JPH01176304A

JPH01176304A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH01176304A
Application number: JP33530387A
Authority: JP
Inventors: Junichi Saito; 潤一斎藤; Junichi Honda; 順一本多
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1987-12-29
Filing date: 1987-12-29
Publication date: 1989-07-12
Anticipated expiration: 2011-07-03
Also published as: JP2512976B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、いわゆるメタルテープ等の高抗磁力磁気記録
媒体への記録再生に使用される磁気ヘッドに関するもの
であり、特に金属磁性膜によって閉磁路が構成される磁
気ヘッドの改良に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、基板とこの基板の突合わせ面上に成膜された
金属磁性膜よりなる磁気コア半体対が接合一体化され、
前記金属磁性膜により閉磁路を構成してなる磁気ヘッド
において、基板に形成された巻線溝の両側壁と突合わせ
面とのなす角度を緩やかにするように上記側壁の開口縁
部に傾斜部を形成することにより、巻線溝内の金属磁性
膜の磁気特性を向上させて再生出力に優れた磁気ヘッド
を提供することを可能とするものである。

〔従来の技術〕

例えばＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）等の磁気記録再
生装置においては、高画質化等の目的として情報信号の
短波長己録化が進められており、これに対して磁性粉に
強磁性金属粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベー
スフィルム上に強磁性金属材料を直接被着した薄着テー
プ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになって
きている。

一方、磁気ヘッドの分野においてもこれに対処するべ（
研究が進められており、高抗磁力磁気記録媒体に好適な
磁気ヘッドとして磁気コアに金属磁性体を用いた磁気ヘ
ッドが種々開発されている。

その磁気ヘッドの一例として、例えば第２２図に示す如
く構成されたものが知られている。

この磁気ヘッドは、第２２図に示すように酸化物磁性材
料あるいは非磁性材料からなる基板（１）。

（２）の突合わせ面に金属磁性膜（３）　、　（４）が
それぞれ被着形成されてなる磁気コア半体（１）、　　
（ｎ）対がその金属磁性膜（３）　、　（４）を当接面
として突合わされされてなり、当該金属磁性膜（３）　
、　（４）により閉磁路が形成さてなるものである。

この石荘気ヘッドの磁気ギャップｇは、金属磁性膜（３
）　、　（４）同士がギャップスペーサを挟み込んで突
合わされることにより形成されている。そして、上記磁
気ギャップｇのデプスを規制するとともにコイルを巻装
するための溝として断面略コ字状の巻線溝（５）が前記
一方の基板（１）の中途部に形成されている。

ここで、上記巻線溝（５）は、フロントギャップ側に突
合わせ面Ｓ′とα１なる角度を有する側壁面（５ａ）と
、上記突合わせ面Ｓ′と平行なコイル巻装面（５Ｃ）と
、バックギャップ側に上記突合わせ面Ｓ′とα２なる角
度を有する側壁面（５ｂ）とからなっている。そして、
上記両側壁面（５ａ）、　（５ｂ）と突合わせ面Ｓ′と
のなす角度α１．α２は、通常はそれぞれ５５°、９０
°とされている。

ところが、特にバックギャップ側の側壁面（５ｂ）と突
合わせ面Ｓ′とのなす角α２が９０°、すなわち直角に
形成されているために、この部分に成膜される金属磁性
膜（３）は大きく屈曲され、この部分で当該金属磁性膜
（３）の有する保磁力ＨＣ２飽和磁束密度Ｂｓあるいは
透磁率μ等の磁気特性が著しく低下している。また、前
記屈曲部に成膜される金属磁性膜（３）の膜厚が薄くな
ることもあり、より一層金属磁性膜（３）の磁気特性の
低下を招いている。特に、非磁性材料からなる基板に金
属磁性膜（３）を成膜した場合は、これら金属磁性膜（
３）　、　（３）のみより閉磁路が構成されるので、上
記金属磁性膜（３）の磁気特性が直接影響するため磁気
ヘッドの再生出力がさらに低下する。

このように、巻線溝（５）内に成膜された金属磁性膜（
３）は閉磁路を構成するため、その磁気特性が低下する
ことのないように成膜されることが要求される。

そこで、上記金属磁性膜の磁気特性の低下を防止するた
めに種々研究が進められており、例えば特開昭６１−２
９２２１１号公報に記載されるように、巻線溝（５）の
両側に形成された側壁面（Ｓａ）。

