JPH08102396A - X線透視撮影装置 - Google Patents
X線透視撮影装置Info
- Publication number
- JPH08102396A JPH08102396A JP6259537A JP25953794A JPH08102396A JP H08102396 A JPH08102396 A JP H08102396A JP 6259537 A JP6259537 A JP 6259537A JP 25953794 A JP25953794 A JP 25953794A JP H08102396 A JPH08102396 A JP H08102396A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- light
- area
- level
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 最適なフィルム濃度が得られるようにX線露
光時間を自動制御できるX線透視撮影装置を提供する。 【構成】 X線撮影において、X線自動露出制御部10
は、プリズム7で分配された光像の任意の部分エリアを
遮光する液晶マスク11と、液晶マスク11を透過した
光像を検出して電気信号に変換する光電子増倍管12
と、光電子増倍管12で変換された電気信号を積分する
積分器13と、積分器13の充電電圧Vs と基準電圧V
r を比較し、充電電圧Vs が基準電圧Vr に達したとき
X線高電圧装置5にX線遮断信号を出力する比較器15
と、液晶マスク11の基準レベルから外れたレベル外分
割領域を全て遮光するとともに、基準電圧Vr に対応す
る光量になるように前記レベル外分割領域以外の分割領
域を選択的に遮断制御する透視プロセッサ20とを備え
て構成されている。
光時間を自動制御できるX線透視撮影装置を提供する。 【構成】 X線撮影において、X線自動露出制御部10
は、プリズム7で分配された光像の任意の部分エリアを
遮光する液晶マスク11と、液晶マスク11を透過した
光像を検出して電気信号に変換する光電子増倍管12
と、光電子増倍管12で変換された電気信号を積分する
積分器13と、積分器13の充電電圧Vs と基準電圧V
r を比較し、充電電圧Vs が基準電圧Vr に達したとき
X線高電圧装置5にX線遮断信号を出力する比較器15
と、液晶マスク11の基準レベルから外れたレベル外分
割領域を全て遮光するとともに、基準電圧Vr に対応す
る光量になるように前記レベル外分割領域以外の分割領
域を選択的に遮断制御する透視プロセッサ20とを備え
て構成されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、X線透視撮影装置に
係り、特に、X線写真撮影に伴うX線露出量を適正値に
自動制御する技術に関する。
係り、特に、X線写真撮影に伴うX線露出量を適正値に
自動制御する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、X線透視撮影装置として、図9に
示すような装置が知られている。これは、X線管100
から被検体MにX線を曝射して被検体Mからの透過X線
をイメージインテンシファイヤ(以下、単にI.I.とい
う)101で光像に変換し、この光像をTVカメラ10
2で撮像して映像信号を生成する。そして、この映像信
号を増幅器等を介してTVモニタ103に与えることに
より、そのTVモニタ103に被検体Mの透視像を映し
出している。術者は、このTVモニタ103上の透視像
を観察しながら、撮影器104で被検体Mの関心部位を
撮影している。
示すような装置が知られている。これは、X線管100
から被検体MにX線を曝射して被検体Mからの透過X線
をイメージインテンシファイヤ(以下、単にI.I.とい
う)101で光像に変換し、この光像をTVカメラ10
2で撮像して映像信号を生成する。そして、この映像信
号を増幅器等を介してTVモニタ103に与えることに
より、そのTVモニタ103に被検体Mの透視像を映し
出している。術者は、このTVモニタ103上の透視像
を観察しながら、撮影器104で被検体Mの関心部位を
撮影している。
【0003】フィルムFに被検体MのX線像を撮影する
場合、つぎのようにしてX線露出量が適正値になるよう
にX線自動露出制御部105で自動制御される。I.I.1
01で変換された光像の一部をプリズムレンズなどの分
配器110をとおして検出器(ホトマル)106に導き
電気量に変換し、この電気量を積分器107により積分
する。この積分された充電電圧Vs を比較器108で基
準電圧Vr と比較して、充電電圧Vs が基準電圧Vrに
達したとき、X線遮断信号をX線高電圧装置109に出
力することにより、X線の曝射が停止される。これによ
り、X線露出時間が自動制御されて適正なフィルム濃度
でフィルムFに被検体MのX線像が撮影される。なお、
基準電圧Vr は、予め実験的に求められるものであり、
測光領域内に造影剤や空気層が存在しない通常の臓器に
X線を曝射した時に得られる基準となる電気量が積算さ
れて、フィルム感度に応じた適正なX線露光時間に達す
る時の積算電圧である(図8参照)。
場合、つぎのようにしてX線露出量が適正値になるよう
にX線自動露出制御部105で自動制御される。I.I.1
01で変換された光像の一部をプリズムレンズなどの分
配器110をとおして検出器(ホトマル)106に導き
電気量に変換し、この電気量を積分器107により積分
する。この積分された充電電圧Vs を比較器108で基
準電圧Vr と比較して、充電電圧Vs が基準電圧Vrに
達したとき、X線遮断信号をX線高電圧装置109に出
力することにより、X線の曝射が停止される。これによ
り、X線露出時間が自動制御されて適正なフィルム濃度
でフィルムFに被検体MのX線像が撮影される。なお、
基準電圧Vr は、予め実験的に求められるものであり、
測光領域内に造影剤や空気層が存在しない通常の臓器に
X線を曝射した時に得られる基準となる電気量が積算さ
れて、フィルム感度に応じた適正なX線露光時間に達す
る時の積算電圧である(図8参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来装置には、次のような問題がある。すなわち、被
検体Mの撮影部位によって透過する透過X線量が異なる
