面の全面にわたつて形成しているが、図４
に示すように、磁気テ―プの入側端部より磁気ギヤツプ
４を少し超えるあたりまで、つまりテ―プ摺動面の一部
に形成してもよく、この場合でも上記と同様の効果が得
られる。図４中の符号は、図１〜３の場合と同じであ
る。
【００２４】
【発明の効果】以上のように、この発明の磁気ヘツドに
よると、テ―プ摺動面の幅方向の両端部に形成した一対
の溝内に空気を流入させ、この流入空気に基づく圧出力
を利用することにより、薄い磁気テ―プでも良好なエン
ベロ―プ出力が得られるから、薄い磁気テ―プと厚い磁
気テ―プとの互換性にすぐれており、しかもテ―プ摺動
面は幅方向の長さを十分にとれるので、従来のような接
合部材の強度や耐摩耗性の点で問題を生じる心配がな
い。
よると、テ―プ摺動面の幅方向の両端部に形成した一対
の溝内に空気を流入させ、この流入空気に基づく圧出力
を利用することにより、薄い磁気テ―プでも良好なエン
ベロ―プ出力が得られるから、薄い磁気テ―プと厚い磁
気テ―プとの互換性にすぐれており、しかもテ―プ摺動
面は幅方向の長さを十分にとれるので、従来のような接
合部材の強度や耐摩耗性の点で問題を生じる心配がな
い。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の回転ヘツド型ヘリキヤルスキヤン方
式のＶＴＲ用磁気ヘツドの一例を示す斜視図である。
式のＶＴＲ用磁気ヘツドの一例を示す斜視図である。
【図２】上記磁気ヘツドのテ―プ摺動面の正面図であ
る。
る。
【図３】上記磁気ヘツドのテ―プ摺動面の側面図で、
（Ａ）は磁気テ―プの入側位置、（Ｂ）は出側位置であ
る。
（Ａ）は磁気テ―プの入側位置、（Ｂ）は出側位置であ
る。
【図４】テ―プ摺動面の一対の溝の形成態様が異なる例
を示す正面図である。
を示す正面図である。
【図５】厚い磁気テ―プと磁気ヘツドとの間のスペ―シ
ングと、テ―プ摺動面の幅方向の変位との関係を示す特
性図である。
ングと、テ―プ摺動面の幅方向の変位との関係を示す特
性図である。
【図６】薄い磁気テ―プと磁気ヘツドとの間のスペ―シ
ングと、テ―プ摺動面の幅方向の変位との関係を示す特
性図である。
ングと、テ―プ摺動面の幅方向の変位との関係を示す特
性図である。
【図７】薄い磁気テ―プを用いた場合の、再生出力のエ
ンベロ―プ波形を示す特性図である。
ンベロ―プ波形を示す特性図である。
【図８】従来の磁気ヘツドにおいて、厚い磁気テ―プと
磁気ヘツドのテ―プ摺動面との接触状態を示す側面図で
ある。
磁気ヘツドのテ―プ摺動面との接触状態を示す側面図で
ある。
【図９】従来の磁気ヘツドにおいて、薄い磁気テ―プと
磁気ヘツドのテ―プ摺動面との接触状態を示す側面図で
ある。
磁気ヘツドのテ―プ摺動面との接触状態を示す側面図で
ある。
【図１０】従来の磁気ヘツドのひとつとして、テ―プ摺
動面の幅方向の両端部を面取りした状態を示す側面図で
ある。
動面の幅方向の両端部を面取りした状態を示す側面図で
ある。
【図１１】従来の磁気ヘツドのひとつとして、テ―プ摺
動面の幅方向の両端部を上記とは異なる態様で面取りし
た状態を示す側面図である。
動面の幅方向の両端部を上記とは異なる態様で面取りし
た状態を示す側面図である。
１ 磁気ヘツド ２Ａ，２Ｂ 磁気コア半体 ３Ａ，３Ｂ 磁性合金薄膜 ４ 磁気ギヤツプ ５ 接合部材 ９ テ―プ摺動面 イ テ―プ摺動面の摺動方向（長手方向） ロ テ―プ摺動面の幅方向 １０ａ，１０ｂ 一対の溝 Ｘ 磁気テ―プの入側位置 Ｙ 磁気テ―プの出側位置 ｄ1 一対の溝の磁気テ―プの入側位置の深さ ｄ2 一対の溝の磁気テ―プの出側位置の深さ ｄ0 磁気ギヤツプの深さ 実線（曲線−ａ，ｃ，α） この発明の磁気ヘツド 破線（曲線−ｂ，ｄ，β） 比較用の磁気ヘツド Ｔ1 厚い磁気テ―プ Ｔ2 薄い磁気テ―プ
Claims (2)
- 【請求項１】 テ―プ摺動面の幅方向の両端側に、磁気
テ―プの摺動方向に沿う一対の溝を、その深さが磁気テ
―プの入側位置よりも出側位置で小さくなるように形成
したことを特徴とする磁気ヘツド。 - 【請求項２】 回転ヘツド型ヘリキヤルスキヤン方式の
磁気記録再生装置に使用する請求項１に記載の磁気ヘツ
ド。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP25637193A JP3590644B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25637193A JP3590644B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH0793708A true JPH0793708A (ja) | 1995-04-07 |
| JP3590644B2 JP3590644B2 (ja) | 2004-11-17 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25637193A Expired - Fee Related JP3590644B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3590644B2 (ja) |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP25637193A patent/JP3590644B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3590644B2 (ja) | 2004-11-17 |
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