JPH08103B2 - Alignment device for ophthalmic machine - Google Patents

Alignment device for ophthalmic machine

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JPH08103B2
JPH08103B2 JP3289037A JP28903791A JPH08103B2 JP H08103 B2 JPH08103 B2 JP H08103B2 JP 3289037 A JP3289037 A JP 3289037A JP 28903791 A JP28903791 A JP 28903791A JP H08103 B2 JPH08103 B2 JP H08103B2
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linear
light
alignment
cornea
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弘 田巻
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】本発明は、眼科器械、例えばレフラクトメ
ーター、眼底カメラ、またはオフサルモメーターなどの
被検眼光軸と上記器械光軸との位置合せ(狭義のアライ
メント合せ)、もしくは作動距離合せのための眼科器械
用アライメント装置に関する。以下本明細書では特に断
りのない限り、上記「狭義のアライメント合せ」と「作
動距離合せ」の両者を含め、単に「アライメント」と言
う。従来、この種の装置としては、被検眼の角膜もしく
は強膜等の前眼部に予め定めた角度で光束を照射する発
光手段と、眼科器機が正規の位置にアライメントされて
いるとき、前記照射光束が被検眼の前眼部で反射されそ
の反射光が帰環すべき位置に配され、その反射光を受光
する受光手段とから構成され、受光手段が反射光を受光
したときにアライメント完了の信号を出し検者に知らせ
る装置であった。そして従来のアライメント装置におい
ては発光、受光各手段の配置位置を定める前提として、
照射光を反射する被検眼前眼部の形状をある一定のモデ
ル眼に求めざるを得ず、通常例えば角膜で反射させる場
合は、角膜の前面の曲率半径を7.5m/mないし7.
8m/mのいずれか一つの値を基準としていた。またア
ライメント精度を向上させるためには発光手段として、
発光ダイオード等の微少光源を使用し、さらにこの光源
からの光をリレー光学系によりピンホールに結像し、こ
のピンホールを二次光源として使用しこの二次光源を被
検眼角膜上もしくはその近傍に結像レンズで結像させ、
また受光手段にもピンホールを設け、このピンホールを
受光素子の光学的共役位置に配置し、このピンホール上
に前記角膜からの反射光を結像させる結像手段が採用さ
れていた。
[0001] The present invention is for aligning the optical axis of an eye to be inspected, such as a refractometer, a fundus camera, or an off-salmometer, with the optical axis of the instrument (alignment in a narrow sense) or for working distance adjustment. The present invention relates to an alignment device for ophthalmic instruments. Hereinafter, in the present specification, unless otherwise specified, both “alignment in a narrow sense” and “working distance alignment” are simply referred to as “alignment”. Conventionally, as this type of device, a light emitting means for irradiating the anterior eye part such as the cornea or sclera of the eye to be inspected with a light beam at a predetermined angle, and when the ophthalmologic apparatus is aligned in a regular position, the irradiation The light flux is reflected by the anterior segment of the eye to be examined, and the reflected light is arranged at a position where the return light should be returned.The light receiving means receives the reflected light. When the light receiving means receives the reflected light, the alignment is completed. It was a device that gave a signal to inform the examiner. And in the conventional alignment apparatus, as a premise for determining the arrangement positions of the light emitting and light receiving means,
The shape of the anterior segment of the subject's eye that reflects the irradiation light has to be obtained for a certain model eye, and normally, for example, when the light is reflected by the cornea, the radius of curvature of the front surface of the cornea is 7.5 m / m to 7.
It was based on any one value of 8 m / m. Also, in order to improve the alignment accuracy, as a light emitting means,
A micro light source such as a light emitting diode is used, and the light from this light source is imaged on a pinhole by a relay optical system, and this pinhole is used as a secondary light source, and this secondary light source is on or near the cornea of the eye to be examined. To form an image on the
Further, a pinhole is also provided in the light receiving means, the pinhole is arranged at an optically conjugate position of the light receiving element, and an image forming means for forming an image of the reflected light from the cornea on the pinhole has been adopted.

【0002】しかしながら、被検者はかならずしも、上
記モデル眼と同一の形状を有する角膜をもつているとは
限らないばかりか、被検者の眼屈折特性、例えば遠視
眼、近視眼においては角膜の曲率半径はモデル眼の数値
からズレることが多く、このことはアライメント検出精
度の低下をまねいていた。さらに大きな欠点としては、
従来のアライメント装置は被検眼の乱視要素を一切考慮
していない点にある。一般に人眼にはたとえ自覚もしく
は他覚的視力測定において正視と測定されても平均ID
の生理的角膜乱視が約90%の人にみとめられる。これ
は角膜の水平切面の曲率半径より垂直切面の曲率半径が
小さいためである。また被検眼が乱視眼であれば、乱視
眼中の約80%は角膜性乱視に起因しているため、さら
に角膜の各径線上の曲率半径の差は大きくなる。これら
被検眼の乱視特性による角膜をある一定の球面とみなし
て設計された従来のアライメント装置では、そのアライ
メント精度はきわめて低いものとならざるを得なかつ
た。また従来のアライメント装置のある種のものには、
前述の発光−受光手段を4組もうけ、その内2組を装置
光軸を含む水平面内に、他の2組を光軸を含む垂直面内
に配置し、さらにアライメント表示装置に前記各受光素
子に対応する位置関係で4つの表示手段をもうけ、受光
手段が反射光を受光したとき点燈するように構成して、
この表示手段の表示状態によりアライメントの完了及び
アライメント方向すなわち器械を上下左右いずれの方向
に移動すればよいかを検者に指示する装置があつた。
However, the subject does not always have a cornea having the same shape as that of the model eye, and the eye refraction characteristics of the subject, for example, the curvature of the cornea in the farsighted eye and myopia. The radius often deviates from the numerical value of the model eye, which has led to a decrease in alignment detection accuracy. An even bigger drawback is
The conventional alignment apparatus does not consider the astigmatic element of the subject's eye at all. Generally, the human eye has an average ID even if it is measured as emmetropia in subjective or objective visual acuity measurement.
About 90% of people have physiological corneal astigmatism. This is because the radius of curvature of the vertical facet is smaller than the radius of curvature of the horizontal facet of the cornea. If the eye to be inspected is an astigmatic eye, about 80% of the astigmatic eye is due to corneal astigmatism, and therefore the difference in radius of curvature on each radial line of the cornea becomes larger. In the conventional alignment apparatus designed by considering the cornea due to the astigmatism characteristic of the eye to be examined as a certain spherical surface, the alignment accuracy has to be extremely low. Also, some of the conventional alignment devices
Four sets of the above-mentioned light emitting and receiving means are provided, two sets of which are arranged in a horizontal plane including the optical axis of the device, and the other two sets are arranged in a vertical plane including the optical axis, and further, each of the light receiving elements is arranged in the alignment display device. The four display means are provided in a positional relationship corresponding to, and the light receiving means is configured to turn on when the reflected light is received,
There is a device for instructing the examiner by the display state of the display means that the alignment is completed and the alignment direction, that is, the direction of moving the instrument up, down, left or right.

【0003】しかしながらこのアライメント装置におい
ても、発光−受光手段はあくまで反射光を受光できた
か、否かの信号を出力し得るだけであるから、移動量を
定量的に出力することは不可能であった。このことはア
ライメント操作を検者に実行させざるを得ず、検者は多
大のアライメント調整時間を費やす結果となり、また器
機本来の機機、すなわち眼底カメラであれば被検眼眼底
の撮影、レフラクトメーターであれば屈折力測定、オフ
サルモメーターであれば角膜の曲率半径測定等を実行し
ている間はアライメント状態を監視することができず、
ややもするとアライメントが不完全な状態のまま測定し
てしまうことにもなり、器械の測定結果に大きな誤差を
まねくという欠点があった。特に被検者が小児の場合は
固視がむずかしく、測定とアライメント調整を頻繁にく
り返すこととなり、測定時間の長大化をまねき、被検眼
の調節力の介入が測定結果の誤差を将来するという欠点
につながつた。特に近年多くの眼料器械がその測定を自
動化する傾向にあるも、アライメントの自動化はいまだ
実現されておらず、たとえ測定自身は自動化されても、
いなそれなるがゆえに、アライメント不完全な状態で自
動測定しても、アライメント不備を知ることが出来ず、
誤つた測定値を正しい測定値とみなしてしまう欠点があ
つた。
However, even in this alignment apparatus, the light emitting-light receiving means can only output a signal indicating whether or not the reflected light can be received, so that it is impossible to quantitatively output the movement amount. It was This inevitably causes the examiner to perform the alignment operation, and the examiner spends a great deal of alignment adjustment time.In addition, if the instrument is the original machine, that is, if it is a fundus camera, photographing of the fundus of the eye to be examined, refracting. If it is a meter, it is not possible to monitor the alignment state while performing refractive power measurement, if it is an off salmometer, while measuring the radius of curvature of the cornea, etc.
In some cases, the alignment may be incompletely measured, which causes a large error in the measurement result of the instrument. In particular, when the subject is a child, the fixation is difficult, and the measurement and alignment adjustments are repeated frequently, leading to an increase in the measurement time and the intervention of the accommodation power of the eye to be examined may cause an error in the measurement result in the future. It was linked to shortcomings. Especially in recent years many eye instruments have tended to automate the measurement, but the automation of alignment has not yet been realized, and even if the measurement itself is automated,
Because of that, even if automatic measurement is performed with the alignment incomplete, it is not possible to know the alignment defect,
There is a drawback that incorrect measurement values are regarded as correct measurement values.

【0004】本発明は、係る従来の眼科用器械における
アライメント装置の欠点を解決するためになされるもの
で、その第1の目的は非結像光学形式でアライメント量
を定量的に測定できるアライメント装置を提供すること
にある。本発明の第2の目的は、継続的にアライメント
量を計測でき、しかもアライメント調整量を数値化して
出力し、その出力をもとに自動的にアライメント調整で
きる自動アライメント装置を提供することにある。本発
明の第3の目的は、係るアライメント装置を比較的安価
に提供でき、しかもアライメント量検出精度の高い、新
しい型式のアライメント装置を提供することにある。以
上の目的を達成するための本発明に係るアライメント装
置の構成上の特徴は、ある平面内で測定の基準となる予
め定められた形状を成し照明光束を射出する光源と、光
軸上に配置されたピンホールと、前記ピンホールを通過
する前記照明光束の主光線を前記光軸と平行にし、かつ
被検眼前眼部の頂点の接平面近傍に前記光源の像を結像
させるための光学部材とを有する照明光学系と;前記照
明光束の前記前眼部からの反射光を前記光源と光学的に
非共役な面内で光電的に検出する検出手段と;前記検出
手段が検出した前記反射光から前記光源に対応する光源
像を求め、前記光源像の前記光源に対する形状および位
置の変化を求め、その形状および位置の変化に基いて装
置のアライメント量を演算する演算手段とから構成され
てなることにある。
The present invention is made in order to solve the drawbacks of the alignment apparatus in the conventional ophthalmologic apparatus, and the first object thereof is an alignment apparatus capable of quantitatively measuring the alignment amount in the non-imaging optical format. To provide. A second object of the present invention is to provide an automatic alignment apparatus capable of continuously measuring the alignment amount, digitizing and outputting the alignment adjustment amount, and automatically adjusting the alignment based on the output. . A third object of the present invention is to provide an alignment apparatus of a new type that can provide such an alignment apparatus at a relatively low cost and has high alignment amount detection accuracy. The structural features of the alignment apparatus according to the present invention for achieving the above object are a light source that emits an illumination light flux having a predetermined shape that is a reference for measurement in a plane, and an optical axis on the optical axis. For arranging a pinhole and a chief ray of the illumination light flux passing through the pinhole in parallel with the optical axis, and for forming an image of the light source in the vicinity of a tangent plane of the apex of the anterior segment of the eye to be examined. An illumination optical system having an optical member; a detection means for photoelectrically detecting reflected light of the illumination light flux from the anterior segment in a plane optically non-conjugated with the light source; A light source image corresponding to the light source from the reflected light; a change in shape and position of the light source image with respect to the light source; and a calculation unit that calculates an alignment amount of the apparatus based on the change in shape and position. To be done .

【0005】以上の構成により、非結像光学形式で、且
つ従来のアライメント装置では不可能であつた定量的な
アライメント量の測定が可能となり、このアライメント
量をもとに自動的にアライメント調整ができ、しかもこ
のアライメント装置を有する眼科器械の本来の測定ある
いは検査もしくは記録取り等を実行している間も、つね
にアライメント量を測定出来、この結果をもとに継続的
にアライメント調整ができる新しいアライメント装置を
提供することができる。以下本発明の原理を図をもとに
説明する。図1は、本発明に係わるアライメント装置の
基本原理を示すための概略光装置図である。照明光軸O
から予め定められた間隔を開けて少なくとも3つの点
光源P12,Pが配置されている(図1ではP,P
のみを図示する)。1,P,Pから射出されか光
束は、照明光軸O上に配置されたピPHを通つて、反
射鏡Mで反射されたのち、前記ピンホールPHの位置に
焦点を有する結像レンズLにより装置光軸Oとその主
光線I,I,Iれ平行となる照明光束I
,Iとなつて角膜Cに照射される。そして結像レ
ンズLにより、角膜Cの頂点Ocと接する接平面Hに点
光源P,Pの光源像が結像されるようになつて
いる。また装置光軸Oと平面内に平面型検出器Doを
配置し、この検出器Doは、前記結像レンズLがリレー
レンズとして働き図中Dの位置にその光学的共役像が形
成されている。共役検出面Dは、前記ピンホールPHと
は光学的に非共役な関係にある。ここで検出面Dは、角
膜Cから光軸O方向に1、また結像レンズLの前面か
ら距離d離て位置している。
With the above construction, it is possible to measure a quantitative alignment amount in a non-imaging optical system, which is impossible with the conventional alignment apparatus, and the alignment is automatically adjusted based on this alignment amount. A new alignment that can be performed, and the alignment amount can always be measured while performing the original measurement, inspection, or recording of the ophthalmologic instrument having this alignment device, and the alignment can be continuously adjusted based on this result. A device can be provided. The principle of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic optical device diagram showing the basic principle of an alignment apparatus according to the present invention. Illumination optical axis O
2, at least three point light sources P 12 and P 3 are arranged at predetermined intervals (P 1 and P 3 in FIG. 1).
Only 2 is shown). The light fluxes emitted from 1 , P 2 and P 3 pass through a pin PH arranged on the illumination optical axis O 2 , are reflected by a reflecting mirror M, and then have a focus at the position of the pinhole PH. An illumination light flux I 1 , which is parallel to the optical axis O 1 of the device and its chief rays I 1 , I 2 , I 3 by the image lens L,
The cornea C is irradiated with I 2 and I 3 . The light source images of the point light sources P 1 P 2 and P 3 are formed on the tangent plane H that is in contact with the apex Oc of the cornea C by the imaging lens L. Further, a plane type detector Do is arranged in a plane with the optical axis O 1 of the apparatus, and in this detector Do, the imaging lens L functions as a relay lens and an optical conjugate image thereof is formed at a position D in the figure. There is. The conjugate detection surface D has an optically non-conjugated relationship with the pinhole PH. Here, the detection surface D is located 1 from the cornea C in the direction of the optical axis O 1 and is separated from the front surface of the imaging lens L by a distance d.