ので、積分器107での充電電圧(積算電圧)Vs が基
準電圧Vrに達する時間に差が生じることになる。従っ
て、X線露光時間のバラツキによる露出不足や露出過多
となり、最適なフィルム濃度が得られない。
た従来装置には、次のような問題がある。すなわち、被
検体Mの撮影部位によって透過する透過X線量が異なる
ので、積分器107での充電電圧(積算電圧)Vs が基
準電圧Vrに達する時間に差が生じることになる。従っ
て、X線露光時間のバラツキによる露出不足や露出過多
となり、最適なフィルム濃度が得られない。
【0005】例えば、造影剤を含んだ胃を撮影する場
合、図10に示すように、検出器106では測光領域P
bの光量を電気量に変換しているので、測光領域Pb内
において、造影剤を含んだX線を透過しない領域Abが
多くなると、電気量が少なくなり、充電電圧Vs が基準
電圧Vrに達するまでに時間がかかることになる。その
結果、X線露光時間が長くなってフィルム濃度の高い輪
郭のぼやけた撮影像になる。
合、図10に示すように、検出器106では測光領域P
bの光量を電気量に変換しているので、測光領域Pb内
において、造影剤を含んだX線を透過しない領域Abが
多くなると、電気量が少なくなり、充電電圧Vs が基準
電圧Vrに達するまでに時間がかかることになる。その
結果、X線露光時間が長くなってフィルム濃度の高い輪
郭のぼやけた撮影像になる。
【0006】一方、被検体の食道周辺を撮影する場合、
測光領域Pa内の肺部分Aaには空気が入っているた
め、X線がほとんど吸収されずに透過するので、測光領
域Pa内の光量が多くなり、充電電圧Vs がはやく基準
電圧Vrに達することになる。従って、X線露光が短時
間で終了することになり、フィルム濃度が低くい撮影像
になる。
測光領域Pa内の肺部分Aaには空気が入っているた
め、X線がほとんど吸収されずに透過するので、測光領
域Pa内の光量が多くなり、充電電圧Vs がはやく基準
電圧Vrに達することになる。従って、X線露光が短時
間で終了することになり、フィルム濃度が低くい撮影像
になる。
【0007】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、最適なフィルム濃度に自動制御でき
るX線透視撮影装置を提供することを目的とする。
れたものであって、最適なフィルム濃度に自動制御でき
るX線透視撮影装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するため、次のような構成をとる。すなわ
ち、被検体に向けてX線を曝射するX線曝射手段と、被
検体からの透過X線をフィルム上に撮影する撮影手段
と、被検体からの透過X線を検出して光像に変換するX
線検出手段と、前記X線検出手段で変換された光像の一
部を測光領域として取り出す分配手段と、前記X線検出
手段で変換された光像を撮像し、映像信号を生成する撮
像手段と、前記分配手段で取り出された測光領域の光量
を検出して電気信号に変換する検出手段と、前記検出手
段からの電気信号を積算する積算手段と、前記積算手段
で積算された積算値と基準値とを比較することにより、
前記積算値が基準値に達した場合に前記X線曝射手段に
X線遮断信号を与える比較手段と、前記検出手段の測光
領域を分割し、その分割領域毎に遮光する遮光手段と、
前記撮像手段の映像信号から得られる前記測光領域の各
分割領域ごとの信号レベルと基準レベルとを比較して、
基準レベルから外れた分割領域を検出することに基づ
き、その領域に対応した前記遮光手段の分割領域のレベ
ル外分割領域を全て遮光するとともに、前記測光領域の
光量が前記比較手段の基準値に応じた適正な光量になる
ように前記遮光手段の前記レベル外分割領域以外の分割
領域を選択的に遮光する制御手段と、を備えたものであ
る。
目的を達成するため、次のような構成をとる。すなわ
ち、被検体に向けてX線を曝射するX線曝射手段と、被
検体からの透過X線をフィルム上に撮影する撮影手段
と、被検体からの透過X線を検出して光像に変換するX
線検出手段と、前記X線検出手段で変換された光像の一
部を測光領域として取り出す分配手段と、前記X線検出
手段で変換された光像を撮像し、映像信号を生成する撮
像手段と、前記分配手段で取り出された測光領域の光量
を検出して電気信号に変換する検出手段と、前記検出手
段からの電気信号を積算する積算手段と、前記積算手段
で積算された積算値と基準値とを比較することにより、
前記積算値が基準値に達した場合に前記X線曝射手段に
X線遮断信号を与える比較手段と、前記検出手段の測光
領域を分割し、その分割領域毎に遮光する遮光手段と、
前記撮像手段の映像信号から得られる前記測光領域の各
分割領域ごとの信号レベルと基準レベルとを比較して、
基準レベルから外れた分割領域を検出することに基づ
き、その領域に対応した前記遮光手段の分割領域のレベ
ル外分割領域を全て遮光するとともに、前記測光領域の
光量が前記比較手段の基準値に応じた適正な光量になる
ように前記遮光手段の前記レベル外分割領域以外の分割
領域を選択的に遮光する制御手段と、を備えたものであ
る。
【0009】
【作用】この発明の構成によれば、次のような作用があ
る。X線曝射手段から被検体に向けてX線が曝射され、
被検体からの透過X線がX線検出手段で光像に変換され
る。この光像が撮像手段で撮像されて映像信号が生成さ
れるとともに、光像の一部が測光領域として分配手段を
とおして検出手段に導きかれて電気量に変換される。
る。X線曝射手段から被検体に向けてX線が曝射され、
被検体からの透過X線がX線検出手段で光像に変換され
る。この光像が撮像手段で撮像されて映像信号が生成さ
れるとともに、光像の一部が測光領域として分配手段を
とおして検出手段に導きかれて電気量に変換される。
【0010】この際、制御手段によって、撮像手段で撮
像された映像信号から得られる測光領域の各分割領域ご
との信号レベルと基準レベルとが比較され、基準レベル
から外れた分割領域が検出される。そして、基準レベル
から外れた領域の光が検出手段に入射しないように遮光
手段の分割領域のレベル外分割領域が全て遮断制御され
るとともに、測光領域の光量が比較手段の基準値に応じ
た適正な光量になるように遮光手段の前記レベル外分割
領域以外の分割領域が選択的に遮断制御される。
像された映像信号から得られる測光領域の各分割領域ご
との信号レベルと基準レベルとが比較され、基準レベル
