JPH0796112B2 - 排水の浄化装置 - Google Patents
排水の浄化装置Info
- Publication number
- JPH0796112B2 JPH0796112B2 JP2245421A JP24542190A JPH0796112B2 JP H0796112 B2 JPH0796112 B2 JP H0796112B2 JP 2245421 A JP2245421 A JP 2245421A JP 24542190 A JP24542190 A JP 24542190A JP H0796112 B2 JPH0796112 B2 JP H0796112B2
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- JP
- Japan
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- wastewater
- soda
- waste water
- trichloroethane
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばドライクリーニング工場等から排出さ
れる排水の浄化装置に関するものである。
れる排水の浄化装置に関するものである。
例えばドライクリーニング工場等では、ターペン油、テ
トラクロロエチレン（通称パークロ）や1,1,1−トリク
ロロエタン（通称エタン）等の有機溶剤が使用されてお
り、これら有機溶剤については、様々な方法、設備によ
り回収が図られていて、工場等より直接に排出されるこ
とはないが、その微量分は、工場排水に溶解或いは混入
して、工場より排出されてしまう。
トラクロロエチレン（通称パークロ）や1,1,1−トリク
ロロエタン（通称エタン）等の有機溶剤が使用されてお
り、これら有機溶剤については、様々な方法、設備によ
り回収が図られていて、工場等より直接に排出されるこ
とはないが、その微量分は、工場排水に溶解或いは混入
して、工場より排出されてしまう。
上記有機溶剤中、特にテトラクロロエチレンや1,1,1−
トリクロロエタンについては、最近になって地下水を汚
染する有害物質であると指定されて以来、それらを含む
排水の処理は、ドライクリーニング工場等における極め
て重要な課題となっている。そこで、例えばドライクリ
ーニング工場等では、テトラクロロエチレンや1,1,1−
トリクロロエタンを含む排水を一旦浄化曹に貯留し、該
浄化曹に空気を送り込んでばっ気することにより、上記
テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタンを排
水から大気中に放出してから、排出するようにしてい
る。
トリクロロエタンについては、最近になって地下水を汚
染する有害物質であると指定されて以来、それらを含む
排水の処理は、ドライクリーニング工場等における極め
て重要な課題となっている。そこで、例えばドライクリ
ーニング工場等では、テトラクロロエチレンや1,1,1−
トリクロロエタンを含む排水を一旦浄化曹に貯留し、該
浄化曹に空気を送り込んでばっ気することにより、上記
テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタンを排
水から大気中に放出してから、排出するようにしてい
る。
上記従来の浄化曹は、排水中のテトラクロロエチレンや
1,1,1−トリクロロエタンの濃度を、例えばドライクリ
ーニング工場等から排出される排水について現時点で適
用される基準である0.1ppmを若干下回る程度に低下させ
ることができるが、この能力はすべての条件が満足され
た状態で発揮されるもので、例えば上記ばっ気のための
空気量が不足したり、曹内に汚れが付着したりすると、
上記能力が低下してしまい、従って、排水中のテトラク
ロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタンの濃度を基準
値以下とするには、頻繁なメンテナンスが必要であると
いう問題点があった。
1,1,1−トリクロロエタンの濃度を、例えばドライクリ
ーニング工場等から排出される排水について現時点で適
用される基準である0.1ppmを若干下回る程度に低下させ
ることができるが、この能力はすべての条件が満足され
た状態で発揮されるもので、例えば上記ばっ気のための
空気量が不足したり、曹内に汚れが付着したりすると、
上記能力が低下してしまい、従って、排水中のテトラク
ロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタンの濃度を基準
値以下とするには、頻繁なメンテナンスが必要であると
いう問題点があった。
本発明は、上述した従来技術の難点を解消し、排水中の
テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタンを、
基準値を大きく下回る濃度とすることができ、しかも、
頻繁なメンテナンスを不要とした排水の浄化装置を提供
することを目的としてなされた。
テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタンを、
基準値を大きく下回る濃度とすることができ、しかも、
頻繁なメンテナンスを不要とした排水の浄化装置を提供
することを目的としてなされた。
上記目的を達成するために本発明が採用した構成は、排