（５ｂ）と突合わせ面Ｓ′とのなす角度α１．α２をそ
れぞれ２０゛〜８０°の範囲とする磁気ヘッドが提案さ
れている。

この磁気ヘッドによれば、金属磁性膜の磁気特性の低下
も少なく　２ｄＢ程度の再生出力の向上が報告されてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、さらに−層の磁気特性の向上を図るためには
、上記巻線溝（５）の両側に形成された側壁面（５ａ）
　、　（５ｂ）と突合わせ面Ｓ′とのなす角度α１、α
２をなるべく小さくして金属磁性膜（３）の磁気特性を
向上させることが必要である。

しかし、上記角度α１．α２をあまり小さくし過ぎると
巻線溝（５）の開口幅が大きくなってしまい、コアの磁
路長が長くなり磁束の効率が低下する。

そうかと言って、巻線溝（５）の開口幅を小さくするた
めに当該巻線溝（５）の深さを浅くすると、コイルを巻
装するスペースが狭くなり、高抗磁力磁気記録媒体に対
して充分な磁界を発生するだけのコイルを巻装すること
ができなくなる。

したがって、上述のようなことから、優れた再生出力を
有する磁気ヘッドを得るには至っていない。

そこで本発明は、上述の諸問題を解消するべく提案され
たものであって、特に巻ｖＡ溝周辺の金属磁性膜の磁気
特性を向上させ、優れた再生出力を有する磁気ヘッドを
提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上述の目的を達成するために、少なくとも一
方の磁気コア半体が基板とこの基板の巻線構内を含む突
合わせ面上に沿って成膜された金属磁性膜よりなる一対
の磁気コア半体が接合一体化され、前記金属磁性膜によ
り閉磁路が構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記巻
線溝の両側壁と突合わせ面とのなす角度θ１．θ２がそ
れぞれ２０゜〜８０°であって、少なくとも一方の側壁
の開口縁部が切り欠れ、前記側壁の傾斜が緩和されたこ
とを特徴とするものである。

〔作用〕

本発明の磁気ヘッドは、基板に形成された巻線溝の両側
壁と突合わせ面とのなす角度θ４．θ２がそれぞれ２０
゜〜８０°とされ、さらにその両側壁の開口縁部に切り
欠きが設けられているので、上記側壁の傾斜は緩和され
る。

したがって、上記巻線溝内に成膜される金属磁性膜は均
一の膜厚に形成されその磁気特性は低下することはない
。

また巻線溝は、コイルが巻装される部分も充分確保され
、必要以上に大きく形成されることがないので、磁路長
が短いものとなり磁束の効率が向上する。

また、上記両側壁の開口縁部が切り欠かれているため、
磁気ギャップ近傍の磁束のもれ（リーク）が低減される
。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した実施例について図面を参照しな
がら説明する。

本実施例の磁気ヘッドは、第１図に示すように、磁気ギ
ャップＧを境にして左右側々に作成された磁気コア半体
（Ｉ［ｌ）、　（ＩＶ）対が金属磁性膜（８）、（９）
を当接面としてギャップスペーサを挟み込んで突き合わ
されてなり、これら金属磁性膜（８）　、　（９）によ
り閉磁路が構成されてなるものである。

上記一対の磁気コア半体（ＩＩＩ）、　（ＴＶ）のうち
−方の磁気コア半体（ＴＶ）は、フェライト等の酸化物
磁性材料あるいはセラミックス等の非磁性材料からなる
基板（７）の突合わせ面が平坦な面とされ、この平坦な
面に強磁性金属材料等の金属磁性膜（９）が被着形成さ
れたものである。

これに対し他方の磁気コア半体（Ｉ［ｌ）は、上記基板
（７）と同し材料から形成される基板（６）の中途部に
巻線溝（１０）が設けられ、その突合わせ面に金ｆｆｉ
　ｉｆｆ性膜（８）が被着形成されたものである。

ここで、上記金属磁性膜（８）は、基板（６）の突合わ
せ面であるフロントギャップ側から巻線溝（１０）内を
経てバックギャップ側に至るまで前記基板（６）の形状
に沿って被着形成されている。なお、上記巻線溝（１０
）は、コイルを巻装するためのものであるとともにフロ
ントギャップＧのデプスを規制するものでもある。また
、これら金属磁性膜（８）　、　（９）の対向幅は、上
記基板（６）　、（７）の突合わせ面Ｓの幅（すなわち
コア厚と同じ幅）とされている。