から外れた分割領域が検出される。そして、基準レベル
から外れた領域の光が検出手段に入射しないように遮光
手段の分割領域のレベル外分割領域が全て遮断制御され
るとともに、測光領域の光量が比較手段の基準値に応じ
た適正な光量になるように遮光手段の前記レベル外分割
領域以外の分割領域が選択的に遮断制御される。
【0011】遮光手段で適正な値にされた測光領域の光
像は、検出手段で電気信号に変換され、この電気信号が
積算手段で積算される。この積算値は比較手段で基準値
と比較され、積算値が基準値に達したとき、X線曝射手
段にX線遮断信号が出力され、X線の曝射が停止され
る。従って、X線露出時間が自動制御されて適正なフィ
ルム濃度で撮影手段に被検体の透視像が撮影される。
像は、検出手段で電気信号に変換され、この電気信号が
積算手段で積算される。この積算値は比較手段で基準値
と比較され、積算値が基準値に達したとき、X線曝射手
段にX線遮断信号が出力され、X線の曝射が停止され
る。従って、X線露出時間が自動制御されて適正なフィ
ルム濃度で撮影手段に被検体の透視像が撮影される。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明の一実施例を
説明する。図1は、この発明に係る一実施例のX線透視
撮影装置の構成を示すブロック図である。
説明する。図1は、この発明に係る一実施例のX線透視
撮影装置の構成を示すブロック図である。
【0013】図中、符号1は被検体Mが載置される天板
を示し、この天板1に載置された被検体Mを挟んだ状態
で、X線管2と、撮影器3(撮影手段)及びI.I.(イメ
ージインテンシファイヤ)4(X線検出手段)とが対向
配置されている。X線管2にはX線高電圧装置5が接続
されており、後述するタイミングでX線高電圧装置5に
指示が出されると、被検体MへのX線曝射が停止され
る。なお、X線管2とX線高電圧装置5とで、この発明
におけるX線曝射手段に相当する。
を示し、この天板1に載置された被検体Mを挟んだ状態
で、X線管2と、撮影器3(撮影手段)及びI.I.(イメ
ージインテンシファイヤ)4(X線検出手段)とが対向
配置されている。X線管2にはX線高電圧装置5が接続
されており、後述するタイミングでX線高電圧装置5に
指示が出されると、被検体MへのX線曝射が停止され
る。なお、X線管2とX線高電圧装置5とで、この発明
におけるX線曝射手段に相当する。
【0014】天板1と撮影器3との間には、グリッド6
が配置されており、このグリッド6によって被検体M内
で発生した不要な散乱X線が撮影器3及びI.I.4に入射
しないように防止されている。
が配置されており、このグリッド6によって被検体M内
で発生した不要な散乱X線が撮影器3及びI.I.4に入射
しないように防止されている。
【0015】撮影器3は、撮影用のフィルムFと、フィ
ルムFを挟み込みX線をフィルムFに応じた光に変換す
る一対の増感紙3aと、フィルムFと一対の増感紙3a
とを密着させる圧着機構3bと、フィルムFを透過した
X線を吸収して反射を防止する鉛板3cとから構成され
ている。また、撮影器3は、X線が照射される撮影位置
に対して進退自在に配置されている。
ルムFを挟み込みX線をフィルムFに応じた光に変換す
る一対の増感紙3aと、フィルムFと一対の増感紙3a
とを密着させる圧着機構3bと、フィルムFを透過した
X線を吸収して反射を防止する鉛板3cとから構成され
ている。また、撮影器3は、X線が照射される撮影位置
に対して進退自在に配置されている。
【0016】I.I.4には、プリズム7(分配手段)を介
してTVカメラ8(撮像手段)が接続されており、被検
体Mを透過した透過X線はI.I.4で光像に変換され、こ
の光像がTVカメラ8で撮像されて映像信号が生成され
る。生成された映像信号は、後述する透視プロセッサを
介してTVモニタ9に送られ、TVモニタ9上に被検体
Mの透視像が映し出される。
してTVカメラ8(撮像手段)が接続されており、被検
体Mを透過した透過X線はI.I.4で光像に変換され、こ
の光像がTVカメラ8で撮像されて映像信号が生成され
る。生成された映像信号は、後述する透視プロセッサを
介してTVモニタ9に送られ、TVモニタ9上に被検体
Mの透視像が映し出される。
【0017】プリズム7は、I.I.4で変換された光像を
TVカメラ9に送るとともに、その光像の一部(図9に
示す側光領域P)を分配してX線自動露出制御部10に
導くものである。
TVカメラ9に送るとともに、その光像の一部(図9に
示す側光領域P)を分配してX線自動露出制御部10に
導くものである。
【0018】X線自動露出制御部10は、プリズム7で
分配された光像の所定エリアを遮断する液晶マスク11
(遮光手段)と、液晶マスク11を透過した光像を検出
して電気信号に変換する光電子増倍管12(検出手段)
と、光電子増倍管12で変換された電気信号を充電する
積分器13(積算手段)と、積分器13の充電電圧Vs
と基準電圧Vr とを比較し、充電電圧Vs が基準電圧V
r に達したとき前記したX線高電圧装置5にX線遮断信
号を出力する比較器15(比較手段)と、画像処理や後
述するX線の露出時間を制御する透視プロセッサ20
(制御手段)とを備えて構成されている。
分配された光像の所定エリアを遮断する液晶マスク11
(遮光手段)と、液晶マスク11を透過した光像を検出
して電気信号に変換する光電子増倍管12(検出手段)
と、光電子増倍管12で変換された電気信号を充電する
積分器13(積算手段)と、積分器13の充電電圧Vs
と基準電圧Vr とを比較し、充電電圧Vs が基準電圧V
r に達したとき前記したX線高電圧装置5にX線遮断信
号を出力する比較器15(比較手段)と、画像処理や後
述するX線の露出時間を制御する透視プロセッサ20
(制御手段)とを備えて構成されている。
【0019】次に、液晶マスク11の構成を図2を参照
して説明する。なお、図2には、斜線部をマスキングが
ONされて光が遮断される状態、空白部をマスキングが
OFFされて光が透過される状態をそれぞれ示してい
る。液晶マスク11は、図10に示すような測光領域P
a,Pbに対応し、その領域を例えば100等分したド
ットDi(i=1〜100)から構成されている。ま
た、図2に示すように、造影剤や空気層が存在しない場
合、すなわち、各ドットDiが全て適正範囲にある場合
には、例えば、分割した各ドットDiを一つ置きにマス
