JPH0798281A - パターン欠陥検出方法及びパターン欠陥検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明のパターン欠陥検出方法及び装置は、被
検査物上のパターンの高さにばらつきがあり、パターン
エッジにノイズ的な凹凸があっても、多大な悪影響を及
ぼすパターンの欠陥を信頼性が高く高速に検出すること
を目的とする。 【構成】空間フィルタ１２ａ・１２ｂにより設計通りに
正確に形成されたパターンからの全ての光については空
間フィルタ１２ａ・１２ｂを透過できなくする。しか
し、異常を生じているパターンからの光については空間
フィルタ１２ａ・１２ｂを透過して画像センサ３ａ・３
ｂに結像されるが、パターンエッジにはノイズ的な凹凸
を生じていたり、パターンの高さにもばらつきがあるた
めに画像センサ３ａ・３ｂ上にはノイズに近い不規則な
像が現れている。そこで画像センサ３ａ・３ｂの双方の
画像を画像処理装置１４において比較して不良部分を抽
出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明はパターン欠陥検出方法
及び装置に係り、特に半導体ウエハや液晶などの表面に
形成された規則的で微細なパターンの欠陥を検出する方
法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】まず従来のパターン欠陥検出方法におい
て代表的な方法を以下に述べる。第一には昭和63年度精
密工学会春期大会学術講演会論文集のP707〜P708に三菱
電機（株）生産技術研究所の宮崎陽子氏他２名が報告し
ているように空間フィルタ法を用いたパターン欠陥検出
方法がある。以下この方法を第１の従来例と称する。

【０００３】この方法は、半導体集積回路等の規則性パ
ターンからの回折光をレンズによりフーリエ変換して、
このフーリエ変換パターンを写真に記録し、これを空間
フィルタとして用いることによりパターン欠陥からの散
乱光を選択的に透過させることでパターン欠陥検出に応
用できることを利用している。

【０００４】実際には図５に示すような装置を用いて検
出を行う。He-Cd レーザ３２からのレーザ光をミラー３
３、ミラー３４、コリメータ３５、ハーフミラー３６を
介して被検査ウエハ３７に照射し、この像をレンズ３８
で結像し結像位置に置かれたカメラ３９で検出する。そ
して検出された像は画像処理装置４０で認識される。レ
ンズ３８の焦点面にはホログラフィ用写真乾板で作成し
た空間フィルタ４１を設置している。反射物体である被
検査ウエハ３７の反射面が輝くと、空間フィルタ４１上
の記録パターンに対してフーリエ変換パターンがずれて
しまう。このため被測定ウエハ３７上のパターンを除去
し、欠陥のみを選択的に検出するために空間フィルタ４
１上の記録パターンと前記フーリエ変換パターンとを位
置合わせする構造となっている。

【０００５】この装置ではハーフミラー４２によって光
路を分け、回折光の位置と被検査ウエハ３７の位置とを
求めている。回折光の位置はハーフミラー４３によって
光路を分け、空間フィルタ４１に至る光の回折パターン
のうち０次回折光の位置についてカメラ４４により反射
回折パターンから位置検出を行い、１次回折光の位置に
ついてカメラ４５により反射回折パターンから位置検出
を行う。

【０００６】そしてあらかじめ記憶してある空間フィル
タ４１の各次回折光の位置と実際に検出した各次回折光
との位置ずれ量から、光軸に対する煽り角のずれ量と回
転角のずれ量を求めて六軸制御ステージ４６を用いてこ
れを補正する。