なお、上記金属磁性膜（８）、（９）には、高い飽和磁
束密度を有し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用
されるが、かかる強磁性材料としては従来から公知のも
のがいずれも使用でき、結晶質。

非結晶質を問わない。例示するならば、Ｆｅ−Ａｊ！−
３ｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−３ｉ−Ｇｅ系合
金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｆ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ
−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−３ｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｇｏ−３ｉ−Ａｊｔ系合金等の強磁性金属材料、あるい
は、Ｆｅ−Ｇａ−３ｉ系合金、さらには、上記Ｆｅ−Ｇ
ａ−３ｉ系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一層の向上を図る
ために、Ｆｅ。

Ｇａ、Ｇｏ　（１”ｅの一部をＣＯで互換したものを含
む）、Ｓｔを基本組成とする合金に、Ｔｉ、Ｃｒ。

Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｏｓ。

Ｒｈ、　　［ｒ、　Ｒｅ、　Ｎｉ、　Ｐｄ、　　Ｐｔ、
　Ｈｆ、Ｖの少なくとも１種を添加したものであっても
よい。

また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス合
金（例えば、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏの１つ以上の元素とＰ、
Ｃ，Ｂ、Ｓｉの１つ以上の元素とからなる合金、または
これを主成分としＡｌ、Ｇｅ。

Ｂｅ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｒ。

Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ等を含んだ合金等のメタルーメクロイ
ド系アモルファス合金、あるいはＣｏ、Ｈｆ。

Ｚｒ等の遷移元素や希土類元素等を主成分とするメタル
−メタル系アモルファス合金）等も使用される。これら
金属磁性膜（８）　、　（９）の成膜方法としては、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜
形成技術が採用される。なお、上記金属磁性膜（８）　
、　（９）は前記強磁性合金材料の単層膜であってもよ
いが、例えばＳ　ｉ　Ｏｘ、　Ｔｚ０３、　Ａ　ｆ　ｚ
Ｏ３−Ｚ　ｒ　ＯＸ、　Ｓ　１３Ｎ４等の絶縁膜を介し
て多層膜としてもよい。

ここで、閉磁路を構成する金属磁性膜（８）　、　（９
）の磁気特性に大きく影響する巻線溝（１０）の形状に
ついて第２図を参照しながら説明する。なお、第２図は
第１図に示す磁気ヘッドの巻線溝（１０）近傍骨の要部
拡大図である。

上記巻線溝（１０）は、フロントギャップ側およびバッ
クギャップ側に形成される両側壁（ＩＯＡ）　、（ＩＯ
Ｂ）と、これら両側壁（ＩＯＡ）　、　（ＩＯＢ）間に
形成されるコイル巻装壁（ＩＯＣ）とで構成され、全体
として略台形状とされている。

その両側壁（ＩＯＡ）　、　（１０Ｂ）と突合わせ面Ｓ
とのなす角度θ１．θ２は、この両側壁（ＩＯＡ）　、
　Ｃｌ０Ｂ）上に成膜される金属磁性膜（８）　、　（
９）が最も優れた磁気特性を示す２０”〜８０”の範囲
に設定されている。なお、本実施例ではθ１．θ２はい
ずれも４５°となっている。

これに対して上記両側壁（ＩＯＡ）　、　（ＩＯＢ）間
に挟まれたコイル巻装壁（ＩＯＣ）は、突合わせ面Ｓと
略平行に形成されコイルを巻装するのに必要充分な大き
さとされている。

また、上記両側壁（ＩＯＡ）　、　（ＩＯＢ）の突合わ
せ面Ｓ側の開口縁部が切り欠かれて傾斜部（１０ａ）　
、　（１０ｂ）がそれぞれ形成されている。これら傾斜
部（１０ａ）。