【0006】また本測定原理において点光源P
,Pの像を接平面H上に結る利点は以下のようで
ある。すなわち、一般に、平行光束が被検眼に光束を入
射されると、その光源像は、被検眼が正視の場合にその
焦点位置である網膜の黄斑中心窩上に結像されるため強
い照明光束を入射させると被検眼に眩しさや、はなはだ
しい時には、損傷をあたえる可能性がある。これをさけ
るために接平面上に光源像を結像させ、それにより図2
に示すように接平面H通過後の光束iは拡散光束として
角膜に入射し、角膜Cの焦点Fcに向う。そして眼内に
入射するに従つて拡散され、周辺網膜に拡散光として照
射されるため、網膜等の損傷や眩しさを防止することが
できる。また照明光束iの主光線Iは、つねに光軸O
と行であるから角膜Cへ到達する主光線も平行であり、
その角膜での 反射光は角膜焦点Fcから射出したごと
き反射光束となるため、測定原理上極めて便利となる。
図3は本発明の第1の測定原理を説明するための斜視図
であり、共役検出面D以降の光学系については図示を省
略してある。また以後の説明において照明光束i,i
,iはすべてその主光線I,I,Iを使つて
図3において装置光軸Oに原点を有するX−Y
交座標系を考。このX−Y座標系を含む面に、その
頂点を接するように角膜Cが配置ているものとする。こ
の角膜Cは、その光学中心(角膜頂点)OcをX軸方
にE、Y軸方向にEずらして配置されており、か
つ、曲率半径r1主径線rがX軸に対し角度θだけ
傾けられて配置されているものとするたその第2主径線
の曲率半径をrとする。今このX−Y座標置
光軸Oにそつて距離I離れた位置に、その装置光軸O
に原点OをもつY直交座標系を想定し、このX−Y座
標面に検出面Dを配置したとする。
Further, in the present measurement principle, the point light source P 1 ,
The advantages of forming the images of P 2 and P 3 on the tangent plane H are as follows. That is, in general, when a parallel light beam is incident on the eye to be inspected, its light source image is focused on the macula fovea of the retina, which is the focal position of the eye to be emmetropic, so that a strong illumination light beam is emitted. Incident light may cause dazzling of the eye to be inspected or damage to the eye to be inspected when it is extremely large. In order to avoid this, a light source image is formed on the tangential plane, so that
As shown in, the light flux i after passing through the tangential plane H enters the cornea as a diffused light flux and goes to the focal point Fc of the cornea C. Then, the light is diffused as it enters the eye and is irradiated to the peripheral retina as diffused light, so that damage to the retina and glare can be prevented. In addition, the chief ray I of the illumination luminous flux i is always the optical axis O 1
And the chief ray reaching the cornea C is also parallel,
The reflected light on the cornea becomes a reflected light flux as it emerges from the corneal focal point Fc, which is extremely convenient in terms of measurement principle.
FIG. 3 is a perspective view for explaining the first measurement principle of the present invention, and the illustration of the optical system after the conjugate detection surface D is omitted. Further, in the following description, the illumination luminous fluxes i 1 , i
2 and i 3 all use their chief rays I 1 , I 2 , and I 3 , and consider the X 0 -Y 0 Cartesian coordinate system having the origin at the device optical axis O 1 in FIG. It is assumed that the cornea C is arranged so that its apex is in contact with the plane including this X 0 -Y 0 coordinate system. The cornea C, the E optical centers (corneal apex) Oc to X 0 axis direction H, Y 0 in the axial direction are staggered E v, and the radius of curvature r 1 main meridian r 1 is X 0 The radius of curvature of the second main radial line r 2 which is assumed to be arranged at an angle θ with respect to the axis is r 2 . This X 0 -Y 0 coordinate-end optical axis O 1 position apart a distance I Te graduation now, the device optical axis O
It is assumed that the Y orthogonal coordinate system having the origin O at 1 is assumed and the detection plane D is arranged on this XY coordinate plane.

【0007】今、この角膜Cに前述したように光軸O
と平行な3本の光線I,I23を照射するとこれら光
線は角膜Cにより反射され、その反射光線I,I,I
´は共役検出面Dに到達する。光線I,I,I
のX−に入射する入射点をそれぞれU
)、V、W)とし、また
反射光線I´,I´,Dへの到達点のX−Y座標上
の位置をそれぞれU(X,Y)、V(X22)、W
(X,Y)とし、これら6点について以下の係数の
式を定義
Now, as described above, the optical axis O 1 is applied to the cornea C.
When three light rays I 1 and I 23 parallel to are irradiated, these light rays are reflected by the cornea C, and the reflected light rays I 1 , I, and I
3 ′ reaches the conjugate detection surface D. Rays I 1 , I 2 , I 3
The incident points incident on X 0 − of U 0 ( 0 X 1 , 0
Y 1 ), V 0 ( 0 , W 0 ( 0 X 3 , 0 Y 3 ), and the positions on the XY coordinates of the reaching points of the reflected rays I 1 ′, I 2 ′, and D are U ( X 1 , Y 1 ), V (X 22 ), W
(X 3 , Y 3 ) and define the following coefficient formulas for these 6 points.

【0008】[0008]

【数1】 以上の定義のもとに角膜への入射点と検出面への投影点
の間には
[Equation 1] Based on the above definition, between the point of incidence on the cornea and the point of projection on the detection surface

【0009】[0009]

【数2】 の方程式であらわされる。ここに1は、前述の通り角膜
の頂点と検出面Dとの間の距離であり、rは角膜の曲率
半径である。ここで、上記係数のカツコ式を以下のもの
で定義する。
[Equation 2] It is expressed by the equation. Here, 1 is the distance between the apex of the cornea and the detection surface D as described above, and r is the radius of curvature of the cornea. Here, the Katsuko formula of the above coefficient is defined as follows.

【0010】[0010]

【数3】 ここで、p,qはそれぞれ上記(1)式のA,B,C,
Dのいずれかをとるものとすると(2)式は
(Equation 3) Here, p and q are A, B, C, and
If any one of D is taken, equation (2) becomes

【0011】[0011]

【数4】 として表わされる。ここで上記の二次方程式の根を[Equation 4] Is represented as Where the root of the above quadratic equation is

【0012】[0012]

【数5】 ここでi=1, 2とする。また、検出面Dを図1に示
すように角膜頂点
(Equation 5) Here, i = 1 and 2. In addition, as shown in FIG.

【0013】[0013]

【数6】 から距離I´の位置にその共役検出面を移動させ、検出
面D´への反射光線I1´,I´,I´の到達点U
´(X´,Y´,)、V´(X)、W´(X
´,Y´)について考えると、X−Y座標面へ
の,I,Iの入射点U)、V
X()との間にやはり上述の第
(3)式と同様に
(Equation 6) From the conjugate detection surface to the position of the distance I ′ from the arrival point U of the reflected light rays I 1 ′, I 2 ′ and I 3 ′ to the detection surface D ′.
′ (X 1 ′, Y 1 ′,), V ′ (X 2 ), W ′ (X
3 ′, Y 3 ′), the incident points U 0 ( 0 X 1 , 0 Y 1 ), V 0 of I 2 , I 3 on the X 0 -Y 0 coordinate plane.
Between ( 0 X ( 0 X 3 , 0 Y 3 ), the same as the above formula (3),

【0014】[0014]

【数7】 が成立し、その根を(Equation 7) Is established and its root

【0015】[0015]

【数8】 とする。こうして、上記(4),(4)´式の根λi
1,λi´より
(Equation 8) And Thus, the root λi of the above equations (4) and (4) '
From 1, λi '

【0016】[0016]

【数9】 これより[Equation 9] Than this

【0017】[0017]

【数10】 として1をもとめることができる。また図1から分かる
ように 1−1´=d´−d であり、かつd,d´は設計上予め定めることのできる
既知の距離であるから、第(5)式は
[Equation 10] You can ask for 1. Further, as can be seen from FIG. 1, 1-1 ′ = d′−d, and d and d ′ are known distances that can be predetermined in design. Therefore, the equation (5) is

【0018】[0018]

【数11】 と書くことができる。また図1から作動距離すなわちレ
ンズLと角膜C間の距離WDは、WD=1+dであるか
ら結局作動距離WDは
[Equation 11] Can be written. Further, from FIG. 1, the working distance, that is, the distance WD between the lens L and the cornea C is WD = 1 + d.

【0019】[0019]

【数12】 として求めることが出来る。この求められた作動 距離
wdと眼科装置の固有の正規の作動距離とを比較すれ
ば、装置が正規の作動距離位置に位置しているか否かが
判定できるし、作動距離wdと正規の作動距離との差を
計算すれば眼科装置を光軸方向にどれ程移動させればよ
いか求めることができる。次に、角膜頂点Ocが光軸O
と水平方向にE、垂直方向にEずれことに起因す
る狭義のアライメントのための水平方向アライメント量
α、垂直方向アライメント量βを求めるために点光源p
,P,Pの配置を =0 0y+0y+0y=0} ……(7) を満たすよう例えば点光源P,P,Pが作る正 ……(3)′式 三角形の重心が光軸Oと一致するように予め設計する
か、もしくは角膜Cの方に光軸Oと垂直な反射鏡を配
置し、このときの検出面Dでの検出点をもと前記(7)
式を満たすようなX−Y座標系及びX−Y座標系を
作定し、を初期条件としてもよい。
(Equation 12) Can be obtained as By comparing the obtained working distance wd with the proper working distance peculiar to the ophthalmologic apparatus, it can be determined whether or not the apparatus is located at the normal working distance position, and the working distance wd and the normal working distance can be determined. By calculating the difference between and, it is possible to determine how much the ophthalmologic apparatus should be moved in the optical axis direction. Next, the corneal apex Oc is the optical axis O.
1 and horizontally E M, horizontal alignment amount for narrow alignment caused by E V vertically offset alpha, the point light sources to determine the vertical alignment amount beta p
For example, the point light sources P 1 , P 2 , P 3 are arranged so that the arrangement of 1 , P 2 , P 3 is 0 x 1 + 0 x 2 + 0 x 3 = 0 0 y 1 + 0y 2 + 0y 3 = 0} (7). Positive equation (3) ′ created by 3 is designed in advance so that the center of gravity of the triangle coincides with the optical axis O 1 , or a reflecting mirror perpendicular to the optical axis O 1 is placed on the cornea C at this time. Based on the detection point on the detection surface D of (7)
The X 0 -Y 0 coordinate system and the XY coordinate system that satisfy the formula may be established, and the initial condition may be set.

【0020】こうすることにより、角膜Cに光線I
,Iを入射させたとき面Dでの検出点U(X
)、V(X,Y)、W(X,Yアライメント
量α,βはそれぞれ
By doing this, the light rays I 1 ,
When I 2 and I 3 are made incident, the detection point U (X 1 ,
Y 1 ), V (X 2 , Y 2 ), W (X 3 , Y alignment amounts α, β are respectively

【0021】[0021]

【数13】 としてもとめることができる。もし点光源Pをn個にす
ればα,βはそれぞれ以下のように拡張できる。すなわ
(Equation 13) Can be obtained as If there are n point light sources P, α and β can be expanded as follows. Ie

【0022】[0022]

【数14】 となる。図4は、本発明の第2の測定原理を説明するた
めの斜視図である。前述の第1の測定原理と同ーの構成
要素は、同一の符号を付して説明を省略する。本測定原
理は、球面あるいはトーリツク面形状の反射面に直線状
光源からの平面光束を入射させても、その反射光束はや
はり平面光束であり、ただ曲面特性により、その平面光
束の長さと傾き角のみが変化するという原理にもとずい
ている。今、図4に示すように直線状光源A,Bを想定
する。この直線状光源A及びBは、1点Uで互いに交差
し、それぞれの端点をV,Wとする。直線状光源Aは、
軸と平行な直線Xpに対し角度θ傾斜しており、
また直線状光源B線Xpに対し角度θで傾斜している
ものとする。また両直線光源A,Bの交角はθとする。
この直線光源A,Bからの光が、その主光軸を装置光軸
に対し平行になるうにX−Y座標面に投影結像
されたとすると、光源A,Bからの主光線膜Cで反射さ
れ前記直線状光源A,Bと光学的に非共役な検出面Dに
到達する。この検出面D上の前記直線状光源Aの角膜C
での反射による投影直線をA´、前記直線状光源Bの角
膜Cでの反射による投影直線をB´とすると、角膜Cの
前面のトーリツク面形状の形状特性、すなわちそれぞれ
の主径線の方向及び曲率半径によつて投影直線A´とB
´の交点はU´に、投影直線A´の端点はV´に、その
傾きはX軸とθ′の角度に変化し、また投影直線B´
の端点はW´、その軸との傾きはθ´に変化する。そ
してまた、直線状光源Aの長さ、すなわち点Uと端点V
との間の長さは交点U´と端点V´の間の長さ
A化しており、同様に直線状光源Bの長さ、すなわち
交点Uと端点Wとの間の長さは、交点U´と端点
W′の間の長さ´に変化している。そnθ
、tanθ´tanθ´=A
´とすると、
[Equation 14] Becomes FIG. 4 is a perspective view for explaining the second measurement principle of the present invention. The same components as those of the first measurement principle described above are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. The principle of this measurement is that even if a plane light flux from a linear light source is incident on a spherical or toric surface reflecting surface, the reflected light flux is still a plane light flux. It is based on the principle that only changes. Now, assume that linear light sources A and B as shown in FIG. The linear light sources A and B intersect each other at one point U, and their end points are V and W, respectively. The linear light source A is
The angle θ 1 is inclined with respect to the straight line Xp parallel to the X 0 axis,
Further, it is assumed that the light source is inclined at an angle θ 2 with respect to the linear light source B line Xp. The intersection angle between the two linear light sources A and B is θ.
If the light from the linear light sources A and B is projected and imaged on the X 0 -Y 0 coordinate plane so that its main optical axis is parallel to the device optical axis O 1 , the principal rays from the light sources A and B are formed. The light is reflected by the film C and reaches the detection surface D which is optically non-conjugated with the linear light sources A and B. The cornea C of the linear light source A on the detection surface D
Let A'be the projection straight line by the reflection on the cornea C and B 'be the projection straight line by the reflection on the cornea C of the linear light source B. And the projection radiuses A ′ and B depending on the radius of curvature
The intersection of ′ changes to U ′, the end point of the projection line A ′ changes to V ′, the inclination changes to the angle of the X axis and θ 1 ′, and the projection line B ′.
Has an end point of W ′ and an inclination with respect to the axis changes to θ 2 ′. Also, the length of the linear light source A, that is, the point U and the end point V
Length 0 l A is the length between the intersection U'and end point V'0 between
l is turned into A, likewise linear light source length of B, that is the length 0 l 5 between the intersection U and end point W, the 'length 0 l B between' intersection U'and end point W Is changing. Nθ 1 = 0
m A , tan θ 2 = 0 m B ′ tan θ 1 ′ = 0 m A = 0
If m B ′,

【0023】[0023]