水を貯留するための曹と、該曹の下部付近に配設された
気体放出手段と、該曹の下部付近に配設された加熱手段
と、上記気体放出手段の上方に配設された遠赤外線発生
手段とよりなることを特徴とするものである。
水を貯留するための曹と、該曹の下部付近に配設された
気体放出手段と、該曹の下部付近に配設された加熱手段
と、上記気体放出手段の上方に配設された遠赤外線発生
手段とよりなることを特徴とするものである。
尚、上記構成において、遠赤外線発生手段はバイオセラ
ミックとしたり、排水を貯留するための曹を複数備え、
一の曹で処理した排水を順次他の曹に導入するようにし
てもよい。
ミックとしたり、排水を貯留するための曹を複数備え、
一の曹で処理した排水を順次他の曹に導入するようにし
てもよい。
本発明においては、曹中に貯留された排水は、該曹に配
設された気体放出手段によりばっ気される際、該曹に配
設された加熱手段により加熱されて熱エネルギーが与え
られるため、該排水中のテトラクロロエチレンや1,1,1
−トリクロロエタン等の有機溶剤の濃度を効果的に低下
させることが可能となる。
設された気体放出手段によりばっ気される際、該曹に配
設された加熱手段により加熱されて熱エネルギーが与え
られるため、該排水中のテトラクロロエチレンや1,1,1
−トリクロロエタン等の有機溶剤の濃度を効果的に低下
させることが可能となる。
又、本発明はにおいては、上記気体放出手段の上方に遠
赤外線発生手段、特にバイオセラミックを配設したの
で、その詳細な機構は不明な部分があるにしても、遠赤
外線発生手段が曹内に汚れが付着することを防止するこ
とにより、メンテナンスフリー化を可能とする。
赤外線発生手段、特にバイオセラミックを配設したの
で、その詳細な機構は不明な部分があるにしても、遠赤
外線発生手段が曹内に汚れが付着することを防止するこ
とにより、メンテナンスフリー化を可能とする。
更に、排水を貯留するための曹を複数備え、一の曹で処
理した排水を順次他の曹に導入するようにした場合は、
排水が繰り返し上記処理を受けることになり、排水中の
テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタン等の
有機溶剤の濃度をより一層低下させることが可能とな
る。
理した排水を順次他の曹に導入するようにした場合は、
排水が繰り返し上記処理を受けることになり、排水中の
テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタン等の
有機溶剤の濃度をより一層低下させることが可能とな
る。
〔実施例〕 以下に本発明を図面により更に詳細に説明する。
図は本発明浄化装置の実施の一例を、概念的側面図をも
って示したものである。
って示したものである。
図において、１は例えばドライクリーニング工場等から
排出され、テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロ
エタン等の有機溶剤を含む排水を貯留するための曹であ
り、この実施例では、該曹１はその中央に配設された仕
切り板２により、第１の曹1aと第２の曹1bとに区切られ
ている。尚、該曹１は、図のように仕切り板２により区
切らず、単一の曹としてもよい。
排出され、テトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロ
エタン等の有機溶剤を含む排水を貯留するための曹であ
り、この実施例では、該曹１はその中央に配設された仕
切り板２により、第１の曹1aと第２の曹1bとに区切られ
ている。尚、該曹１は、図のように仕切り板２により区
切らず、単一の曹としてもよい。
３は上記第１の曹1a中央部に立設された側面倒Ｌ状の排
水導入パイプ、４は上記仕切り板２の上記第２の曹1b側
にそれを貫通して取付けられた連結パイプ、５は上記第
２の曹1bにそれを貫通して取付けられた排出パイプで、
排水導入パイプ３及び連結パイプ４の下端部は、それぞ
れ第１の曹1aと第２の曹1bの底部近くに位置しており、
従って、図に示したように、排水導入パイプ３から導入
された排水は、まず第１の曹1aを下から上に向かって流
れ、次いで連結パイプ４により第２の曹1bに導かれた
後、やはり第２の曹1bを下から上に向かって流れ、最終
的に排出パイプ５から装置外へ排出されるようになって
いる。
水導入パイプ、４は上記仕切り板２の上記第２の曹1b側
にそれを貫通して取付けられた連結パイプ、５は上記第
２の曹1bにそれを貫通して取付けられた排出パイプで、
排水導入パイプ３及び連結パイプ４の下端部は、それぞ
れ第１の曹1aと第２の曹1bの底部近くに位置しており、
従って、図に示したように、排水導入パイプ３から導入
された排水は、まず第１の曹1aを下から上に向かって流
れ、次いで連結パイプ４により第２の曹1bに導かれた
後、やはり第２の曹1bを下から上に向かって流れ、最終
的に排出パイプ５から装置外へ排出されるようになって
いる。
６は上記曹１の下部付近に配設された気体放出手段とし
てのばっ気パイプであり、その端部6aより例えば空気を
供給すれば、曹１内において上面に穿設された穴6bより
空気が放出され、ばっ気が行なえるようになっている。
てのばっ気パイプであり、その端部6aより例えば空気を
供給すれば、曹１内において上面に穿設された穴6bより
空気が放出され、ばっ気が行なえるようになっている。
