JPH0796709B2 - 真空処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空処理装置に係り、特に被処理物に薄膜を形
成する成膜処理または被処理物の薄膜を除去するエッチ
ング処理を行う真空処理装置に関する。

〔従来の技術〕

この種の真空処理装置は、従来から光学分野など種々の
分野で広く使用されている。近年は電子部品の小形化・
微細化及び軽量化の要求に伴い電子部品に薄膜加工が多
く施され、このため、電子部品の加工にも真空処理装置
が使用されるようになってきている。

この真空処理装置は一般に薄膜加工すべき電子部品等を
多数取付けたホルダーを真空容器内のホルダー取付用治
具に複数個装着し真空容器内を真空化した後、スパッタ
リング等の真空処理を行う。この後に真空容器から処理
されたホルダーを取出した後に新たなホルダーを装着す
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、従来の真空処理装置ではホルダー取付用治具
へのホルダーの取付け・取外し作業は、複数のホルダー
を取付用治具から取外した後に新たな複数のホルダーを
取付用治具に取付けるという時系列作業であるため、多
くの時間を要し、真空処理作業の効率を低下させてい
た。更に、ホルダー取付用治具が真空容器内にあるた
め、真空処理装置の保守点検の作業性が非常に悪いとい
う問題も存在していた。

そこで、本発明の目的は被処理物を極めて迅速かつ容易
に真空容器に着脱できると共に保守点検作業が簡単であ
る真空処理装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

この目的を達成するために本発明は、一側部に開口部を
有する真空容器と；上記真空容器の開口部を閉塞した第
１位置とそこから離れた第２位置との間を往復移動され
る往復動支持台と；一対の平面部を有し、これらの一対
の平面部が択一的に上記開口部に対向するように上記往
復支持台に回転可能に支持され、上記往復動支持台が上
記第１位置の時に、上記開口部に対向している平面部が
上記開口部を接触遮蔽して上記真空容器を密閉し、上記
往復動支持台が上記第２位置の時には上記両平面部とも
上記開口部から離間する遮蔽部材と；上記遮蔽部材の両
平面部から夫々突出するようにかつ上記遮蔽部材と同一
回転中心でもってそれと一体に回転するように上記往復
動支持台に支持された一対の支持アームと；上記一対の
支持アームの各先端部に取付けられ、被処理物を保持す
る一対の取付治具とを具備し、上記往復動支持台が上記
第１位置の時に、上記一対の取付治具はその一方が上記
真空容器内に位置し、他方が上記真空容器外に位置する
ものである。

また、上記構成にあっては上記取付治具が上記支持具に
対して自転可能であり、上記往復動支持台がレール上を
往復走行することが好ましい。

更に、上記遮蔽部材が互いに離間しかつ平行に配置され
た一対の平板から構成されることが望ましい。

〔作 用〕

一対の取付具の一方に被処理物を取付けて往復動支持台
を第１位置に移動することによってこの一方の取付具を
真空容器内に収容すると共に遮蔽部材によって真空容器
を密閉する。この後に真空容器を真空化して所定の真空
処理を行う。この間に真空容器外の他方の取付具に被処
理物を取付けておき、上記真空処理が終了したら、往復
動支持台を第２位置に移動し次いで遮蔽部材と支持具と
を一体に回転して上記他方の取付具を真空容器の開口部
に対向させる。この後に往復動支持台を再び第１位置に
移動し、この他方の取付具を真空容器内に収容して上述
と全く同様に真空処理を行う。この間に真空容器外の上
記一方の取付具から処理済の被処理物を取外すと共に新
たな被処理物を取付ける。以上の操作が繰返し行われ
る。

〔実施例〕

以下に本発明による真空処理装置の実施例を図面を参照
して説明する。

第１図及び第２図において、床１には制御器等を内蔵す
る載置部２が固定され、この載置部２には真空容器３が
固定的に載置されている。この真空容器３は一側部に開
口部４が穿設されており、この開口部４を形成する真空
容器３の外壁はフランジ3aとして形成され、このフラン
ジ3aにはパッキング５が固着されている。また別の側部
にはポンプ接続用孔６が穿設され、このポンプ接続用孔
６は図示を省略した排気用のポンプに接続されている。

真空容器３には一個以上のスパッター源７が取付けら
れ、このスパッター源７は載置部２の制御器によって制
御される。また真空容器３にはガス導入管８が接続さ
れ、このガス導入管８にはガス導入弁９及び流量調節器
10が夫々取付けられている。

床１には一対のレール11が設置され、この一対のレール
11には車輪12を介して往復動支持台13が載置されてい
る。この往復動支持台13はレール11上を真空容器３に接
近した第１位置とそれから離れた第２位置との間で往復
移動される。往復動支持台13には、下部及び上部フラン
ジ14a,14bを具備する回転軸14が回転可能にかつ鉛直方
向に取付けられ、この上部フランジ14bには一対の平板
状の遮蔽板15A,15Bが固着されている。これらの遮蔽板1
5A,15Bは、一定の間隙を隔てて平行に対向しており、往
復動支持台13が第１位置に移動した時にパッキング５と
当接して真空容器３の開口部４を遮蔽できるように定め
られている。

各遮蔽板15A,15Bの下部には支持アーム16A,16Bが遮蔽板
の面に垂直に突設され、各支持アーム16A,16Bの先端部
には被処理物取付治具17A,17Bが支持軸18A,18Bによって
自転可能に支持されている。これらの取付治具17A,17B
は外形が円筒形であり、その外周には処理すべき電子部
品等の被処理物を多数保持するホルダー19が複数個取付
けられる。取付治具17A及び17Bは、往復動支持台13が第
１位置に移動した時に各スパッター源７からほぼ一定間
隔隔てて位置するように、その径と遮蔽板15A,15Bから
の突出量とが定められている。