【０００７】更に、実際の被検査ウエハ３７の位置はハ
ーフミラー４７によって光路を分けカメラ４８によって
検出している。また第二には「電子材料」誌1984年別冊
のP181〜P188に（株）東芝超LSI 研究所の佐々木貞夫氏
が報告しているように被検査ウエハの検査に対して、こ
の被検査ウエハの製造に用いるマスクパターンの周期性
を利用して１枚のマスク中に存在するチップ中の特定の
２チップの同一箇所を拡大比較し、差異信号を欠陥とし
て認識するものがある。代表例として日本自動制御社の
「5MD-25」やKLA 社の「KLA-101 」などが実用化されて
いる。以下この方法を第２の従来例と称する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記したような構成の
従来のパターン欠陥検出方法では、以下に述べるような
問題点が発生してくる。まず第１の従来例においては、
被検査ウエハ３７の製造工程の不完全さから通常、微細
なパターンはパターンエッジが完全な直線を形成してお
らずノイズ的な凹凸を生じている。また図６に示すよう
な単位領域４９の周辺では、被検査ウエハ３７の製造工
程の不完全さから角が丸くなってしまう。更に光学的な
歪みからも前記の角の光学像が丸くなってしまう。そし
て被検査ウエハ３７上のパターンの高さにもばらつきが
ある。これらのため第１の従来例では欠陥検出の信頼性
が低く、被検査ウエハ３７の特性に多大な悪影響を及ぼ
すパターンエッジの欠陥を検出できなかったり、被検査
ウエハ３７の特性にあまり悪影響を及ぼさない被検査ウ
エハ３７上のパターンの角の丸みや高さのばらつきを欠
陥として検出してしまうことがあった。

【０００９】加えて被検査ウエハ３７を構成しているチ
ップにおける周辺部には規則性の低いパターンが多い
が、この第１の従来例の方法ではこのパターンからの不
規則な回折光をレンズにより集光しフーリエ変換するこ
とが難しくなる。そのため空間フィルタ４１上の記録パ
ターンも不規則となってしまい、検出感度が著しく低下
してしまう。

【００１０】また第２の従来例においては、微細なパタ
ーン上の２ヶ所を比較してパターン欠陥を検出する必要
からパターン上の２ヶ所に高精度に位置決めする必要が
あった。またパターン欠陥を検出するために取り込んだ
画像の画素をパターンの大きさと同様にまできめ細かく
し、正規のパターン以外の欠陥部分のみを検出するため
に複雑な演算が必要となっていた。そのため検査に多大
な時間を要することとなっていた。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記したよう
な技術的課題を解決するためになされたものであり第一
には、板状物体に形成されている規則的パターンの欠陥
を検出するパターン欠陥検出方法において、前記規則的
パターンのフーリエ変換像に空間フィルタをかけた結果
と、前記規則的パターン上の複数箇所での同一パターン
の光学画像を比較した結果とを用いることを特徴とした
パターン欠陥検出方法を提供するものである。

【００１２】第二には板状物体に形成されている規則的
パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出方法におい
て、前記規則的パターン上の奇数箇所且つ複数箇所の光
学画像を比較して、この比較結果が等しく且つ多数を占
める前記規則的パターンを正確な前記規則的パターンと
認定し、この認定結果から欠陥を持つ前記規則的パター
ンを特定することを特徴としたパターン欠陥検出方法を
提供するものである。

【００１３】第三には板状物体に形成されている規則的
パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出装置におい
て、前記規則的パターンの光学像をフーリエ変換する変
換手段と、空間フィルタと、前記規則的パターン上の複
数箇所での同一パターンのの光学画像の比較手段とを具
備し、前記変換手段によるフーリエ変換像に空間フィル
タをかけた結果と、前記比較手段の比較結果とを用いて
パターン欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥
検出装置を提供するものである。

【００１４】第四には板状物体に形成されている規則的
パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出装置におい
て、前記規則的パターン上の奇数箇所且つ複数箇所の光
学画像の比較手段と、この比較手段による比較結果が等
しく且つ多数を占める前記規則的パターンを正確な前記
規則的パターンとする認定手段とを具備し、この認定手
段の認定結果から欠陥を持つ前記規則的パターンを特定
することを特徴としたパターン欠陥検出装置を提供する
ものである。

【００１５】

【作用】本発明のパターン欠陥検出方法は上記したよう
な構成により、被検査物上のパターンの高さにばらつき
があり、パターンエッジにノイズ的な凹凸があっても、
多大な悪影響を及ぼすパターンの欠陥を信頼性が高く高
速に検出するものである。

