JPH0797204A - フラーレンススの回収装置 - Google Patents
フラーレンススの回収装置Info
- Publication number
- JPH0797204A JPH0797204A JP5264180A JP26418093A JPH0797204A JP H0797204 A JPH0797204 A JP H0797204A JP 5264180 A JP5264180 A JP 5264180A JP 26418093 A JP26418093 A JP 26418093A JP H0797204 A JPH0797204 A JP H0797204A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- fullerence
- umbrella
- torch
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 短時間に多量のフラーレンススを高い収率で
回収できる回収装置を提供する。 【構成】 黒鉛を減圧インダクションプラズマトーチ1
内で高温プラズマ炎25にて加熱し、気化させる。急冷
流体を通すパイプ32を巻回した熱伝導性の良好な傘3
1をトーチ1の下部の設け、この傘を冷却し、気化させ
た蒸気を傘12に付着させて、フラーレンススを形成し
回収する。
回収できる回収装置を提供する。 【構成】 黒鉛を減圧インダクションプラズマトーチ1
内で高温プラズマ炎25にて加熱し、気化させる。急冷
流体を通すパイプ32を巻回した熱伝導性の良好な傘3
1をトーチ1の下部の設け、この傘を冷却し、気化させ
た蒸気を傘12に付着させて、フラーレンススを形成し
回収する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、インダクションプラ
ズマ溶射装置を用いて炭素を溶解し、急冷流体の導入に
よってフラーレンススを抽出し、このフラーレンススを
回収する装置に関するものである。
ズマ溶射装置を用いて炭素を溶解し、急冷流体の導入に
よってフラーレンススを抽出し、このフラーレンススを
回収する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】炭素黒鉛を溶解し、2000℃程度から
1秒以内に103〜104以上の温度で急冷すると、C6
0,C70のようなフラーレンに変態することが知られ
ている。このようなフラーレンを低温CVD法で得よう
としても多量のフラーレンを得ることができなかった。
又、直流プラズマ法により炭素粉体を溶射しフラーレン
を抽出させようとする場合、直流プラズマは電極にさら
されており、その電極の材料がプラズマ中に存在し、高
純度のフラーレンを得るには不都合であった。
1秒以内に103〜104以上の温度で急冷すると、C6
0,C70のようなフラーレンに変態することが知られ
ている。このようなフラーレンを低温CVD法で得よう
としても多量のフラーレンを得ることができなかった。
又、直流プラズマ法により炭素粉体を溶射しフラーレン
を抽出させようとする場合、直流プラズマは電極にさら
されており、その電極の材料がプラズマ中に存在し、高
純度のフラーレンを得るには不都合であった。
【0003】そこで、本発明者たちは、特願平4−19
6189号において、インダクションプラズマ溶射装置
のプラズマ炎内に黒鉛粉体をキャリアガスとともにキャ
リアガス導入管から投入して溶融させたのち、プラズマ
炎の設定温度に応じて設けた急冷流体導入管から急冷流
体を生成管内の溶融物に投入し、下部に設けた受け皿に
フラーレンを回収する抽出方法を提案した。
6189号において、インダクションプラズマ溶射装置
のプラズマ炎内に黒鉛粉体をキャリアガスとともにキャ
リアガス導入管から投入して溶融させたのち、プラズマ
炎の設定温度に応じて設けた急冷流体導入管から急冷流
体を生成管内の溶融物に投入し、下部に設けた受け皿に
フラーレンを回収する抽出方法を提案した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者等が
特願平4−196189号で提案したものは、プラズマ
炎に多量の黒鉛を投入することができ、短時間に多量の
フラーレンを回収することができたが、回収されるフラ
ーレンの収率は1.5〜2%どまりであった。
特願平4−196189号で提案したものは、プラズマ
炎に多量の黒鉛を投入することができ、短時間に多量の
フラーレンを回収することができたが、回収されるフラ
ーレンの収率は1.5〜2%どまりであった。
【0005】この発明は、短時間に多量のフラーレンス
スを高い収率で回収できる回収装置を提案するものであ
る。