【数15】 とする。ここで前述の第1測定原理と同様に共役検出面
DをD´に移動し、角膜Cから1´の距離に配置する。
この場合の直線状光源A及びBのこの移動後の検出面D
´上への投影像についても上記第(9)式と同様の二次
方程式
(Equation 15) And Here, the conjugate detection surface D is moved to D ′ and arranged at a distance of 1 ′ from the cornea C as in the first measurement principle described above.
Detection surface D of linear light sources A and B after this movement in this case
Also for the projected image on ′, a quadratic equation similar to the above equation (9)

【0024】[0024]

【数16】 として求めることができる。以上の測定原理は、直線状
光源A,Bの角膜Cでの反射による投影直線A´,B´
の検出に検出面DおよびD´を使つたが、次にX−Y座
標系の両座標軸X軸及びY軸上だけでこれら投影直線A
´B′を決定する方法を考える。そのためには、図5に
示すように直線状光源A,Bの相方に交差する今一つの
直線状光源Cを想定し、その交点をそれぞれV,Wとす
る。この三つの直線状光源A,B,CのX−Y座標系へ
の角膜Cの反射による投影直線をそれぞれA´B´及び
C´とする。そしてX軸及びY軸とこれね投影直線A
´,B´及びC´の交点を検出する。X軸上の検出点
を、それぞれxa,xa及びxaとし、Y軸上の
をそれぞれya,ya及びyaとすると、直線は
その内の任意の2まればその方程式を決定できるので、
検出点yaとxaから投影直線A方程式が決定で
き、同様に検出点xaとyaから投影直線B´の方
程式検出点xaとyaから投影直線C´の方程式が
それぞれ決定できる。こ投影直線A´,B´及びC′の
それぞれの方程式からこれら3直線A´,B´及びC´
の交点U´とV′及びW´の座標が算出でき、これより
U′とV´間の長さ0 ´,U´とW´間の長さ0
´B´が求められ、また上記投影直線´の方程式よりそ
の傾きtanθ´=0A´を、投影直線B´の方程
式その傾きtanθ´,=0B´をそれぞれ算出
でき、これより上述の9)式から第(12)式を使つて
作動距離WDを求めることができる。
[Equation 16] Can be obtained as The above measurement principle is based on the projection straight lines A ′, B ′ by reflection on the cornea C of the linear light sources A, B.
The detection planes D and D'were used for the detection of A, and then these projection lines A are present only on both coordinate axes X and Y of the XY coordinate system.
Consider a method for determining'B '. For that purpose, as shown in FIG. 5, another linear light source C that intersects the opposite sides of the linear light sources A and B is assumed, and their intersections are V and W, respectively. The projected straight lines by the reflection of the cornea C on the XY coordinate system of these three linear light sources A, B, and C are designated as A'B 'and C', respectively. And the X-axis and the Y-axis and the projected straight line A
The intersection of ', B', and C'is detected. Let xa 1 , xa 2 and xa 3 be the detection points on the X-axis, and ya 1 , ya 2 and ya 3 on the Y-axis, the straight line determines the equation if it is any two of them. Because you can
The projection line A equation can be determined from the detection points ya 1 and xa 3 , and similarly, the equation of the projection line B ′ can be determined from the detection points xa 1 and ya 2 and the projection line C ′ can be determined from the detection points xa 2 and ya 3. . From the respective equations of the projected straight lines A ', B'and C', these three straight lines A ', B'and C'
Intersection U'and V 'and it can coordinate calculation of W', than this U' length between V'0 1 ', the length between U'and W'0 1
′ B ′ can be obtained, and the slope tan θ 1 ′ = 0 m A ′ can be calculated from the equation of the projection line ′, and the slope tan θ 2 ′, = 0 m B ′ of the projection line B ′ can be calculated. Therefore, the working distance WD can be obtained by using the equation (12) from the above equation 9).

【0025】また装置光軸Oと被検角膜Cの頂点Oc
との狭義のアライメントは、直線光源A,B及びCの交
点U,V及びWの座標をそれぞれU(0X,0Y
(0X,0Y)及びW(0X,0Y) とする
とき、前記第原理と同様の考え方から、第(7)式、第
(8)式を使つてアライメント量α,βを算出すること
ができる。また、前述の第(9),(9)´を解いて、
その根φi,φi´をもとめることが演算処理装置の能
力上困難であれば、投影直線A´,B´,C´のそれぞ
れの方程式を求め、これら三つの方程式をもとに、三交
点U´,V´,W′の座標を演算し、以下前述の第1の
測定原理で述べた第(1)式から第(4)´を適用し
て、第(3)式、第(3)´のそれぞれの2根λi、λ
i´から、第(6)式により作動距離WDをもとめ、ま
た三交点U´、V´、W´の座標値から第(7)式、第
(8)式を適用してアライメント量α,βを算出しても
よい。以上説明したように、図5の方法にしたがえば、
図4に示したように投影直線A´,B´のそれぞれの交
点及び端点i´,j´,k´を検出する必要がないばか
りか、平面状の検出器でなく互いに交差する2本の直線
上の検出器で投影直線A´,B´,C´が決定でき、こ
れよりその交点i´,j´,k´を算出できるので装置
構成上有利である。
The optical axis O 1 of the apparatus and the apex Oc of the cornea C to be inspected
In the narrow sense of alignment, the coordinates of intersection points U, V and W of the linear light sources A, B and C are respectively U (0X 1 , 0Y 1 V
When (0X 2 , 0Y 2 ) and W (0X 3 , 0Y 3 ) are used, the alignment amounts α and β are calculated using the equations (7) and (8) from the same idea as the first principle. can do. In addition, solving the above (9), (9) ',
If it is difficult to find the roots φi and φi ′ due to the capability of the arithmetic processing unit, the respective equations of the projection lines A ′, B ′, and C ′ are obtained, and the three intersection points U are obtained based on these three equations. ′, V ′, W ′ coordinates are calculated, and the formulas (1) to (4) ′ described in the first measurement principle are applied to apply the formulas (3) and (3). ′ 'S two roots λi, λ
From i ′, the working distance WD is obtained by the equation (6), and the alignment amount α, by applying the equations (7) and (8) from the coordinate values of the three intersection points U ′, V ′, and W ′. β may be calculated. As explained above, according to the method of FIG.
As shown in FIG. 4, it is not necessary to detect the respective intersections and the end points i ′, j ′, k ′ of the projection straight lines A ′, B ′, but the two detectors intersect with each other instead of the planar detector. The detectors on the straight line can determine the projected straight lines A ′, B ′, C ′, and the intersections i ′, j ′, k ′ can be calculated from this, which is advantageous in the device configuration.

【0026】図6は、本発明の第3の測定原理を脱明す
るための斜視図である。本測定原理は2本の平行直線状
光源からの平行する平面光束が球面またはトーリツク面
状の反射面に入射したとき、その反射面からの反射平面
光束の平行性はそこなわれずただそのピッチPと平行な
平面光束自身の傾き角が変化するという原理にもとずい
ている。以下本原理の説明にあつて前述の第1または第
2の測定原理と同様の構成要素には同一の符号を付して
説明を省略する。今、ピッチがPで、Xo軸と傾きmで
交差する少なくとも2本の平行直線群Lをなす直線光源
からの光が、その主光線を装置光軸Oと平行になるよ
うに前Xo−Yo座標面に結像投影されると、この照明
光は、角膜Cの前面の曲面特性、すなわちもしこの角膜
がトーリック面形状であれば、その第1主径線Rの率
半径R、その第2主径線Rの曲率半径R、及び第
1主径線の軸角それぞれの値に応じて偏向反射され、前
記直線状光源と光学的に非共役な面にある前記検出面D
に向う。そして、直線状光源に対応した検出面D上に投
影直線パターンL´はそのピッチP´に、そのX軸の傾
きをMに変化させている。検出面Dと角膜頂点Oc間の
距離を1とすると、投影直線パターンL´の傾きMは次
式で表わされる。
FIG. 6 is a perspective view for clarifying the third measurement principle of the present invention. This measurement principle is that when parallel plane light beams from two parallel linear light sources are incident on a spherical or toric surface-like reflecting surface, the parallelism of the reflected plane light beam from the reflecting surface is not impaired, but only at the pitch. This is based on the principle that the tilt angle of the plane light flux itself parallel to P changes. In the following description of the present principle, the same components as those of the above-mentioned first or second measurement principle are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Now, light from a linear light source forming at least two parallel straight line groups L having a pitch P and intersecting the Xo axis at an inclination m is adjusted so that its chief ray is parallel to the optical axis O 1 of the apparatus. When image-projected onto the Yo coordinate plane, this illumination light has a curved surface characteristic of the front surface of the cornea C, that is, if this cornea has a toric surface shape, the index radius R 1 of the first main radial line R 1 thereof, The detection surface that is deflected and reflected according to the respective values of the radius of curvature R 2 of the second main radial line R 2 and the axial angle of the first main radial line and that is optically non-conjugated to the linear light source. D
Head to. The projected linear pattern L ′ on the detection surface D corresponding to the linear light source is changed to its pitch P ′ and its X-axis inclination is changed to M. When the distance between the detection surface D and the apex Oc of the cornea is 1, the inclination M of the projected straight line pattern L ′ is represented by the following equation.

【0027】[0027]

【数17】 である。実際の測定に際して、第(13),(14)式
に基づき平行直線群の傾きとピッチの変化から作動距離
WDを測定するには、第(13),(14)式の未知数
がR,R,θの3つであるため、1つの平行直線群
の変化だけでは、第3),(14)式の解は得られない
ことがわかる。このため、実際には、他の1つの平行直
線群と合せ、2つの平行直線群の傾きとピッチの変化を
知る必要がある。この構成を図7に示す。図7には、傾
きm、ピツPの2本の平線群Lと、傾きm、ピ
ッチPの2本の平行直線群Lを構成するが配置され
ており、この光源を射出し被検角膜Cで反射された光線
束は、検出面D上で傾きm´、ピツチP´,の2本
の投影平行直線群L´と傾き、ピツチP´の2本の
投影平行直線群L´を形成する。この2組の投影直線
群から(13),(14)式がそれぞれ2組、合計4式
得られるため、(13),(14)式の未知数θ,
,Rを求めることができる。二次方程(13),
(14)式を解いてR,R,θを求めることが演算
処理上、で処理機構のコストアツプ、処理時間の増大を
まねくようであれば、以下の中間的演算処理をほどこせ
ばよい。
[Equation 17] Is. In the actual measurement, in order to measure the working distance WD from the change in the inclination and pitch of the parallel straight line group based on the expressions (13) and (14), the unknowns in the expressions (13) and (14) are R 1 , Since there are three R 2 and θ, it can be seen that the solution of the expressions 3) and (14) cannot be obtained only by changing one parallel straight line group. Therefore, in practice, it is necessary to know the inclination and pitch change of the two parallel straight line groups by combining with the other parallel straight line group. This structure is shown in FIG. Figure 7 is the slope m 1, and two flat line group L 1 of Pitsu P 1, the slope m 2, are but disposed constituting the two parallel straight lines L 2 of the pitch P 2, the light source And the ray bundle reflected by the cornea C to be inspected has two projection parallel straight line groups L 1 ′ with an inclination of m 1 ′ and pitch P 1 ′ on the detection surface D and an inclination of 2 with pitch P 2 ′. A group of projected parallel straight lines L 2 ′ is formed. Since two sets of equations (13) and (14) are obtained respectively from these two sets of projection straight lines, a total of four equations are obtained, the unknown value θ of equations (13) and (14) is
R 1 and R 2 can be obtained. Secondary process (13),
If solving the equation (14) and obtaining R 1 , R 2 , and θ would lead to cost increase of the processing mechanism and increase of processing time in terms of arithmetic processing, the following intermediate arithmetic processing may be performed. .

【0028】図8は、図7の直線状光源が形成する平行
直線群L,Lを示しる。Lの傾きはmで、ピツ
チはP,Lの傾きはmで、ピッあることは図7と
同様である。今、平行直線群Lのうちの1本L11
らピツチPのe倍の距離
FIG. 8 shows parallel straight line groups L 1 and L 2 formed by the linear light source of FIG. The slope of L 1 is m 1 , the pitch of P 1 is L 1, and the slope of L 2 is m 2 , and the pitch is the same as in FIG. 7. Now, the distance from one of the parallel straight line groups L 1 L 11 is e times as large as the pitch P 1.

【0029】[0029]

【数18】 を考える。また平行直線群Lのうちの1本L21から
距離
(Equation 18) think of. Also, the distance from one of the parallel straight line groups L 2 L 21

【0030】[0030]

【数19】 仮想平行四辺形UVWQが形成され、これら四頂点のx
−y座標系の仮想座標を、U(ox,oy)、V
(ox,oy)、W(ox,oyox,o
)とする。図9は、第8図の平行直線群L,L
が角膜Cで反射し、検出面に投影された投影平行直線群
´,L´を示す図で、このL´は傾´,ピツチ
´,に、L´は傾きm´、ピツチP´に変化
しては第7図と同様である。この投影平行直線群を検出
面Dに配置された平面型ポジシヨンセンサで検出しても
よいが、今、仮りにX−Y座標の原点OからX軸方向に
ξ、Y軸方向にηだけ平行移動された点に原点O´を有
する交差角γで交差するX´−Y´座標軸上に配された
リニアポジシヨンセンサーS,Sで検るものとする
と、リニアセンサーSは検出点イ,ロ,ハ,ニで投影
平行直線を検出し、リニアセンサーSは検出点ホ,
ヘ,ト,チで投影平行直線群を検する。そして検出点
ロ,ヘから投影平行直線群のうちの1本L11´の方程
式を演算し、また検出点ハ,トからL21´の方程式を
演算する。また同様に検出点イ,ホから投影平行直線群
のうちの他の1本L12′の、検出点ニ,チからL22
´のそれぞれの方程式が演算できL11´,L12´の
ピツチP´も、´、L22´のピッチP´も演算
できる。そしてL11´からピツチPに図8でかけた倍
率と同じ倍率eを
[Formula 19] A virtual parallelogram UVWQ is formed, and x of these four vertices is formed.
-The virtual coordinates of the y coordinate system are U (ox 1 , oy 1 ), V
(Ox 2 , oy 2 ), W (ox 3 , oyox 4 , o
y 4 ). FIG. 9 shows the parallel straight line groups L 1 and L 2 of FIG.
Is a diagram showing projected parallel straight line groups L 1 ′ and L 2 ′ reflected by the cornea C and projected on the detection surface. This L 1 ′ is tilted ′, pitch P 2 ′, and L 2 ′ is tilted m. 2 ′ and pitch P 2 ′ are the same as in FIG. This projected parallel straight line group may be detected by a plane type position sensor arranged on the detection surface D, but now, tentatively, only ξ in the X axis direction and η in the Y axis direction from the origin O of the XY coordinates. When Kenru thing at an intersection angle linear positive Chillon sensor S 1 arranged on the X'-Y'coordinate axes intersecting at gamma, S 2 having an origin O'in that the translation, the linear sensor S 1 is detected The projected parallel lines are detected at points a, b, c and d, and the linear sensor S 2 is
Check the projected parallel straight lines at F, T, and J. Then, the equation of one L 11 ′ of the projected parallel straight line group is calculated from the detection points B and F, and the equation of L 21 ′ is calculated from the detection points C and G. Of Likewise detection point b, another one L 12 of the projection parallel straight lines from ho ', the detection point D, L 22 from Ji
It is possible to calculate the respective equations of ‘′ and the pitch P 1 ′ of L 11 ′ and L 12 ′ as well as the pitch P 2 ′ of 1 ′ and L 22 ′. Then, the same magnification e as that multiplied from L 11 ′ to the pitch P in FIG.