【００１６】

【実施例】本発明のパターン欠陥検出方法を用いたパタ
ーン検出装置の第１の実施例を図１に示す。図１におい
て被検査物１は半導体ウエハ、液晶パネル、或いはこれ
らを製造するためのマスクなど規則的パターンが形成さ
れているものである。被検査物１は駆動テーブル２に載
置されている。

【００１７】被検査物１に形成されている規則的パター
ンは距離ｌだけ離れたパターン同士が同一パターンにな
るように設計されている。光学系Ａ・Ｂは、被検査物１
上のパターンを投影してそれぞれに対応するセンサ３ａ
およびセンサ３ｂにそれぞれ結像させる（図中の点
線）。

【００１８】なお、光学系Ａの光軸４ａと光学系Ｂの光
軸４ｂとは距離ｌだけ離れている（図中の一点鎖線）。
光学系Ａと光学系Ｂとには、光軸４ａと光軸４ｂとの距
離を距離ｌに一致させるための調整機構（図示せず）が
備えられている。

【００１９】光学系Ａと光学系Ｂでは、規則的パターン
を有する被検査物１が半導体ウエハなどのように不透明
部分しか有しない場合には単色光を発する光源である単
色光源５ａ・５ｂのみを用いる。そして、それらの光を
それぞれハーフミラー７ａ・７ｂによって反射し、レン
ズ６ａ・６ｂを通じて光軸４ａ・４ｂに沿うように被検
査物１に落射照明する（単色光源５ａ・５ｂが起点の図
中の実線）。

【００２０】また、規則的パターンを有する被検査物１
が液晶パネル、半導体マスクやシャドウマスクなどのよ
うに透明部分と不透明部分を有する場合には単色光を発
する光源である単色光源８ａ・８ｂのみを用いる。そし
て、それらの光をそれぞれレンズ９ａ・９ｂによって平
行光にし、その平行光でそれぞれ光軸４ａ・４ｂに沿っ
て被検査物１を透過照明する（単色光源８ａ・８ｂが起
点の図中の実線）。

【００２１】ここで、不透明部分しか有しない被検査物
１のみを扱う場合には単色光源５ａ・５ｂによる照明系
のみを備えていれば良く、透明部分と不透明部分を有す
るパターンを持つ被検査物１のみを扱う場合には単色光
源８ａ・８ｂによる照明系のみを備えていれば良い。

【００２２】更に、単色光源５ａ・５ｂ・８ａ・８ｂは
レーザ光源や或いは、水銀ランプなどの白色光源と干渉
フィルタを組み合わせたものとする。さて、被検査物１
が不透明部分しか有しない場合および被検査物１が透明
部分と不透明部分を有するパターンを持つ場合の双方に
おいて、被検査物１によって反射、透過、散乱、或いは
回折された光１０ａ・１０ｂはレンズ６ａ・６ｂで集光
される。レンズ６ａ・６ｂの焦点位置には空間フィルタ
１２ａ・１２ｂがおかれている。一方、被検査物１の像
を写した光１１ａ・１１ｂが、空間フィルタ１２ａ・１
２ｂを通過してレンズ１３ａ・１３ｂを通ることにより
被検査物１上のパターンが画像センサ３ａ・３ｂの上に
結像される。

【００２３】画像センサ３ａ・３ｂの双方からの画像デ
ータはそれぞれ増幅され両者とも画像処理装置１４に入
力される。画像処理装置１４からの出力は検査結果出力
装置１５に入力される。

【００２４】ここで本実施例の欠陥検出の過程を以下に
示す。まず、被検査物１を単色光で照らすと被検査物１
上の規則的パターンからはそれぞれ回折光が生じる。こ
れらの回折光は０次光を含めてレンズ６ａ・６ｂの焦点
面では規則的な点像に集光される。この現象を光学的に
はパターンのフーリエ変換と称している。

【００２５】この焦点面におかれた空間フィルタ１２ａ
・１２ｂは図２に１２で示されているように、上記の規
則的な点像の生じた位置および光の中心部分（図２で十
字型の部分）のみ不透明になっており、他の部分は透明
になっている。この空間フィルタ１２ａ・１２ｂは、予
め設計通りに正確に形成された規則的パターンを持つ良
品の被検査物１を用いて製作しておく。具体的には被検
査物１上の規則的パターンからの回折光に空間フィルタ
１２ａ・１２ｂを感光させたり、コンピュータを用いて
規則的な点像が集光される部分を不透明にする。