スを高い収率で回収できる回収装置を提案するものであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は黒
鉛を減圧インダクションプラズマトーチ内で高温プラズ
マ炎にて加熱し気化させ、気化した蒸気を急冷させてフ
ラーレンススとして回収するフラーレンススの回収装置
であって、上記トーチの下部に熱伝導性の良好な金属材
で構成され、急冷流体を通すパイプを巻回した傘を設け
たものである。
鉛を減圧インダクションプラズマトーチ内で高温プラズ
マ炎にて加熱し気化させ、気化した蒸気を急冷させてフ
ラーレンススとして回収するフラーレンススの回収装置
であって、上記トーチの下部に熱伝導性の良好な金属材
で構成され、急冷流体を通すパイプを巻回した傘を設け
たものである。
【0007】
【作用】この発明のフラーレンススの回収装置では、減
圧インダクションプラズマトーチと、それに連接する減
圧処理室を用い、この処理室を不活性ガスで置換してお
いて、トーチにキャリアガスとともに黒鉛を高温プラズ
マ炎で加熱気化させ、トーチ下部に設けた傘に巻回させ
たパイプに急冷流体を投入して傘を冷却し、加熱気化し
た蒸気を傘に接着させることにより傘にフラーレンスス
を付着させる。
圧インダクションプラズマトーチと、それに連接する減
圧処理室を用い、この処理室を不活性ガスで置換してお
いて、トーチにキャリアガスとともに黒鉛を高温プラズ
マ炎で加熱気化させ、トーチ下部に設けた傘に巻回させ
たパイプに急冷流体を投入して傘を冷却し、加熱気化し
た蒸気を傘に接着させることにより傘にフラーレンスス
を付着させる。
【0008】
【実施例】以下、この発明を実施例により詳細に説明す
るが、それに先立ってこの発明で使用する減圧インダク
ションプラズマトーチとそれに連接する処理室を示す図
1について説明する。図において、1は窒化硅素焼結体
を素材として組み立てられた減圧インダクションプラズ
マトーチであり、2はこのトーチ1の下方に連接して設
けれている減圧処理室である。
るが、それに先立ってこの発明で使用する減圧インダク
ションプラズマトーチとそれに連接する処理室を示す図
1について説明する。図において、1は窒化硅素焼結体
を素材として組み立てられた減圧インダクションプラズ
マトーチであり、2はこのトーチ1の下方に連接して設
けれている減圧処理室である。
【0009】トーチ1は窒化硅素燃結体よりなる外側管
3,中間管4,キャリアガス導入管5及び外側管3を冷
却するための耐熱ガラス製の冷却管6と、この冷却管6
の外周に配置した高周波導入コイル13とから構成され
ている。そして、上記外側管3の下端はトーチ1下方に
連接して設けられた減圧処理室2内に臨むように、上記
外側管3の下方をトーチ支持下部フランジ7及びそれに
係合する外側管支持下部リング9のOリング10にて支
持されており、また外側管3の上端はトーチ支持上部フ
ランジ17に係合し、この上部フランジ17下部に固定
されている外側管支持上部リング16に支持されてい
て、上記トーチ支持下部フランジ7と上部フランジ17
にロッド棒14を嵌入し、螺着固定されている。
3,中間管4,キャリアガス導入管5及び外側管3を冷
却するための耐熱ガラス製の冷却管6と、この冷却管6
の外周に配置した高周波導入コイル13とから構成され
ている。そして、上記外側管3の下端はトーチ1下方に
連接して設けられた減圧処理室2内に臨むように、上記
外側管3の下方をトーチ支持下部フランジ7及びそれに
係合する外側管支持下部リング9のOリング10にて支
持されており、また外側管3の上端はトーチ支持上部フ
ランジ17に係合し、この上部フランジ17下部に固定
されている外側管支持上部リング16に支持されてい
て、上記トーチ支持下部フランジ7と上部フランジ17
にロッド棒14を嵌入し、螺着固定されている。
【0010】外側管3の外側には、外側管3を冷却する
ための冷却水送通路となる間隙を有して冷却管6が、そ
の下方を外側管支持下部リング9上に固定された絶縁リ
ング11にOリング12でシールされ、上方は外側管支
持上部リング16下方にOリングと締結具15cによっ
て固定されている冷却管支持リング15に支持されてい
る。中間管4及びキャリアガス導入管5は上部が順次夫
々の支持リング19,20,21とOリング19e,2
0e,20f,21b及び締結具19f,20d,21
aにて支持、シールされ、これらの支持リングは互いに
係合螺着されている。
ための冷却水送通路となる間隙を有して冷却管6が、そ
の下方を外側管支持下部リング9上に固定された絶縁リ
ング11にOリング12でシールされ、上方は外側管支
持上部リング16下方にOリングと締結具15cによっ
て固定されている冷却管支持リング15に支持されてい
