JPH0796784B2 - ケーソン工法 - Google Patents
ケーソン工法Info
- Publication number
- JPH0796784B2 JPH0796784B2 JP63247517A JP24751788A JPH0796784B2 JP H0796784 B2 JPH0796784 B2 JP H0796784B2 JP 63247517 A JP63247517 A JP 63247517A JP 24751788 A JP24751788 A JP 24751788A JP H0796784 B2 JPH0796784 B2 JP H0796784B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- caisson
- ground
- bubbles
- water
- mixed layer
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 この発明は、ケーソン工法におけるケーソンの周面摩擦
を低減する方法に関する。
を低減する方法に関する。
《従来の技術》 周知のように、橋脚などの基礎の構築工法の一種として
ケーソン工法があり、この工法では、筒状ないしは箱状
の構造物を地盤中の支持層まで沈設し、荷重を地盤に伝
達させる。
ケーソン工法があり、この工法では、筒状ないしは箱状
の構造物を地盤中の支持層まで沈設し、荷重を地盤に伝
達させる。
この種のケーソン工法は、オープンケーソン工法とニュ
ーマチックケーソン工法とに大別され、一般的には、ケ
ーソン先端の地盤を掘削したときに、その自重だけで沈
下させることが難しいので、水，土砂，鋼材等の荷重を
載荷することで沈設される。
ーマチックケーソン工法とに大別され、一般的には、ケ
ーソン先端の地盤を掘削したときに、その自重だけで沈
下させることが難しいので、水，土砂，鋼材等の荷重を
載荷することで沈設される。
ところで、このようなケーソン工法では、沈設途中でケ
ーソンの外周面と地盤との周面摩擦が過大になって、荷
重を載荷してもその沈設ができない状態が発生する。
ーソンの外周面と地盤との周面摩擦が過大になって、荷
重を載荷してもその沈設ができない状態が発生する。
このような状態が発生したときに、従来、ケーソンの外
周面と地盤との間に空気あるいは水をジェット噴射させ
る方法、ベントナイトを注入する方法が採用されてい
た。
周面と地盤との間に空気あるいは水をジェット噴射させ
る方法、ベントナイトを注入する方法が採用されてい
た。
しかしながら、このような周面摩擦低減方法にいずれも
以下に説明する技術的課題があった。
以下に説明する技術的課題があった。
《発明が解決しようとする課題》 すなわち、前者の方法では、ケーソンの側壁に予め配管
を設けておき、この配管を介して空気あるいは水をジェ
ット噴射させるが、空気を噴射する方法では効果を比較
的長時間維持させることができないという問題などがあ
る。
を設けておき、この配管を介して空気あるいは水をジェ
ット噴射させるが、空気を噴射する方法では効果を比較
的長時間維持させることができないという問題などがあ
る。
また、水を噴射する方法では、噴射された水が地盤中に
浸透して、噴射後に水締めが発生し、かえって摩擦力が
大きくなるという問題があり、特に、人工島の中詰土中
にケーソンを沈設する場合は中詰土が緩いため水締めが
容易に発生し、その影響が顕著に現れる。
浸透して、噴射後に水締めが発生し、かえって摩擦力が
大きくなるという問題があり、特に、人工島の中詰土中
にケーソンを沈設する場合は中詰土が緩いため水締めが
容易に発生し、その影響が顕著に現れる。
さらに、後者の方法では、ケーソンを沈設した後にその
外周面と地盤との間にベントナイトが残留するので、施
工後に周面摩擦力が回復せず、ケーソンの安定に悪影響
を及ぼすという問題があった。
外周面と地盤との間にベントナイトが残留するので、施
工後に周面摩擦力が回復せず、ケーソンの安定に悪影響
を及ぼすという問題があった。
この発明はこのような従来の問題点に鑑みてなされたも
のであって、その目的とするところは、水締めを発生さ
せることなく比較的長期間摩擦低減効果が得られるとと
もに、沈設後に簡単に周面摩擦力が回復できるケーソン
工法を提供することにある。
のであって、その目的とするところは、水締めを発生さ
せることなく比較的長期間摩擦低減効果が得られるとと
もに、沈設後に簡単に周面摩擦力が回復できるケーソン
工法を提供することにある。
《問題点を解決するための手段》 上記目的を達成するために、この発明は、ケーソンを地
盤中に沈設する際に、ケーソン外周の地盤中に起泡剤を
含む液体を発泡させて生じる気泡をジェット水とともに
高圧噴射して、前記気泡とケーソン外周の地盤とを撹乱
混合することにより、地盤に前記気泡が混在してなる混
在層をケーソンの外周に形成しつつケーソンを沈設して
行くことを特徴とする。
盤中に沈設する際に、ケーソン外周の地盤中に起泡剤を
含む液体を発泡させて生じる気泡をジェット水とともに
高圧噴射して、前記気泡とケーソン外周の地盤とを撹乱
混合することにより、地盤に前記気泡が混在してなる混
在層をケーソンの外周に形成しつつケーソンを沈設して
行くことを特徴とする。
《作用》 上記構成のケーソン工法によれば、ケーソンの外周面と
接している地盤中に気泡をジェット水とともに高圧噴射
して地盤に気泡が混在した混在層を形成するので、混在
層中の気泡の潤滑作用により、沈設中におけるケーソン
外周面と地盤との間の摩擦力が低減する。
接している地盤中に気泡をジェット水とともに高圧噴射