【００２６】この空間フィルタ１２ａ・１２ｂにより設
計通りに正確に形成されたパターンからの全ての光につ
いては空間フィルタ１２ａ・１２ｂを透過できない。し
かし、異常を生じているパターンからの光については空
間フィルタ１２ａ・１２ｂを透過して画像センサ３ａ・
３ｂに結像される。

【００２７】しかし、異常がないと許容される被検査物
１上の規則的微細パターンにも、その製造工程の不完全
さから通常パターンエッジが完全な直線を形成しておら
ずノイズ的な凹凸を生じている。またパターンの高さに
もばらつきがある。そのため画像センサ３ａ・３ｂ上に
はノイズに近い不規則な像が現れている。そこで画像セ
ンサ３ａ・３ｂの双方の画像を以下のような方法で画像
処理装置１４において比較して不良部分を抽出する。

【００２８】(1) 画像センサ３ａ・３ｂの双方の画像を
正確に位置合わせし、両者の光強度の差を演算し、その
差が所定の値Ｃ₁ 以上である場合にその部分を不良と判
断する。ただし所定の値Ｃ₁ の決定は、人間が前もって
設定するかもしくは、画像の強度分布の標準偏差σ₁ の
γ₁ 倍即ち、Ｃ₁ ＝γ₁ σ₁ と自動的に演算して設定さ
れるようにする。ただしここでもγ₁ は人間が前もって
設定することとなる。

【００２９】上記の光強度の差がＣ₁ 以上になったとき
でも不良部分が画像センサ３ａ・３ｂのどちらに捕らえ
られているものなのか判断ができない。そこで上記の光
強度の差がＣ₁ 以上になった時点での位置では双方のパ
ターンにおいて不良部分を有しているとみなして検査結
果出力装置１５で双方のパターン上の位置を表示するこ
ととなる。

【００３０】或いは駆動テーブル２を更にｌだけ移動し
てパターン上の第３の画像と検査済みの画像を比較する
ことも考えられる。この第３の画像と画像センサ３ａ・
３ｂで測定された双方の画像とにおいてそれぞれ再び上
記の光強度の差Ｃ₁ を測定して光強度の差がＣ₁ 以上に
なった前記検査済みの画像部分の位置に不良部分を限定
することができる。

【００３１】(2) 上記の(1) の方法では画像センサ３ａ
・３ｂの双方の画像を正確に位置合わせし、両者の光強
度の差を演算したが、両者の光強度分布の微分値同士の
差を演算しても良い。前記微分値の差が所定の値Ｃ₂ 以
上の場合にその部分を(1)の方法と同じ要領で不良部分
とする。

【００３２】ここで所定の値Ｃ₂ の決定は、人間が前も
って設定するかもしくは、画像の強度分布の標準偏差σ
₂ のγ₂ 倍即ち、Ｃ₂ ＝γ₂ σ₂ と自動的に演算して設
定されるようにする。ただしここでもγ₂ は人間が前も
って設定することとなる。

【００３３】実際には(1) 或いは(2) のいずれかか、も
しくは(1) と(2) とを同時に演算しても良い。上記した
ような構成とすることで第１の従来例のような空間フィ
ルタ法を用いたパターン欠陥検出方法の最大の欠点であ
った信頼性の低さを大きく改善することができる。

【００３４】また第２の従来例のような被検査ウエハの
製造に用いるマスクパターンの周期性を利用して１枚の
マスク中に存在するチップ中の特定の２チップの同一箇
所を拡大比較し、差異信号を欠陥として認識するものに
おいては、非常に正確な位置決めが必要となるが、上述
した方法によると空間フィルタ１２ａ・１２ｂを透過す
る時点で設計通りに正確に形成されたパターンからの全
ての光についてはほとんど存在しないので、パターン欠
陥を検出するために取り込んだ画像の画素をパターンの
大きさと同様にまできめ細かくする必要がなくなった。
この画素が大きいので位置合わせの精度も従来のように
高精度にする必要もない。