次にこの実施例の作用を説明する。

第１図及び第２図では往復動支持台13が第１位置に位置
し遮蔽板15Aがパッキング５と当接して真空容器３の開
口部４を遮蔽している。真空容器３内の取付治具17Aの
周囲には、電子部品等の被処理物を多数保持したホルダ
ー19が複数枚取付けられている。真空容器３はポンプ接
続用孔６を介して図示した省略した排気用のポンプによ
って真空排気された後に、ガス導入管８からガス導入弁
９と流量調節器10とを介してアルゴンガス等の真空処理
ガスが導入されている。この状態でスパッター源７が載
置部２の制御器によって活性化され被処理物にスパッタ
リングが行われる。このスパッタリングの間、取付治具
17Aは薄膜が被処理物に均一に形成されるように自転さ
れている。

スパッタリングが終了すると、往復動支持台13が第２位
置に移動されて取付治具17Aが真空容器３の外に取出さ
れ、次いで遮蔽板15A,15Bと支持具16A,16Bと取付治具17
A及び17Bとが180゜回転される。この後直ちに、往復動
支持台13が第１位置に移動されて、遮蔽板15Bによって
真空容器３の開口部４を遮蔽すると同時に取付治具17B
を真空容器３内に収容する。この取付治具17Bの周囲に
は被処理物を多数保持したホルダー19が、上述のスパッ
タリング処理の間に取付けられている。この後、真空容
器３が真空排気されかつ真空処理ガスが導入されて、ス
パッタリングが行われる。

この間に、真空容器３の外の取付治具17Aは処理済のホ
ルダー19が取外されると共に新たな被処理物を保持した
ホルダー19が取付けられる。取付治具17Bの被処理物に
ついてスパッタリング処理が終了すると、再び往復動支
持台13が第２位置に移動されて取付治具17Bが真空容器
３の外に取出され、上述の操作が繰返される。

こうして、一方の取付治具の被処理物が真空容器内で真
空処理されている間に、他方の取付治具は真空容器外に
おいて処理済の被処理物の取外し及び新たな被処理物の
取付けが行われるので、被処理物の取外し及び取付けの
時間を実質的に零にすることができる。

なお、取付治具17A,17Bを自転させるモータは各取付治
具の内部自体または支持アーム16A,16Bに設置すること
ができ、遮蔽板15Aと15Bとの間の間隙には取付治具17A
及び17Bの操作に使用する制御装置等、例えば上記モー
タの制御器等を設置することができる。

また、往復動支持台13の移動及び取付治具17A,17B等の1
80゜の回転は手動駆動でもよいし、モータ駆動によるこ
ともできる。更に、取付治具17A,17B等の回転量は上記
実施例のように180゜が操作性の点で最適であるが、一
方の取付治具が真空容器内に位置する時に他方の取付治
具が真空容器外に位置するような位置関係を満足できる
ならば、必ずしも180゜に限られるものではない。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、一方の
取付治具の被処理物が真空容器内で真空処理されている
間に、真空容器外の他方の取付治具について処理済の被
処理物の取外し及び新たな被処理物の取付けが行われる
ので、被処理物の取外し及び取付けの時間を実質的に零
にすることができる。また、往復動支持台の往復移動に
よって真空容器への取付治具の収容と真空容器の遮蔽と
真空容器からの取付治具の取出しとが行われ、更に取付
治具の回転によって取付治具の交替が行われるため、真
空処理操作が簡便かつ迅速に行うことができる。

また、取付治具を真空容器外に取出すことができるた
め、真空処理装置の保守点検が極めて容易となる。更
に、取付治具への被処理物の取付け・取外しは真空容器
外の所定位置、即ち往復動支持台の第２位置で行われる
ため、作業性がよく、自動化も図り易い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による真空処理装置の一実施例の一部断
面平面図、第２図は同正面図である。 ３……真空容器、４……開口部、11……レール、13……
往復動支持台、15……遮蔽部材、16……支持アーム、17
……取付治具。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/3065 21/31 Ｄ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一側部に開口部を有する真空容器と；上記
   真空容器の開口部を閉塞した第１位置とそこから離れた
   第２位置との間を往復移動される往復動支持台と；一対
   の平面部を有し、これらの一対の平面部が択一的に上記
   開口部に対向するように上記往復動支持台に回転可能に
   支持され、上記往復動支持台が上記第１位置の時に、上
   記開口部に対向している平面部が上記開口部を接触遮蔽
   して上記真空容器を密閉し、上記往復動支持台が上記第
   ２位置の時には上記両平面部とも上記開口部から離間す
   る遮蔽部材と；上記遮蔽部材の両平面部から夫々突出す
   るようにかつ上記遮蔽部材と同一回転中心でもってそれ
   と一体に回転するように上記往復動支持台に支持された
   一対の支持アームと；上記一対の支持アームの各先端部
   に取付けられ、被処理物を保持する一対の取付治具とを
   具備し、上記往復動支持台が上記第１位置の時に、上記
   一対の取付治具はその一方が上記真空容器内に位置し、
   他方が上記真空容器外に位置することを特徴とする真空
   処理装置。
2. 【請求項２】上記取付治具は上記支持アームに対して自
   転可能であり、上記往復動支持台はレール上を往復走行
   することを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
3. 【請求項３】上記遮蔽部材は互いに離間しかつ平行に配
   置された一対の平板から構成されることを特徴とする請
   求項１記載の真空処理装置。