【0031】[0031]

【数20】 行四辺形U′V´W´C´をもとめることができる。こ
の仮想平行四辺形の四頂点のX−y座標系における仮想
座標をU´(x,y)、V´(x,、W´
(x,y)、Q´(x,y)とすると、図8の
基準四辺形UVWQと図9の第1投影平行四辺形U′V
´W´Q´は対応しており、この変化はまさに角膜の曲
面特性にかかわるものである。さてここで仮想4点に対
し以下前述の第(1)式と同様の係数と式を定義する。
(Equation 20) A row quadrilateral U'V'W'C 'can be sought. The virtual coordinates in the xy coordinate system of the four vertices of this virtual parallelogram are U ′ (x 1 , y 1 ), V ′ (x 2 , W ′.
(X 3 , y 3 ), Q '(x 4 , y 4 ), the reference quadrilateral UVWQ of FIG. 8 and the first projected parallelogram U'V of FIG.
'W'Q' correspond, and this change is exactly related to the curved surface characteristics of the cornea. Now, here, the same coefficients and equations as the above-mentioned equation (1) are defined for the virtual four points.

【0032】[0032]

【数21】 ここにi,j,kはiを基準としてjもしくはkをとる
ものとする。仮想4点より、12通りの組合せが考えら
れる。上記第(15a)式を用いれば、2つの主径線の
半径に関するR,Rは以下の2次方程式で表示でき
る。
[Equation 21] Here, i, j, and k are assumed to be j or k with respect to i. From four virtual points, 12 combinations are possible. Using the above equation (15a), R 1 and R 2 relating to the radii of the two main radial lines can be expressed by the following quadratic equation.

【0033】[0033]

【数22】 ここで上記係数のカッコ式を以下のもので定義する。[Equation 22] Here, the parenthesized expression of the above coefficient is defined as follows.

【0034】[0034]

【数23】 ここでp,qはそれぞれA,B,C,Dのいずれかをと
るものとすると、(15b) 式は
(Equation 23) Here, if p and q are any of A, B, C, and D, then equation (15b) is

【0035】[0035]

【数24】 として表わされる。1は図7で示すように角膜Cと光役
検出面D間の距離をいう。従つて、図7のように2組の
投影平行直線群L´,L´のピッチP1′と傾
きm´,m´,を検出し、図9のように第1投影仮
想辺形を作り、その平行四辺形を形成する4頂点より、
第(15)式の二次方程式を解くことにより、根を
[Equation 24] Is represented as 1 refers to the distance between the cornea C and the optical role detecting surface D as shown in FIG. Therefore, as shown in FIG. 7, the pitch P 1 P 2 ′ and the slopes m 1 ′ and m 2 ′ of the two sets of projected parallel straight line groups L 1 ′ and L 2 ′ are detected, and as shown in FIG. From the four vertices that form the projected virtual quadrilateral and form the parallelogram,
By solving the quadratic equation of equation (15),

【0036】[0036]

【数25】 求めることができる。ここで、第1の測定原理と同様に
検出面Dを角膜Cから距離1´の位置に移動して検出面
D´を作る。図10に示すようにこの検出面D´上での
投影平行四線群L″,,L″,が作る第2投影仮想
平行四辺形V″W″Q″についても前記第(15a)式
〜第(15c)式が適用でき、その根を
(Equation 25) You can ask. Here, similar to the first measurement principle, the detection surface D is moved from the cornea C to a position at a distance 1'to create the detection surface D '. As shown in FIG. 10, the second projected virtual parallelogram V ″ W ″ Q ″ formed by the group of projected parallel four lines L 1 ″, L 2 ″ on the detection plane D ′ is also the above (15a). Expression ~ Expression (15c) can be applied, and its root is

【0037】[0037]

【数26】 とすると、Ki,Ki´から前述の(5)式と同様に(Equation 26) Then, from Ki and Ki ′, as in the above equation (5),

【0038】[0038]

【数27】 が得られ、前述の第1の測定原理と同様の考え方から作
動距離WDは
[Equation 27] And the working distance WD is calculated from the same concept as the first measurement principle described above.

【0039】[0039]

【数28】 が得られる。上述した図8、図9及び図10では、仮想
平行四辺形をもとめるのに、ピツチP,P,P
´,P´,P″及びP″に任意,g,hをそれ
ぞれ掛けたが実際にはe=1、g=1として仮想平行四
辺形U00Q、及びU´V´W´Q´を使つ
て演算した方が、処簡略化できる。また、仮想平行四辺
形の各頂点の座標をx=y直交座標系、X−Y直標
系を使つて説明したが、リニアセンサーS,Sの配
置にそつて斜交座X´−Y´座標系を考えると、図12
に示すようにX軸とX´軸が角度αで交差し、Y軸とY
´軸が角度βで交差し、かつX´−Y´座標系の原点O
はX−座標系の原点OからX軸方向にξ,Y軸方向
にηずれているので、このときX′−Y´座標系からX
−Y座標系への座標変換は
[Equation 28] Is obtained. In FIGS. 8, 9 and 10 described above, the pitches P 1 , P 2 and P are used to find the virtual parallelogram.
1 ′, P 2 ′, P 1 ″, and P 2 ″ are multiplied by arbitrary numbers, g and h, respectively, but in reality, e = 1, g = 1, and a virtual parallelogram U 0 V 0 W 0 Q, and U 0'V 0'W 0 Write'Q' was used connexion operation can punished simplified. Moreover, although the coordinates of the vertices of the virtual parallelogram have been described using the x 0 = y 0 Cartesian coordinate system and the XY direct coordinate system, the oblique crossover X is arranged according to the arrangement of the linear sensors S 1 and S 2. Considering the'-Y 'coordinate system, FIG.
X axis and X'axis intersect at an angle α, as shown in
′ Axis intersects at an angle β and origin O of the X′-Y ′ coordinate system
Since 2 is displaced from the origin O 1 of the X-coordinate system by ξ in the X-axis direction and η in the Y-axis direction, at this time, X from the X′-Y ′ coordinate system is detected.
-The coordinate conversion to the Y coordinate system

【0040】[0040]

【数29】 前記(15)式から Aij=(oxi−xi)−(oxj−xj) これに(19)式を代入して Aij={(ox´isinα+oy´isinβ+
ξ)−(x´isinα+y´isinβ+ξ)}−
{(ox´jsinα+oy´jsinβ+ξ)−(x
´jsinα−y´jsinβ+ξ)}=sinα
{(ox´i−x´i)−(ox´j−x´j)}+s
inβ{oy´i−y´i)−(oy´j−y´j)}
=A´ijsinα+B´ijsinβ ……(20
a) またBij=(oyi−yi)−(oyj−yj)で上
記同様の計算で Bij=cosβ{(oy´i−y´i)−(oy´j
−y´j)}−cosα{(ox´i−x´i)−(o
x´j−x´j)}=B´ijcosβ−A´ijco
sα ……(20b) 以下同様に Cij=C´ijsinα+D´ijsinβ ……(20c) Dij=D′ijcosβ+C´ijcosα ……(20d) となる。ここで〔C,D,〕、〔B,C〕、〔A,
D〕、〔A,B〕を求めると、第(20a)〜(20
d)式から 〔C,D〕=CijDik−DijCik =(C´ijsinα+D´ijsinβ)(D´ik
ocsβ−C´ikcosα)−(D´ijcosβ−
C´ijcosα)(C´iksinα+D´iksi
nβ)=(sinαsinβ+cosαsinβ)〔C
´,D´〕同様に、 〔B,C〕=(sinαsinβ+sinβcosα)
〔A´,B´〕〔A,D〕=sinαcosβ〔A´,
D′〕−sinαcosα〔A´,C´〕+sinβc
osβ〔B´,D´〕−sinβcosα〔B´,C
´〕〔A,B〕=sinαcosβ+cosαsin
β〕〔A´,B′〕 また 〔B,C〕−(A,D〕=(sinαcosβ+cos
αsinβ){〔B´,C´〕−〔A´,D´)} 従つて第(15c)式は
[Equation 29] From equation (15), Aij = (oxi-xi)-(oxj-xj) Substituting equation (19) into this, Aij = {(ox'isinα + oy'isinβ +
ξ)-(x'isinα + y'isinβ + ξ)}-
{(Ox'jsinα + oy'jsinβ + ξ)-(x
′ Jsinα−y′jsinβ + ξ)} = sinα
{(Ox'i-x'i)-(ox'j-x'j)} + s
inβ {oy'i-y'i)-(oy'j-y'j)}
= A'ijsin α + B'ijsin β (20
a) In addition, Bij = (oyi-yi)-(oyj-yj) and Bij = cosβ {(oy'i-y'i)-(oy'j
-Y'j)}-cosα {(ox'i-x'i)-(o
x'j-x'j)} = B'ijcosβ-A'ijco
sα (20b) Similarly, Cij = C'ijsinα + D'ijsinβ (20c) Dij = D'ijcosβ + C'ijcosα (20d). Here, [C, D,], [B, C], [A,
D] and [A, B], the (20a) to (20)
From the equation d), [C, D] = CijDik−DijCik = (C′ijsin α + D′ ijsin β) (D′ ik
ocsβ-C'ikcosα)-(D'ijcosβ-
C'ijcosα) (C'iksinα + D'iksi
nβ) = (sinαsinβ + cosαsinβ) [C
', D'] similarly, [B, C] = (sinαsinβ + sinβcosα)
[A ′, B ′] [A, D] = sin α cos β [A ′,
D ′] − sin α cos α [A ′, C ′] + sin βc
osβ [B ', D']-sinβ cosα [B ', C
′] [A, B] = sin αcos β + cos αsin
β] [A ′, B ′] Also, [B, C] − (A, D] = (sin αcos β + cos
αsinβ) {[B ', C']-[A ', D')} Therefore, the formula (15c) is

【0041】[0041]

【数30】 となり、{ }内は第(15c)式と同一形式の二次方
程式となり、このことから第(15c)式の二次方程式
は、座標系の取り方に無関係な不変方程式であることが
わかる。このことは、検出器としての2本のリニアセン
サーの配置において、その配置の自由度が非常に大きい
ことを示す。すなわち、2本のリニアセンサーをX,Y
座標系と直交座標軸上におく必要はなく、X´−Y´座
標系においてもよいことを意味するもので、リニアセン
サーの直交精度及び光軸合せはまつたく考えなくとも、
測定精度に無関係にすることができる。そして測定に際
しては共役検出面Dにおける平行直線群パターンL
´,L´,を斜交座標系−Y´座標のX´軸、Y´
軸に配したリニアセンサーS,Sで検出して、この
検出からつくられる仮想平行四辺形U´V´W′Q´を
第1投影仮想平行四辺形とし、つぎに検出面をD´の位
置に移動し、このときの第2投影仮想平行四辺形U″
V″W″Q″をつくり、第1投影仮想平行四辺形と第2
投影仮想平行四辺形とに基づき、その各頂点U´,V
´,W´,Q´及びU″,V″,W″,Q″の座標から
前述の第(15)〜第(18)式を使つて作動距離WD
を求める。そしてこのとき両平行四辺形は任意に選択で
きる斜交座標系X´−Y´座標系に対してのみ座標系を
考えていることとなり、かつこの斜交座標系X´−Y´
は、上述したようにその選択は作動距離WD演算のため
の二次方程式に対し、無関係な不変式であり、本発明に
よればリニアセンサS,Sの配置に対してら組立上
も、メンテナンス上も調整を必要としないという非常に
有利な効果をもつ。
[Equation 30] Therefore, the inside of {} is a quadratic equation of the same form as the equation (15c), and it can be seen that the quadratic equation of the equation (15c) is an invariant equation irrelevant to the way of taking the coordinate system. This means that in the arrangement of the two linear sensors as the detector, the degree of freedom of the arrangement is very large. That is, two linear sensors are X, Y
It does not need to be placed on the coordinate system and the orthogonal coordinate axis, and it means that it may be on the X′-Y ′ coordinate system. Even if the orthogonal accuracy of the linear sensor and the optical axis alignment are not taken into consideration,
It can be independent of measurement accuracy. Then, upon measurement, the parallel straight line group pattern L on the conjugate detection surface D
1 ′, L 2 ′ is an oblique coordinate system −X ′ axis of Y ′ coordinate, Y ′
Detected by the linear sensors S 1 and S 2 arranged on the axis, the virtual parallelogram U′V′W′Q ′ created from this detection is used as the first projected virtual parallelogram, and then the detection surface is D ′. To the position of the second projection virtual parallelogram U ″ at this time
V "W" Q "is created, and the first projected virtual parallelogram and the second
Based on the projected virtual parallelogram and its vertices U ′, V
Working distance WD from the coordinates of ', W', Q'and U ", V", W ", Q" using the above-mentioned equations (15) to (18)
Ask for. At this time, both parallelograms are considered as the coordinate system only for the oblique coordinate system X'-Y 'coordinate system which can be arbitrarily selected, and this oblique coordinate system X'-Y'.
Is an invariant that is irrelevant to the quadratic equation for the working distance WD calculation as described above, and according to the present invention, the linear sensors S 1 and S 2 are also assembled in terms of assembly. It has a very advantageous effect that no adjustment is required for maintenance.

【0042】次にアライメント量α,βの算出について
図13をもとに説明する。光源位置に想定されるX
直交座標系と検出面位置に想定されるX−Y直交系
によるアライメント量α,βの算定は、Y軸に対し、
同じ角度γで対称に置されたピツチPの平行直線群L
とピッチPの平行直線群Lのいずれか1本の直線
11,L21
Next, the calculation of the alignment amounts α and β will be described with reference to FIG. X 0 − assumed at the light source position
Calculation of the alignment amounts α and β by the XY orthogonal system assumed for the Y 0 orthogonal coordinate system and the detection surface position is performed with respect to the Y 0 axis as follows.
A group L of parallel straight lines of the pitch P 1 symmetrically arranged at the same angle γ
1 and any one of the parallel straight line groups L 2 having a pitch P 2 of straight lines L 11 and L 21

【0043】[0043]

【数31】 軸、Y軸に一致するようにとる。すなわち基準仮
想平行四辺形を測定Oに対して対称になるように演算
により作れば、この基準仮想平行四辺形の心は、測定光
軸Oと一致している。次に、角膜Cを照明して、検出
面(X−座標系)に投影される投影平行直線群L´
L´を検出
[Equation 31] It is set so as to coincide with the X 0 axis and the Y 0 axis. That is, if the reference virtual parallelogram is created by calculation so as to be symmetric with respect to the measurement O 1 , the center of the reference virtual parallelogram coincides with the measurement optical axis O 1 . Next, the cornea C is illuminated, and a group of projected parallel straight lines L ′ 1 , projected onto the detection surface (X-coordinate system),
L' 2 detected

【0044】[0044]

【数32】 となり、この四頂点の座標から水平方向アライメント量
α、及び垂直方向アライメント量βは次式で表わされ
る、
[Equation 32] From the coordinates of these four vertices, the horizontal alignment amount α and the vertical alignment amount β are expressed by the following equations.