【００３５】ここで、被検査ウエハ２１を構成している
チップにおける周辺部が対象のときにはｌを大きめに設
定し、他のチップの同一箇所と比較することで検査でき
る。そして被検査ウエハ２１を構成しているチップにお
けるメモリなどの規則性の高い部分が対象のときはｌを
小さめに設定し同一チップ内の同一パターン部と比較す
ることで検査できる。

【００３６】更に画素が大きいことから検査に要する演
算時間も短くなるので検査速度自体も速くなる。そして
ほとんどの規則的パターンの像は検出されないので欠陥
検出演算方法自体も簡単なものとなる。

【００３７】なお、本実施例では光学系を２つ用いた
が、画像記憶部を付加することによって、この後の第２
の実施例で述べるように１つの光学系を用いて検査する
こともできる。最初に画像データを取り込み前記画像記
憶部に、この画像データを記憶させておき、次に駆動テ
ーブル２をこの記憶箇所からｌだけ、またはｌの倍数分
だけ移動させたときの画像データと比較して不良部分を
抽出して上述した実施例と同様の処理をしても良い。

【００３８】さらに画像センサ３ａ・３ｂは通常のテレ
ビカメラでも良いし、ラインセンサを用いて駆動テーブ
ル２の動きと同期させながら画像データを採取しても良
い。

【００３９】次に、この第１の実施例を変形させた第２
の実施例を記す。本実施例は第１の実施例と基本的な構
成は同じなのであるが、第１の実施例のように１枚のマ
スク中に存在するチップ中の特定の２チップの同一箇所
を拡大比較しているのではなく、チップ中における複数
個で且つ奇数個の特定のチップの同一箇所を拡大比較
し、後述する「多数決アルゴリズム」を用いて欠陥部分
の検出を行っているものである。

【００４０】ここで具体的に本発明のパターン欠陥検出
方法を用いたパターン欠陥検出装置の第２の実施例を図
３に示す。本実施例の本質は、欠陥を検出するために取
り込んだ画像データの比較の手法である。なお、この他
の、本実施例における欠陥検出の過程及び構成は上述し
た第１の実施例と同じであるのでここでは述べない。

【００４１】図３において被検査物１６は半導体ウエ
ハ、液晶パネル、或いはこれらを製造するためのマスク
など規則的パターンが形成されているものである。被検
査物１６は駆動テーブル１７に載置されている。

【００４２】被検査物１６に形成されている規則的パタ
ーンはｘ方向及びｙ方向に距離ｌだけ離れたパターン同
士が同一パターンになるように設計されている。光学系
Ｃは、被検査物１６上のパターンを投影してこのパター
ンに対応するセンサ１８にそれぞれ結像させる（図中の
点線）。

【００４３】なお、光学系Ｃの光軸１９（図中の一点鎖
線）は駆動テーブル１７によって被検査物１６上をｘ方
向及びｙ方向に距離ｌまたはｌの倍数分だけ移動させる
ことができる。

【００４４】光学系Ｃでは、規則的パターンを有する被
検査物１６が半導体ウエハなどのように不透明部分しか
有しない場合には単色光を発する光源である単色光源２
０のみを用いる。そして、それらの光をそれぞれハーフ
ミラー２１によって反射し、レンズ２２を通じて光軸１
９に沿うように被検査物１６に落射照明する（単色光源
２０が起点の図中の実線）。

【００４５】また、規則的パターンを有する被検査物１
６が液晶パネル、半導体マスクやシャドウマスクなどの
ように透明部分と不透明部分を有する場合には単色光を
発する光源である単色光源２３のみを用いる。そして、
それらの光をそれぞれレンズ２４によって平行光にし、
その平行光でそれぞれ光軸１９に沿って被検査物１６を
透過照明する（単色光源２３が起点の図中の実線）。

【００４６】ここで、不透明部分しか有しない被検査物
１６のみを扱う場合には単色光源２０による照明系のみ
を備えていれば良く、透明部分と不透明部分を有するパ
ターンを持つ被検査物１６のみを扱う場合には単色光源
２３による照明系のみを備えていれば良い。