７は上記曹１の下部付近に配設された加熱手段としての
蒸気パイプであり、その端部7aより蒸気を供給すれば、
その熱により曹１内の排水を加熱できるようになってい
て、その加熱温度としては、20乃至30℃という範囲を例
示することができる。
蒸気パイプであり、その端部7aより蒸気を供給すれば、
その熱により曹１内の排水を加熱できるようになってい
て、その加熱温度としては、20乃至30℃という範囲を例
示することができる。
尚、前記ばっ気用の気体として、ドライクリーニング工
場等に通状は設置されているエアコンプレッサーの出力
を一部流用したり、又、前記加熱用の蒸気として、ドラ
イクリーニング工場等で使用されている蒸気発生装置の
出力の一部（所謂ドレン）を流用すれば簡便でしかもコ
スト的に有利である。
場等に通状は設置されているエアコンプレッサーの出力
を一部流用したり、又、前記加熱用の蒸気として、ドラ
イクリーニング工場等で使用されている蒸気発生装置の
出力の一部（所謂ドレン）を流用すれば簡便でしかもコ
スト的に有利である。
又、８は排水の温度を監視するために、曹１に設置した
温度計、９は排水から放出された有機溶剤を装置外へ排
出する排気口である。
温度計、９は排水から放出された有機溶剤を装置外へ排
出する排気口である。
上記のように構成される本発明装置の一例にあっては、
曹1a中に貯留された排水は、ばっ気パイプ６から放出さ
れる気体によりばっ気される際、該曹に配設された蒸気
パイプ７により加熱されるため、曹1a中に貯留された排
水の上面で上記気体による泡がはじける際、排水中のテ
トラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタン等の有
機溶剤を放出しやすくなり、この結果、それら有機溶剤
の濃度を効果的に低下させることができる。
曹1a中に貯留された排水は、ばっ気パイプ６から放出さ
れる気体によりばっ気される際、該曹に配設された蒸気
パイプ７により加熱されるため、曹1a中に貯留された排
水の上面で上記気体による泡がはじける際、排水中のテ
トラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタン等の有
機溶剤を放出しやすくなり、この結果、それら有機溶剤
の濃度を効果的に低下させることができる。
又、排水を貯留するための曹１を区切り、曹1aで処理し
た排水を曹1bに導入するようにしているので、排水が繰
り返し上記ばっ気−加熱処理を受けることになり、排水
中のテトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタン
等の有機溶剤の濃度をより一層低下させることができ
る。
た排水を曹1bに導入するようにしているので、排水が繰
り返し上記ばっ気−加熱処理を受けることになり、排水
中のテトラクロロエチレンや1,1,1−トリクロロエタン
等の有機溶剤の濃度をより一層低下させることができ
る。
実際にも、上記説明した構成の浄化装置により排水を処
理したところ、排水中のテトラクロロエチレンや1,1,1
−トリクロロエタンの濃度を、例えばドライクリーニン
グ工場等から排出される排水について現時点で適用され
る基準である0.1ppmを下回る程度に、しかも長時間にわ
たって低下させることができた。
理したところ、排水中のテトラクロロエチレンや1,1,1
−トリクロロエタンの濃度を、例えばドライクリーニン
グ工場等から排出される排水について現時点で適用され
る基準である0.1ppmを下回る程度に、しかも長時間にわ
たって低下させることができた。
而して、本発明装置には、上記構成に加え、次のような
構成を付加している。
構成を付加している。
即ち、前記ばっ気パイプ６の上方に遠赤外線発生手段と
してのバイオセラミックを配設するのである。
してのバイオセラミックを配設するのである。
このバイオセラミックとは、近時様々な効果を発揮する
ものとして注目されており、その主たる成分は、シリ
カ、アルミナ、酸化第二鉄、酸化チタン等であって、本
発明では上記成分よりなる陶土をタイル状に成型すると
共に適宜数の貫通穴を設けた後、天然鉱石の微粉末をコ
ーティングし、1,300℃程度で燒結したものを適宜数横
方向に架設10してある。
ものとして注目されており、その主たる成分は、シリ
カ、アルミナ、酸化第二鉄、酸化チタン等であって、本
発明では上記成分よりなる陶土をタイル状に成型すると
共に適宜数の貫通穴を設けた後、天然鉱石の微粉末をコ
ーティングし、1,300℃程度で燒結したものを適宜数横
方向に架設10してある。
尚、本発明で使用する上記バイオセラミックは、7.6〜1
3ミクロンの遠赤外線を発生することがわかっている。
3ミクロンの遠赤外線を発生することがわかっている。
上記のように構成される本発明浄化装置においては、曹
１内の排水は上記のようにばっ気−加熱処理処理を受け
るが、その詳細な機構は不明な部分があるにしても、バ
イオセラミックが排水の臭気を抑え、曹内に汚れが付着
することを防止すると共に、曹内の排水の成分を均一化
することにより、メンテナンスフリーとすることがで
き、初期の能力を長期間にわたって発揮することができ
る。
１内の排水は上記のようにばっ気−加熱処理処理を受け
るが、その詳細な機構は不明な部分があるにしても、バ
イオセラミックが排水の臭気を抑え、曹内に汚れが付着
することを防止すると共に、曹内の排水の成分を均一化
することにより、メンテナンスフリーとすることがで