キングするように透視プロセッサ20に制御されてい
る。すなわち、マスキングON:50ドット、マスキン
グOFF:50ドットの割合になるように設定される。
この割合は、比較器15で比較される基準電圧Vr 、す
なわち、空気層や造影剤を含まない通常の臓器にX線を
曝射した時に、適正なフィルム濃度になるX線露出時間
が得られるように設定されている。なお、基準電圧Vr
は、予め実験的に求められるものであり、測光領域内に
造影剤や空気層が存在しない通常の臓器にX線を曝射し
た時に得られる基準となる電気量が積算されて、フィル
ム感度に応じた適正なX線露光時間に達する時の積算電
圧である(図8参照)。造影剤や空気層が存在する場合
の液晶マスク11の各ドットDiの制御は後述する。
して説明する。なお、図2には、斜線部をマスキングが
ONされて光が遮断される状態、空白部をマスキングが
OFFされて光が透過される状態をそれぞれ示してい
る。液晶マスク11は、図10に示すような測光領域P
a,Pbに対応し、その領域を例えば100等分したド
ットDi(i=1〜100)から構成されている。ま
た、図2に示すように、造影剤や空気層が存在しない場
合、すなわち、各ドットDiが全て適正範囲にある場合
には、例えば、分割した各ドットDiを一つ置きにマス
キングするように透視プロセッサ20に制御されてい
る。すなわち、マスキングON:50ドット、マスキン
グOFF:50ドットの割合になるように設定される。
この割合は、比較器15で比較される基準電圧Vr 、す
なわち、空気層や造影剤を含まない通常の臓器にX線を
曝射した時に、適正なフィルム濃度になるX線露出時間
が得られるように設定されている。なお、基準電圧Vr
は、予め実験的に求められるものであり、測光領域内に
造影剤や空気層が存在しない通常の臓器にX線を曝射し
た時に得られる基準となる電気量が積算されて、フィル
ム感度に応じた適正なX線露光時間に達する時の積算電
圧である(図8参照)。造影剤や空気層が存在する場合
の液晶マスク11の各ドットDiの制御は後述する。
【0020】透視プロセッサ20は、図3に示すよう
に、TVカメラ8で撮像された映像信号をデジタル信号
に変換するA/D変換器21と、デジタル化された映像
信号のデータを記憶するフレームメモリ22と、フレー
ムメモリ22を通過したデジタル映像信号をアナログ信
号に変換するD/A変換器23と、フレームメモリ22
内のデータをホールドしたり、液晶マスク11に命令信
号を出力するCPU24とから構成されている。
に、TVカメラ8で撮像された映像信号をデジタル信号
に変換するA/D変換器21と、デジタル化された映像
信号のデータを記憶するフレームメモリ22と、フレー
ムメモリ22を通過したデジタル映像信号をアナログ信
号に変換するD/A変換器23と、フレームメモリ22
内のデータをホールドしたり、液晶マスク11に命令信
号を出力するCPU24とから構成されている。
【0021】フレームメモリ22は、TVカメラ8から
送られてきた映像信号、すなわち、図4に示すように、
測光領域Pに対応する領域を512×512画素群と
し、CPU24による処理では、この画素群Gを液晶マ
スク11のドット数(100ドット)に対応して100
等分して取り扱われる。すなわち、エリアA1 がドット
D1 に対応する。
送られてきた映像信号、すなわち、図4に示すように、
測光領域Pに対応する領域を512×512画素群と
し、CPU24による処理では、この画素群Gを液晶マ
スク11のドット数(100ドット)に対応して100
等分して取り扱われる。すなわち、エリアA1 がドット
D1 に対応する。
【0022】次に、X線露光制御、及び撮影動作を図5
〜図8を参照して説明する。図5はフローチャート、図
6は食道S周辺を撮影する場合の液晶マスク11の構成
を示す模式図、図7は造影剤を含んだ胃Eを撮影する場
合の液晶マスク11の構成を示す模式図、図8は充電電
圧Vs と基準電圧Vr との関係を示す図である。
〜図8を参照して説明する。図5はフローチャート、図
6は食道S周辺を撮影する場合の液晶マスク11の構成
を示す模式図、図7は造影剤を含んだ胃Eを撮影する場
合の液晶マスク11の構成を示す模式図、図8は充電電
圧Vs と基準電圧Vr との関係を示す図である。
【0023】(1)まず、撮影器3が退避し(図1に実
線で示す位置)、X線が曝射されてTVモニタ9に被検
体Mの透視像が映し出されている状態で関心部位が決め
られた後、術者が、撮影スイッチSWを操作することに
より、X線露出制御が開始される。
線で示す位置)、X線が曝射されてTVモニタ9に被検
体Mの透視像が映し出されている状態で関心部位が決め
られた後、術者が、撮影スイッチSWを操作することに
より、X線露出制御が開始される。
【0024】ステップ1,2:CPU24は、スイッチ
SWがONされたか判断し、スイッチSWがONなら
ば、後述する各値を初期化する。すなわち、図4の分割
エリアAi(i=1〜100)のアドレスiを設定する
レジスタを「1」に、明るいエリアの個数aを計数する
レジスタを「0」に、暗いエリアの個数bを計数するレ
ジスタを「0」にそれぞれ初期化する。
SWがONされたか判断し、スイッチSWがONなら
ば、後述する各値を初期化する。すなわち、図4の分割
エリアAi(i=1〜100)のアドレスiを設定する
レジスタを「1」に、明るいエリアの個数aを計数する
レジスタを「0」に、暗いエリアの個数bを計数するレ
ジスタを「0」にそれぞれ初期化する。
【0025】ステップ3:次に、CPU24は、フレー
ムメモリ22にホールド信号を出力し、フレームメモリ
22内の輝度データをホールドさせる。
ムメモリ22にホールド信号を出力し、フレームメモリ
22内の輝度データをホールドさせる。
【0026】ステップ4〜11:そして、画素群Gの1
00等分された各エリアAi毎に、各画素上のデータの
総和Σviを求め、このデータ総和値viと上限基準レ
ベルVU とを比較する。例えば、画素群GのエリアA1
のデータ総和値v1 が上限基準レベルVU より大きけれ
ば、ステップ6に進み、明るいエリアの個数aを計数す
るレジスタの内容を一つカウントアップするとともに、
画素群GのエリアA1に対応する液晶マスク11のドッ
トD1 をマスキングする。例えば、図6に示す測光領域
Paにおいて、X線透過量の多い肺部分AaのドットD