【００４７】更に、単色光源２０・２３はレーザ光源や
或いは、水銀ランプなどの白色光源と干渉フィルタを組
み合わせたものとする。さて、被検査物１６が不透明部
分しか有しない場合および被検査物１６が透明部分と不
透明部分を有するパターンを持つ場合の双方において、
被検査物１６によって反射、透過、散乱、或いは回折さ
れた光２５はレンズ２２で集光される。レンズ２２の焦
点位置には空間フィルタ２７がおかれている。一方、被
検査物１６の像を写した光２６が、空間フィルタ２７を
通過してレンズ２８を通ることにより被検査物１上のパ
ターンが画像センサ１８の上に結像される。そして画像
センサ１８からの画像データは画像記憶部２９に記憶さ
れる。

【００４８】具体的には、まず画像センサ１８からの画
像データを取り込み画像記憶部２９にこの画像データを
記憶させておく。次に駆動テーブル２をこの記憶箇所か
らｘ方向又はｙ方向にｌだけ、またはｌの倍数分だけ複
数（但し奇数）回移動させて画像センサ１８からの画像
データを複数（但し奇数）個採取する。そして、これら
の画像データを第１の実施例と同様に比較して、後述す
る「多数決アルゴリズム」によって不良部分を抽出して
第１の実施例と同様の処理をする。この際各画像データ
はそれぞれ増幅され画像処理装置３０に入力される。画
像処理装置３０からの出力は検査結果出力装置３１に入
力される。

【００４９】ここで、「多数決アルゴリズム」を三つの
パターンを比較する場合を例にして説明する。このアル
ゴリズムによるとパターン製作の基礎となる設計データ
を用いたり、目視などによらずとも欠陥箇所の特定が容
易となる。

【００５０】図４に「多数決アルゴリズム」を用いた本
実施例のパターン欠陥検出装置の処理の流れをブロック
図で示すとともに以下に詳解する。まず、三つのパター
ンの画像データ間での差分の検出で考えられるのは以下
の三つの場合である。これらの場合から、多数決を採る
ことによって欠陥をもつパターンを画像処理装置３０に
おいて特定することとなる。

【００５１】(1) 三つのパターンの間で差分が検出され
なかった場合には、三つのパターン全てに欠陥がないと
見做す。

【００５２】(2) 三つのパターンの間で一つのパターン
と、その他の二つのパターンとの間に差分が検出された
ときには、その他の二つのパターンとの間に差分が検出
された一つのパターンには欠陥があると見做す。

【００５３】(3) 三つのパターンの間で全て差分が検出
された場合には、三つのパターン全てに欠陥があると見
做す。

【００５４】即ち、この方法はパターンの比較結果が等
しく且つ多数を占めるパターンを正確なパターンと認定
し、この結果によって、欠陥を生じているパターンを特
定している。なお、逆にパターンの比較結果が異なり且
つ少数を占めるパターンを欠陥を生じているパターンと
認定し、この結果によって、欠陥を生じているパターン
を特定することもできる。

【００５５】更に加えるならば上記(2) の場合で多数の
パターンから欠陥箇所を特定する場合において、あまり
にも差分が検出されるパターンの多いときには不良品と
して分別することが妥当である。

【００５６】この「多数決アルゴリズム」は本発明のパ
ターン欠陥検出方法のみならず種々の比較対象において
用いることができるのはいうまでもない。なお、本実施
例では画像記憶部２９を付加することによって、光学系
を１つ用いたが、第１の実施例の様に複数の光学系を用
いて同時に複数のパターンの検査をすることもできる。
さらに画像センサ１８は通常のテレビカメラでも良い
し、ラインセンサを用いて駆動テーブル１７の動きと同
期させながら画像データを採取しても良い。

【００５７】

【発明の効果】光学フィルタによるパターン欠陥検出方
法と、複数箇所の同一パターンの差を演算する検出方法
を組み合わせたことにより、その製造工程の不完全さか
ら通常パターンエッジが完全な直線を形成しておらずノ
イズ的な凹凸を生じており、更にパターンの高さにもば
らつきがある、半導体ウエハ、液晶パネル、或いはこれ
らを製造するためのマスクなど規則的パターンが形成さ
れているものが対象でも、パターン欠陥を高い信頼性
で、高速に簡単な演算で検出できるようになった。

