JPH08103659A - オレフィン化合物のエポキシ化用結晶性チタン・シリカライトコーティング触媒 - Google Patents

オレフィン化合物のエポキシ化用結晶性チタン・シリカライトコーティング触媒

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JPH08103659A
JPH08103659A JP6262040A JP26204094A JPH08103659A JP H08103659 A JPH08103659 A JP H08103659A JP 6262040 A JP6262040 A JP 6262040A JP 26204094 A JP26204094 A JP 26204094A JP H08103659 A JPH08103659 A JP H08103659A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 過酸化水素でオレフィン化合物をエポキシ化
するに際し、工業的に長時間連続的に使用可能な強度を
持ち、しかも該反応において副反応が起きず、高選択率
でエポキシド化合物を製造する、結晶性チタン・シリカ
ライトコーティング触媒を提供する。 【構成】 球形担体表面に結晶性チタン・シリカライ
ト層をコートしてなることを特徴とするオレフィン化合
物のエポキシ化用結晶性チタン・シリカライトコーティ
ング触媒。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、過酸化水素でオレフィ
ン化合物をエポキシ化するに際し、固定床、流動床ある
いは移動床式の反応形態で、長時間に亘り、安定かつ連
続的にエポキシド官能基を有する生成物を合成するのに
適する、球形状の結晶性チタン・シリカライトコーティ
ング触媒に関するものである。
【0002】
【従来の技術】結晶性チタン・シリカライトは、過酸化
水素とエチレン、プロピレン等のオレフィン化合物とか
ら、酸化エチレン、酸化プロピレン等のエポキシド化合
物を製造する際の触媒として既に公知であり、その反応
機構および触媒調製法に関して各種の提案がなされてい
る。
【0003】例えば、その反応機構に関しては、J.C
atal.,133,220(1992)において、エ
ポキシド化合物は結晶性チタン・シリカライトのミクロ
細孔内で生成し、得られたエポキシド化合物のオキシラ
ン環もミクロ細孔内で開環しグリコール、グリコールエ
ーテル類に分解されることが開示されている。また、そ
のため、高選択率でエポキシド化合物を得るためには、
結晶性チタン・シリカライト触媒を微小な球状とし、細
孔内の拡散距離を短くし、生成したエポキシド化合物を
速やかに細孔内から取り去ることが不可欠であることも
知られている。
【0004】また、過酸化水素とオレフィン化合物とか
らエポキシド化合物を合成するのに適した結晶性チタン
・シリカライト触媒の調製法としては、特開昭61−1
83275号、特開昭62−185081号、特開平6
−9592号、特公平4−5028号、ヨーロッパ特許
第315,247号、同第315,248号に開示され
ているが、これらに開示されている結晶性チタン・シリ
カライト触媒は、いずれも結晶性チタン・シリカライト
単独の微粒子であり、工業的に固定床、流動床あるいは
移動床式の反応装置でエポキシ化反応を長時間連続的に
行なうためには適さないものであって、これらの欠点を
克服するためには、ある程度強度を有する球状物等への
物理的成形が必要であった。
【0005】また、結晶性チタン・シリカライトの球状
物等への物理的成形方法として、特開昭63−1124
12号において、結晶性チタン・シリカライトを結合剤
と混ぜ、スプレードライ法により直径5〜1,000μ
mの多孔質な球状体を得る方法も提案されているが、こ
の方法で成形された球状体は、上記微粒子と同様に、触
媒細孔内の拡散距離が短く、生成したエポキシド化合物
を速やかに細孔内から取り去り、選択率を上げる点にお
いては好ましいものの、固定床、流動床あるいは移動床
式の反応装置に用いられる触媒としては、触媒の充填・
取り出し易さ、流れ易さの点において実用的でなく、ま
た、強度の点においても不十分であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
状況に鑑み、工業的に固定床、流動床あるいは移動床式
の反応装置に好適に適用し得て、長時間連続的に使用可
能な強度を持ち、しかも、過酸化水素でオレフィン化合
物をエポキシ化するに際し副反応が起きず、高選択率で