aをマスキングする。ここで、上限基準レベルVU は実
験で求められた値であり、予めCPU24に記憶させて
いる。なお、上限基準レベルVU は図示しない操作部か
ら入力するようにしてもよい。
00等分された各エリアAi毎に、各画素上のデータの
総和Σviを求め、このデータ総和値viと上限基準レ
ベルVU とを比較する。例えば、画素群GのエリアA1
のデータ総和値v1 が上限基準レベルVU より大きけれ
ば、ステップ6に進み、明るいエリアの個数aを計数す
るレジスタの内容を一つカウントアップするとともに、
画素群GのエリアA1に対応する液晶マスク11のドッ
トD1 をマスキングする。例えば、図6に示す測光領域
Paにおいて、X線透過量の多い肺部分AaのドットD
aをマスキングする。ここで、上限基準レベルVU は実
験で求められた値であり、予めCPU24に記憶させて
いる。なお、上限基準レベルVU は図示しない操作部か
ら入力するようにしてもよい。
【0027】エリアA1 の処理が終了すると、アドレス
iを一つカウントアップし、ステップ4に戻って次のエ
リアA2 において、上記したステップ4,5の処理を繰
り返す。
iを一つカウントアップし、ステップ4に戻って次のエ
リアA2 において、上記したステップ4,5の処理を繰
り返す。
【0028】エリアA2 のデータ総和値v2 が下限基準
レベルVL より小さければ、ステップ10に進み、暗い
エリアの個数bを計数するレジスタの内容を一つカウン
トアップするとともに、画素群GのエリアA2 に対応す
る液晶マスク11のドットD2 をマスキングする。例え
ば、図7に示す測光領域Pbにおいて、X線透過量の少
ない部分AbのドットDbをマスキングする。ここで、
下限基準レベルVL は実験で求められた値であり、予め
CPU24に記憶させている。なお、下限基準レベルV
L は図示しない操作部から入力するようにしてもよい。
レベルVL より小さければ、ステップ10に進み、暗い
エリアの個数bを計数するレジスタの内容を一つカウン
トアップするとともに、画素群GのエリアA2 に対応す
る液晶マスク11のドットD2 をマスキングする。例え
ば、図7に示す測光領域Pbにおいて、X線透過量の少
ない部分AbのドットDbをマスキングする。ここで、
下限基準レベルVL は実験で求められた値であり、予め
CPU24に記憶させている。なお、下限基準レベルV
L は図示しない操作部から入力するようにしてもよい。
【0029】そして、エリアA2 の処理が終了すると、
アドレスiを一つカウントアップし、ステップ4に戻っ
て次のエリアA3 において、上記したステップ4〜10
の処理を繰り返す。
アドレスiを一つカウントアップし、ステップ4に戻っ
て次のエリアA3 において、上記したステップ4〜10
の処理を繰り返す。
【0030】エリアA3 のデータ総和値v3 が上下基準
レベルVU ,VL の範囲内であれば、ステップ11に進
む。このようにして、画素群GのエリアA1 からエリア
A10 0 までの各エリアAi毎にステップ4〜10の処理
を繰り返し、まず上下基準レベルVU ,VL から外れた
レベル外分割領域である各エリアAiに対応する液晶マ
スク11の各ドットDiを全てマスキングする。
レベルVU ,VL の範囲内であれば、ステップ11に進
む。このようにして、画素群GのエリアA1 からエリア
A10 0 までの各エリアAi毎にステップ4〜10の処理
を繰り返し、まず上下基準レベルVU ,VL から外れた
レベル外分割領域である各エリアAiに対応する液晶マ
スク11の各ドットDiを全てマスキングする。
【0031】ステップ12,13:そして、エリアA
100 の処理が終了したことを判断すると、上記したマス
キングON:50ドット、マスキングOFF:50ドッ
トの割合、すなわち、測光領域Pの光量を基準電圧Vr
に応じた適正な光量にするために、上下基準レベル
VU ,VL から外れてマスキングされたエリア以外の残
りのマスキングエリアを算出する。すなわち、50ドッ
ト−(明るいエリアの個数a+暗いエリアの個数b)を
算出し、算出されたマスキングエリアをマスキングす
る。以下に具体的に説明する。
100 の処理が終了したことを判断すると、上記したマス
キングON:50ドット、マスキングOFF:50ドッ
トの割合、すなわち、測光領域Pの光量を基準電圧Vr
に応じた適正な光量にするために、上下基準レベル
VU ,VL から外れてマスキングされたエリア以外の残
りのマスキングエリアを算出する。すなわち、50ドッ
ト−(明るいエリアの個数a+暗いエリアの個数b)を
算出し、算出されたマスキングエリアをマスキングす
る。以下に具体的に説明する。
【0032】図6に示すように、上基準レベルVU から
外れたエリアに対応するドットDaを32ヵ所マスキン
グしたとすると、残りのマスキングエリアは18ヵ所に
なり、この18ヵ所のドットDcを、上から順番に一つ
置きにマスキングする。すなわち、上基準レベルVU か
ら外れたエリアを含めて50ヵ所のエリアをマスキング
する。これにより、測光領域Pに空気層が存在しても、
光電子増倍管12に入射する光量が常に基準値Vrに応
じた適正な値になる。なお、図2に示すように、単に5
0ヵ所のエリアだけをマスキングするだけでは、マスキ
ングをしないエリアに空気層が存在するとX線透過量が
多くなるので、マスキングエリアの割合は同じでも光量
が多くなり、フィルム濃度が低くくなる。従って、空気
層を含んだ部分を全てマスキングしたうえでマスキング
エリアが50ヵ所になるように残りのエリアをマスキン
グしている。
外れたエリアに対応するドットDaを32ヵ所マスキン
グしたとすると、残りのマスキングエリアは18ヵ所に
なり、この18ヵ所のドットDcを、上から順番に一つ
置きにマスキングする。すなわち、上基準レベルVU か
ら外れたエリアを含めて50ヵ所のエリアをマスキング
する。これにより、測光領域Pに空気層が存在しても、
光電子増倍管12に入射する光量が常に基準値Vrに応
じた適正な値になる。なお、図2に示すように、単に5
0ヵ所のエリアだけをマスキングするだけでは、マスキ
ングをしないエリアに空気層が存在するとX線透過量が
多くなるので、マスキングエリアの割合は同じでも光量
が多くなり、フィルム濃度が低くくなる。従って、空気
層を含んだ部分を全てマスキングしたうえでマスキング
エリアが50ヵ所になるように残りのエリアをマスキン