して地盤に気泡が混在した混在層を形成するので、混在
層中の気泡の潤滑作用により、沈設中におけるケーソン
外周面と地盤との間の摩擦力が低減する。
また、混在層中に混在させられた気泡は、比較的長時間
その状態が維持されるとともに、ケーソンの沈設後これ
が消滅すると、外周の地盤はそのままの位置で土砂単独
の地盤となることにより、ケーソン外周面との間の摩擦
力を回復する。
その状態が維持されるとともに、ケーソンの沈設後これ
が消滅すると、外周の地盤はそのままの位置で土砂単独
の地盤となることにより、ケーソン外周面との間の摩擦
力を回復する。
《実施例》 以下、この発明の好適な実施例について添付図面を参照
にして詳細に説明する。
にして詳細に説明する。
第１図はこの発明にかかるケーソン工法の一実施例を示
している。
している。
同図に示す工法は、この発明をオープンケーソンに適用
した場合を例示しており、ケーソン10は鉄筋コンクリー
ト製であって、下端の刃口部12と、その上部に形成され
た本体部14とから構成されている。
した場合を例示しており、ケーソン10は鉄筋コンクリー
ト製であって、下端の刃口部12と、その上部に形成され
た本体部14とから構成されている。
本体部14は刃口部12の外径よりも小さくなっていて、こ
れらの接続部分に段差部16が形成され、刃口部12の沈下
により本体部14の外周面と周辺地盤との間に間隙を形成
し、本体部14の周面摩擦を低減させるためのフリクショ
ンカット部が形成されるようになっている。
れらの接続部分に段差部16が形成され、刃口部12の沈下
により本体部14の外周面と周辺地盤との間に間隙を形成
し、本体部14の周面摩擦を低減させるためのフリクショ
ンカット部が形成されるようになっている。
本体部14内には、縦方向に沿って延びる一対で１組とな
るジェット水供給通路および気泡供給通路20,22が周方
向に間隔を置いて、例えば、パイプを埋設する方法など
によって形成されている。
るジェット水供給通路および気泡供給通路20,22が周方
向に間隔を置いて、例えば、パイプを埋設する方法など
によって形成されている。
そして、ジェット水供給通路20の上端には、水タンク24
に収容された水を加圧するポンプ26が接続されるととも
に、気泡供給通路22の上端には、発泡器28が接続されて
いる。
に収容された水を加圧するポンプ26が接続されるととも
に、気泡供給通路22の上端には、発泡器28が接続されて
いる。
この発泡器28には、起泡剤水溶液、例えばタンパク系の
起泡剤や界面活性剤を水に溶解したものが供給されると
ともに、この起泡剤水溶液をシェービングクリーム状に
発泡させるエアコンプレッサ30が設置されている。
起泡剤や界面活性剤を水に溶解したものが供給されると
ともに、この起泡剤水溶液をシェービングクリーム状に
発泡させるエアコンプレッサ30が設置されている。
一方、上記ジェット水供給通路20と気泡供給通路22の下
端は、ケーソン10の段差部16に開口する噴射ノズル32に
それぞれ接続されている。
端は、ケーソン10の段差部16に開口する噴射ノズル32に
それぞれ接続されている。
噴射ノズル32は、二重管から構成され、外周部にジェッ
ト水供給通路20が接続されるとともに、中心部に気泡供
給通路22が接続されており、気泡供給通路22を介して供
給されるシェービングクリーム状の気泡Ｂの外周を取り
囲むようにしてジェット水供給通路20からのジェット水
Ａがその先端から高圧噴射される。
ト水供給通路20が接続されるとともに、中心部に気泡供
給通路22が接続されており、気泡供給通路22を介して供
給されるシェービングクリーム状の気泡Ｂの外周を取り
囲むようにしてジェット水供給通路20からのジェット水
Ａがその先端から高圧噴射される。
ケーソン10を沈設するにあたり、噴射ノズル32を介し
て、気泡Ｂとジェット水Ａとが、ケーソン10の外周面に
接している地盤中に向けて高圧噴射される。
て、気泡Ｂとジェット水Ａとが、ケーソン10の外周面に
接している地盤中に向けて高圧噴射される。
噴射ノズル32から上方に向けて高圧噴射された気泡Ｂ
は、ジェット水Ａに携行されて撹乱された地盤中に到達
し、その中に混在することにより、ケーソン10の外周に
は地盤と気泡との混在層18が形成される。
は、ジェット水Ａに携行されて撹乱された地盤中に到達
し、その中に混在することにより、ケーソン10の外周に
は地盤と気泡との混在層18が形成される。
地盤中に気泡Ｂが混在させられると、その潤滑作用によ
り、ケーソン10の外周面とこれの外周の地盤すなわち混
在層18との間の摩擦力が低減するのでケーソン10を簡単
に沈下させることが可能になる。
り、ケーソン10の外周面とこれの外周の地盤すなわち混
在層18との間の摩擦力が低減するのでケーソン10を簡単
に沈下させることが可能になる。
また、混在層18中に混在させられた気泡Ｂは、比較的長
時間その状態が維持されるとともに、ケーソンの沈下が
終了して所定時間経過後に気泡Ｂが消滅するとケーソン
10の外周面とこれの外周の地盤との間には、残留物がほ
とんどないので、摩擦力は元の状態にほぼ完全に回復す
る。
時間その状態が維持されるとともに、ケーソンの沈下が
終了して所定時間経過後に気泡Ｂが消滅するとケーソン
10の外周面とこれの外周の地盤との間には、残留物がほ
とんどないので、摩擦力は元の状態にほぼ完全に回復す
る。
なお、上記実施例では、気泡Ｂとジェット水Ａとを噴射
ノズル32で混合して高圧噴射する方法を示したが、これ
らを別々のノズルで噴射しても良く、この場合には、気
泡Ｂをジェット水Ａの噴射前に高圧噴射する方が望まし
い。
ノズル32で混合して高圧噴射する方法を示したが、これ