【0045】[0045]

【数33】 斜交座標系x´−y´で測定した場合は、直交座標系の
場合と同様に、対称性の原理から、初期仮想点を(ox
,oy)(ox+oy)(ox)(ox
oy)とおき
[Expression 33] When the measurement is performed in the oblique coordinate system x′-y ′, the initial virtual point is set to (ox
1 , oy 1 ) (ox 2 + oy 2 ) (ox 3 ) (ox 4 ,
oy 4 ) Toki

【0046】[0046]

【数34】 を満たすように仮想点を設定すればよい。そして、水平
方向アライメント量α、垂直方向アライメント量βは、
それぞれ第(22)式で与えられるから第(23)式を
第(19)式により変換すれば
(Equation 34) The virtual points may be set so as to satisfy Then, the horizontal alignment amount α and the vertical alignment amount β are
Since each is given by the equation (22), if the equation (23) is converted by the equation (19),

【0047】[0047]

【数35】 となり、第(22)式を同様に第(19)式で変換すれ
[Equation 35] Then, if the equation (22) is similarly converted by the equation (19),

【0048】[0048]

【数36】 となる。αおよびβは、角膜Cを照射しないときの初期
仮想点(oxi,oyi)の斜交座標系での座標(ox
´i,oy´i)と、角膜Cを照射し、検出面Dで測定
したときの測定座標の斜交座標系における座標(x´
i,y´i)との差であるから、第(24),(25)
式から次式が得られる。
[Equation 36] Becomes α and β are the coordinates (ox in the oblique coordinate system of the initial virtual point (oxi, oyi) when the cornea C is not irradiated.
′ I, oy′i) and the coordinates (x ′ in the oblique coordinate system of the measurement coordinates when the cornea C is irradiated and measured on the detection surface D).
i, y'i), the (24), (25)
The following equation is obtained from the equation.

【0049】[0049]

【数37】 (37)

【0050】この式がアライメント量を表わすものであ
る。以上のべたように本測定原理では、作動距離の測定
には、座標系の取り方に無関係な不変方程式で算出でき
るが、アライメント量において斜交−直交座標変換が必
要となり、第(26)式の変換が必要であるが、演算機
構上複雑であれば、斜交座標系での測定座標(x´,y
´)から第(19)式で直交座標変換したのち、直交座
標系による算出式第22)式を使つて、アライメント量
を算出してもよい。このように、本測定原理では、光源
位置(X−Y座標系)に配置された状光源の平行直
線群L,Lから光軸Oに対し対称な基準仮想平行
四このX−Y座標系に演算により作り、次にX−Y
座標系にある検出面D投影平行直線群L−,L−か
ら前記基準仮想平行四辺形と相似的な第1仮想平行四辺
形を演算により作れば、この両方仮想平行四辺形の4頂
点の座標からアライメント量α,βが算出でき、このア
ライメント量α,βの算出は作動距離WDを知らなくと
も独立に求めることができる。これは、従来のアライメ
ント装置が、まず作動距離を調整してからでなければア
ライメント調整ができなかつた点を考えれば非常に有利
であり、作動距離算出ステツプとアライメント量算出ス
テツプとを独立に平行して進めることができるため演算
時間の大幅な短縮ができる利点をもつ。さらにアライメ
ント量が定量的に測定できる点は従来のアライメント装
置にない本発明特有の大きな特徴である。
This equation represents the alignment amount. As described above, according to the present measurement principle, the working distance can be calculated by an invariant equation irrelevant to the way of taking the coordinate system, but the oblique amount-orthogonal coordinate transformation is necessary in the alignment amount, and the formula (26) is used. However, if the calculation mechanism is complicated, the measurement coordinates (x ', y in the oblique coordinate system)
It is also possible to calculate the alignment amount by using the calculation formula (22) of the Cartesian coordinate system after the orthogonal coordinate conversion from ′) to the formula (19). As described above, according to the present measurement principle, the reference virtual parallel four-dimensional symmetry with respect to the optical axis O 1 from the parallel straight line groups L 1 and L 2 of the light sources arranged at the light source position (X 0 -Y 0 coordinate system). 0 -Y 0 made by calculation in the coordinate system, then X-Y
If a first virtual parallelogram similar to the reference virtual parallelogram is created from the detection plane D projection parallel straight line groups L 1 − and L 2 − in the coordinate system by calculation, the four vertices of both virtual parallelograms will be obtained. The alignment amounts α and β can be calculated from the coordinates of, and the alignment amounts α and β can be calculated independently without knowing the working distance WD. This is extremely advantageous considering that alignment adjustment cannot be performed unless the conventional alignment device first adjusts the working distance, and the working distance calculation step and the alignment amount calculation step are parallel independently. This has the advantage that the calculation time can be greatly shortened because the process can be carried out. Further, the fact that the alignment amount can be quantitatively measured is a great feature peculiar to the present invention, which is not present in the conventional alignment apparatus.

【0051】また、仮想平行四辺形を作成するとき、直
線L11,L21にそれら直線の属する直線群のピツチ
をn倍して、直線L11,L21の傾きに平行に仮想直
線を引くことにより仮想平行四辺形を作成したが、仮想
平行四辺形の作成方法はこれに限定されるものでなく、
図11のように直線L11に対し、角度βの傾きをもつ
仮想直線l11を、また、直線L21に対し角度αの傾
きをもつ仮想直線l21を作り、この作られた仮想直線l
11,l21をもとにして仮想平行四辺形vwqを作成
してもよいことは言うまでもなく、これにより、本願の
測定原理が変更をうけるものではない。 図14は本発
明の第4の測定原理を説明するための斜視図である。本
測定原理は円形光源からの光束が球面により反射される
場合は、その反射光束は、反射面の曲率半径に応じた円
形光束となり、またトーリツク面により反射される場合
はその曲面特性により楕円光束となる原理にもとずくも
のである。本測定原理を説明するにあたり前述の第1の
測定原理と同様の構成要素には、同一の符号を付して説
明は省略する。今、予め定められた半径Rの円形光源か
らの光束Fxが装置光軸Oとその主線が平行になるよ
うにXo−Yo座標面上に投影され結像されているもの
とする。この照明光束の角膜Cでの反射光は角膜Cの曲
面特性すなわちその角膜前面の形状の3要素である第1
主径線rの曲率半径r、第2主径線rの曲r
び第1主径線rの軸方向θさらに光学中心Ocの装置
光軸Oに偏位量、E、Eの影響により偏向され検
出面D上に楕円パターンFX′影形成する。円形光源と
検出面D上の楕円パターンFX′との関係は円形光源か
らの光束FXの主光線が作る円形照明光束が x+y=R≡定数 の条件のもとに 〔a(1)sinθ+b(1)cosθ)(x´−α) +〔a(1)cosθ+b(1)sinθ〕(y´−β) −〔a(1)−b(1)〕sinθ+a(1)b (1)・R=0 ……(27)
[0051] Further, when creating the virtual parallelogram, the pitch of the straight lines belongs them straight to the straight line L 11, L 21 and n times, pulling parallel to the imaginary straight line to the slope of the straight line L 11, L 21 Although the virtual parallelogram was created by the above, the method of creating the virtual parallelogram is not limited to this.
To the straight line L 11 as shown in FIG. 11, a virtual straight line l 11 having the inclination angle beta, also creates a virtual straight line l 21 having an inclination of angle α with respect to the straight line L 21, the created virtual straight line l
It goes without saying that the virtual parallelogram vwq may be created on the basis of 11 1 and l 21 , and this does not change the measurement principle of the present application. FIG. 14 is a perspective view for explaining the fourth measurement principle of the present invention. The principle of this measurement is that when the light flux from a circular light source is reflected by a spherical surface, the reflected light flux becomes a circular light flux according to the radius of curvature of the reflecting surface, and when reflected by a toric surface, it is an elliptical light flux due to its curved surface characteristics. It is based on the principle that In describing the present measurement principle, the same components as those in the above-mentioned first measurement principle are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Now, it is assumed that a light flux Fx from a circular light source having a predetermined radius R is projected and imaged on the Xo-Yo coordinate plane so that the optical axis O 1 of the apparatus and its main line are parallel to each other. The reflected light of the illumination light flux on the cornea C is the three elements of the curved surface characteristic of the cornea C, that is, the shape of the front surface of the cornea.
The radius of curvature r 1 of the main meridian r 1, offset amount to the apparatus optical axis O 1 of the second main meridian r 2 songs r 2 and the first principal meridian axial θ further optical center Oc of r 1, E H, elliptical pattern FX 'to shadow formed on the detection surface D is deflected by the effect of E V. The relation between the circular light source and the elliptical pattern FX ′ on the detection surface D is that the circular illumination light flux formed by the chief ray of the light flux FX from the circular light source is x 2 + y 2 = R 2 ≡Constant [a 2 ( 1) sin 2 θ + b 2 (1) cos 2 θ) (x′−α) 2 + [a 2 (1) cos 2 θ + b 2 (1) sin 2 θ] (y′−β) 2 − [a 2 ( 1) −b 2 (1)] sin 2 θ + a (1) b (1) · R 2 = 0 (27)

【0052】[0052]

【数38】 の方程式が成り立つ。今この方程式の根(38) The equation of Now the root of this equation

【0053】[0053]

【数39】 とする。また、この方程式中のα,βはそれぞれ角膜C
の頂点Oc(光学中心でもある)のXo−Yo座標系の
頂点Oとの偏位量E、Eに起因するが測定しよう
としているアライメント量であり水平方向アライメント
量をα、垂直方向アライメント量をβと定義してあるこ
とは前述の各測定原理と同様である。今、前述の第1原
理と同様に検出面Dを角膜Cから距離l´の位置にお
き、これを検出面D´とし、このときの楕円パターンに
ついても上記第(1)式が成り立つので、その根を
[Formula 39] And Also, α and β in this equation are the cornea C
Xo-Yo coordinate system offset amount E H between the apex O o of a quantity alignment is due to E V are trying to measure the horizontal alignment amount alpha, vertical vertex Oc (also the optical center) of The fact that the alignment amount is defined as β is similar to the above-mentioned measurement principles. Now, similarly to the above-mentioned first principle, the detection surface D is placed at the position of the distance l'from the cornea C, and this is set as the detection surface D ', and the above equation (1) holds for the elliptical pattern at this time. Its roots

【0054】[0054]

【数40】 とすると(28)(28´)式より、前記(5)式と同
様に
(Equation 40) Then, from equations (28) and (28 '), the same as equation (5) above,

【0055】[0055]

【数41】 として1を求めることができ、また前記第1の原理と同
様の考え方で作動距離WDは
[Formula 41] Can be obtained as 1 and the working distance WD can be calculated in the same way as the first principle.

【0056】[0056]

【数42】 ……(30)として求めることができる。上記第(2
7)式において1は第(29)式でもとめられるので、
結局第(27)式の未知数はr,r,θ,α,βの
5つであるから投影楕円パターン5点を検出しその座標
値(Xi´,Yi´)(ここにi=1、2、3、4およ
び5)を第(27)式のX´及びY´値として代入し、
これによつてできる5元連立方程式を解けば、検出面D
上の投影楕円パターンは、その形状及びX−Y座標系上
の位置が決定できるので、これよりアライメント量α,
βを求めることができる。もし、図14に示したように
検出器として平面型のポジションセンサを使用すること
やあるいは光軸Oを中心にリニアポジションセンサを
回転させるこが検出器のコストアツプや精度保証上の問
題があるならば以下のような構成をとればよい。すなわ
ち図15に示すように円形光源に、さらにこれと交差す
る一本の直線光源をもちいると前述の第2の原理より明
らかなように直線光源からの平面光束が角膜Cで反射さ
れ検出面Dに投影されたとき、その傾きは変化しても直
線性自身はくずれないので、この傾きの変化を知ること
により、逆に角膜Cの曲面特性の情報を得ることができ
る。そしてその曲面特性を利用して作動距離及びアライ
メント量を求めることができる。
(Equation 42) You can ask for it as (30). Above (2
In equation (7), 1 can be stopped by equation (29), so
After all, since the unknowns in the equation (27) are five of r 1 , r 2 , θ, α, and β, five points of the projected ellipse pattern are detected and their coordinate values (Xi ′, Yi ′) (where i = 1 2, 3, 4 and 5) are substituted as the X ′ and Y ′ values of the equation (27),
By solving the five-dimensional simultaneous equations created by this, the detection surface D
Since the shape and the position on the XY coordinate system of the projected ellipse pattern can be determined, the alignment amount α,
β can be obtained. If a flat position sensor is used as the detector as shown in FIG. 14 or if the linear position sensor is rotated around the optical axis O 1 , there is a problem in cost up and accuracy guarantee of the detector. Then, the following configuration may be adopted. That is, as shown in FIG. 15, if a circular light source and a single linear light source that intersects with the circular light source are used, the plane light flux from the linear light source is reflected by the cornea C as is apparent from the above-mentioned second principle, and the detection surface. When projected onto D, the linearity itself does not collapse even if the inclination changes, so by knowing this change in inclination, information on the curved surface characteristics of the cornea C can be obtained conversely. Then, the working distance and the alignment amount can be obtained by utilizing the curved surface characteristic.