グしている。
【0033】一方、図7に示すように、下基準レベルV
L から外れたエリアに対応するドットDbを23ヵ所マ
スキングしたとすると、残りのマスキングエリアは27
ヵ所になり、この27ヵ所のドットDcを、上から順番
に一つ置きにマスキングする。すなわち、下基準レベル
VL から外れたエリアを含めて50ヵ所のエリアをマス
キングする。これにより、測光領域Pに造影剤が存在し
ても、光電子増倍管12に入射する光量が常に基準値V
rに応じた適正な値になる。なお、上記と同様に、単に
50ヵ所のエリアだけをマスキングするだけでは、マス
キングをしないエリアに造影剤が存在するとX線が透過
しないので、マスキングエリアの割合が増加することに
なり、フィルム濃度が高くなる。従って、造影剤を含ん
だ部分を全てマスキングしたうえでマスキングエリアが
50ヵ所になるように残りのエリアをマスキングしてい
る。
L から外れたエリアに対応するドットDbを23ヵ所マ
スキングしたとすると、残りのマスキングエリアは27
ヵ所になり、この27ヵ所のドットDcを、上から順番
に一つ置きにマスキングする。すなわち、下基準レベル
VL から外れたエリアを含めて50ヵ所のエリアをマス
キングする。これにより、測光領域Pに造影剤が存在し
ても、光電子増倍管12に入射する光量が常に基準値V
rに応じた適正な値になる。なお、上記と同様に、単に
50ヵ所のエリアだけをマスキングするだけでは、マス
キングをしないエリアに造影剤が存在するとX線が透過
しないので、マスキングエリアの割合が増加することに
なり、フィルム濃度が高くなる。従って、造影剤を含ん
だ部分を全てマスキングしたうえでマスキングエリアが
50ヵ所になるように残りのエリアをマスキングしてい
る。
【0034】ステップ14:液晶マスク11がマスキン
グされると、CPU24の指示に基づいて、以下のよう
に、X線撮影が開始される。なお、ここで、術者が、撮
影用スイッチSWを操作することにより、X線撮影が開
始されようにしてもよい。
グされると、CPU24の指示に基づいて、以下のよう
に、X線撮影が開始される。なお、ここで、術者が、撮
影用スイッチSWを操作することにより、X線撮影が開
始されようにしてもよい。
【0035】(2)まず、X線管2のX線曝射を停止し
た後、撮影器3を、図1に鎖線で示す撮影位置に進入さ
せる。そして、圧着機構3bを作動させて一対の増感紙
3aをフィルムFに挟み込むように圧着させる。この状
態で、X線曝射開始信号をX線高電圧装置5に出力す
る。
た後、撮影器3を、図1に鎖線で示す撮影位置に進入さ
せる。そして、圧着機構3bを作動させて一対の増感紙
3aをフィルムFに挟み込むように圧着させる。この状
態で、X線曝射開始信号をX線高電圧装置5に出力す
る。
【0036】(3)X線高電圧装置5は、X線曝射開始
信号が与えられると、高電圧をX線管2に印加する。こ
れにより、X線管2から天板1に載置された被検体Mに
X線が曝射される。
信号が与えられると、高電圧をX線管2に印加する。こ
れにより、X線管2から天板1に載置された被検体Mに
X線が曝射される。
【0037】(4)被検体Mを透過した透過X線は、増
感紙3aを介してフィルムFに照射してX線露光が開始
される。フィルムFを透過した透過X線は、I.I.4によ
って光像に変換される。そして、この光像の一部をプリ
ズム9をとおして検出器12に導き電気量に変換する。
この際、上記したように、上下基準レベルVU ,VLか
ら外れたエリア(レベル外分割領域)が存在すれば、レ
ベル外分割領域である液晶マスク11の各ドットDiが
全て遮断されるとともに、測光領域Pの光量が基準値V
r に応じた適正な光量になるように、前記レベル外分割
領域以外の分割領域である液晶マスク11の各ドットD
iが遮断制御される。この電気量を積分器17により積
分する。この充電された電圧Vs を、図8に示すよう
に、比較器15で基準電圧Vr と比較し、充電電圧Vs
が基準電圧Vr に達したとき、すなわち時間Tにおい
て、X線遮断信号をX線高電圧装置5に出力することに
より、X線の曝射が停止され、フィルムFへのX線像の
撮影が終わる。
感紙3aを介してフィルムFに照射してX線露光が開始
される。フィルムFを透過した透過X線は、I.I.4によ
って光像に変換される。そして、この光像の一部をプリ
ズム9をとおして検出器12に導き電気量に変換する。
この際、上記したように、上下基準レベルVU ,VLか
ら外れたエリア(レベル外分割領域)が存在すれば、レ
ベル外分割領域である液晶マスク11の各ドットDiが
全て遮断されるとともに、測光領域Pの光量が基準値V
r に応じた適正な光量になるように、前記レベル外分割
領域以外の分割領域である液晶マスク11の各ドットD
iが遮断制御される。この電気量を積分器17により積
分する。この充電された電圧Vs を、図8に示すよう
に、比較器15で基準電圧Vr と比較し、充電電圧Vs
が基準電圧Vr に達したとき、すなわち時間Tにおい
て、X線遮断信号をX線高電圧装置5に出力することに
より、X線の曝射が停止され、フィルムFへのX線像の
撮影が終わる。
【0038】以上のように、上下基準レベルVU ,VL
から外れたエリアを全て含めて基準電圧Vr に応じた光
量になるように液晶マスク11の測光領域が遮断制御さ
れるので、測光領域内に造影剤や空気層が存在しても、
光電子増倍管12に入射する光量は常に適正な値にな
る。そして、この適正な光量の充電電圧Vs と基準電圧
Vr とを比較して、充電電圧Vs が基準電圧Vr に達し
たときにX線露光を停止しているので、基準電圧Vr を
変えることなく、X線露光時間を常に適正な時間にする
ことができる。従って、適正なフィルム濃度でX線撮影
することができる。
から外れたエリアを全て含めて基準電圧Vr に応じた光
量になるように液晶マスク11の測光領域が遮断制御さ
れるので、測光領域内に造影剤や空気層が存在しても、
光電子増倍管12に入射する光量は常に適正な値にな
る。そして、この適正な光量の充電電圧Vs と基準電圧
Vr とを比較して、充電電圧Vs が基準電圧Vr に達し
たときにX線露光を停止しているので、基準電圧Vr を
変えることなく、X線露光時間を常に適正な時間にする
ことができる。従って、適正なフィルム濃度でX線撮影
することができる。
【0039】なお、上記実施例では、液晶マスク11と