（１０ｂ）と突合わせ面Ｓとのなす角度θ１、θ４は、
前記両側壁（ＩＯＡ）　、　（ＩＯＢ）との突合わせ面
Ｓとのなす角度０重、θ２よりも小さい角度とされてい
る。

本実施例では、上記角度θ１、θ４を３０°としている
。

この結果、上記フロントギャップ側およびバックギャッ
プ側での両側壁（１０＾）、（ＩＯＢ）の傾斜はこれら
傾斜部（１０ａ）　、　（１０ｂ）により緩和される。

したがって、巻線溝（１０）内に被着形成される金属磁
性膜（８）の有する保磁力、飽和磁束密度あるいは透磁
率等の磁気特性は低下することがない。

さらには、この部分に成膜される金属磁性膜（８）は均
一な膜厚に形成されるため、当該金属磁性膜（８）の有
する磁気特性は一層良好なものとなる。

なお、本実施例の磁気ヘッドは、上記傾斜部（１０ａ）
、　（１０ｂ）が設けられていない巻ｖＡ溝を有する磁
気ヘッドに比べてその再生出力は１ｄＢの向上が得られ
た。

また、上記傾斜部（１０ａ）　、　（１０ｂ）と突合わ
せ面Ｓとのなす角度θ８．θ４は極端に小さい値ではな
いので、上記巻線１１Ｂ（１０）は大きく形成されるこ
とはない。このため、上記Ｓ線溝（１０）内に成膜され
る金属磁性膜（８）の磁路長さは短くなり磁束の効率は
向上する。さらには、巻線？５（１０）は大きく形成さ
れることはないので小チツプ構造とした磁気ヘッドとす
ることが可能となる。

また、上記傾斜部＜１０ａ）　、　（１０ｂ）が形成さ
れることにより、フロントギャップ側での磁束のもれが
低減される。

したがって、磁気特性の低下のない優れた再生出力を発
揮する磁気ヘッドが実現される。

次に、本発明を適用した第１図に示す磁気ヘッドの製造
方法についてその工程順に沿って図面を参照しながら説
明する。

この磁気ヘッドを作成するには先ず第３図に示すように
、フェライト等の酸化物磁性材料あるいはセラミックス
等の非磁性材料からなるヘッドコアブロック（１１）を
用意し、このヘッドコアブロック（１１）の突合わせ面
となる一表面（ｌｌａ）上にコイルを巻装するための巻
線溝（１２）を切削加工する。

なお上記巻線溝（１２）の形状は、第２図に示すものと
同じであるためその説明は省略する。

次に、第４図に示すように、上記突合わせ面となる−表
面（ｌｌａ）上に巻線溝（１２）内も成膜されるように
金属磁性膜（１３）を真空薄膜形成技術を用いてスパッ
タリング法等により被着形成する。

次いで、第５図に示すように、金属磁性膜（１４）が被
着された長方形状のヘッドコアブロック（１５）を用意
し、このヘッドコアブロック（１５）を前記工程で形成
した一方のへソドコアブロック（１１）に、これら金属
磁性膜（１３）、　（１４）同士をギャップスペーサを
挟み込んで突合わせガラス融着により接合一体化する。

しかる後に、磁気記録媒体対接面に対して磁気ギャップ
が所定のデプスとなるまで研会を施し、必要に応じて当
たり軸加工等を施した後、ａ−ａ線およびｂ−ｂ線で示
す位置でスライシング加工してヘッドチップを切り出し
て磁気ヘッドを完成する。

ここで本発明は、前述した磁気ヘッドに限定されること
なく例えば第６図に示すような構造の磁気ヘッドにも適
用することができる。なお、第６図に示す磁気ヘッドに
は、第１図および第２図に示すものと同一部材には同一
の符号を付した。

上記第６図に示す磁気ヘッドは、両方の磁気コア半体（
ＩＩＩ）、　　（Ｉ［［）に巻線溝（１０）　、　（１
０）がそれぞれ形成されたものである。

すなわち、第１図および第２図に示す磁気ヘッドの巻線
溝（１０）が形成された磁気コア半体（Ｉ［［）を二つ
作製し、これら磁気コア半体（Ｉ［［）、　　（ＩＩＩ
）同士を金属磁性膜（８）　、　（８）を当接面として
ギャップスペーサを挟み込んで突合わせ接合一体化し、
たちのである。なお、その他の構成は前記第１図および
第２図に示す磁気ヘッドと同一のためその説明は省略す
る。

この磁気ヘッドは、巻線溝（１０）　、　（１０）が両
側に形成されているので各巻線溝（１０）　、　（１０
）の深さを浅く形成することが可能となり当該巻線溝（
１０）　、　（１０）内に成膜される金属磁性膜（８）
　、　（８）の磁路長さがより短くなり磁気特性が一層
向上する。