き、初期の能力を長期間にわたって発揮することができ
る。
実際にも、上記説明した本発明浄化装置により排水を処
理したところ、排水中のテトラクロロエチレンや1,1,1
−トリクロロエタンの濃度を、例えばドライクリーニン
グ工場等から排出される排水について現時点で適用され
る基準である0.1ppmを大きく下回る0.006ppm程度にま
で、しかも長期間にわたって低下させることができ、し
かも曹内に汚れがほとんど付着しなかった。
理したところ、排水中のテトラクロロエチレンや1,1,1
−トリクロロエタンの濃度を、例えばドライクリーニン
グ工場等から排出される排水について現時点で適用され
る基準である0.1ppmを大きく下回る0.006ppm程度にま
で、しかも長期間にわたって低下させることができ、し
かも曹内に汚れがほとんど付着しなかった。
尚、上記濃度は。JIS K 0125に定める方法により、溶媒
抽出・ガスクロマトグラフ法により行なった。その際の
原水の濃度は、62ppmであった。
抽出・ガスクロマトグラフ法により行なった。その際の
原水の濃度は、62ppmであった。
以上のように、本発明浄化装置によれば、排水中の有機
溶剤の濃度を、現時点で適用される基準である0.1ppmを
大きく下回る程度に、しかも長期間にわたって低下させ
ることができ、同時に曹内の汚れが付着をも防止するこ
とができるものであって、環境保全に寄与するところ大
である。
溶剤の濃度を、現時点で適用される基準である0.1ppmを
大きく下回る程度に、しかも長期間にわたって低下させ
ることができ、同時に曹内の汚れが付着をも防止するこ
とができるものであって、環境保全に寄与するところ大
である。
又、上記のように本発明浄化装置は処理能力が高いの
で、その運転時間を大幅に短縮することが可能であり、
経済性にも優れている。
で、その運転時間を大幅に短縮することが可能であり、
経済性にも優れている。
図は本発明浄化装置の実施の一例を概念的に示す側面図
である。 １……曹、２……仕切り板２、３……排水導入パイプ、
４……連結パイプ、５……排出パイプ、６……ばっ気パ
イプ、７……蒸気パイプ、８……温度計、９……排気
口、10……バイオセラミック
である。 １……曹、２……仕切り板２、３……排水導入パイプ、
４……連結パイプ、５……排出パイプ、６……ばっ気パ
イプ、７……蒸気パイプ、８……温度計、９……排気
口、10……バイオセラミック
Claims (3)
- 【請求項１】排水を貯留するための曹と、該曹の下部付
近に配設された気体放出手段と、該曹の下部付近に配設
された加熱手段と、上記気体放出手段の上方に配設され
た遠赤外線発生手段とよりなることを特徴とする排水の
浄化装置。 - 【請求項２】遠赤外線発生手段はバイオセラミックであ
る請求項１に記載の排水の浄化装置。 - 【請求項３】排水を貯留するための曹を複数備え、一の
曹で処理した排水を順次他の曹に導入するようにした請
求項１に記載の排水の浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2245421A JPH0796112B2 (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 排水の浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2245421A JPH0796112B2 (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 排水の浄化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04126584A JPH04126584A (ja) | 1992-04-27 |
| JPH0796112B2 true JPH0796112B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=17133408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2245421A Expired - Lifetime JPH0796112B2 (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 排水の浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796112B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61133108A (ja) * | 1984-12-03 | 1986-06-20 | Sanyo Electric Co Ltd | ドライクリ−ナの排水浄化装置 |
| JPH0639834Y2 (ja) * | 1988-12-16 | 1994-10-19 | 三菱重工業株式会社 | 排水浄化装置 |
-
1990
- 1990-09-14 JP JP2245421A patent/JPH0796112B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04126584A (ja) | 1992-04-27 |
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