る。中間管4及びキャリアガス導入管5は上部が順次夫
々の支持リング19,20,21とOリング19e,2
0e,20f,21b及び締結具19f,20d,21
aにて支持、シールされ、これらの支持リングは互いに
係合螺着されている。
【0011】そして、キャリアガス導入管5と中間管4
との間のプラズマガス送入路にはキャリアガス導入管支
持リング20に設けたプラズマガス導入口20cに接続
したプラズマガス導入管20gからプラズマガスが、中
間管4と外側管3の間のシースガス送入路には中間管支
持リング19に設けたシースガス導入口19cに接続し
たシースガス導入管19dからシースガスが夫々導入さ
れるようになっている。又、外側管3冷却のための冷却
水は外側管支持下部リング9に設けた冷却水導入口9c
から外側管3と冷却管6の間に送られ、外側管3を冷却
して外側管支持上部リング16に設けた冷却水排水口1
6cから外部に排水されるようになっている。
との間のプラズマガス送入路にはキャリアガス導入管支
持リング20に設けたプラズマガス導入口20cに接続
したプラズマガス導入管20gからプラズマガスが、中
間管4と外側管3の間のシースガス送入路には中間管支
持リング19に設けたシースガス導入口19cに接続し
たシースガス導入管19dからシースガスが夫々導入さ
れるようになっている。又、外側管3冷却のための冷却
水は外側管支持下部リング9に設けた冷却水導入口9c
から外側管3と冷却管6の間に送られ、外側管3を冷却
して外側管支持上部リング16に設けた冷却水排水口1
6cから外部に排水されるようになっている。
【0012】トーチ支持下部フランジ7の下部にプラズ
マ炎25のアース防止絶縁リング8がビス8cにより固
定されている。又、この絶縁リング8には30〜90度
に開いたステンレス又は銅製の傘が締結具又は接着によ
り取り付けられている。この傘の外縁に沿ってステンレ
ス又は銅製のパイプ32が数回巻回されて、その両端は
減圧処理室2から取り出されている。なお、35は受け
皿である。
マ炎25のアース防止絶縁リング8がビス8cにより固
定されている。又、この絶縁リング8には30〜90度
に開いたステンレス又は銅製の傘が締結具又は接着によ
り取り付けられている。この傘の外縁に沿ってステンレ
ス又は銅製のパイプ32が数回巻回されて、その両端は
減圧処理室2から取り出されている。なお、35は受け
皿である。
【0013】上記のような構造の減圧インダンションプ
ラズマトーチを用いて、この発明のフラーレンスス回収
は次のようにして行われる。まず、トーチ1下方に連接
する減圧処理室2内にステンレス,銅などの熱伝導率の
良好な金属製の傘31,パイプ32及び受け皿35をセ
ットし、減圧処理室2内を100Torr以下の真空雰
囲気としたのち、プラズマガス導入管20g,シースガ
ス導入管19d,キャリアガス導入管5からアルゴンガ
スを注入し、減圧処理室2内をアルゴンガスに置換す
る。そして、パイプ32の急冷流体導入部33から水又
は液体窒素等の流体を投入しつつ、トーチ1のプラズマ
ガス導入管20gからキャリアガス導入管5と中間管4
との間にアルゴンガス等のプラズマガスを5リッター/
分で供給し、シースガス導入管19dから中間管4と外
側管3との間にアルゴンガス等のシースガスを20リッ
ター/分で供給し、さらにキャリアガス導入管5からア
ルゴンガスのようなキャリアガスとともに粒径が5〜2
0μmの黒鉛を1〜2g/分で供給する状態で高周波誘
導コイル13に5kw,13.56MHzの高周波電力
を印加すると、左右にバランスのとれた正常な1000
0Kの高温のプラズマ炎25が発生し、供給された黒鉛
が加熱され、気化した蒸気がプラズマ炎25とともにト
ーチ1下方の減圧処理室2に送られる。
ラズマトーチを用いて、この発明のフラーレンスス回収
は次のようにして行われる。まず、トーチ1下方に連接
する減圧処理室2内にステンレス,銅などの熱伝導率の
良好な金属製の傘31,パイプ32及び受け皿35をセ
ットし、減圧処理室2内を100Torr以下の真空雰
囲気としたのち、プラズマガス導入管20g,シースガ
ス導入管19d,キャリアガス導入管5からアルゴンガ
スを注入し、減圧処理室2内をアルゴンガスに置換す
る。そして、パイプ32の急冷流体導入部33から水又
は液体窒素等の流体を投入しつつ、トーチ1のプラズマ
ガス導入管20gからキャリアガス導入管5と中間管4
との間にアルゴンガス等のプラズマガスを5リッター/
分で供給し、シースガス導入管19dから中間管4と外
側管3との間にアルゴンガス等のシースガスを20リッ
ター/分で供給し、さらにキャリアガス導入管5からア
ルゴンガスのようなキャリアガスとともに粒径が5〜2
0μmの黒鉛を1〜2g/分で供給する状態で高周波誘