らを別々のノズルで噴射しても良く、この場合には、気
泡Ｂをジェット水Ａの噴射前に高圧噴射する方が望まし
い。
また、本体部14は、予め製作したものを順次刃口部12上
に組み立てる方法と、現場でこれを構築する方法のいず
れでも良い。
に組み立てる方法と、現場でこれを構築する方法のいず
れでも良い。
さらに、噴射ノズル32の設置位置は、ケーソン10の段差
部16だけでなく、本体部14の外周面に設けておいても良
い。
部16だけでなく、本体部14の外周面に設けておいても良
い。
《発明の効果》 以上実施例で説明したように、この発明にかかるケーソ
ン工法によれば、ケーソンの沈設中は混在層に含まれる
気泡の潤滑作用によりケーソン外周面と混在層との摩擦
力を低減してケーソンの沈下をスムーズに行なわしめる
とともに、ケーソンの沈設後は混在層内の気泡が消滅す
ることによりケーソンとこれの外周の地盤との間の摩擦
力が回復して、沈設したケーソンを安定して機能させる
ことができる。
ン工法によれば、ケーソンの沈設中は混在層に含まれる
気泡の潤滑作用によりケーソン外周面と混在層との摩擦
力を低減してケーソンの沈下をスムーズに行なわしめる
とともに、ケーソンの沈設後は混在層内の気泡が消滅す
ることによりケーソンとこれの外周の地盤との間の摩擦
力が回復して、沈設したケーソンを安定して機能させる
ことができる。
第１図は本発明方法の一実施例の施工状態を示す断面図
である。 10……ケーソン、12……刃口部 14……本体部、18……混在層 Ａ……ジェット水、Ｂ……気泡
である。 10……ケーソン、12……刃口部 14……本体部、18……混在層 Ａ……ジェット水、Ｂ……気泡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−16733（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−27015（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−51528（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】ケーソンを地盤中に沈設する際に、ケーソ
ン外周の地盤中に起泡剤を含む液体を発泡させて生じる
気泡をジェット水とともに高圧噴射して、前記気泡とケ
ーソン外周の地盤とを撹乱混合することにより、地盤に
前記気泡が混在してなる混在層をケーソンの外周に形成
しつつケーソンを沈設して行くことを特徴とするケーソ
ン工法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247517A JPH0796784B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ケーソン工法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247517A JPH0796784B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ケーソン工法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0296023A JPH0296023A (ja) | 1990-04-06 |
| JPH0796784B2 true JPH0796784B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=17164662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63247517A Expired - Lifetime JPH0796784B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ケーソン工法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796784B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03100231A (ja) * | 1989-09-13 | 1991-04-25 | Shimizu Corp | ケーソン工法 |
| JP4886894B1 (ja) * | 2010-12-06 | 2012-02-29 | 横浜ライト工業株式会社 | 埋設杭の引抜き方法、及び発泡水生成装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4927015A (ja) * | 1972-07-07 | 1974-03-11 | ||
| JPS5616733A (en) * | 1979-07-20 | 1981-02-18 | Takuo Mochizuki | Caisson method |
| JPS6351528A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-04 | Aoki Kensetsu:Kk | ケ−ソンの沈設工法 |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP63247517A patent/JPH0796784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0296023A (ja) | 1990-04-06 |
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