JPH0798687B2 - 磁気ヘッド用非磁性セラミックス - Google Patents

磁気ヘッド用非磁性セラミックス

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JPH0798687B2
JPH0798687B2 JP1130093A JP13009389A JPH0798687B2 JP H0798687 B2 JPH0798687 B2 JP H0798687B2 JP 1130093 A JP1130093 A JP 1130093A JP 13009389 A JP13009389 A JP 13009389A JP H0798687 B2 JPH0798687 B2 JP H0798687B2
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兵喜 星
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はコンピュータの周辺装置であるフロッピーディ
スク装置あるいはハードディスク装置,さらにはVTRの
磁気ヘッドに用いられる非磁性セラミックに関するもの
である。
[従来の技術] 一般にコンピュータ,VTR,又はオーディオ関係の磁気ヘ
ッドは磁性材料であるフェライトと非磁性材料のセラミ
ックスとをガラスボンディングして構成されている。ま
た,薄膜磁気ヘッドの場合には,磁性あるいは非磁性セ
ラミックス基板上へ磁性薄膜を蒸着あるいは,スパッタ
リングして成膜し作製される。さらには,金属磁性膜を
非磁性セラミックス基板で挟み込んだ積層型ヘッドの開
発も着々となされている。
近年,デジタル磁気ヘッドは記録媒体の高密度記録化へ
の技術推移に伴って,より小型化,高密度記録化,高品
質化が要求されてきている。そのためフェライトは記録
媒体の特性に適用すべく大きな飽和磁束密度を有するこ
とが要求されてきている。すなわちフェライトにおいて
高飽和磁束密度の磁気特性を持つには,必然的に熱膨張
係数の大きくなる組成領域にて製造せざるを得ない。
又,薄膜ヘッドの場合,高飽和時速密度で,高熱膨張係
数(130〜140×10-7/℃)であるパースマロイ又はセン
ダスト等の金属磁性薄膜をセラミックス基板上へ成膜し
て製造される。これら異種材料を接着あるいは蒸着,ス
パッタリングにて構成し製造する場合,構成材料の熱膨
張係数を近似なものとし,接合時に発生する歪を最小の
ものとすることが必要条件となる。
[発明が解決しようとする課題] 従来,この様な磁性体と一体で構成される非磁性セラミ
ックスには,CaTiO3系,BaTiO3系,Znフェライト系,Al2O3T
iC系セラミックスが使用されていた。
しかしながら,これらセラミックスの熱膨張係数は75〜
120×10-7/℃の値を示し,130×10-7/℃以上の熱膨張係
数を有するセラミックスを製造するのは非常に困難であ
る。
一般に磁気ヘッド用非磁性セラミックスには下記のこと
が要求される。
1) 高密度で気孔が少ないこと, 2) 耐摩耗特性に優れていること, 3) 加工性に優れていること, 4) 熱膨張係数が磁性体のそれと近似であること, 5) 抵抗率が大きいこと, 6) 物理的,化学的に安定であること, そこで,本発明の技術課題は,上記の問題点に鑑みて熱
膨張係数(α)の大きな磁性体に適応すべく,熱膨張係
数が大きく,摩耗特性が良く,かつ加工性の優れた磁気
ヘッド用非磁性セラミックスを提供することにある。
[課題を解決するための解決] 本発明によれば,MgO20〜80モル%含み,残部NiOよりな
る主成分100重量部に対し,TiO20.1〜5wt%添加し,かつ
Sc2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3を含むグループの中から
少くとも一種を0.1〜10wt%添加してなることを特徴と
する磁気ヘッド用非磁性セラミックスが得られる。即
ち,本発明者らは熱膨張係数の大きな酸化物MgOとNiOが
全率固溶し,安定均一成分を作ることに着眼し,熱膨張
係数を組成比でコントロールするとともに,機械的強度
と加工性にすぐれた高密度非磁性セラミックスとしたも
のである。
本発明者らは,まず本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミ
ックス材料の主成分であるMgOとNiOの成分比の検討を行
った結果,熱膨張係数α≧130×10-7/℃は,MgO成分が80
モル%以下で得られることがわかった。しかし,MgO成分
が20モル%より少ない(即ちNiOが80モル%を越える)
と,透磁率が2を越え,非磁性セラミックスとしては不
適当であることがわかった。
MgO20〜80モル%でα≧130×10-7/℃を可能とするが,14