導コイル13に5kw,13.56MHzの高周波電力
を印加すると、左右にバランスのとれた正常な1000
0Kの高温のプラズマ炎25が発生し、供給された黒鉛
が加熱され、気化した蒸気がプラズマ炎25とともにト
ーチ1下方の減圧処理室2に送られる。
【0014】この時、減圧処理室2の入口ではプラズマ
炎25の温度は2000℃以上の高温となっており、減
圧処理室内では気化した蒸気が浮遊し、冷却された傘に
接触して蒸気は急冷され、フラーレンススとして傘の内
壁に付着する。又、傘に接触しなかった蒸気は、受け皿
35に黒鉛として堆積する。そして、傘に付着したフラ
ーレンススは、作業が終わった後、刷毛などによって回
収される。このとき、回収されたフラーレンススは収率
が7〜10%であった。
炎25の温度は2000℃以上の高温となっており、減
圧処理室内では気化した蒸気が浮遊し、冷却された傘に
接触して蒸気は急冷され、フラーレンススとして傘の内
壁に付着する。又、傘に接触しなかった蒸気は、受け皿
35に黒鉛として堆積する。そして、傘に付着したフラ
ーレンススは、作業が終わった後、刷毛などによって回
収される。このとき、回収されたフラーレンススは収率
が7〜10%であった。
【0015】上記の実施例では、傘の外縁に沿ってパイ
プが設けられていたが、傘を内壁と外壁の2重構造と
し、内壁と外壁との間に急冷流体を投入してもよい。
又、傘は下の方が上の方より広いフレア型傘だけでな
く、円筒状及びプラズマ炎に沿って広がるタイト型傘で
あってもよい。
プが設けられていたが、傘を内壁と外壁の2重構造と
し、内壁と外壁との間に急冷流体を投入してもよい。
又、傘は下の方が上の方より広いフレア型傘だけでな
く、円筒状及びプラズマ炎に沿って広がるタイト型傘で
あってもよい。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の減圧イ
ンダクションプラズマトーチを用いて、高温のプラズマ
炎にて黒鉛を加熱気化させ、トーチ下部に設けた冷却さ
れた傘に蒸気を接着させることによって傘にフラーレン
ススを付着させ回収するものであり、短時間に大量のフ
ラーレンススが回収され、その収率も大きい。
ンダクションプラズマトーチを用いて、高温のプラズマ
炎にて黒鉛を加熱気化させ、トーチ下部に設けた冷却さ
れた傘に蒸気を接着させることによって傘にフラーレン
ススを付着させ回収するものであり、短時間に大量のフ
ラーレンススが回収され、その収率も大きい。
【図1】この発明のフラーレンススの回収装置の一実施
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
1 減圧インダクションプラズマトーチ 2 減圧処理室 13 高周波誘導コイル 25 プラズマ炎 31 傘 32 パイプ 33 急冷流体導入口 34 急冷流体排出口 35 受け皿
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 裕康 大阪府大阪市東淀川区淡路2丁目14番3号 株式会社三社電機製作所内
Claims (1)
- 【請求項1】 黒鉛を減圧インダンションプラズマトー
チ内で、高温プラズマ炎にて加熱し気化させ、気化させ
た蒸気を急冷しフラーレンススとして回収するフラーレ
ンススの回収装置において、上記トーチの下部に熱伝導
性の良好な金属材で構成され、急冷流体を通すパイプを
巻回した傘を設けたことを特徴とするフラーレンススの
回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5264180A JPH0797204A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | フラーレンススの回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5264180A JPH0797204A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | フラーレンススの回収装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0797204A true JPH0797204A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17399581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5264180A Pending JPH0797204A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | フラーレンススの回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797204A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH059013A (ja) * | 1991-06-27 | 1993-01-19 | Nec Corp | フラーレン合成装置 |