エポキシド化合物を製造することを可能にする、結晶性
チタン・シリカライト触媒を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成させるために鋭意検討を重ねた結果、不活性球形
担体表面に、結晶性チタン・シリカライトを均一にコー
ティングすることにより、上記目的を達成し得て、工業
的に有用なオレフィン化合物のエポキシ化用触媒が得ら
れることを見出し、本発明を完成した。
【0008】したがって、本発明の要旨は、球形担体表
面に結晶性チタン・シリカライト層をコートしてなるこ
とを特徴とするオレフィン化合物のエポキシ化用結晶性
チタン・シリカライトコーティング触媒に存する。
【0009】本発明に使用される結晶性チタン・シリカ
ライトは、一般に微粉末状で得られるが、その調製は、
ZEOLITES,12,943(1992)に開示さ
れているような公知の方法によればよく、例えば、テト
ラエチルオルトケイ酸と水酸化テトラ−n−プロピルア
ンモニム水溶液を混合した中へ、チタニウムテトラブト
キシドを滴下しゲルを調製した後、オートクレーブ中、
170℃、発生圧力下、2〜7日間水熱合成することで
得られる。
【0010】ここで得られる結晶性チタン・シリカライ
ト微粉末のSi/Ti原子比は、7〜10,000、好
ましくは10〜200が適当である。
【0011】また、結晶性チタン・シリカライト微粉末
をコートする球形担体としては、ある程度の強度を持
ち、不活性なものであれば特に限定する必要はなく、例
えば、球形シリカゲルや球形アルミナゲルが適当であ
る。また、この球形担体の大きさは、工業的な固定床、
流動床あるいは移動床式の反応装置への使用に適した、
直径0.2〜20.0mmが好ましい。
【0012】球形担体表面への結晶性チタン・シリカラ
イトのコーティングは、結晶性チタン・シリカライトの
微粉末を結合剤と混合し、スラリー溶液とし、転動され
ている担体に噴霧することによって行うことができる。
【0013】結合剤としては、その後の焼成により燃焼
し取り去ることができるものであればなんでもよく、例
えば、グリセリン、ポリビニルピロリドン、メチルセル
ロース、ポリビニルアルコールおよびツイーン80(ア
ルドリッチ社製)などの水溶液が使用できる。
【0014】結晶性チタン・シリカライト微粉末と結合
剤からなるスラリー溶液中の結晶性チタン・シリカライ
トの濃度は、一般に、1〜80wt%、好ましくは2〜
40wt%とするのが適当である。この場合、コーティ
ング層と担体間の結合をより堅固にするために、該スラ
リー溶液中に、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸
化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラ−n−プロ
ピルアンモニウム、水酸化テトラ−i−プロピルアンモ
ニウムおよび水酸化テトラ−n−ブチルアンモニウム等
の第四級有機塩基を0.1〜20.0wt%加えておく
ことも効果的である。また、コーティング層の結晶性チ
タン・シリカライト含有量を低減する目的で、あらかじ
めスラリー溶液中にシリカゲル微粉末(0.1〜5.0
μm)、あるいは細かく切断したグラスウール等を結晶
性チタン・シリカライト微粉末に対し、0.01〜5重
量倍、好ましくは0.1〜2重量倍加えておくことも可
能である。
【0015】該スラリー溶液の球形担体表面への噴霧
は、例えば、造粒装置上で球形担体を転動中、スプレー
ガンを用い、2〜50ml /分で噴霧する等、周知の手
段が用いられる。
【0016】得られたコーティング触媒は、50〜12
0℃で1〜48時間乾燥後、300〜550℃で1〜1
2時間焼成される。
【0017】焼成後のコーティング層の厚さは、球形担
体の直径に対する比が、0.0001〜0.1、好まし
くは0.01〜0.1が適当である。
【0018】本発明に従った結晶性チタン・シリカライ
トコーティング触媒は、過酸化水素とオレフィン化合物
から、高選択率でエポキシド化合物を与え、しかも、固
定床、流動床あるいは移動床式の反応装置を用いた工業
的連続製造法の触媒として有用なものである。
【0019】本発明の触媒の適用できるエポキシ化反応
は、過酸化水素とオレフィン化合物との従来のエポキシ
化反応に準ずればよい。
【0020】例えば、原料として用いる過酸化水素源と
しては、市販の30wt%過酸化水素水、もしくは2級
アルコールを分子状酸素で酸化して得られる、未精製の
過酸化水素をそのまま用いることができる。また、エポ
キシ化されるオレフィン化合物としては、少なくとも1