【００５８】さらに半導体チップの周辺部などの規則性
の低いパターンの欠陥も検出できるようになった。そし
てパターン製作の基礎となる設計データを用いたり、目
視などによらずとも欠陥箇所の特定が容易となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の概略構成図。

【図２】本発明に用いる空間フィルタの平面図。

【図３】本発明の第２の実施例の概略構成図。

【図４】「多数決アルゴリズム」を用いた本発明の第２
の実施例における処理を示すブロック図。

【図５】第１の従来例の概略構成図。

【図６】被検査パターンの単位領域の一例の概略図。

【符号の説明】

１・１６…被検査物 ２・１７…駆動テーブル ３ａ・３ｂ・１８…画像センサ ４ａ・４ｂ・１９…光軸 ５ａ・５ｂ・８ａ・８ｂ・２０・２３…単色光源 ６ａ・６ｂ・９ａ・９ｂ・１３ａ・１３ｂ・２２・２８
・３８…レンズ ７ａ・７ｂ・２１・３６・４２・４３・４７…ハーフミ
ラー １０ａ・１０ｂ・１１ａ・１１ｂ・２５・２６…光 １２・１２ａ・１２ｂ・２７・４１…空間フィルタ １４・３０・４０…画像処理装置 １５・３１…検査結果出力装置 ２９…画像記憶部 ３２…He-Cd レーザ ３３・３４…ミラー ３５…コリメータ ３７…被検査ウエハ ３９・４４・４５・４８…カメラ ４６…六軸制御ステージ ４７…単位領域

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 板状物体に形成されている規則的パタ
   ーンの欠陥を検出するパターン欠陥検出方法において、
   前記規則的パターンのフーリエ変換像に空間フィルタを
   かけた結果と、前記規則的パターン上の複数箇所での同
   一パターンの光学画像を比較した結果とを用いることを
   特徴としたパターン欠陥検出方法。
2. 【請求項２】 規則的パターン上の複数箇所での同一
   パターンの光学画像を比較した結果は前記規則的パター
   ン上の複数箇所での同一パターンそれぞれの光学画像の
   光強度の差を用いることを特徴とした請求項１記載のパ
   ターン欠陥検出方法。
3. 【請求項３】 規則的パターン上の複数箇所での同一
   パターンの光学画像を比較した結果は前記規則的パター
   ン上の複数箇所での同一パターンそれぞれの光学画像の
   光強度分布の微分値の差を用いることを特徴とした請求
   項１記載のパターン欠陥検出方法。
4. 【請求項４】 板状物体に形成されている規則的パタ
   ーンの欠陥を検出するパターン欠陥検出方法において、
   前記規則的パターン上の奇数箇所且つ複数箇所の光学画
   像を比較して、この比較結果が等しく且つ多数を占める
   前記規則的パターンを正確な前記規則的パターンと認定
   し、この認定結果から欠陥を持つ前記規則的パターンを
   特定することを特徴としたパターン欠陥検出方法。
5. 【請求項５】 板状物体に形成されている規則的パタ
   ーンの欠陥を検出するパターン欠陥検出装置において、
   前記規則的パターンの光学像をフーリエ変換する変換手
   段と、空間フィルタと、前記規則的パターン上の複数箇
   所での同一パターンの光学画像の比較手段とを具備し、
   前記変換手段によるフーリエ変換像に空間フィルタをか
   けた結果と、前記比較手段の比較結果とを用いてパター
   ン欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検出装
   置。
6. 【請求項６】 板状物体に形成されている規則的パタ
   ーンの欠陥を検出するパターン欠陥検出装置において、
   前記規則的パターン上の奇数箇所且つ複数箇所の光学画
   像の比較手段と、この比較手段による比較結果が等しく
   且つ多数を占める前記規則的パターンを正確な前記規則
   的パターンとする認定手段とを具備し、この認定手段の
   認定結果から欠陥を持つ前記規則的パターンを特定する
   ことを特徴としたパターン欠陥検出装置。