【0057】今、図15に示すように、直線状光源のX
o軸との傾き角をa、この直線状光源に対応する検出面
D上の投影直線パターンL′のX軸との傾をa′とす
ば、以下の方程式が成り立つ。 〔A(1)a−B(1)a′〕tanθ+〔A(1)−B(1)〕(1−a a′)tanθ+〔A(1)a′−B(1)a)=0 ……(31) ここに
Now, as shown in FIG. 15, the X of the linear light source is
If the inclination angle with the o-axis is a, and the inclination with respect to the X-axis of the projected linear pattern L A ′ on the detection surface D corresponding to this linear light source is a ′, the following equation holds. [A (1) a-B (1) a ′] tan 2 θ + [A (1) -B (1)] (1-a a ′) tan θ + [A (1) a′-B (1) a) = 0 …… (31) Here

【0058】[0058]

【数43】 である。これよりX−Y座標系のX軸上に記したリニア
ポジシヨンセンサlxとY軸上に配置されたリニアポジ
シヨンセンサlyとにより、投影楕円パターン上の4点
U(o,y)、V(x,o)、W(o,y)、
Q(x,o影直線パターン上の2点I(x,o)、
J(o,y)を求めれば、角膜曲面特性を求めること
ができる。またリニアセンサlx、lyの配置としては
前記第3の原理で説明したように検出面上で斜交させて
もよい。この場合前記の座標変換式
[Equation 43] Is. From this, four points U (o 1 , y 1 ) on the projection ellipse pattern are obtained by the linear position sensor 1x described on the X axis of the XY coordinate system and the linear position sensor ly arranged on the Y axis. , V (x 1 , o), W (o, y 2 ),
Q (x 2 , o) 2 points on the shadow straight line pattern I (x 3 , o),
If J (o, y 3 ) is obtained, the corneal curved surface characteristic can be obtained. Further, as the arrangement of the linear sensors lx and ly, they may be obliquely arranged on the detection surface as described in the third principle. In this case, the above coordinate conversion formula

【0059】[0059]

【数44】 を使えばよい。また、図15に示すように、2本の平行
なリニアセンサl,lyを使用してもよい。このと
き投影楕円パターンFx′は検出点U,
[Equation 44] Should be used. Further, as shown in FIG. 15, two parallel linear sensors 1 1, 2 ly may be used. At this time, the projected elliptical pattern Fx ′ is the detection point U,

【0060】[0060]

【数45】 以上説明した測定原理を利用したアライメント装置の
2,3の実施例を以下図をもとに説明する。図16は、
本発明の第1の実施例を示す光学配置図である。架台1
上に前後左右及び上下方向に可動自在に支持された眼科
器機筐体2にはこの眼科機器本来の測定あるいは検査も
しくは撮影をつかさどる測定光学系部3と本発明のアラ
イメント光学系4が組込まれている。測定光学系3と
は、例えばレフラクトメーター、オフサルモメーターあ
るいは眼底カメラの光学系である。アライメント装置4
は、大きく分けて照明光学系5、測定光学系6、演算回
路7、表示器8及び架台1内に内蔵された筐体駆動部9
とから構成されている。照明光学系5の構成は次の通り
である。その光源としては発光波長が互いに異なる2つ
の赤外光を発光する発光ダイオード10a,10bが利
用される。発光ダイオード10aを射出した光は、ダイ
クロイツクプリズム11のダイクロイツク面11aで反
射され、また発光ダイオード10bを射出した光は、ダ
イクロイツク面11aを透過してコンデンサレンズ12
により開口板13に入射する。開口板13には、図17
(a)〜(d)に示すように前記第1から第4の測定原
理のそれぞれに則した開口パターンのいずれかが形成さ
れている。図17の(a)の開口板13は前記第1測定
原理を採用するときの開口板の一例である。この開口板
13には、多数の点開口200が、直交する2軸上にそ
つて配列されている。第14図b図17の(b)のは前
記第2測定原理を採用するときの開口板であり、この開
口板13には、太い開口直線201a,201bが平行
に配列され、かつこの開口直線201a,201bの両
方に直交するようにして細い3本の直線開口を1組とす
る第1直線群開口202a、及び同様の構成からなる第
2直線群開口202bが配列されており、前記開口直線
201a,201bとの交差部では、直線群開口202
a,202bは切断された形となつている。ここで直線
開口として太い直線からなる直線開口201と細い3本
線からなる直線群開口202を形成したのは、互いの直
線開口の投影パターンを検出するときに区別できるよう
にするためであり、本発明はこの開口板のパターンに限
定されるものではない。例えば開口201と202の透
過率に差をもたせてもよいし、単に互いの太さのみを変
えるだけでもよい。図17の(c)は前述の第3の測定
原理を採用するための開口板に形成される開口パターン
の一例を示す図であり、この開口板13には直線開口2
03aを複数本同一のピツチ間隔で平行に配列してなる
第1平行直線開口群203とこの第1平行直線開口群2
03とその配列方向を異にする直線開口204aを複数
本同一のピッチ間隔で平行に配列してなる第2平行直線
開口群204が形成されている。また、第1及び第2そ
れぞれの平行直線開口群には少なくとも1本の前記直線
開口203a,204aと太さの異なる基準直線開口2
03b及び204bが形成されている。この基準直線開
口203b,204bをもうけた理由は、これら平行直
線開口群の投影パターンを2本のリニア型ポジシヨンセ
ンサで検出し、その検出点から投影パターンの方程式を
決定するときどの検出点とどの検出点を結ぶ方程式を算
出すればよいかが簡単にかわるようにするためである。
また直線開口を多数形成したのはこれらに対応する投影
パターンを平均化して測定精度を高めるためである。
[Equation 45] A few examples of the alignment apparatus using the above-described measurement principle will be described below with reference to the drawings. 16
It is an optical layout drawing showing a 1st example of the present invention. Stand 1
An ophthalmologic device housing 2 movably supported in the front, back, left, right, and up and down directions incorporates a measurement optical system section 3 and an alignment optical system 4 of the present invention, which are responsible for the original measurement, inspection, or photographing of the ophthalmic device. There is. The measurement optical system 3 is, for example, a refractometer, an offsalmometer, or an optical system of a fundus camera. Alignment device 4
Are roughly divided into an illumination optical system 5, a measurement optical system 6, an arithmetic circuit 7, a display 8 and a casing drive unit 9 built in the gantry 1.
It consists of and. The configuration of the illumination optical system 5 is as follows. As the light source, light emitting diodes 10a and 10b that emit two infrared lights having different emission wavelengths are used. The light emitted from the light emitting diode 10a is reflected by the dichroic surface 11a of the dichroic prism 11, and the light emitted from the light emitting diode 10b passes through the dichroic surface 11a and passes through the condenser lens 12a.
Enter the aperture plate 13. FIG. 17 shows the aperture plate 13.
As shown in (a) to (d), one of the opening patterns conforming to each of the first to fourth measurement principles is formed. The aperture plate 13 in FIG. 17A is an example of the aperture plate when the first measurement principle is adopted. A large number of point openings 200 are arranged on the opening plate 13 along two axes orthogonal to each other. Fig. 14b Fig. 17 (b) shows an aperture plate when the second measurement principle is adopted. In this aperture plate 13, thick aperture straight lines 201a and 201b are arranged in parallel and The first straight line group openings 202a each having a set of three thin straight line openings orthogonal to both 201a and 201b, and the second straight line group openings 202b having the same configuration are arranged. At the intersection with 201a and 201b, the linear group opening 202
The a and 202b are cut. The straight line opening 201 formed of a thick straight line and the straight line group opening 202 formed of three thin lines are formed as the straight line openings so that they can be distinguished when detecting the projection patterns of the straight line openings. The invention is not limited to this aperture plate pattern. For example, the transmittances of the openings 201 and 202 may be made different, or only the thicknesses of the openings 201 and 202 may be changed. FIG. 17C is a diagram showing an example of an opening pattern formed on the aperture plate for adopting the above-described third measurement principle, and the aperture plate 13 has a linear aperture 2
The first parallel straight line opening group 203 and the first parallel straight line opening group 2 in which a plurality of 03a are arranged in parallel at the same pitch interval.
A second parallel linear aperture group 204 is formed by arranging a plurality of the linear apertures 03 and the linear apertures 204a whose arrangement directions are different from each other in parallel at the same pitch interval. The first and second parallel linear aperture groups have at least one reference linear aperture 203 having a thickness different from that of the linear apertures 203a and 204a.
03b and 204b are formed. The reason why the reference straight line openings 203b and 204b are provided is that which of the detection points is used when the projection pattern of these parallel straight line openings is detected by two linear type position sensors and the equation of the projection pattern is determined from the detection points. This is because it is easy to change which detection point should be used to calculate the equation.
A large number of linear openings are formed in order to average the projection patterns corresponding to these and increase the measurement accuracy.

【0061】図17の(d)は、前記第4の測定原理を
採用するときの開口板の開口パターンの一例を示す図で
あり、この開口板13には、円形開口205と、これに
交わる2本の互いに平行な直線開口206a,206b
からなる平行直線開口群206が形成されている。ここ
で、直線開口206aと206bを2本、平行にもうけ
たのは、例えばこの開口パターンの投影パターンを2本
のリニアセンサで検出する場合、直線開口206aに対
応する投影直線パターンが、この2本のリニアセンサの
交差点上に投影された場合でも、他の直線開口206b
に対応する投影直線パターンはかならず2本のリニアセ
ンサ上にまたがつて投影されるため、その投影パターン
上の2点が検出でき、もつてこの投影パターンの方程式
が算出できることを利用するためである。この様に、各
測定原理により、その測定原理にそつた種々の開口パタ
ーンが採用可能であるが以下本実施例の説明は図17の
(b)に示した開口パターンを有する開口板13が組込
まれているものとして説明する。すなわち、この開口板
13が前述の直線光源として作用する。開口板13の開
口パターンを射出した光束はピンホール板14のピンホ
ール14aを通つて結像補助レンズ15に入射する。こ
の結像補助レンズ15を射出した照明光束は、測定光学
系6の測定光軸Oに傾設されている小ハーフミラー1
6で反射され結レンズ17に入射する。この結像レンズ
17は、アライメント装置として独立のものでもよい
し、このアライメント装置を組込んだ眼科器機の測定光
学部3の対物レンズとして兼用されてもよい。結像レン
ズ17と前記結像補助レンズ15の両方の合成焦点位置
に前記ピンホール14aが配置されている。結像レンズ
17を射出した照明光束は、被検眼Eの角膜Cの近傍の
像平面ISにその光源すなわち開口板13の開口パター
ン像を結像する。
FIG. 17D is a diagram showing an example of the opening pattern of the aperture plate when the fourth measurement principle is adopted. The aperture plate 13 has a circular aperture 205 and intersects it. Two parallel straight openings 206a, 206b
A group of parallel straight apertures 206 is formed. Here, two linear openings 206a and 206b are provided in parallel, for example, when two linear sensors detect the projection pattern of this opening pattern, the projected linear pattern corresponding to the linear opening 206a is Even if it is projected onto the intersection of the linear sensor of the book, another linear aperture 206b
This is because the projected straight line pattern corresponding to is always projected over two linear sensors, so that two points on the projected pattern can be detected and the equation of this projected pattern can be calculated. . As described above, according to each measurement principle, various aperture patterns can be adopted according to the measurement principle. However, in the following description of the present embodiment, the aperture plate 13 having the aperture pattern shown in FIG. 17B is incorporated. It will be described as being. That is, this aperture plate 13 acts as the above-mentioned linear light source. The light flux emitted from the aperture pattern of the aperture plate 13 passes through the pinhole 14 a of the pinhole plate 14 and enters the image formation auxiliary lens 15. The illumination light flux emitted from the image formation auxiliary lens 15 is tilted to the measurement optical axis O 1 of the measurement optical system 6 to the small half mirror 1.
The light is reflected by 6 and enters the lens combination 17. The image forming lens 17 may be an independent one as an alignment device, or may be used also as an objective lens of the measurement optical unit 3 of an ophthalmologic apparatus incorporating this alignment device. The pinhole 14a is arranged at the combined focal position of both the image forming lens 17 and the image forming auxiliary lens 15. The illumination light flux emitted from the imaging lens 17 forms an image of the light source, that is, the aperture pattern of the aperture plate 13, on the image plane IS near the cornea C of the eye E to be examined.

【0062】角膜Cで反射された照明光束は、結像レン
ズ17を通り、この照明光束を眼科器機の測定光学部3
への光束とアライメント測定用光束とに分割する光軸O
傾設されたハーフミラー18で一部が反射され、前記
ダイクロイツクプリズム11と同一の波長選択反射透過
特性を有するダイクロイツクプリズム19により、第1
光路20と第2光路21に分割される。第1光路20
は、補助リレーレンズ22とミラー23及び光学光路長
調整用の平行平面ガラス24から構成される。他方第2
光路21は補助リレーレンズ25、ミラー26及びこの
第2光路の光軸回わりに像すなわち光束を所定角回転す
るイメージローテーター27から構成されている。そし
て第1光路20と第2光路21の光束は、ダイクロイツ
クプリズム11と同一の波長選択反射透過特定を有する
ダイクロイツクプリズム28により合成される。そして
ダイクロイツクプリズム28を射出した角膜反射光束は
リニアポジシヨンセンサ29に投影される。このリニア
ポジシヨンセンサ29としては例えば直線状のCCD
(Chage Coupled Deviice)アレ
イが利用される。リニアセンサ29は後に詳述する演算
回路7に接続している。ダイクロイツクプリズム28と
リニアセンサ29との間には演算回路7からの信号を受
けて、検出面切替回路30の駆動制御により光路内に挿
入及び選出される例えば平行平面ガラスから成る光路長
変換部材31が配置されている。リニアセンサ29は、
その光学的共役像が、補助リレーレンズ22または25
により一度結像点IPに作つたのち結像レンズ17によ
り光路長変換部材31が光路内に挿入されているときは
図中Dの位置に、光路長変換部材31が光路から飛出し
ているときは図中D′の位置にそれぞれ形成される。ま
たこれら共役検出面D,D′は前記照明光学系のピンホ
ール14aとは非共役な位置に位置付けられている。
The illumination light flux reflected by the cornea C passes through the imaging lens 17, and the illumination light flux is measured by the measurement optical section 3 of the ophthalmologic apparatus.
Optical axis O that splits the light beam to the
By 1 part by傾設been half mirror 18 is reflected, the dichroic prism 11 and dichroic prism 19 having the same wavelength selective reflection and transmission characteristics, the first
It is divided into an optical path 20 and a second optical path 21. First optical path 20
Is composed of an auxiliary relay lens 22, a mirror 23, and a plane-parallel glass 24 for adjusting the optical optical path length. On the other hand, the second
The optical path 21 includes an auxiliary relay lens 25, a mirror 26, and an image rotator 27 that rotates an image, that is, a light beam by a predetermined angle around the optical axis of the second optical path. Then, the light fluxes of the first optical path 20 and the second optical path 21 are combined by the dichroic prism 28 having the same wavelength selective reflection / transmission specification as the dichroic prism 11. Then, the cornea reflected light flux emitted from the dichroic prism 28 is projected on the linear position sensor 29. As the linear position sensor 29, for example, a linear CCD
An array of (Charge Coupled Devices) is used. The linear sensor 29 is connected to the arithmetic circuit 7 described in detail later. An optical path length conversion member made of, for example, parallel flat glass, which is inserted and selected in the optical path by receiving a signal from the arithmetic circuit 7 between the dichroic prism 28 and the linear sensor 29 and drivingly controlling the detection surface switching circuit 30. 31 are arranged. The linear sensor 29 is
The optically conjugate image is the auxiliary relay lens 22 or 25.
When the optical path length conversion member 31 is projected from the optical path when the optical path length conversion member 31 is inserted into the optical path by the imaging lens 17 after being formed by the Are formed at positions D'in the figure, respectively. Further, these conjugate detection surfaces D and D'are located at positions which are not conjugate with the pinhole 14a of the illumination optical system.