個のエチレン性二重結合を持つ非環式および環式有機化
合物で、具体的には、エチレン、プロピレン、2−ブテ
ン、イソブテン、1−オクテン、シクロヘキセン、アリ
ルアルコール、オレイン酸メチル、ジアリルエーテルお
よび塩化アリル等があげられる。
【0021】また、反応は液相反応で、大気圧下で実施
できるが、オレフィン化合物がガス状である場合は、そ
れを液相中に溶解させるのに十分な圧力に保つことが好
ましい。反応温度は、0〜100℃、好ましくは20〜
80℃である。また、反応原料の供給速度は、触媒体積
/原料供給速度(V/F)=0.05〜2.0、好まし
くは0.05〜0.5である。
【0022】
【実施例】以下、実施例によりさらに詳細に説明する
が、本発明がこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0023】実施例1 結晶性チタン・シリカライト微粉末(Si/Ti原子比
=13)50gと、結合剤として20wt%ポリビニル
アルコール水溶液150gを室温で1時間混合撹拌し、
スラリー溶液を調製した。次に、直径1.8〜2.0m
mの球形シリカゲル(富士シリシア化学株式会社製キャ
リアクト10)250gを遠心流動型造粒装置(フロイ
ント産業株式会社製CF360S)上で転動させ、上記
スラリー溶液を5ml/分で噴霧した。この間、転動し
やすくするため空気を150 l/分で吹き付け続け
た。噴霧終了後、80℃で20時間乾燥させ、300℃
で2時間仮焼成を行い、550℃で2時間焼成を行っ
た。これにより、球形シリカゲル1g当たり、結晶性チ
タン・シリカライトが0.14gの量でコートされた触
媒が得られた(以下「触媒1」と記す)。
【0024】図1に電子線マイクロアナライザ(島津E
PMA−8705)を用い、加速電圧15kV、照射電
流50nA、分光結晶PET(ペンタエリスリトー
ル)、分析範囲3×3mmおよび分析時間262分で分
析した触媒断面のチタンの分布図を示す。
【0025】触媒は真球であり、結晶性チタン・シリカ
ライトコーティング層は、0.01〜0.1mm(コー
ティング層の厚さ/球形シリカゲルの直径=0.005
〜0.056)で触媒全体を完全にコートしていること
がわかる。
【0026】実施例2 シリカゲル微粉末20gと20wt%水酸化テトラ−n
−プロピルアンモニウム水溶液70gを混ぜ、室温で1
時間攪拌した。これに、実施例1と同様の結晶性チタン
・シリカライト微粉末14g、結合剤としてグリセリン
4.2gを加えスラリー溶液を調製した。次に、上記ス
ラリー溶液を10ml/分で実施例1で用いたと同じ球
形シリカゲル70g上に噴霧した以外は、実施例1と同
様に、コーティング、乾燥、仮焼成、焼成を行ない、球
形シリカゲル1g当たり、結晶性チタン・シリカライト
が0.1gの量でコートされた触媒が得られた(以下
「触媒2」と記す)。
【0027】なお、ここで用いた水酸化テトラ−n−プ
ロピルアンモニウムは、シリカゲルの表面を溶解する作
用があり、その結果コーティング層とシリカゲルとの結
合を強固にする働きがある。
【0028】比較例1 シリカゲル微粉末6g、20wt%水酸化テトラ−n−
プロピルアンモニウム20g、水8gを混ぜ、これに実
施例1と同様の結晶性チタン・シリカライト微粉末1g
を加え、ニーダーで乾燥しながら成形可能な水分量にな
るまで混練し、押し出し成形機にて外径2mmのワイヤ
ーを得た。次に、実施例1と同様に、乾燥、仮焼成、焼
成を行ない、その後、長さ5mmの円筒形となるように
切断した(以下「触媒3」と記す)。
【0029】実施例3 内径12mmのステンレス製カラムに触媒1を2.8m
l充填した反応器を作成し、これに、メチルアルコール
154g、イソプロパノール181g、ピロリン酸二水
素二ナトリウム27mg、30wt%過酸化水素水30
gに、プロピレン42gを混ぜた反応原料を、触媒体積
/原料供給速度(V/F)=0.1でカラムに通液し、
反応温度60℃でプロピレンのエポキシ化反応を行なっ
た。その結果、過酸化水素基準の反応率95%、酸化プ
ロピレン選択率91%であった。
【0030】実施例4 触媒1の代わりに触媒2を用い、触媒体積/原料供給速
度(V/F)=0.2とした以外は、実施例3と同様に
プロピレンのエポキシ化反応を行なった。その結果、過
酸化水素基準の反応率92%、酸化プロピレン選択率8
9%であった。
【0031】比較例2 触媒1の代わりに触媒3を用い、触媒体積/原料供給速
度(V/F)=0.2とした以外は、実施例3と同様に
プロピレンのエポキシ化反応を行なった。その結果、過
酸化水素基準の反応率37%、酸化プロピレン選択率6