| JPH05124807A (ja) * | 1991-08-07 | 1993-05-21 | Mitsubishi Kasei Corp | フラーレン類の製造方法 |
| US5227038A (en) * | 1991-10-04 | 1993-07-13 | William Marsh Rice University | Electric arc process for making fullerenes |
-
1993
- 1993-09-28 JP JP5264180A patent/JPH0797204A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH059013A (ja) * | 1991-06-27 | 1993-01-19 | Nec Corp | フラーレン合成装置 |
| JPH05124807A (ja) * | 1991-08-07 | 1993-05-21 | Mitsubishi Kasei Corp | フラーレン類の製造方法 |
| US5227038A (en) * | 1991-10-04 | 1993-07-13 | William Marsh Rice University | Electric arc process for making fullerenes |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4866527B2 (ja) | 昇華精製方法 | |
| JP4795502B2 (ja) | 昇華精製方法及び装置 | |
| JPH07502251A (ja) | フラーレンを製造および分離するための方法および装置 | |
| JPWO2001070364A1 (ja) | 昇華精製方法及び装置 | |
| JP2009242946A (ja) | 金属チタンの製造方法 | |
| EP0614852B1 (fr) | Procédé de préparation du disilane à partir du monosilane par décharge électrique et piégeage cryogénique et réacteur pour sa mise en oeuvre | |
| GB2121441A (en) | Process for upgrading metal powder | |
| JPH0797204A (ja) | フラーレンススの回収装置 | |
| JP2960652B2 (ja) | 高純度金属の精製方法およびその精製装置 | |
| JPH01306510A (ja) | 超微粒子粉末の製造方法の改良 | |
| CN1250701A (zh) | 加热蒸发制备超微粉的方法和设备 | |
| US4897579A (en) | Method of processing materials using an inductively coupled plasma | |
| JPH06299209A (ja) | 磁性材料の粉粒体の生成方法 | |
| CN100500339C (zh) | 一种生产中低熔点金属及氧或氮化物粉末的装置和方法 | |
| JP4231283B2 (ja) | 高純度酸化マグネシウム微粉末の製造装置、及びこれを用いた高純度酸化マグネシウム微粉末の製造方法 | |
| CN1075753C (zh) | 加热蒸发制备超微粉的方法 | |
| JPH06116704A (ja) | シリコン皮膜の形成方法 | |
| JPH01226709A (ja) | 高純度窒化アルミニウム紛末の製造方法 | |
| JP3597893B2 (ja) | 酸化鉄超微粒子およびその製造方法 | |
| JP3907515B2 (ja) | 高純度窒化ケイ素微粉末の製造方法 | |
| JPH04350106A (ja) | 合金組成の超微粒子製造方法 | |
| Manente et al. | Isotopically enriched rolled Cr foils | |
| JP2614790B2 (ja) | 炭素クラスターの製造方法 | |
| JPH0526537B2 (ja) | ||
| JPH08100998A (ja) | 超高真空下で溶解可能なコールドウォール溶解炉と溶解方法 |