また、フロントギャップＧ近傍では、金属磁性膜（８）
　、　（８）同士が巻線溝（１０）　、　（１０）の傾
斜部（１０ａ）、　（１０ａ）により離されているため
磁束の漏れは防止される。したがって、効率の観点から
巻線溝（１０）。

（１０）は両側に形成することがより好ましい。

さらに、本発明は第７図に示す如く構成された磁気ヘッ
ドにも適用することが可能である。

この第７図に示す磁気ヘッドは、巻線溝の形状を半円状
としその巻線溝の両端を切り欠いたものである。

すなわち上記磁気ヘッドは、半円状の巻線溝（１６）が
形成された基板（１７）の突合わせ面Ｓ′に金属磁性膜
（１８）が被着形成されてなる磁気コア半体（■）。

（Ｖ）対を当該金属磁性膜（１８）　、　（１８）を当
接面としてギャップスペーサを挟み込んで突き合わせ接
合一体化してなるものである。

ここで、上記基板（１６）の中途部に形成された半円状
の巻線溝（１６）は、さらにその両端がそれぞれ開放す
るように切り欠かれ傾斜面（１９ａ）　、　（１９ｂ）
が形成されている。この両頭斜面（１９ａ）　、　（１
９ｂ）と突合わせ面Ｓ゛とのなす角度θ１．θ、は、こ
の巻線溝（１６）内に成膜される金属磁性膜（１８）の
磁気特性を低下させることのない角度に設定されている
。

例えば、前記第１図に示した磁気ヘッドと同様３０゜に
設定する。

また、上記巻線溝（１６）の曲率Ｒは前記第１図および
第２図に示す巻線溝（１０）の両側壁（ＩＯＡ）　、　
（ＩＯＢ）と突合わせ面Ｓとのなす角度θ１．θ２　（
２０゜〜８０°）に略近い曲率Ｒとすることが好ましい
。

すなわち、上記範囲以内とすることで巻線溝（１６）に
成膜される金属磁性膜（１６）の磁気特性が向上するか
らである。

上述のように形成された磁気ヘッドは、前記した磁気ヘ
ッドと同様、巻線溝（１６）内に成膜された金属磁性膜
（１８）の磁気特性の低下がなく優れた再生出力を示す
。

さらに本発明は第８図に示すように、金属磁性膜の斜め
膜が磁気記録媒体摺動面から見たときに一直線上に連な
るようにその斜め膜の端面同士が突き合わされてなる磁
気ヘッドにも適用することができる。

その磁気ヘッドの構成を簡単に説明する。なお、第８図
は本例の磁気ヘッドを記録媒体摺動面から見たものであ
る。

この磁気ヘッドの磁気ギャップＧ′は、金属磁性膜（２
０）、（２１）同士をギャップスペーサを介して突き合
わされることにより形成されるが、本実施例の磁気ヘッ
ドでは、基板（２２）　、　（２３）の突合わせ面が斜
めに切り欠かれ、この傾斜面（２２ａ）　、　（２３ａ
）に金属磁性膜（２０）　、　（２１）が成膜され、上
記金属磁性膜（２０）、（２１）の当接面がトラック幅
Ｔｗの磁気ギャップＧ′となるように構成されている。

そして、上記傾斜面（２２ａ）　、　（２３ａ）により
削り落とされた切り欠き部分には、接合ガラス（２４）
　、　（２５）が充填され、磁気記録媒体に対する当た
り特性を確保するようになっている。

この磁気ヘッドの構成をより明確なものとするため、そ
の製造方法について図面を参照しながら説明する。

先ず、第９図に示すように、フェライト等の酸化物磁性
材料あるいはセラミックス等の非磁性材料からなるヘッ
ドコアブロック（２６）を用意し、このヘッドコアブロ
ック（２６）の上面（２６ａ）　、すなわち磁気コア半
体突合わせ時の接合面に回転砥石等により断面路■字状
の切り溝（２７）を入れて金属磁性膜形成面（２７ａ）
を形成する。

次に、第１０図に示すように、先の切り溝（２７）と直
交する方向にコイルを巻装するための断面略台形状の巻
線溝（２８）を切削加工する。

この巻線溝（２８）を形成するには、先ず、第１１図に
示すように、ヘッドコアブロック（２６）の上面（２６
ａ）と平行に所定深さ、所定幅となるように切削加工を
施しコイル巻装面（２８Ｃ）を形成する。