4%であった。
【0032】比較例3 触媒1の代わりに触媒3を用い、触媒体積/原料供給速
度(V/F)=0.6とした以外は、実施例3と同様に
プロピレンのエポキシ化反応を行なった。その結果、過
酸化水素基準の反応率63%、酸化プロピレン選択率5
8%であった。実施例3および4より触媒量を増やした
にもかかわらず、反応率、選択率ともに低い値であっ
た。
【0033】実施例5 内径12mmのステンレス製カラムに触媒1を2.8m
l充填した反応器を作成し、これに、イソプロパノール
335g、ピロリン酸二水素二ナトリウム27mg、3
0wt%過酸化水素水30gに、イソブテン56gを混
ぜた反応原料を、触媒体積/原料供給速度(V/F)=
0.2でカラムに通液し、反応温度60℃でイソブテン
のエポキシ化反応を行なった。その結果、過酸化水素基
準の反応率82%、酸化イソブテン選択率80%であっ
た。
【0034】比較例4 触媒1の代わりに触媒3を用い、触媒体積/原料供給速
度(V/F)=0.4とした以外は、実施例5と同様に
イソブテンのエポキシ化反応を行なった。その結果、過
酸化水素基準の反応率43%、酸化イソブテン選択率6
1%であった。実施例5より触媒量を増やしたにもかか
わらず、反応率、選択率ともに低い値であった。
【0035】実施例6 内径12mmのステンレス製カラムに触媒1を2.8m
l充填した反応器を作成し、これに、イソプロパノール
335g、ピロリン酸二水素二ナトリウム27mg、3
0wt%過酸化水素水30gに、アリルアルコール58
gを混ぜた反応原料を、触媒体積/原料供給速度(V/
F)=0.2でカラムに通液し、反応温度60℃でアリ
ルアルコールのエポキシ化反応を行なった。その結果、
過酸化水素基準の反応率84%、グルシドール選択率7
7%であった。
【0036】実施例7 内径12mmのステンレス製カラムに触媒1を2.8m
l充填した反応器を作成し、これに、ピロリン酸二水素
二ナトリウム0.003wt%、過酸化水素2wt%、
プロピレン10wt%、イソプロパノール44wt%、
メタノール38wt%、水6wt%を反応原料とし、触
媒体積/原料供給速度(V/F)=0.1でカラムに通
液し、反応温度60℃で100時間連続反応を行なっ
た。反応終了後、カラムに空気を通気しながら、80℃
で2時間乾燥し、370℃で13時間焼成して触媒の再
生を行なった。これを放冷後、再度上記と同様の連続反
応を行なった。上記反応と触媒再生のサイクルを繰り返
し行ない、各サイクルの反応における反応時間20時間
および100時間での酸化プロピレン収率(%)[過酸
化水素基準の反応率(%)×酸化プロピレン選択率
(%)÷100]の結果を図2に示す。本願の触媒は、
15サイクル繰り返しても触媒性能の低下は見られなか
った。
【0037】
【発明の効果】本発明の触媒によれば、固定床、流動床
あるいは移動床式反応装置により、長期間、高収率およ
び高選択率でエポキシド化合物を経済的に工業的に製造
することができる。また、本発明の触媒は、高強度であ
るので、焼成による再生を繰り返しても、微細化等の形
状変化も起こらず、一定の形状が維持され、また、触媒
活性が低下しない。したがって、本発明の触媒は、過酸
化水素とオレフィン化合物とから、エポキシド化合物の
工業的製造において非常に有用なものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】エポキシ樹脂で包埋後、断面研磨した触媒1の
電子線マイクロアナライザによるチタン原子の分布図で
ある。
【図2】実施例7における、各サイクルの酸化プロピレ
ン収率(%)を示す図である。
【符号の説明】
1 コーティング層中のチタン原子 2 球形シリカゲル担体

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 球形担体表面に結晶性チタン・シリカラ
    イト層をコートしてなることを特徴とするオレフィン化
    合物のエポキシ化用結晶性チタン・シリカライトコーテ
    ィング触媒。
  2. 【請求項2】 結晶性チタン・シリカライト層の厚さ
    が、球形担体の直径に対する比が、0.0001〜0.
    1である請求項1記載の触媒。
  3. 【請求項3】 球形担体の直径が、0.2〜20.0m
    mである請求項1または2記載の触媒。
  4. 【請求項4】 球形担体が、アルミナまたはシリカゲル
    である請求項1ないし3のいずれかに記載の触媒。
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