【0063】さらに、結像レンズ17の前方には、測定
時の基準投影パターンを得るための手段として、光軸O
に垂直な反射面をもち測定光路内に挿入退出できる反
射32を配置してこの反射鏡32を使つて、この反射鏡
により照明光の反射光による直線光源と同一形状の投影
パターンをリニアセンサ29で検出し、これをもとに基
準投影パターンを作り、その値を演算回路のメモリーに
記憶しておけば直線光源としての開口板13の開口パタ
ーンの制作に際して設計値と誤差があつたりあるいは開
口板13の照明光学系5への組込みの誤差があつたとし
てもその装置22に個有の基準投影パターンを使えるの
で測定誤差にならないという利点をもつている。次に本
実施例の測定作用を説明する。まず基準投影パターンの
作り方を説明する。通常被検眼が位置するであろうと予
想される位置で、反射鏡32を光軸Oと垂直になるよ
うに図示しない保持段、例えばこのアライメント装置を
有する眼科器機の被検者頭部固定用のアゴ受け手段等に
取り付ける。次に光路長変換部材31を測定光路内に挿
入し、発光ダイオード10aを点燈する。発光ダイオー
ド10aを射出した光束は、開口板13で選択透過さ
れ、この開口板13の開口パターンを直線状光源とし、
この光源から射出した光は結像レンズ17及び結像補助
レンズ15により光軸Oとそ主光線が平行とされて反
射鏡に照明され、反射鏡近傍の像平面IS上に直線光源
像を作る。反射鏡32からの反射光は、照明光と同一の
光路を通つて結像レンズに入射する。そして結像レンズ
17により、その反射光はハーフミラー18により反射
されダイクロイツクプリズム19のダイクロイツク面で
反射され第1光路20を通つてリニアセンサ29に投影
される。この基準投影パターンPを図18に実線で示
す。リニアセンサ29はこの基準投影パターンと交差す
る点すなわち検出点
検出する。
Further, in front of the imaging lens 17, as a means for obtaining a reference projection pattern at the time of measurement, the optical axis O
The reflection sensor 32 having a reflection surface perpendicular to 1 and capable of being inserted / removed in the measurement optical path is arranged, and this reflection mirror 32 is used to form a projection pattern having the same shape as the linear light source by the reflection light of the illumination light by this reflection mirror. 29, a reference projection pattern is created based on this, and if the value is stored in the memory of the arithmetic circuit, there may be an error with the design value when producing the opening pattern of the aperture plate 13 as the linear light source. Even if there is an error in assembling the aperture plate 13 into the illumination optical system 5, there is an advantage that a measurement error does not occur because a unique reference projection pattern can be used in the device 22. Next, the measuring operation of this embodiment will be described. First, how to create the reference projection pattern will be described. A holding stage (not shown) so that the reflecting mirror 32 is perpendicular to the optical axis O 1 at a position where the eye to be inspected will normally be located, for example, for fixing the head of the subject of an ophthalmologic machine having this alignment device. Attach to the jaw receiving means, etc. Next, the optical path length conversion member 31 is inserted into the measurement optical path, and the light emitting diode 10a is turned on. The light flux emitted from the light emitting diode 10a is selectively transmitted through the aperture plate 13, and the aperture pattern of the aperture plate 13 is used as a linear light source,
The light emitted from this light source is illuminated by a focusing mirror 17 and a focusing auxiliary lens 15 so that its principal ray is parallel to the optical axis O 1 and illuminates the reflecting mirror, and a linear light source image is formed on the image plane IS near the reflecting mirror. create. The reflected light from the reflecting mirror 32 enters the imaging lens through the same optical path as the illumination light. Then, the reflected light is reflected by the half mirror 18 by the imaging lens 17, is reflected by the dichroic surface of the dichroic prism 19, and is projected on the linear sensor 29 through the first optical path 20. This reference projection pattern P 0 is shown by the solid line in FIG. Point linear sensor 29 intersects with the reference projection pattern or detection point 0 S 0, 0 S 2, 0 to detect the S 3, 0 S 4.

【0064】次に発光ダイオード10bに発光を切り替
えると、この光束による開口板13の開口パターンによ
る直線状光源の反射鏡32による反射光束はダイクロイ
ツクプリズム19のダイクロイツク面を透過し第2光路
21を通りリニアセンサ29に投影される。ここで光束
は、第2光路21のイメージローテーター27の作用に
より回転され、図15に29′で示す位置にリニアセン
サ29を配置したと等価な反射光束となつてリニアセン
サ29に入射する。リニアセンサは、この投影パターン
上の検出点及びを検出点
より投影直線パターン201′aの方程
式をもとめに検出点より直線パターン2
01′bの方程式を検出点0から投影パターン20
2′aの方程式を、検出点S影パターンの方
程式をそれぞれ求め、これら4つの方程式をもとに投影
パターンの交点U,V,W,Qを算定し、この
交点UとWを通とし、また交点VとQを通る直
線をY軸としてX−Y座標系を定める。て以後このX−
Y座標系を測定上の座標系として使用する。また交点U
,V,W,Qを基準点とする。そして、これらX
−Y座標系と交点U,W,Qを基準原点として演
算回路のメモリー回路に記憶しておく。
Next, when the light emission is switched to the light emitting diode 10b, the light flux reflected by the reflecting mirror 32 of the linear light source by the aperture pattern of the aperture plate 13 by this light flux passes through the dichroic surface of the dichroic prism 19 and the second optical path 21. And is projected onto the linear sensor 29. Here, the light flux is rotated by the action of the image rotator 27 in the second optical path 21, and is incident on the linear sensor 29 as a reflected light flux equivalent to that when the linear sensor 29 is arranged at the position indicated by 29 'in FIG. The linear sensor detects the detection points 0 S 5 , 0 S 6 , 0 S 7 and 0 S 8 on this projection pattern.
Based on the equation of the projected straight line pattern 201′a from 0 S 1 and 0 S 6 , the straight line pattern 2 from the detection points 0 S 3 and 0 S 7
The equation of 01′b is projected from the detection point 0 S 4 to the projection pattern 20.
The equation of 2'a is obtained for the detection points 0 S 2 and 0 S shadow pattern, respectively, and the intersections U 0 , V 0 , W 0 , Q 0 of the projection pattern are calculated based on these four equations, An XY coordinate system is defined with a straight line passing through the intersections U 0 and W 0 and a straight line passing through the intersections V 0 and Q 0 as the Y axis. And then this X-
The Y coordinate system is used as the coordinate system for measurement. Also intersection U
The reference points are 0 , V, W 0 , and Q 0 . And these X
-The Y coordinate system and the intersections U 0 , W 0 , and Q 0 are stored in the memory circuit of the arithmetic circuit as the reference origin.

【0065】このように準備されている眼科器機を被検
眼に対置させ、上述と同様の測定手順で測定し、光路長
変換部材31を光路中に挿入しての共役検出面Dでの検
出により、第1投影パターンPの各投影直線パターン
201″a,201″b,02″a,202″bのそれ
ぞれの方程式を求め、この4つの方程式をもとに交点U
,V,W,Qを求める。その4点U,V
基準原点U,V,W,QのX−Y座標系に
おける座標値を記憶。次に、光路変換部材31を光路外
に退出させ、共役検出面D′の位置において前述と同様
の測定手順で第2投影パターンPを検出する。検出点
から第2投パターンの交点U,V,W,Qを前
述と同様の手順で求めYの標系での座標値を記憶する。
そして前述の基準原点U,V,W,Qと第1投
影パターンの,V,W,Qとの間で第(1)〜
(4)式を適用し、その根λる。つぎに基準原点U
,W,Qと第2投影パターンの4交V
,Qとの間で同様に第(1)〜(4)式を適用
し、その根λ求める。これらλt′,λt′とから第
(6)式により作動距離WDを演算して求める。また基
準原点U,V,W,Qと第1投影パターンの
4,V,W,Qとの間で第(8)′式のnをn=
4の場合として適用ライメント量を求める。これら作動
距離とアライメント量の演算は独立に並行して演算回路
7で演算できることは、原理説明で述べた通りである。
そして、作動距離調整量とアライメント量はCRTデイ
スプレイ33に数値あるいは図形表示するか、あるいは
筐体駆動部9に入力され自動的に作動距離とアライメン
トが調整される。
The ophthalmologic apparatus thus prepared is placed against the eye to be inspected, the measurement is performed by the same measurement procedure as described above, and the optical path length conversion member 31 is inserted into the optical path to detect the conjugate detection surface D. , The respective equations of the respective projected straight line patterns 201 ″ a, 201 ″ b, 02 ″ a, 202 ″ b of the first projected pattern P 1 are obtained, and the intersection point U is obtained based on these four equations.
1 , V 1 , W 1 , Q 1 are obtained. The four points U 1 , V 1 ,
W 1 Stores the coordinate values of the reference origins U 0 , V 0 , W 0 , Q 0 in the XY coordinate system. Next, the optical path changing member 31 is moved out of the optical path, and the second projection pattern P 2 is detected at the position of the conjugate detection surface D ′ by the same measurement procedure as described above. The intersection points U 2 , V 2 , W 2 , and Q 2 of the second throwing pattern are obtained from the detection points by the same procedure as described above, and the coordinate value of Y in the standard system is stored.
Then, between the above-mentioned reference origins U 0 , V 0 , W 0 , Q 0 and 1 , V 1 , W 1 , Q 1 of the first projection pattern, (1)-
Equation (4) is applied and its root is λ. Next, the reference origin U 0 ,
4 intersections of V 0 , W 0 , Q 0 and the second projection pattern V 2 ,
Similarly, the equations (1) to (4) are applied between W 2 and Q 2 to find the root λ. The working distance WD is calculated by the equation (6) from these λt ′ and λt ′. Further, between the reference origins U 0 , V 0 , W 0 , Q 0 and 4, V 1 , W 1 , Q 1 of the first projection pattern, n in the equation (8) ′ is n =
In the case of 4, the amount of applicable license is calculated. As described in the principle description, the calculation of the working distance and the alignment amount can be performed independently and in parallel by the arithmetic circuit 7.
The working distance adjustment amount and the alignment amount are displayed on the CRT display 33 as numerical values or figures, or are input to the housing drive unit 9 to automatically adjust the working distance and alignment.

【0066】図19は、以上の演算処理を行うための演
算回路7の一例を示すブロツク図である。リニアポジシ
ヨンセンサ駆動回路101によつて駆動されるリニアポ
ジシヨンセンサ29はドライブ回路100によつて駆動
された発光ダイオード10aの発光により投影直線パタ
ーンの検出出力を信号ライン102に送出する。符号1
04はアナログスイツチであり、マイクロプロセッサ1
05によつてコントロールされるものである。マイクロ
プロセツサ105は、リニアセンサ29を駆動する駆動
回路101よりリニアセンサの走査開始パルス106に
より割込みを受けると、アナログスイツチ104を制御
して、リニアセンサ29の出力がA/D変換器107に
入力される様にする。A/D変換器107は駆動回路1
01からの読み出しパルス108により読み出されるリ
ニアセンサの1素子毎の出力をアナログーデジタル変換
し変換されたデジタル値をマイクロプロセツサに供給す
る。ここでA/D変換器107は8ピツト(1/25
6)程度の分解能を有し、かつリニアセンサ走査周波数
より速い変換時間を有するものが選ばれる。マイクロプ
ロセツサ105は1素子毎にデジタル値に変換されたリ
ニアセンサ29の出力を読み込み、RAM(ランダム・
アクセス・メモリー)等で構成されるデータメモリー1
09に遂次記憶させる。従つてデータメモリー109に
は、予め定められた番地より、リニアセンサの最初の素
子による出力から順にデジタル値として記憶される。例
えばリニアセンサ29が1728素子のものであれば、
1728個のデータ取り込みが終了すると、マイクロプ
ロセツサ105は、それ以上のデータ取り込みをやめ駆
動回路100を制御して今まで発光していた発光ダイオ
ード10aを消し、発光ダイオード10bを発光させ
る。そして前述と同様の駆動によりリニアセンサ29の
検出出力をデータメモリ109に記憶する。次にマイク
ロプロセツサは検出面切替回路30の切替信号120を
出力し、この切替回路30を駆動し光路長変換部材31
を測定光路から退出させ、再び前述と同様の駆動をしす
べての検出データをデータメモリ109に記憶する。以
後、マイクロプロセツサ105内の演算回路112はデ
ータメモリ109に書き込まれたデータを基に、以下の
処理をおこなう。 i 直線投影パターンによるリニアセンサ出力波形の中
心位置がリニアセンサの素子の何番目に位置するかを検
出する。 ii i)の検出位置から投影直線パターンの方程式を
算出する。 iii 方程式より、投影パターンの交点の位置座標を
もとめる。 iv 交点の座標値をもとに、第(1)〜第(4)′式
の2根λi,λiをもとめる。 v 2根λi,λi′を使つて第(6)式より作動距離
を算出する。 vi 交点座標値からアライメント量を算出する。以上
の処理により求められた各値はCRTデイスプレイ33
により数値もしくは図形表示される。あるいは予め基準
値設定回路121に記憶されている基準作動距離との差
をベクトル値、すなわち装置筐体2を移動させたい量及
びその方向を演算回路112で演算し、その値を筐体駆
動部9内の前後方向移動用モータ117を駆動制御する
駆動制御回路114に入力して作動距離を自動的に調整
させる。
FIG. 19 is a block diagram showing an example of the arithmetic circuit 7 for performing the above arithmetic processing. The linear position sensor 29 driven by the linear position sensor drive circuit 101 sends the detection output of the projected linear pattern to the signal line 102 by the light emission of the light emitting diode 10a driven by the drive circuit 100. Sign 1
Reference numeral 04 denotes an analog switch, which is a microprocessor 1
Controlled by 05. When the microprocessor 105 receives an interrupt by the scan start pulse 106 of the linear sensor from the drive circuit 101 that drives the linear sensor 29, it controls the analog switch 104 so that the output of the linear sensor 29 is sent to the A / D converter 107. Make it input. The A / D converter 107 is the drive circuit 1
The output of each element of the linear sensor read by the read pulse 108 from 01 is subjected to analog-to-digital conversion, and the converted digital value is supplied to the microprocessor. Here, the A / D converter 107 is 8 pits (1/25
Those having a resolution of about 6) and a conversion time faster than the linear sensor scanning frequency are selected. The microprocessor 105 reads the output of the linear sensor 29 converted into a digital value for each element, and stores it in a RAM (random
Data memory 1 including access memory)
Succeedingly memorized in 09. Accordingly, the data memory 109 stores digital values in order from the output from the first element of the linear sensor from a predetermined address. For example, if the linear sensor 29 has 1728 elements,
When 1728 data has been captured, the microprocessor 105 stops capturing more data and controls the drive circuit 100 to turn off the light emitting diode 10a which has been emitting light until now and cause the light emitting diode 10b to emit light. Then, the detection output of the linear sensor 29 is stored in the data memory 109 by the same drive as described above. Next, the microprocessor outputs the switching signal 120 of the detection surface switching circuit 30, drives the switching circuit 30, and drives the optical path length conversion member 31.
Is exited from the measurement optical path, and the same driving as described above is performed again to store all the detection data in the data memory 109. After that, the arithmetic circuit 112 in the microprocessor 105 performs the following processing based on the data written in the data memory 109. i The number of the element of the linear sensor at which the center position of the linear sensor output waveform by the linear projection pattern is located is detected. ii Calculate the equation of the projected straight line pattern from the detected position of i). iii From the equation, the position coordinates of the intersection of the projected patterns are obtained. iv Based on the coordinate value of the intersection point, the two roots λi and λi of the equations (1) to (4) ′ are obtained. The working distance is calculated from the equation (6) using the v 2 roots λi and λi ′. vi Alignment amount is calculated from the intersection point coordinate value. Each value obtained by the above processing is the CRT display 33.
Numerical value or figure is displayed by. Alternatively, the difference from the reference working distance stored in advance in the reference value setting circuit 121 is calculated as a vector value, that is, the amount and direction of movement of the device housing 2 is calculated by the arithmetic circuit 112, and the value is calculated as the housing drive unit. 9 is input to the drive control circuit 114 that controls the drive of the front-rear direction moving motor 117 to automatically adjust the working distance.