次いで、そのコイル巻装面（２８Ｃ）の両端にそれぞれ
前記上面（２６ａ）となす角度θ１．θ８が４５゛とな
るように斜面（２８Ａ）　、　（２８Ｂ）をそれぞれ形
成する。なお、上記角度θ１．θ、は、２０゜〜８０゜
の範囲であればよい。

さらに、上記両斜面（２８＾）、　（２８Ｂ）の開口縁
部に当該斜面（２８＾）、（２８Ｂ）の傾斜を緩和させ
るように、上記斜面（２８Ａ）　、　（２８Ｂ）の傾斜
よりも小さい角度、すなわち前記上面（２６ａ）となす
角度θ５．θ１゜が３０°となるように傾斜面（２８ａ
）　、（２８ｂ）をそれぞれ形成する。

これによって、上記巻線溝（２８）内に被着形成される
金属磁性膜の有する磁気特性が低下することはなくなる
。

なお、上記巻線溝（２８）の形成方法として他に、例え
ば予め巻線？ｇ（２８）の形状とした回転砥石を用い、
この回転砥石を上記ヘントコアブロック（２６）に当て
切削加工してもよい。これによれば、上記巻線？１（２
８）は−工程で加工することができ製造工程も筒略化で
きる。

しかる後に、第１２図に示すように、上記へフドコアブ
ロック（２６）の上面（２６ａ）全体に亘って金属磁性
膜（２９）を薄膜形成技術等の方法により被着形成する
。

次に、第１３図に示すように、上記７字状の切り？！（
２７）および巻線？！（２８）内にガラス（３０）を充
填させる。その後、ヘッドコアブロック（２６）の上面
（２６ａ）に成膜された金属磁性膜（２９）を平面研磨
して取り除き、上記ヘッドコアブロック（２６）の上面
（２６ａ）が覗いたところで研磨を終了する。

この結果、金属磁性膜（２９）は７字状の切り溝（２７
）と巻線１　（２８）内の部分のみが残ることになる。

次に、第１４図に示すように、デプス零（図中破線で示
す位置）の先端位置出しを行う。続いて、巻線溝（２８
）内に充填されているガラス（３０）を図中−点鎖線で
示す位置まで切削加工して取り除く。

しかる後に、第１５図に示すように、得られたヘッドコ
アブロック（２６）　、　（２６）対の金属磁性膜（２
９）。

（２９）同士を重ね合わせ、トランク幅を一致させてギ
ャップスペーサを介してガラス融着により接合一体化す
る。その後、必要に応じて当たり幅加工等を施した後、
第１５図中ｃ−ｃ線およびｄ−ｄ線で示す位置でスライ
シング加工して各ヘッドチップに切り出し磁気ヘッドを
完成する。

ここで、ヘッドコアブロック対の接合強度をさらに向上
させ信頼性のある磁気ヘッドを得ようとするには、例え
ば、金属磁性膜の磁路としての不要な部分を取り除き、
金属磁性膜が成膜されていいない当該ヘッドコアブロッ
ク同士の接合面を増やしてガラス融着することで可能と
なる。

その磁気ヘッドの製造方法を図面を参照しながら説明す
る。

なお、ここで説明する磁気ヘッドは、ヘッドコアブロッ
クの突合わせ面が磁気ギヤ、プと平行な面とトランク幅
規制溝により切削される傾斜面とからなり、前記平行な
面によりトランク幅が決定されるヘッドコアブロック同
士が突合わされてなるもので、これら平行な面と傾斜面
に金属磁性膜が成膜されてなるものである。

先ず、第１６図に示すように、前記した製造方法と同じ
材料からなるヘッドコアブロック（３１）にトラック幅
を規制するための断面路Ｖ字状のトランク幅規制溝（３
２）を切削加工する。その際、上記トラック幅規制溝（
３２）　、　（３２）間には、金属磁性膜成膜後に削り
取られる突出部（３３）を残す。なお、本例の突出部（
３３）の形状は長方形状となっている。

そして、上記トランク幅規制溝（３２）と直交する方向
にコイルを巻装するための巻線溝（３４）およびガラス
溝（３５）を切削加工する。

この結果、上記巻線溝（３４）前方にはフロントギ中ツ
ブ部が形成され、巻線溝（３４）とガラス溝（３５）間
にはバックギャップ部がそれぞれ形成される。

次に、第１７図に示すように、上記トラック幅規制溝（
３２）、　Ｓ線溝（３４）、ガラス溝（３５）等が形成
された面全体に、金属磁性材料からなる金属磁性ｇ！（
３７）を真空薄膜形成技術により被着形成する。