フレームメモリ22をそれぞれ100等分したが、この
発明はこれに限らず、両者が対応するように分割すれば
よい。
フレームメモリ22をそれぞれ100等分したが、この
発明はこれに限らず、両者が対応するように分割すれば
よい。
【0040】また、上記実施例では、エリアAi毎にデ
ータの総和ΣViを求めて上下基準レベルVU ,VL と
比較するようにしたが、この発明はこれに限らず、例え
ば、エリアAiのデータの総和ΣViから画素数で割っ
た平均値と1画素当たりの基準レベルとを比較するよう
にしてもよい。
ータの総和ΣViを求めて上下基準レベルVU ,VL と
比較するようにしたが、この発明はこれに限らず、例え
ば、エリアAiのデータの総和ΣViから画素数で割っ
た平均値と1画素当たりの基準レベルとを比較するよう
にしてもよい。
【0041】また、上記実施例では、上下基準レベルV
U ,VL から外れたエリアをマスキングした後、残りの
マスキングエリアを一つ置きにマスキングするようにし
たが、この発明はこれに限らず、例えば、図6におい
て、上から連続してマスキングしてもよく、また下から
連続してマスキングしてもよい。要するに、上下基準レ
ベルVU ,VL から外れたエリアを含めて50ヵ所のエ
リアをマスキングすればよい。
U ,VL から外れたエリアをマスキングした後、残りの
マスキングエリアを一つ置きにマスキングするようにし
たが、この発明はこれに限らず、例えば、図6におい
て、上から連続してマスキングしてもよく、また下から
連続してマスキングしてもよい。要するに、上下基準レ
ベルVU ,VL から外れたエリアを含めて50ヵ所のエ
リアをマスキングすればよい。
【0042】また、上記実施例では、液晶マスク11の
100ドットに対して50ドットのエリアをマスキング
するようにしたが、この発明はこれに限らず、例えば、
測光領域内において、造影剤や空気層が多く含まれるこ
とが予想される場合には、液晶マスク11のマスキング
エリアの割合を多くするように設定し、それに応じた基
準値Vrの値を設定してもよい。
100ドットに対して50ドットのエリアをマスキング
するようにしたが、この発明はこれに限らず、例えば、
測光領域内において、造影剤や空気層が多く含まれるこ
とが予想される場合には、液晶マスク11のマスキング
エリアの割合を多くするように設定し、それに応じた基
準値Vrの値を設定してもよい。
【0043】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明のX線透視撮影装置によれば、次のような効果を奏す
る。制御手段によって、基準レベルから外れた分割領域
のレベル外分割領域を全て含めて基準値に応じた適正な
光量になるように遮光手段が遮断制御されるので、測光
領域内に造影剤や空気層が存在しても、検出手段に入射
する光量は常に適正な値になる。従って、測光領域にお
ける光量の積算値が基準値に達したときにX線露光を停
止させるX線露光時間を常に適正な時間にすることがで
き、適正なフィルム濃度でX線撮影することができる。
明のX線透視撮影装置によれば、次のような効果を奏す
る。制御手段によって、基準レベルから外れた分割領域
のレベル外分割領域を全て含めて基準値に応じた適正な
光量になるように遮光手段が遮断制御されるので、測光
領域内に造影剤や空気層が存在しても、検出手段に入射
する光量は常に適正な値になる。従って、測光領域にお
ける光量の積算値が基準値に達したときにX線露光を停
止させるX線露光時間を常に適正な時間にすることがで
き、適正なフィルム濃度でX線撮影することができる。
【図1】この発明に係る一実施例のX線透視撮影装置の
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
【図2】液晶マスクの構成を示す模式図である。
【図3】透視プロセッサの構成を示すブロック図であ
る。
る。
【図4】フレームメモリのデータ構成を示す模式図であ
る。
る。
【図5】X線露光制御のフローチャートである。
【図6】食道周辺を撮影する場合の液晶マスクの構成を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図7】造影剤を含んだ胃を撮影する場合の液晶マスク
の構成を示す模式図である。
の構成を示す模式図である。
【図8】充電電圧と基準電圧との関係を示す図である。
【図9】従来装置の構成を示すブロック図である。
【図10】従来装置の課題を説明する図である。
1 … 天板 2 … X線管(X線曝射手段) 3 … 撮影器(撮影手段) 4 … I.I.(イメージインテンシファイヤ)(X線検
出手段) 5 … X線高電圧装置(X線曝射手段) 7 … プリズム(分配手段) 8 … TVカメラ(撮像手段) 10 … X線自動露出制御部 11 … 液晶マスク(遮光手段) 12 … 光電子増倍管(検出手段) 13 … 積分器(積算手段) 15 … 比較器(比較手段) 20 … 透視プロセッサ(制御手段) 22 … フレームメモリ 24 … CPU
出手段) 5 … X線高電圧装置(X線曝射手段) 7 … プリズム(分配手段) 8 … TVカメラ(撮像手段) 10 … X線自動露出制御部 11 … 液晶マスク(遮光手段) 12 … 光電子増倍管(検出手段) 13 … 積分器(積算手段) 15 … 比較器(比較手段) 20 … 透視プロセッサ(制御手段) 22 … フレームメモリ 24 … CPU
Claims (1)
- 【請求項1】 被検体に向けてX線を曝射するX線曝射
手段と、被検体からの透過X線をフィルム上に撮影する
撮影手段と、被検体からの透過X線を検出して光像に変
換するX線検出手段と、前記X線検出手段で変換された
光像の一部を測光領域として取り出す分配手段と、前記
X線検出手段で変換された光像を撮像し、映像信号を生
成する撮像手段と、前記分配手段で取り出された測光領
域の光量を検出して電気信号に変換する検出手段と、前
記検出手段からの電気信号を積算する積算手段と、前記
積算手段で積算された積算値と基準値とを比較すること
により、前記積算値が基準値に達した場合に前記X線曝
射手段にX線遮断信号を与える比較手段と、前記検出手
段の測光領域を分割し、その分割領域毎に遮光する遮光
手段と、前記撮像手段の映像信号から得られる前記測光
領域の各分割領域ごとの信号レベルと基準レベルとを比