【0067】同様に水平方向アライメント量αを左右方
向移動用モータ118の駆動制御回路115に、また垂
直方向アライメント量βを上下方向移動用モータ119
の駆動制御回路116にそれぞれ入力し、自動的にアラ
イメント調整させる。図20は本発明の第2の実施例を
示す光学配置図である。前述の第1の実施例と同一もし
くは均等の構成要素には、同一の符号を付して説明を省
略する。本実施例の照明光学系5の開口板は、2つの開
口板50,51からなり、それぞれダイクロイツクプリ
ズム11の反射光軸上と、透過光軸上に配置されてい
る。また、発光光源は、発光ダイオードでなく一般の白
熱電球52,53を使用している。光源52,53を射
出した光束はそれぞれ散板54及び赤外光のみを透過す
る赤外フイルター55を通過して開口板50,51に入
射する。開口板51には、図17に示す開口板13の各
開口パターンにつき、その一方の開口のみが形成され
る。例えば図17の(b)について言えば開口板50に
は直線開口201a,201bが、開口板51には平行
直線群開口202a,202bが、それぞれ形成されて
おり、ピンホール14aを通つて結像レンズ17、補助
結像レンズ15によつて角膜近傍の像平面IS上に結像
され、この像平面内で合成される。 またハーフミラー
56は、測定光学系6の第1光路20、第2光路21の
合成を行なうとともに、第1光路20を通つてきた角膜
反射光を2分割しこのハーフミラー53の反射光はリニ
アセンサ29に、また透過光はリニアセンサ57にそれ
ぞれ投影される。同様に第2光路21を通つてきた角膜
反射光は、ハーラミラー57で2分割され、このハーフ
ミラー56の反射光はリニアセンサ57に、透過光はリ
ニアセンサ29に投影させる。ここで2本のリニアセン
サ29と57はそれぞれ補肋リレーレンズ22又は25
及び結像レンズ17により、共役検出面DもしくはD′
内で互いに交差するように配置されている。
Similarly, the horizontal alignment amount α is supplied to the drive control circuit 115 of the horizontal movement motor 118, and the vertical alignment amount β is supplied to the vertical movement motor 119.
To the drive control circuit 116, and the alignment is automatically adjusted. FIG. 20 is an optical layout diagram showing a second embodiment of the present invention. The same or equivalent components as those of the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. The aperture plate of the illumination optical system 5 of this embodiment is composed of two aperture plates 50 and 51, which are arranged on the reflection optical axis and the transmission optical axis of the dichroic prism 11, respectively. Further, as the light emitting light source, general incandescent light bulbs 52, 53 are used instead of the light emitting diode. The light beams emitted from the light sources 52 and 53 pass through the diffuser plate 54 and the infrared filter 55 that transmits only infrared light, and enter the aperture plates 50 and 51. In the aperture plate 51, only one aperture is formed for each aperture pattern of the aperture plate 13 shown in FIG. For example, referring to FIG. 17B, linear apertures 201a and 201b are formed in the aperture plate 50, and parallel linear group apertures 202a and 202b are formed in the aperture plate 51, respectively, and an image is formed through the pinhole 14a. An image is formed on the image plane IS near the cornea by the lens 17 and the auxiliary image forming lens 15, and the images are combined in this image plane. Further, the half mirror 56 combines the first optical path 20 and the second optical path 21 of the measurement optical system 6 and divides the cornea reflected light passing through the first optical path 20 into two so that the reflected light of the half mirror 53 is linear. The sensor 29 and the transmitted light are projected on the linear sensor 57, respectively. Similarly, the corneal reflected light that has passed through the second optical path 21 is divided into two by the huller mirror 57, and the reflected light of the half mirror 56 is projected on the linear sensor 57 and the transmitted light is projected on the linear sensor 29. Here, the two linear sensors 29 and 57 are the complementary rib relay lens 22 or 25, respectively.
And the imaging lens 17, the conjugate detection surface D or D '.
They are arranged so that they intersect each other.

【0068】光源52を発光すると、その射出光は開口
板50で選択透過されダイクロイツクプリズム11で反
射されて角膜に向う。そして角膜反射光は光学像レンズ
17、ハーフミラー18、第1光路20を通つてハーフ
ミラー56で2分され、リニアセンサ29及び57にそ
れぞれ投影される。そしてリニアセンサ29は、図15
の検出点を、リニアセンサ57は検出点
れぞれ検出する。次に光源53に発光を切り替え
ると、その射出光は開口板51で選択透過されて、角膜
Cに向う。角膜Cからの反射光は第2光路21を通つて
同様にハーフミラー56で2分され、一方はリニアセン
サ29に投影され、リニアセンサ29は検出点
を検出する。他方はリニアセンサ57に投影され
センサ57は検出点を検出する。そして
これら8個検出,1、…から各投影直線パタ
ーンの方程式を求め4交点U,Qを求める。以
後は前述の第1実施例と同様の測定手順により作動とア
ライメント量を求めることができる。図21は本発明の
第3の実施例を示す光学配置図であり、図22は本発明
の第4の実施例を示す光学配置図である。
When the light source 52 emits light, the emitted light is selectively transmitted by the aperture plate 50, reflected by the dichroic prism 11 and directed to the cornea. Then, the cornea reflected light passes through the optical image lens 17, the half mirror 18, and the first optical path 20, is divided into two by the half mirror 56, and is projected on the linear sensors 29 and 57, respectively. The linear sensor 29 is shown in FIG.
Detection points 1 S 1 and 1 S 2 of the linear sensor 57
1 S 3 Detect each. Next, when the light emission is switched to the light source 53, the emitted light is selectively transmitted through the aperture plate 51 and goes to the cornea C. The reflected light from the cornea C passes through the second optical path 21 and is similarly bisected by the half mirror 56, one of which is projected on the linear sensor 29, and the linear sensor 29 detects the detection point 1 S 5 ,
1 S 6 is detected. The other is projected on the linear sensor 57, and the sensor 57 detects the detection points 1 S 7 and 1 S 8 . Then, the equation of each projected straight line pattern is obtained from these eight detections , 1 S 2 , ... 1 S 8, and the four intersection points U 1 W 1 and Q 1 are obtained. After that, the operation and the alignment amount can be obtained by the same measurement procedure as in the first embodiment. FIG. 21 is an optical layout drawing showing a third embodiment of the present invention, and FIG. 22 is an optical layout drawing showing a fourth embodiment of the present invention.

【0069】第3、及び第4実施例において前述の第1
または第2実施例と同一もしくは均等の構成要素には同
一の符号を附して説明を省略する。図21の第3の実施
例はリニアセンサ29を回転駆動制御回路301で制御
されるパルスモーター300で光軸Oを回転軸として
回転し、そしてリニアンサ29を固定しておいて鎖線で
示したようにイメージローテーター302を回転する例
を示している。これにより平面型センサとまつたく同様
の効果が得られるので第1の測定原理のように測定に点
光源を使う場合も一本のリニアセンサで検出できる。ま
た第4の測定原理において同形光源のみを使う場合も同
様に1本のリニアセンサで検出できる。また図22に示
す第4実施例は検出器として二本のリニアセンサを平行
に配置する代りに、平行平面ガラス303を光軸O
垂直な軸を回転軸として回して反射光束をシフトするこ
とにより1本のリニアセンサで平行配置したと同様の作
用効果をもたせた例である。以上説明した各実施例とも
光源として、開口板上に形成した開口パターンを利用し
ているが、本発明はこれに限定されるものでなく、光源
からの照明光束を選択的に反射する反射パターンを光源
として利用してもよいことは説明するまでもないことで
あり、また多数の微少発光素子を配列して直接各パター
ンを形成してもよいことは言うまでもなく、特に点光源
を利用する第1の測定原理の場合は十分実用性があるも
のである。
In the third and fourth embodiments, the above-mentioned first
Alternatively, the same or equivalent constituent elements as those of the second embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In the third embodiment shown in FIG. 21, the linear sensor 29 is rotated by the pulse motor 300 controlled by the rotation drive control circuit 301 with the optical axis O 1 as the rotation axis, and the linearr 29 is fixed and shown by a chain line. An example of rotating the image rotator 302 is shown. As a result, the same effect as the flat sensor can be obtained, so that even when a point light source is used for measurement as in the first measurement principle, it can be detected by one linear sensor. Further, when only the same-shaped light source is used in the fourth measurement principle, it is possible to detect with a single linear sensor in the same manner. In the fourth embodiment shown in FIG. 22, instead of arranging two linear sensors as detectors in parallel, the plane-parallel glass 303 is rotated about an axis perpendicular to the optical axis O 1 as a rotation axis to shift the reflected light flux. This is an example in which a single linear sensor has the same operational effect as the parallel arrangement. In each of the embodiments described above, the aperture pattern formed on the aperture plate is used as the light source, but the present invention is not limited to this, and a reflection pattern that selectively reflects the illumination light flux from the light source. Needless to say, it may be used as a light source, and it goes without saying that a large number of minute light emitting elements may be arranged to directly form each pattern. The measurement principle of 1 is sufficiently practical.

【0070】さらに、これら光源を得るために、1つの
点光源から射出された光束を複数の屈折面から成るピラ
ミットプリズムや多角錐形プリズムを通して、あたかも
複数光源があるかの様に構成することや、1本のリニア
発光素子アレイまたは、マスクパターンを移動あるいは
回転して、上記原理の述べたような複数本のリニア発光
素子アレイや複数本のマスクパターンを仮想的に形成せ
しめてもよいことは言うまでもない。また円形光源のか
わりに、1つの光軸外点光源もしくは光軸外点開口を光
軸を回転軸として回転して円形光源を作つてもよい。
Further, in order to obtain these light sources, the light beam emitted from one point light source is configured as if there are a plurality of light sources through a pyramid prism or a polygonal pyramid prism having a plurality of refracting surfaces. One linear light emitting element array or a mask pattern may be moved or rotated to virtually form a plurality of linear light emitting element arrays or a plurality of mask patterns as described in the above principle. Needless to say. Instead of the circular light source, one off-axis point light source or one off-axis point aperture may be rotated about the optical axis to form a circular light source.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理を示すための光学配置図、FIG. 1 is an optical layout diagram for illustrating the principle of the present invention,

【図2】角膜への照明光の角膜近傍での反射屈折状態を
示す図、
FIG. 2 is a diagram showing a catadioptric state of illumination light to the cornea in the vicinity of the cornea,

【図3】本発明の第1の測定原理を説明するための斜視
図、
FIG. 3 is a perspective view for explaining the first measurement principle of the present invention,

【図4】本発明の第2の測定原理を説明するための斜視
図、
FIG. 4 is a perspective view for explaining a second measurement principle of the present invention,

【図5】本発明の第2の測定原理を説明するための斜視
図、
FIG. 5 is a perspective view for explaining a second measurement principle of the present invention,

【図6】本発明の第3の測定原理を示すための斜視図、FIG. 6 is a perspective view showing the third measurement principle of the present invention,

【図7】本発明の第3の測定原理を示すための斜視図、FIG. 7 is a perspective view showing a third measurement principle of the present invention,

【図8】本発明の投影パターンから仮想平行四辺形を作
る方法を示す概略図、
FIG. 8 is a schematic view showing a method for creating a virtual parallelogram from a projected pattern of the present invention,

【図9】本発明の投影パターンから仮想平行四辺形を作
る方法を示す概略図、
FIG. 9 is a schematic view showing a method for creating a virtual parallelogram from a projected pattern according to the present invention;

【図10】本発明の投影パターンから仮想平行四辺形を
作る方法を示す概略図、
FIG. 10 is a schematic view showing a method of creating a virtual parallelogram from a projected pattern of the present invention,

【図11】本発明の投影パターンから仮想平行四辺形を
作る方法を示す概略図、
FIG. 11 is a schematic view showing a method for creating a virtual parallelogram from a projected pattern according to the present invention;

【図12】直交座標系と斜交座標系の関係を示す図、FIG. 12 is a diagram showing a relationship between a rectangular coordinate system and an oblique coordinate system,

【図13】本発明の投影パターンから仮想平行四辺形を
作る方法を示す概略図、
FIG. 13 is a schematic view showing a method for creating a virtual parallelogram from a projected pattern of the present invention,

【図14】本発明の第4の測定原理を説明するための斜
視図、
FIG. 14 is a perspective view for explaining a fourth measurement principle of the present invention,

【図15】本発明の第4の測定原理を説明するための斜
視図、
FIG. 15 is a perspective view for explaining a fourth measurement principle of the present invention,

【図16】本発明の第1の実施例を示す光学配置図、FIG. 16 is an optical layout diagram showing a first embodiment of the present invention,

【図17】a〜dは開口板の例を示す正面図17A to 17D are front views showing examples of aperture plates.

【図18】投影パターンの検出法を示す概略図、FIG. 18 is a schematic diagram showing a projection pattern detection method,

【図19】図16の演算回路の一例を示すブロツク図、19 is a block diagram showing an example of the arithmetic circuit of FIG.

【図20】本発明の第2の実施例を示す光学配置図、FIG. 20 is an optical layout diagram showing a second embodiment of the present invention,

【図21】本発明の第3の実施例を示す光学配置図、FIG. 21 is an optical layout diagram showing a third embodiment of the present invention,

【図22】本発明の第4の実施例を示す光学配置図。 5……照明光学系、6……測定光学系,10a,10b
……発光ダイオード、14a……ピンホール、17……
結像レンズ、27,302……イメージローテーター、
29,57……リニアポジシヨンセンサ、31……光路
長変換部材、52,53……光源、 55……赤外フイ
ルター、303……光束シフト手段、300……パルス
モーター。
FIG. 22 is an optical layout diagram showing a fourth embodiment of the present invention. 5 ... Illumination optical system, 6 ... Measuring optical system, 10a, 10b
...... Light emitting diode, 14a ...... Pinhole, 17 ...
Imaging lens, 27, 302 ... Image rotator,
29, 57 ... Linear position sensor, 31 ... Optical path length conversion member, 52, 53 ... Light source, 55 ... Infrared filter, 303 ... Luminous flux shift means, 300 ... Pulse motor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検眼角膜に向けて所定パターン像を投
影する投影系と、被検眼角膜により反射された光束によ
り形成された角膜反射パターン像を光電的に検出するた
めの受光部と、前記受光部からの信号に基づき角膜反射
パターン像の形状を示す方程式より角膜反射パターン像
の幾何学的中心を演算し、被検眼に対する装置のアライ
メント量を算出するための演算部とからなることを特徴
とする眼科機械用アライメント装置。
1. A projection system for projecting a predetermined pattern image toward a cornea of an eye to be inspected, a light receiving section for photoelectrically detecting a corneal reflection pattern image formed by a light beam reflected by the cornea of the eye to be inspected, A calculation unit for calculating the geometric center of the corneal reflection pattern image from an equation indicating the shape of the corneal reflection pattern image based on the signal from the light receiving unit, and calculating the alignment amount of the device with respect to the eye to be examined. Alignment device for ophthalmic machines.
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