次に、第１８図に示すように、突出部（３３）とガラス
溝（３５）内を切削加工する。

すなわち、第１９図に示すように、回転砥石で上記突出
部（３３）をトランク幅規制溝（３２）の折り返し部（
３２ａ）、（３２ａ）　　（すなわち７字状の底の部分
〕がそれぞれ残るように切削する。この結果、上記突出
部（３３）上に成膜された金属磁性膜（３７）は削り取
られ、ヘッドコアブロック（３１）が露出し切り欠き部
（３３ａ）が形成される。なお、上記切り欠き部（３３
ａ）はギャップ形成面よりも下がった（図中下方）位置
となっている。

そして、第２０図に示すように、ガラス溝（３５）内に
成膜された金属磁性膜（３７）も切削しヘッドコアブロ
ック（３１）が露出するように切り欠き部（３５ａ）を
形成する。その際、上記ガラス溝（３５）内に成膜され
た金属磁性膜（３７）の折り返し部（３７ａ）　、　（
３７ａ）をそれぞれ残すように切削する。

このように、トラック幅規制溝り３２）上に成膜された
金属磁性膜（３７）の折り返し部（３２ａ）およびガラ
ス溝（３５）内に成膜された金属磁性膜（３７）の折り
返し部（３７ａ）　、　（３７ａ）をそれぞれ残すよう
に切削しているため、磁路に関与する金属磁性膜（３７
）とへソドコアブロフタ（３１）間には切削時の衝撃が
伝わらず当該金属磁性膜（３７）ヘッドコアブロック（
３１）との接合強度は保たれる。

さらには、上記突出部（３３）の切り欠き部（３３ａ）
およびガラス溝（３５）内の切り欠き部（３５ａ）の切
削加工による切断面のエツジは、ヘッドコアブロック（
３１）の表面（突合わせ面）に出ることはない。

したがって、切削による膜剥がれも防止でき切削加工自
体も高速化できる。

最後に、第２１図に示すように、これらヘッドコアブロ
ック（３１）、（３１）の金属磁性膜（３７）　、　（
３７）同士を重ね合わせ、トランク幅を一致させてギャ
ップスペーサを介しガラス（３８）により融着して接合
一体化する。その後、必要に応じて当たり幅加工等を施
した後、スライソシング加工してヘッドチップに切り出
し磁気ヘッドを完成する。

このように、ヘッドコアブロック（３１）　、　（３１
）対接合時に金属磁性膜（３７）の磁路として不要な部
分を予め取り除き、当該ヘッドコアブロック（３１）、
　（３１）同士の接合面でガラス融着するため、金属磁
性膜（３７）の濡れを考慮することなくガラス融着する
ことができ、しかもコア同士の接合強度およびガラス流
れが向上する。また、接合強度が向上するためヘッドチ
ップ切り出し時の１１堅による金属磁性膜の膜剥がれお
よびギャップ不良等を防止することができる。

以上、本発明の実施例について説明したが、本発明がこ
れら実施例に限定されるものでないことはいうまでもな
い。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明に係る磁気ヘ
ッドにおいては、基板に形成された巻線溝の両側壁と突
合わせ面とのなす角度が上記両側壁の開口縁部に設けら
れた切り欠きにより緩和されるため、当該巻線溝内に成
膜される金属磁性膜の保磁力、飽和磁束密度あるいは透
磁率等の磁気特性が向上する。

さらには、この部分に成膜される金属磁性膜は均一な膜
厚に形成されるため、当該金属磁性膜の有する磁気特性
は一層良好なものとなる。

また、上記巻線溝の開口部は大きく形成されることがな
いので、閉磁路の磁路長は短かいものとなり磁束の効率
は向上する。しかも巻線溝が大きくないため小チツプ構
造とした磁気ヘッドとすることができる。