較して、基準レベルから外れた分割領域を検出すること
に基づき、その領域に対応した前記遮光手段の分割領域
のレベル外分割領域を全て遮光するとともに、前記測光
領域の光量が前記比較手段の基準値に応じた適正な光量
になるように前記遮光手段の前記レベル外分割領域以外
の分割領域を選択的に遮光する制御手段と、を備えたこ
とを特徴とするX線透視撮影装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6259537A JPH08102396A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | X線透視撮影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6259537A JPH08102396A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | X線透視撮影装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08102396A true JPH08102396A (ja) | 1996-04-16 |
Family
ID=17335493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6259537A Pending JPH08102396A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | X線透視撮影装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08102396A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003522370A (ja) * | 1999-05-07 | 2003-07-22 | オーイーシー メディカル システムズ,インコーポレイテッド | X線イメージング・システムにおけるabsサンプリング・ウインドウのサイズおよび位置を自動的に決定する方法および装置 |
| CN107773259A (zh) * | 2016-08-31 | 2018-03-09 | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 | 一种平板探测器、x射线成像系统及自动曝光检测方法 |
-
1994
- 1994-09-29 JP JP6259537A patent/JPH08102396A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003522370A (ja) * | 1999-05-07 | 2003-07-22 | オーイーシー メディカル システムズ,インコーポレイテッド | X線イメージング・システムにおけるabsサンプリング・ウインドウのサイズおよび位置を自動的に決定する方法および装置 |
| CN107773259A (zh) * | 2016-08-31 | 2018-03-09 | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 | 一种平板探测器、x射线成像系统及自动曝光检测方法 |
| CN107773259B (zh) * | 2016-08-31 | 2021-06-11 | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 | 一种平板探测器、x射线成像系统及自动曝光检测方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4150079B2 (ja) | 半導体x線検出器を有するx線検査装置 | |
| JP3415348B2 (ja) | X線撮像装置 | |
| DE4235527A1 (de) | Einrichtung zur erfassung medizinischer roentgenbilder mit automatischer belichtung | |
| JP2004508124A (ja) | 組織特異的撮影のためのx線検出器及び方法 | |
| JP3459745B2 (ja) | 画像処理装置、放射線撮影装置及び画像処理方法 | |
| EP0909527B1 (en) | X-ray examination apparatus including an exposure control system | |
| US6393097B1 (en) | Digital detector method for dual energy imaging | |
| JPS59118135A (ja) | X線診断装置 | |
| JP4713952B2 (ja) | X線透視撮影用自動露出制御装置 | |
| US6084940A (en) | Exposure control on the basis of a relevant part of an X-ray image | |
| JPH0678216A (ja) | 放射線画像撮影装置および方法 | |
| JP3454967B2 (ja) | X線診断装置およびx線像検出装置 | |
| US5818900A (en) | Image spot noise reduction employing rank order | |
| JPH0878186A (ja) | X線透視撮影装置 | |
| JP3578378B2 (ja) | X線装置 | |
| JP3535842B2 (ja) | X線像検出装置 | |
| JPH05153496A (ja) | X線撮影装置,x線透視装置およびこれらに用いるx線テレビカメラ装置 | |
| JPH09187445A (ja) | X線透視撮影装置 | |
| JPH0638951A (ja) | X線診断装置 | |
| JPH0373120B2 (ja) | ||
| JPH07107386A (ja) | 放射線画像撮影装置 | |
| JP3643459B2 (ja) | 自動露出制御装置用x線検出器 | |
| JPS638600B2 (ja) | ||
| JPH09322064A (ja) | X線透視撮影装置 | |
| JPH10162990A (ja) | X線透視撮影装置 |