00℃の焼結温度では緻密化が不十分で気孔率が大きく,
硬度が低く,磁気ヘッド用セラミックス材としては不適
当である。
本発明者らは,これらの欠点を,TiO2を添加し,かつ,Sc
2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3の少くとも一種添加するこ
とにより,改善できることを見いだした。
即ち,TiO2を添加することにより硬度を増加させ,焼結
促進効果及び結晶の微細化に効果のあるSc2O3,Y2O3,La2
O3,CeO2,Sm2O3を添加することにより気孔率を改善する
ものである。
本発明において,TiO20.1〜5wt%,Sc2O3,Y2O3,La2O3,CeO
2,Sm2O3を含むグループの中から少くととも一種を0.1〜
10wt%と限定したのは,TiO2は0.1wt%より少ない場合は
硬度が低く,5wt%を越えると,熱膨張係数が小さくなる
からであり,また,Sc2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3の少く
とも一種が0.1wt%より少い場合,又は10wt%を越えた
場合は気孔率が大きくなるからである。
[実施例] 本発明の実施例について説明する。
市販の原料であるMgO,NiO,TiO2,Sc2O3,Y2O3,La2O3,Ce
O2,Sm2O3を第1表に示す組成比となる様に秤量し,分散
媒にアルコールを用いボールミルにて混合し乾燥させた
後,空気中にて1200℃の温度で2時間仮焼を行った。仮
焼粉末はボールミルにて粉砕され平均粒子径は1.2μm
となる。ライカイ機にて造粒を行い,その後2ton/cm2
圧力にて成形し,空気中にて1400℃の温度で3時間焼結
を行った。次に相対密度97%以上の密度を有する焼結体
はアルミナルツボ内に積置され,温度1300℃,圧力1000
kg/cm2,保持時間2時間の条件にてArガス雰囲気にて熱
間静水圧プレス(HIP)処理を行った。
以上の工程により得られた各試料より,熱膨張係数(10
0〜400℃)ビッカース硬度(500g荷重),抗折強度,平
均粒径,気孔率,透磁率を測定した。透磁率はφ10×φ
6×2mmのトロイダルコアを周波数1kHzにて測定した。
その結果を第1表に示す。
尚,表中において(−)の欄は全く含有しないことを示
す。
第1表において,試料No.1〜8の本発明例と試料No.9〜
16の比較例から明らかな様に,MgOが80モル%を越える
(No.15)と熱膨張係数が低下し,MgOが20モル%より少
ない,即ち,NiOが80モル%を越える(No.13)と透磁率
が大きくなる。また,TiO2が0.1wt%より少ない場合(N
o.12,No.14),5wt%を越えた場合(No.10)はそれぞれ
硬度の低下,熱膨張係数の低下となる。さらにSc2O3,Y2
O3,La2O3,CeO2,Sm2O3の一種又は二種以上が0.1wt%より
少ない場合(No.9,No.11)は,気孔率が大きく,平均粒
径も大きく,それらに伴い,硬度,強度も低下してい
る。10.0wt%を越えた場合(No.16)気孔率が大きいこ
とがわかる。
以上の通り,MgO20〜80モル%,残部NiOより成る主成分1
00重量部に対し,TiO20.1〜0.5wt%添加し,かつSc2O3,Y
2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3の一種又は二種以上を0.1〜10wt
%添加することにより,熱膨張係数α>130×10-7/℃を
有し,微細組織で機械特性に優れた高密度非磁性セラミ
ックスが得られることが判明した。
[発明の効果] 以上の結果から明らかな様に,本発明によれば,従来に
おいて製造困難であった熱膨張係数α>130×10-7/℃を
有する高密度非磁性セラミックスを提供することができ
る。即ち,高飽和磁束密度を有するMn−Znフェライト,
さらにはパーマロイ,センダスト等の金属磁性薄膜の接
合に最適な材料となり,信頼性の高い磁気ヘッドを製造
することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】MgO20〜80モル%含み,残部NiOよりなる主
    成分100重量部に対し,TiO2 0.1〜5wt%添加し,かつSc
    2O3,Y2O3,La2O3,CeO2,Sm2O3を含むグループの中から少
    くとも一種を0.1〜10wt%添加してなることを特徴とす
    る磁気ヘッド用非磁性セラミックス。
JP1130093A 1989-05-25 1989-05-25 磁気ヘッド用非磁性セラミックス Expired - Fee Related JPH0798687B2 (ja)

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