したがって、磁気特性に優れ且つ極めて良好な再生出力
を発揮する磁気ヘッドを提供することができる。

また、本発明の磁気ヘッドは、巻線溝を形成する際に、
当該巻線溝内両側壁に単に切り欠きを設けるのみで簡単
に作製することができるため、生産性の観点からも好適
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す側面
図であり、第２図はその巻線溝近傍の要部拡大側面図で
ある。第３図乃至第５図は第１図に示す磁気ヘッドの製造工程
を示し、第３図は巻線溝形成工程を示す概略斜視図、第
４図は金属磁性膜被着工程を示す概略斜視図、第５図は
ヘッドコアブロック突合わせ工程を示す概略斜視図であ
る。第６図は本発明を適用した磁気ヘッドの他の例を示す側
面図であり、第７図はさらに他の例を示す側面図である
。第８図は本発明を適用した磁気ヘッドのさらに他の例の
記録媒体摺動面の要部拡大平面図である。第９図乃至第１５図は第８図に示す磁気ヘッドの製造工
程を示し、第９図はトラック幅規制溝形成工程を示す概
略斜視図、第１０図および第１１図は巻線溝形成工程を
示す概略斜視図および巻線溝近傍の要部拡大側面図、第
１２図は金属磁性膜被着形成工程を示す概略斜視図、第
１３図はガラス充填工程を示す概略斜視図、第１４図は
デプス位置出し工程およびガラス除去工程を示す巻線溝
近傍の要部拡大側面図、第１５図はヘッドコアブロック
突合わせ工程を示す要部拡大平面図である。第１６図乃至第２Ｆ図はヘッドコアブロック突合わせ時
の接合強度を向上させるための磁気ヘッドの製造工程の
一例を示す図であり、第１６図は溝加工工程を示す概略
斜視図、第１７図は金属磁性膜被着形成工程を示す概略
斜視図、第１８図は突出部およびガラス溝内の研削工程
を示す概略斜視図、第１９図は突出部の研削後の状態を
示す要部拡大側面図、第２０図はガラス溝内の研削後の
状態を示す要部拡大側面図、第２１図はヘッドコアブロ
ック突合わせ工程を示す概略斜視図である。第２２図は従来の磁気ヘッドの一例を示す側面図である
。６．７・・・基板８．９・・・金属磁性膜ＩＯ・・・巻線溝１０Ａ、ＩＯＢ・・・側壁１０ａ、１０ｂ−傾斜面 θ１．θ２　・・・側壁と突合わせ面とのなす角度Ｓ　
　・・・突合わせ面Ｇ　　・・・磁気ギャップ特許出願人　　　　　ソニー株式会社代理人　　弁理士　　小　池　　　見回　田村栄− 同　　　　佐　藤　　　　勝第１図Ｇ第２図第９図第１０国第１１図第１２図第１３図第１４図第１５図第１６図第１７図第１８図第１９図第２０図第２２図手続ネ甫正魯（自発）昭和６３年３月２３日特許庁長官　小　川　邦　夫　殿１、事件の表示昭和６２年　特許層　第３３５３０３号２、発明の名称磁気ヘッド事件との関係　　　特許出願人住所　東京部品用区北品用６丁目７番３５号名称（２１
８）ソニー株式会社代表者大賀典雄４、代理人住所　〒１０５東京都港区虎ノ門二丁目６番４号第１１
森ビル１１階　Ｔａ　（５０８）　８２６６　ｆｌｔ５
６、補正の対象明細占の「発明の詳細ン１硼聾ミご及び図面７、補正の
内容（１）明細占第４頁第１２行目にｒ５５”Ｊとある記載
をｒ４０”〜６０”Ｊと補正する。（２）明細吉の次の箇所に「磁束の効率」とある記載を
「磁束の伝達効率」と補正する。 ■第８頁第７行目。 ■第１３頁第２０行目から第１４頁第１行目。 ■第２７頁第１２行目。（３）同書第１６頁第１７行目に「磁気特性」とある記
載を「磁束の伝達効率」と補正する。（４）同辺第１８頁第５行目から第６行目に亘り「（２
０゜〜８０”）Ｊとある記載の後に「を持つ断面形状」
を挿入する。（５）添付図面中、第１１図を別紙の通り補正する。以上

Claims

【特許請求の範囲】　少なくとも一方の磁気コア半体が基板とこの基板の巻
線溝内を含む突合わせ面上に沿って成膜された金属磁性
膜よりなる一対の磁気コア半体が接合一体化され、前記
金属磁性膜により閉磁路が構成されてなる磁気ヘッドに
おいて、上記巻線溝の両側壁と突合わせ面とのなす角度θ＿１、
θ＿２がそれぞれ２０゜〜８０゜であって、少なくとも
一方の側壁の開口縁部が切り欠れ、前記側壁の傾斜が緩
和されたことを特徴とする磁気ヘッド。